JP2012175107A - 電磁アクチュエータ、ステージ装置およびリソグラフィ装置 - Google Patents
電磁アクチュエータ、ステージ装置およびリソグラフィ装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】電磁アクチュエータが、互いに移動可能であり磁気回路を形成するように配置されている第1の磁性部材および第2の磁性部材と、使用時に電流を受け取って磁気回路を通る磁束を発生し、それによって第1の磁性部材と第2の磁性部材の間で第1の方向に力を発生するように構成されたコイルとを含み、磁束は、使用時に第1の磁性部材と第2の磁性部材の間で、第1の磁性部材の第1の面および第2の磁性部材の第2の面を通して伝達され、第1の面と第2の面がエアギャップによって分離され、第1の面および第2の面は互いに、第1の面の外形寸法が第2の面の外形寸法を越えて、第1の方向にほぼ垂直の第2の方向に延びるように配置される。
【選択図】図1
Description
1.ステップモードでは、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」および基板テーブルWTまたは「基板サポート」が、実質的に静止状態に保たれ、放射ビームに与えられた全パターンが、一度でターゲット部分C上に投影される(すなわち単一静止露光)。次いで、基板テーブルWTまたは「基板サポート」は、別のターゲット部分Cを露光することが可能となるように方向および/またはY方向にシフトされる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、単一静止露光においてイメージングされるターゲット部分Cのサイズを限定する。
2.スキャンモードでは、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」および基板テーブルWTまたは「基板サポート」が、同期してスキャンされ、放射ビームに与えられたパターンが、ターゲット部分C上に投影される(すなわち単一動的露光)。パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」に対する基板テーブルWTまたは「基板サポート」の速度および方向は、投影システムPSの拡大率(縮小率)および像反転特性により決定することができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズが、単一動的露光におけるターゲット部分の(非スキャニング方向の)幅を限定し、スキャニング動作の長さが、ターゲット部分の(スキャニング方向の)高さを決定する。
3.別のモードでは、パターニングデバイスサポート(例えば、マスクテーブル)MTまたは「マスクサポート」が、プログラマブルパターニングデバイスを保持しつつ実質的に静的状態に保たれ、基板テーブルWTまたは「基板サポート」が、移動されまたはスキャンされると共に、放射ビームに与えられたパターンが、ターゲット部分C上に投影される。このモードでは、一般的にはパルス放射源が使用され、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTまたは「基板サポート」の各移動の後で、またはスキャン中の連続放射パルスの間に、必要に応じて更新される。この作動モードは、上述のタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に応用することが可能である。
一実施形態では、ほぼ全部の磁束が第1の磁性部品と第2の磁性部品の間のエアギャップ(または複数のエアギャップ)を移動方向(または力方向)に、すなわち第1の方向に横切り、それによって、他の方向に生じる寄生力が軽減または回避される。
1つまたは複数の永久磁石によって発生した磁束は、コイルによって発生した磁束と重なる並列回路と考えることができ、そのため、エアギャップを横切るときに両方の磁束寄与が足し合わされる。
一実施形態では、磁束経路は、コイルから見てほぼ一定の磁気抵抗を有し、それによってコイルの自己インダクタンスがほぼ一定になり(すなわち、第2の磁性部品に対する第1の磁性部品の位置に実質的に依存しない)、これは、コイルに電力供給する増幅器の制御ループにとって、ほぼ一定の利得が可能になるので有益である。
本発明の一実施形態による両アクチュエータ型では、特に第1の磁性部材の質量に関して高い力対質量比を実現する。この部材は一般に、移動させるべき物体に取り付けられるのに対し、励磁コイルは第2の磁性部材に取り付けられることが好ましい。
磁気抵抗型アクチュエータはさらに、低い信号対雑音比を実現するという特徴があり、またアクチュエータの1つまたは複数のコイルに電流が供給されない場合に、ゼロ剛性が得られる。
ハイブリッド型アクチュエータでは、上述のように双方向の力が得られて、単一の電力増幅器によってアクチュエータを制御することが可能になる。
言及しておく価値がある別の利益は、小さいヒステリシス、およびほぼ一定のインダクタンスである。後者は特に有益である。というのは、それによってアクチュエータが、コイルに電力供給する電力増幅器にはほぼ一定の負荷として認められるからである。ハイブリッドアクチュエータはさらに、ほぼ線形の力対電流特性を有するという特徴がある。
Claims (15)
- 互いに移動可能であり、磁気回路を形成するように配置されている第1の磁性部材および第2の磁性部材と、
使用時に電流を受け取って前記磁気回路を通る磁束を発生し、それによって前記第1の磁性部材と前記第2の磁性部材の間で第1の方向に力を発生するように構成されたコイルとを備える電磁アクチュエータであって、
前記磁束が、使用時に前記第1の磁性部材と第2の磁性部材の間で、前記第1の磁性部材の第1の面および前記第2の磁性部材の第2の面を通して伝達され、前記第1の面と前記第2の面がエアギャップによって分離され、
前記第1の面および前記第2の面が互いに、前記第1の面の外形寸法が前記第2の面の外形寸法を越えて、前記第1の方向にほぼ垂直の第2の方向に延びるように配置され、使用時に、前記第1の面への、前記第1の方向における前記第2の面の投影像が、前記アクチュエータの動作範囲内における前記第2の磁性部材に対する前記第1の磁性部材の各位置で、前記第1の面の外側輪郭内にとどまる、電磁アクチュエータ。 - 互いに移動可能であり、磁気回路を形成するように配置されている第1の磁性部材および第2の磁性部材と、
使用時に電流を受け取って前記磁気回路を通る磁束を発生し、それによって、前記第1の磁性部材と前記第2の磁性部材の間で第1の方向に力を発生するように構成されたコイルとを備える電磁アクチュエータであって、
前記磁束が、使用時に前記第1の磁性部材と第2の磁性部材の間で、前記第1の磁性部材の第1の面および前記第2の磁性部材の第2の面を通して伝達され、前記第1の面と前記第2の面がエアギャップによって分離され、さらに、
前記磁気回路を通る付加磁束が得られるように配置された永久磁石を備え、前記付加磁束が、前記第1の磁性部材を前記第2の磁性部材から分離するエアギャップを、前記第1の方向とほぼ平行の方向に横切るように構成される、電磁アクチュエータ。 - 前記コイルが前記第2の磁性部材の脚部の周りに巻かれている、請求項1または2に記載の電磁アクチュエータ。
- 前記第2の面がn×mの外面積を有し、前記第1の面が少なくとも(n+δ)×(m+δ)の外面積を有し、δが前記第1の磁性部材と前記第2の磁性部材の間の公称エアギャップ長である、請求項1から3のいずれかに記載の電磁アクチュエータ。
- 前記磁気回路を通る付加磁束が得られるように配置された永久磁石をさらに備える、請求項1を参照した場合に請求項1から4のいずれかに記載の電磁アクチュエータ。
- 前記永久磁石が前記第2の磁性部材の一部である、請求項5に記載の電磁アクチュエータ。
- 前記付加磁束が、前記第1の磁性部材を前記第2の磁性部材から分離するエアギャップを、前記第1の方向とほぼ平行の方向に横切るように構成される、請求項5または6記載の電磁アクチュエータ。
- 前記第1の磁性部材が第1の部分および第2の部分を備え、前記第2の磁性部材が前記第1の部分と第2の部分の間に配置される、請求項5から7のいずれかに記載の電磁アクチュエータ。
- 前記アクチュエータが、前記第1の方向にほぼ平行な軸まわりに回転対称である、請求項1から8のいずれかに記載の電磁アクチュエータ。
- 前記第1の面および前記第2の面が互いに、前記第1の面の外形寸法が前記第2の面の外形寸法を越えて、前記第1の方向および前記第2の方向にほぼ垂直の第3の方向に延びるように配置される、請求項1から9のいずれかに記載の電磁アクチュエータ。
- 前記磁気回路を通る磁束を表す測定信号が発生するように構成された測定コイルをさらに備え、前記測定コイルが、前記磁気回路を通る前記磁束を実質的に囲むように配置される、請求項1から10のいずれかに記載の電磁アクチュエータ。
- 物体を位置決めするように構成されたステージ装置であって、
前記物体を保持するように構成されたテーブルと、
前記テーブルを位置決めするための、請求項1から11のいずれかに記載の1つまたは複数のアクチュエータとを備え、前記1つまたは複数のアクチュエータの第1の磁性部材が前記テーブルに取り付けられる、ステージ装置。 - 放射ビームを調整するように構成された照明システムと、前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、前記基板のターゲット部分の上に前記パターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムと、前記サポートまたは前記基板テーブルを位置決めするように構成された、請求項1から11のいずれかに記載のアクチュエータとを備える、リソグラフィ装置。
- パターンをパターニングデバイスから基板の上に転写するように構成されたインプリントリソグラフィ用装置であって、請求項1から11のいずれかに記載の1つまたは複数のアクチュエータを備える装置。
- パターンをパターニングデバイスから基板の上に転写するステップと、
転写する前記ステップの前に、請求項1から11のいずれかに記載の1つまたは複数のアクチュエータを使用して、前記パターニングデバイスまたは前記基板を位置決めするステップとを含む、デバイス製造方法。
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