JP2012181111A - X線分配装置およびx線分配システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 X線分配装置に、湾曲したキャピラリを含む複数のキャピラリから成るキャピラリ束を備え、キャピラリ束の異なるキャピラリにX線ビームを入射させて、X線ビームの分配先を相違させる。X線ビームを異なるキャピラリに入射させるために、開口を有する遮蔽板をキャピラリ束の前に配置して、遮蔽板を変位させ、または、遮蔽板を備えることなく、キャピラリ束を変位させる。
【選択図】 図1
Description
測定 キャピラリ束 キャピラリ束 分配先までの
番号 変位量Δx(mm) 回動量θy(゜) 距離L(mm)
M1 −1.5 −1.58 20
M2 −1.5 −1.58 45
M3 −0.5 −0.54 45
M4 −0.5 −0.54 20
M5 0.5 0.54 20
M6 0.5 0.54 45
M7 1.5 1.66 45
M8 1.5 1.66 20
10,20,30,40,50,60 X線分配装置
11,21,31,41,51,61,71 キャピラリ束
11a,21a,31a,41a,51a,61a,71a 入射端
11b,21b,31b,41b,51b,61b,71b 出射端
12,22,32,42,52,62 キャピラリ
12a,22a,32a,42a,52a,62a 一端
12b,22b,32b,42b,52b,62b 他端
13,23,33,43 遮蔽板
14,24,34,44 開口
44a,44b 直線部
15,55 ステージ
65 スイベルステージ
35 保持部
35a 保持板
35b 支持部
16,36,56,66a,66b モータ
17,37,57,67 制御部
17a,37a,57a,67a 演算装置
17b,37b,57b,67b 記憶装置
17c,37c,57c,67c 表示装置
17d,37d,57d,67d 入力装置
100 X線分配システム
110 X線分配装置
111 キャピラリ束
113 遮蔽板
116 駆動部
117 制御部
120 供給先
121 供給先グループ
Claims (15)
- X線源からのX線ビームを分配するX線分配装置であって、
湾曲したキャピラリを含む複数のキャピラリから成るキャピラリ束であって、キャピラリの一端が、相互に隣接して配置されて、X線源からのX線ビームが入射する入射端を成すキャピラリ束と、
X線源からのX線ビームを通過させる開口を有し、キャピラリ束の入射端に対向して配置された遮蔽板と、
X線源からのX線ビームに対して垂直な方向に遮蔽板を変位させる駆動部と
を備えることを特徴とするX線分配装置。 - キャピラリ束のキャピラリの前記一端の開口面がX線源からのX線ビームに対して垂直な方向に線状に配列されたキャピラリ群を含み、
遮蔽板は、キャピラリの前記一端の外径以下の幅の相互に交差する2本の線状の開口部を有し、
遮蔽板の2本の線状の開口部が共に、キャピラリ群の前記一端の開口面の配列方向に対して交差する方向に延在し、
駆動部が、キャピラリ群の前記一端の開口面の配列方向に対して垂直な方向に、遮蔽板を変位させることを特徴とする請求項1に記載のX線分配装置。 - 遮蔽板の2本の線状の開口部の一方が、キャピラリ群の前記一端の開口面の配列方向に対して垂直な方向に延在することを特徴とする請求項2に記載のX線分配装置。
- X線源からのX線ビームに対して垂直な方向における遮蔽板の位置と、X線源からのX線ビームがキャピラリ束に含まれるキャピラリの1つ以上を経由して供給される1つ以上の供給先との対応関係を記憶しておき、入力された供給先にX線ビームが供給されるように、前記対応関係に基づいて、駆動部による遮蔽板の変位を制御する制御部を備えることを特徴とする請求項1に記載のX線分配装置。
- X線源からのX線ビームを分配するX線分配装置であって、
湾曲したキャピラリを含む複数のキャピラリから成るキャピラリ束であってキャピラリの一端が、相互に隣接して配置されて、X線源からのX線ビームが入射する入射端を成すキャピラリ束と、
X線源からのX線ビームを通過させる開口をそれぞれ有し、開口の位置または数が異なる複数の遮蔽板と、
前記複数の遮蔽板のいずれか1つを、キャピラリ束の入射端に対向する所定位置に配置する駆動部と
を備えることを特徴とするX線分配装置。 - 遮蔽板と、前記所定位置に前記遮蔽板を配置したときにX線源からのX線ビームがキャピラリ束に含まれるキャピラリの1つ以上を経由して供給される1つ以上の供給先との対応関係を記憶しておき、入力された供給先にX線ビームが供給されるように、前記対応関係に基づいて、駆動部による前記所定位置への遮蔽板の配置を制御する制御部を備えることを特徴とする請求項5に記載のX線分配装置。
- X線源からのX線ビームを分配するX線分配装置であって、
湾曲したキャピラリを含む複数のキャピラリから成るキャピラリ束であって、キャピラリの一端が、相互に隣接して配置されて、X線源からのX線ビームが入射する入射端を成すキャピラリ束と、
キャピラリ束をX線源からのX線ビームに対して垂直な方向に変位させる駆動部と
を備えることを特徴とするX線分配装置。 - X線源からのX線ビームに対して垂直な方向におけるキャピラリ束の位置と、X線源からのX線ビームがキャピラリ束に含まれるキャピラリの1つを経由して供給される供給先との対応関係を記憶しておき、入力された供給先にX線ビームが供給されるように、前記対応関係に基づいて、駆動部によるキャピラリ束の変位を制御する制御部を備えることを特徴とする請求項7に記載のX線分配装置。
- X線源からのX線ビームを分配するX線分配装置であって、
湾曲したキャピラリを含む複数のキャピラリから成るキャピラリ束であって、キャピラリの一端が、相互に隣接して配置されて、X線源からのX線ビームが入射する入射端を成すキャピラリ束と、
キャピラリ束をX線源からのX線ビームに対して垂直な方向に変位させるとともに、キャピラリ束をX線源からのX線ビームを含む平面内で回動させる駆動部と
を備えることを特徴とするX線分配装置。 - X線源からのX線ビームに対して垂直な方向におけるキャピラリ束の位置およびX線源からのX線ビームを含む平面内でのキャピラリ束の角度と、X線源からのX線ビームがキャピラリ束に含まれるキャピラリの1つを経由して供給される供給先との対応関係を記憶しておき、入力された供給先にX線ビームが供給されるように、前記対応関係に基づいて、駆動部によるキャピラリ束の変位および回動を制御する制御部を備えることを特徴とする請求項9に記載のX線分配装置。
- キャピラリ束に含まれる全てのキャピラリが、50cm以上の曲率半径を有することを特徴とする請求項1、5、7および9のいずれか1項に記載のX線分配装置。
- 遮蔽板の開口が、キャピラリの前記一端の外径以下の直径の円形であることを特徴とする請求項1または5に記載のX線分配装置。
- 湾曲したキャピラリの前記一端から所定距離までの部分が直線状であり、
キャピラリ束の全てのキャピラリの前記一端から所定距離までの部分が、平行に配置されていることを特徴とする請求項1、5および7のいずれか1項に記載のX線分配装置。 - 請求項4または6に記載のX線分配装置と、
X線源からのX線ビームがX線分配装置のキャピラリ束に含まれるキャピラリの1つ以上を経由して供給される1つ以上の供給先と
を含むことを特徴とするX線分配システム。 - X線分配装置の制御部は、X線源からのX線ビームがキャピラリ束に含まれるキャピラリの1つ以上を経由して同時に供給される1つ以上の供給先を1つのグループとして、複数のグループを記憶しておき、各グループに含まれるすべての供給先にX線ビームが同時に供給されるように、駆動部を制御することを特徴とする請求項14に記載のX線分配システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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---|---|---|---|---|
WO2017147320A3 (en) * | 2016-02-25 | 2017-11-02 | Illinois Tool Works Inc. | X-ray tube and gamma source focal spot tuning apparatus and method |
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2011
- 2011-03-01 JP JP2011044376A patent/JP5751665B2/ja not_active Expired - Fee Related
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US10839973B2 (en) | 2016-02-25 | 2020-11-17 | Illinois Tool Works Inc. | X-ray tube and gamma source focal spot tuning apparatus and method |
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