JP2012114279A - 合焦装置、露光装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の態様である合焦装置4は、基準面Paと段差をなす合焦対象面に光学系3の焦点を合わせる合焦装置である。光学系3の焦点が基準面に合う条件及び段差の情報を用いて、光学系3の焦点が合焦対象面に合う合焦条件を求める制御部5を備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、上述の事情に鑑み成されたものであって、合焦の対象領域の周辺に対象領域と段差をなす領域が存在する場合でも精度よく合焦可能にすることを目的の1つとする。
本例の露光装置EXは、基板ステージ1、パターン生成部2、投影光学系3、本発明を適用した合焦装置4、及び制御部5を備えている。本例の合焦装置4は、TTL型位相差方式のオートフォーカス(以下、AFと略記する)によって、投影光学系3の焦点を露光面に合わせることが可能である。制御部5は、露光装置EXの各部の動作を制御し、合焦装置4の制御部を含んでいる。なお、合焦装置4の制御部が、制御部5と別に設けられており制御部5を介して間接的に、又は直接的に基板ステージ1の位置を制御する構成でも構わない。
基板ステージ1は、例えば減圧吸着や静電吸着等によって基板Pを着脱可能に保持する。基板Pは、表面Pa及び裏面Pbの法線方向がZ軸方向とほぼ平行になるように、基板ステージ1の上面1aに保持される。基板ステージ1は、基板PをX軸方向、Y軸方向、Z軸方向、X軸周りの回転方向、Y軸周りの回転方向、及びZ軸周りの回転方向の6方向に移動可能である。本例の基板ステージ1は、基板PをX軸方向及びY軸方向に移動可能なXYステージと、基板PをZ軸方向に移動可能なZステージを含む。
本例の構造物P1は、基板Pの外側に向かって凹となる凹部を含んでいる。構造物P1が、基板Pの外側に向かって凸である凸部を含んでいてもよい。凹部の底面Pcは、基板Pの表面Paに対して段差d1をなしている。基板Pの厚みd0は、例えば0.1mm以上10mm以下である。段差d1は、例えば厚みd0の1/10以上9/10以下である。本例の構造物P1の凹部の外形は、ほぼ正方形である。構造物P1の凹部の外形は、多角形や楕円形(円形を含む)、多角形の角を丸めた形状、自由曲線を輪郭とする形状等から適宜選択される。凹部の内寸(口径)は、例えば10mm以下であり、2mm以下あるいは1mm以下であってもよい。凹部の内寸は、構造物の輪郭が収まる最小の矩形を想定したときに、この矩形の短辺の長さで定義してもよい。
また、上記の段差を測定する代わりに、段差の設計値(段差の情報)を例えば制御部5の記憶部に格納しておき、制御部5が記憶部から段差を示す情報を読み出すことによって段差を求める構成であってもよい。
図3(b)に示す変形例1では、スリット13の像13A〜13Dの外形(スポット形状)がほぼ円形である。
なお、上記の実施形態では、TTL型位相差方式のAFを例に説明したが、本発明はTTL型コントラスト方式のAFや斜入射型位相差方式のAF等にも適用可能である。コントラスト方式では、合焦に用いられる光(検出光SL)が合焦対象面上に形成するスポットの内外のコントラスト比やスポットの寸法変化等に基づいて合焦の判定が行われる。
3・・・投影光学系(光学系)、4・・・合焦装置、5・・・制御部、d1・・・段差、
EL・・・露光光、EX・・・露光装置、P・・・基板(対象物)、
Pa・・・表面(基準面)、Pc・・・底面(合焦対象面、露光対象面)、
SL・・・検出光(光)
Claims (8)
- 基準面と段差をなす合焦対象面に光学系の焦点を合わせる合焦装置であって、
前記光学系の焦点が前記基準面に合う条件及び前記段差の情報を用いて、前記光学系の焦点が前記合焦対象面に合う合焦条件を求める制御部を備える、合焦装置。 - 前記合焦条件は、前記光学系から前記合焦対象面までの距離を含み、
前記制御部は、前記基準面に前記光学系の焦点が合うときの前記光学系から前記基準面までの距離を前記段差だけ調整する、請求項1に記載の合焦装置。 - 前記段差の情報が前記合焦対象面と前記基準面との境界を示す情報を含み、かつ前記合焦条件が前記光学系の倍率を含み、
前記制御部は、前記合焦条件を探索するときに前記合焦対象面に照射される光のスポットが前記合焦対象面に収まるように、前記境界を示す情報を用いて前記光学系の倍率を調整する、請求項1又は2に記載の合焦装置。 - 前記基準面が前記合焦対象面の周囲に設定される、請求項1〜3のいずれか一項に記載の合焦装置。
- 前記制御部は、前記段差の測定値を用いて前記合焦条件を求める、請求項1〜4のいずれか一項に記載の合焦装置。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載の合焦装置を備える露光装置。
- 前記制御部は、前記光学系が第1の倍率であるときに前記基準面に焦点が合う条件と前記合焦条件とを比較して前記段差を求め、前記光学系が前記第1の倍率よりも低倍率の第2の倍率であるときに前記段差を用いて前記光学系の焦点を前記合焦対象面に合わせる、請求項6に記載の露光装置。
- 請求項6又は7に記載の露光装置を用いて基板に露光することと、
露光された前記基板を現像することとを含む、デバイス製造方法。
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JP2014236163A (ja) * | 2013-06-04 | 2014-12-15 | キヤノン株式会社 | 合焦方法、合焦装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
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