JP2012238629A5 - - Google Patents

Claims (14)

1. 被加熱試料の熱処理を行う熱処理室と、
   前記熱処理室内に配置された平板電極と、
   前記平板電極との間にプラズマが生成されるとともに前記熱処理室内に配置され前記平板電極と対向する第一の電極と、
   前記被加熱試料を載置するとともに前記熱処理室内に配置され前記第一の電極を挟んで前記平板電極と対向する第二の電極と、
   前記プラズマを生成するための高周波電力を前記平板電極に供給する高周波電源とを備え、
   前記平板電極と前記第一の電極と前記第二の電極はグラファイト基材からなり、
   前記高周波電力が前記平板電極に供給される時、前記第一の電極は前記第二の電極と導通し、
   前記第二の電極は、前記被加熱試料を載置する空間を有するとともに給電線を介して接地されることを特徴とする熱処理装置。
2. 請求項１に記載の熱処理装置において、
   前記給電線は、グラファイトからなることを特徴とする熱処理装置。
3. 請求項１に記載の熱処理装置において、
   前記平板電極は、前記第一の電極と対向する面の反対側の表面に高融点かつ低輻射率の板材が配置され、
   前記第二の電極は、前記第一の電極と対向する面の反対側の表面に高融点かつ低輻射率の板材が配置されていることを特徴とする熱処理装置。
4. 請求項１に記載の熱処理装置において、
   前記平板電極は、前記第一の電極と対向する面の反対側の表面に高融点かつ低輻射率のコーティングが施され、
   前記第二の電極は、前記第一の電極と対向する面の反対側の表面に高融点かつ低輻射率のコーティングが施されていることを特徴とする熱処理装置。
5. 請求項３に記載の熱処理装置において、
   前記平板電極と前記第一の電極と前記第二の電極を取り囲むように前記熱処理室内に配置され、前記平板電極からの輻射熱と前記第二の電極からの輻射熱を反射する反射鏡を備えることを特徴とする熱処理装置。
6. 請求項４に記載の熱処理装置において、
   前記平板電極と前記第一の電極と前記第二の電極を取り囲むように前記熱処理室内に配置され、前記平板電極からの輻射熱と前記第二の電極からの輻射熱を反射する反射鏡を備えることを特徴とする熱処理装置。
7. 被加熱試料の熱処理を行う熱処理室と、
   前記熱処理室内に配置された平板状の第一の電極と、
   前記被加熱試料を載置するとともに前記熱処理室内に配置され前記第一の電極と対向する第二の電極と、
   前記第一の電極と前記第二の電極の間にプラズマを生成するための高周波電力を前記第一の電極に供給する高周波電源とを備え、
   前記第一の電極と前記第二の電極はグラファイト基材からなり、
   前記第二の電極は、内部に前記被加熱試料を載置する空間を有するとともに給電線を介して接地されることを特徴とする熱処理装置。
8. 請求項７に記載の熱処理装置において、
   前記給電線は、グラファイトからなることを特徴とする熱処理装置。
9. 請求項７に記載の熱処理装置において、
   前記第一の電極は、前記第二の電極と対向する面の反対側の表面に高融点かつ低輻射率の板材が配置され、
   前記第二の電極は、前記第一の電極と対向する面の反対側の表面に高融点かつ低輻射率の板材が配置されていることを特徴とする熱処理装置。
10. 請求項７に記載の熱処理装置において、
    前記第一の電極は、前記第二の電極と対向する面の反対側の表面に高融点かつ低輻射率のコーティングが施され、
    前記第二の電極は、前記第一の電極と対向する面の反対側の表面に高融点かつ低輻射率のコーティングが施されていることを特徴とする熱処理装置。
11. 請求項９に記載の熱処理装置において、
    前記第一の電極と前記第二の電極を取り囲むように前記熱処理室内に配置され、前記第一の電極からの輻射熱と前記第二の電極からの輻射熱を反射する反射鏡を備えることを特徴とする熱処理装置。
12. 請求項１０に記載の熱処理装置において、
    前記第一の電極と前記第二の電極を取り囲むように前記熱処理室内に配置され、前記第一の電極からの輻射熱と前記第二の電極からの輻射熱を反射する反射鏡を備えることを特徴とする熱処理装置。
13. 請求項３に記載の熱処理装置において、
    前記板材は、グラファイト基材にＴａＣをコーティングした板材であることを特徴とする熱処理装置。
14. 請求項９に記載の熱処理装置において、
    前記板材は、グラファイト基材にＴａＣをコーティングした板材であることを特徴とする熱処理装置。