JP2012129283A - 描画装置及び描画方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 高効率でパターン描画を行う。
【解決手段】 表側の第1の面及び裏側の第2の面を備える一方向に長い描画対象物を保持し、描画対象物の長さ方向に沿って搬送する搬送機構と、搬送機構に保持された描画対象物の第1の面に向けて液滴を吐出する第1の吐出部と、搬送機構に保持された描画対象物の第2の面に向けて液滴を吐出する第2の吐出部と、搬送機構に保持された描画対象物の第1の面及び第2の面の所定領域に液滴が塗布されるように、第1、第2の吐出部からの液滴の吐出、及び搬送機構による描画対象物の搬送を制御する制御装置とを有する描画装置を提供する。
【選択図】 図1
【解決手段】 表側の第1の面及び裏側の第2の面を備える一方向に長い描画対象物を保持し、描画対象物の長さ方向に沿って搬送する搬送機構と、搬送機構に保持された描画対象物の第1の面に向けて液滴を吐出する第1の吐出部と、搬送機構に保持された描画対象物の第2の面に向けて液滴を吐出する第2の吐出部と、搬送機構に保持された描画対象物の第1の面及び第2の面の所定領域に液滴が塗布されるように、第1、第2の吐出部からの液滴の吐出、及び搬送機構による描画対象物の搬送を制御する制御装置とを有する描画装置を提供する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、液滴を吐出してパターンを描画する描画装置及び描画方法に関する。
プリント配線板等のパターン形成面に、パターン形成用材料を含んだ液状材料(インク)を吐出ヘッド(インクジェットヘッド)から液滴として吐出して、基板上に材料層を成膜(描画)する技術が知られている。
基板上に描画される材料層により、たとえばソルダーレジストパターンが形成される。ソルダーレジストは、基材に導体配線が形成されたプリント配線板のはんだ付けのために、必要な導体部分を露出し、はんだ付けが不要な部分にはんだが付かないように配線板上に形成される絶縁膜である。
プリント配線板上にソルダーレジストパターンを形成する方法として、たとえば以下の方法が知られている。まずソルダーレジストの密着性を向上させるため、プリント配線板を研磨する。次にレジスト材料を配線板全面に塗布し、溶媒を蒸発させる(仮乾燥)。そしてマスクを介して露光を行い、露光された部分のレジストを硬化させた後、現像により未露光部を除去する。更に熱を加えレジストを硬化させる(熱乾燥)。
フレキシブルプリント基板(flexible printed circuit; FPC)に対する描画も、プリント配線板等のリジッド基板同様に、露光、現像方式により行われている。また、フレキシブルプリント基板に対しては、生産効率向上のため、ロールトゥロール方式が採用されている。ロールトゥロール方式においては、ロール状に巻いた基板に処理を施し、再びロール状に巻き取る。
なお、レジスト材料(インク)をレジストパターンの形成領域とその近傍のみに、たとえばインクジェットプリンタを用いて塗布し、硬化させるソルダーレジストパターンの形成方法が知られている(たとえば、特許文献1参照)。
本発明の目的は、高効率でパターンを描画可能な描画装置及び描画方法を提供することである。
本発明の一観点によると、表側の第1の面及び裏側の第2の面を備える一方向に長い描画対象物を保持し、該描画対象物の長さ方向に沿って搬送する搬送機構と、前記搬送機構に保持された描画対象物の前記第1の面に向けて液滴を吐出する第1の吐出部と、前記搬送機構に保持された描画対象物の前記第2の面に向けて液滴を吐出する第2の吐出部と、前記搬送機構に保持された描画対象物の前記第1の面及び前記第2の面の所定領域に液滴が塗布されるように、前記第1、第2の吐出部からの液滴の吐出、及び前記搬送機構による描画対象物の搬送を制御する制御装置とを有する描画装置が提供される。
また、本発明の他の観点によると、(a)表側の第1の面及び裏側の第2の面を備える、一方向に長い描画対象物を準備する工程と、(b)前記描画対象物を、該描画対象物の長さ方向に沿って移動させながら、前記第1の面及び前記第2の面の所定領域に液滴を塗布してパターンを形成する工程とを有する描画方法が提供される。
本発明によれば、高効率でパターンを描画可能な描画装置及び描画方法を提供することができる。
図1は、実施例による描画装置を示す概略図である。実施例による描画装置は、描画対象物、たとえば基板20を保持し、一軸方向に沿って搬送する搬送機構を構成するロール10a〜10d、基板20の表面を撮像可能に配置されたCCDカメラ11、基板20に向けてインクを液滴として吐出するインクジェットユニット12、13、たとえば紫外光を出射する光源14、15、及び、描画装置の動作を制御する制御装置16を含む。インクジェットユニット12、13は、それぞれインクジェットヘッドユニット12a、13a、及びインクタンク12b、13bを含む。また、制御装置16は、たとえばメモリである記憶装置16aを含む。
基板20は、ロール10a〜10dが回転することにより、一軸方向(図の破線で描いた矢印方向)に搬送される。ロール10a〜10dは、この順に、搬送方向に沿って上流側から下流側に配置されている。ロール10a〜10dによる基板20の搬送は制御装置16により制御される。
基板20は、たとえば相互に等しい導体配線パターンが、長さ方向に沿って繰り返し形成された、一方向(搬送方向と平行な方向)に長いテープ材であり、最終的にこれを各導体配線パターンの形成領域ごとに、テープ材の幅方向に沿って切断することで複数のフレキシブルプリント基板が製造される。テープ材の幅はたとえば150mm〜300mm、一例として150mmである。実施例による描画装置は、たとえばロール10a〜10dによる基板20の搬送を停止することなく、連続的に基板20にソルダーレジストを形成する。
基板20上には、アライメントマークが形成されている。CCDカメラ11は、基板20の表面を撮像し、撮像データを制御装置16に送信する。制御装置16は、撮像データからアライメントマークを検出する。基板20表面の撮像及びアライメントマークの検出は、ロール10a〜10dによる基板20の搬送中に行ってもよいし、搬送を停止した状態で行ってもよい。
インクジェットユニット12、13は、それぞれ基板20の表側表面、裏側表面の所定領域に、たとえば紫外線硬化性のインク(パターン形成用材料を含んだ液状材料)を塗布する。インクは、インクタンク12b、13bから、それぞれインクジェットヘッドユニット12a、13aに供給され、インクジェットヘッドユニット12a、13aから基板20に向けて吐出される。インクタンク12b、13bは、インクジェットヘッドユニット12a、13aに対して負圧を有するため、インクジェットユニット12、13内において、インクジェットヘッドユニット12a、13aの配設位置よりもZ軸方向(鉛直方向)の下方に配置されている。吐出されたインクにより、基板20の表側表面及び裏側表面上に所定パターンの材料層、たとえばソルダーレジストパターンが成膜される。
制御装置40の記憶装置40aには、基板20の表側表面及び裏側表面において、ソルダーレジストを形成すべき領域(インクを塗布すべき領域)等のデータ(ガーバデータ)が記憶されている。制御装置40は、記憶装置40aの記憶内容に基いて、基板20の表側表面及び裏側表面上の所定領域にインクが塗布されるように、インクジェットヘッドユニット12a、13aからのインクの吐出、及びロール10a〜10dによる基板20の移動(送り量、送り速度等)を同期させる制御をする。制御に当たっては、CCDカメラ11によって検出されたアライメントマークを、基準位置として用いる。
光源14、15は、インクジェットユニット12、13(インクジェットヘッドユニット12a、13a)が、基板20にインクを塗布する位置を基準にして、搬送方向側に配置される。光源14、15は、たとえば紫外光を出射するランプ光源である。光源14、15から出射された紫外光は、それぞれ基板20の表側表面、裏側表面に照射される。紫外光の照射により、インクジェットヘッドユニット12a、13aから吐出されたインクで成膜されたソルダーレジストパターンが硬化される。インクの硬化は、インクを塗布された基板20が、次のロールに接触する前に行われる。このため、インクジェットユニット12、13(インクジェットヘッドユニット12a、13a)及び光源14、15は、すべてロール10b、10c間に配置される。なお、たとえばインクジェットユニット12(インクジェットヘッドユニット12a)及び光源14を、ロール10b、10c間に配置し、インクジェットユニット13(インクジェットヘッドユニット13a)及び光源15を、ロール10c、10d間に配置する等の構成を採用することも可能である。
図2は、インクジェットヘッドユニット12aを示す概略的な平面図である。インクジェットヘッドユニット12aは、複数のインクジェットヘッドユニット12a1〜12a5を含んで構成される。
各インクジェットヘッドユニット12a1〜12a5は、Z軸方向(インク塗布位置における基板20の搬送方向と平行な方向)に沿って配置される複数のノズル列を備える。各ノズル列は、X軸方向(基板20の幅方向)に沿って配列された複数の、たとえば192個のインクジェットノズル(インク吐出穴)によって構成される。各ノズル列のX軸方向に沿う長さは、たとえば約30mmである。インクジェットヘッドユニット12a1〜12a5は、全体として見たとき、たとえばインクジェットノズルがX軸方向に等間隔に配置されるように設置される。このため、インクジェットヘッドユニット12a1〜12a5は、インク塗布位置において、Z軸負方向に移動中の基板20の幅約150mmの範囲に、描画を行うことができる。
各ユニット12a1〜12a5には、ノズル列の両側に余白部が設けられているので、インクジェットノズルをX軸方向に等間隔に配置するために、X軸方向に隣り合うユニット(一例としてユニット12a1とユニット12a2)は、Z軸方向にたとえば20mmの間隔を設けて配置される。この結果、インクジェットヘッドユニット12a1〜12a5は、たとえば互い違いに2列に組まれて、全体としてX軸方向に延在するように配置される。
図3(A)及び(B)は、インクジェットヘッドユニットの液滴吐出面を示す概略図である。図3(A)に示すように、インクジェットヘッドユニット12a1は、キャリッジ12a1cに組み付けられた、たとえば同構成のインクジェットヘッド12a11〜12a14を含んで構成される。各インクジェットヘッド12a11〜12a14は、Z軸正方向側とZ軸負方向側とに一列ずつ、計二列のノズル列を有する。インクジェットヘッド12a11〜12a14は、順に相対位置をX軸負方向にずらされながら、全体としてZ軸方向に沿って配置されている。
図3(B)にインクジェットヘッドの詳細を示す。インクジェットヘッド12a11の同一ノズル列のノズルはX軸方向に沿って160μm間隔で配置される。Z軸正方向側のノズル列は、Z軸負方向側のノズル列に対し、ノズルの配設位置がX軸負方向に80μmずれるように形成されている。このためインクジェットヘッド12a11は、X軸方向に80μm間隔で千鳥配列される384個のインクジェットノズルを含み、約300dpiの分解能を有する。各インクジェットノズルはピエゾ素子を含んで構成され、電圧の印加に応じてインクを吐出する。インクの吐出(電圧の印加)は制御装置16によって制御される。
インクジェットヘッド12a12はインクジェットヘッド12a11に対し、20μmだけX軸負方向側に配置される。同様にインクジェットヘッド12a13、12a14は、それぞれインクジェットヘッド12a12、12a13に対し、20μmだけX軸負方向側に配置される。この結果、インクジェットヘッドユニット12a1は、X軸方向に20μm間隔で配置されるノズルを備える。
インクジェットヘッドユニット12a2〜12a5も、インクジェットヘッドユニット12a1と等しい構成を有する。したがってインクジェットヘッドユニット12aは、X軸方向(基板20の幅方向)に沿う150mmの範囲に渡って、20μmの分解能(約1200dpiの分解能)をもつインクジェットノズル群を備える。
インクジェットヘッドユニット13aも、インクジェットヘッドユニット12aと同様に構成される。
前述のように、基板20の幅はたとえば150mmである。したがって、ソルダーレジストパターンを形成すべき基板20上の領域(描画範囲)の幅方向の長さは、150mmよりも短い。このように、インクジェットユニット12、13(インクジェットヘッドユニット12a、13a)は、描画範囲の幅方向の長さ以上のインク吐出幅(インク塗布能力)を、X軸方向(基板20の幅方向)に有する。このため、ロール送りを停止させることなく、基板20を一方向に移動させながら、基板20の表裏両面にソルダーレジストパターンを形成することができる。
実施例による描画装置は、ロールトゥロール方式を用い、一方向に長い基板20を長さ方向に移動させながら、基板20の表裏両面に、たとえば所定パターンのソルダーレジストを形成する液滴吐出装置(インクジェット装置)である。
実施例による描画装置を用いると、基板20の移動を停止させることなく、基板20の両面に同時に描画することができるため、高効率で描画を行い、生産性を向上させることができる。
また、実施例による描画装置においては、インクタンク12b、13bを、インクジェットヘッドユニット12a、13aの配設位置よりもZ軸方向(鉛直方向)の下方に配置することが可能である。このためインクジェットヘッドにインクを供給する供給系をコンパクトに構成することができる。また、インクジェットヘッドをインクタンクを内蔵したユニット(インクジェットユニット12、13)として構成することができる。
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。
たとえば、実施例においては、パターン用形成材料(レジスト材料)としてインクを用いたが樹脂であってもよい。
その他、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者には自明であろう。
ソルダーレジストパターンの形成に限らず、液滴を吐出して行うパターン描画に広く利用可能である。
10a〜10d ロール
11 CCDカメラ
12、13 インクジェットユニット
12a、13a インクジェットヘッドユニット
12a1〜12a5 インクジェットヘッドユニット
12a11〜12a14 インクジェットヘッド
12a1c キャリッジ
12b、13b インクタンク
14、15 光源
16 制御装置
16a 記憶装置
20 基板
11 CCDカメラ
12、13 インクジェットユニット
12a、13a インクジェットヘッドユニット
12a1〜12a5 インクジェットヘッドユニット
12a11〜12a14 インクジェットヘッド
12a1c キャリッジ
12b、13b インクタンク
14、15 光源
16 制御装置
16a 記憶装置
20 基板
Claims (8)
- 表側の第1の面及び裏側の第2の面を備える一方向に長い描画対象物を保持し、該描画対象物の長さ方向に沿って搬送する搬送機構と、
前記搬送機構に保持された描画対象物の前記第1の面に向けて液滴を吐出する第1の吐出部と、
前記搬送機構に保持された描画対象物の前記第2の面に向けて液滴を吐出する第2の吐出部と、
前記搬送機構に保持された描画対象物の前記第1の面及び前記第2の面の所定領域に液滴が塗布されるように、前記第1、第2の吐出部からの液滴の吐出、及び前記搬送機構による描画対象物の搬送を制御する制御装置と
を有する描画装置。 - 前記第1及び第2の吐出部から吐出される液滴は紫外線硬化性を有し、
前記搬送機構は、第1の方向に搬送可能に描画対象物を保持し、
更に、
前記第1の吐出部を基準として前記第1の方向側に配置され、前記搬送機構に保持された描画対象物の前記第1の面に塗布された液滴に紫外光を照射する第1の光源と、
前記第2の吐出部を基準として前記第1の方向側に配置され、前記搬送機構に保持された描画対象物の前記第2の面に塗布された液滴に紫外光を照射する第2の光源と
を備える請求項1に記載の描画装置。 - 前記搬送機構に保持された描画対象物上には、アライメントマークが形成され、
更に、前記搬送機構に保持された描画対象物の表面を撮像する撮像装置を備え、
前記制御装置は、前記撮像装置で撮像された撮像データからアライメントマークを検出し、該検出されたアライメントマークを基準として用いて、前記第1、第2の吐出部からの液滴の吐出、及び前記搬送機構による描画対象物の搬送を制御する請求項1または2に記載の描画装置。 - 前記第1及び第2の吐出部は、それぞれ前記搬送機構が描画対象物を搬送する方向と直交する方向について、前記搬送機構に保持された描画対象物の前記第1の面の前記所定領域、及び、前記第2の面の前記所定領域以上の範囲に液滴吐出能力を有する請求項1〜3のいずれか1項に記載の描画装置。
- 更に、前記第1の吐出部に液滴を供給する第1のタンク、及び、前記第2の吐出部に液滴を供給する第2のタンクを備え、
前記第1のタンクは、前記第1の吐出部の配設位置よりも鉛直方向の下方に配置され、前記第2のタンクは、前記第2の吐出部の配設位置よりも鉛直方向の下方に配置される請求項1〜4のいずれか1項に記載の描画装置。 - (a)表側の第1の面及び裏側の第2の面を備える、一方向に長い描画対象物を準備する工程と、
(b)前記描画対象物を、該描画対象物の長さ方向に沿って移動させながら、前記第1の面及び前記第2の面の所定領域に液滴を塗布してパターンを形成する工程と
を有する描画方法。 - 前記工程(b)において、前記第1の面及び前記第2の面の所定領域に、紫外線硬化性を有する液滴を塗布し、塗布された該液滴に紫外線を照射して硬化させ、パターンを形成する請求項6に記載の描画方法。
- 前記描画対象物上にはアライメントマークが形成され、
前記工程(b)において、前記アライメントマークを基準として用いて、前記第1の面及び前記第2の面の所定領域に液滴を塗布する請求項6または7に記載の描画方法。
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