JP2012109476A - Wiring circuit board, method for manufacturing the same, and furl cell - Google Patents

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宏史 江部
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring circuit board in which a conductor layer is prevented from corroding and has reduced resistance, and to provide a method for manufacturing the same, and a fuel cell provided with the wiring circuit board.SOLUTION: A current collecting part 3c has main surfaces E1 and E2 and side surfaces E3. The current collecting part 3c is formed on a base insulating layer 2 so that the main surface E2 comes into contact with the base insulating layer 2. The main surface E1 and the side surfaces E3 of the current collecting part 3c are subjected to roughening treatment. Thus, fine irregularities are formed on the main surface E1 and the side surfaces E3 of the current collecting part 3c. A coating layer 6c is formed on the main surface E1 and the side surfaces E3 of the current collecting part 3c having the fine irregularities. A surface roughness Ra of the main surface E1 and the side surfaces E3 of the current collecting part 3c is 300-800 nm inclusive.

Description

本発明は、配線回路基板およびその製造方法ならびに配線回路基板を備えた燃料電池に関する。   The present invention relates to a wired circuit board, a manufacturing method thereof, and a fuel cell including the wired circuit board.

携帯電話等のモバイル機器には、小型でかつ高容量の電池が求められる。そこで、リチウム二次電池等の従来の電池に比べて、高エネルギー密度を得ることが可能な燃料電池の開発が進められている。燃料電池としては、例えば直接メタノール型燃料電池(Direct Methanol Fuel Cells)がある。   Mobile devices such as mobile phones are required to have small and high capacity batteries. Therefore, development of a fuel cell capable of obtaining a high energy density as compared with a conventional battery such as a lithium secondary battery has been advanced. As the fuel cell, for example, there is a direct methanol fuel cell.

直接メタノール型燃料電池では、メタノールが触媒によって分解され、水素イオンが生成される。その水素イオンと空気中の酸素とを反応させることにより電力を発生させる。この場合、化学エネルギーを極めて効率よく電気エネルギーに変換することができ、非常に高いエネルギー密度を得ることができる。   In a direct methanol fuel cell, methanol is decomposed by a catalyst to generate hydrogen ions. Electric power is generated by reacting the hydrogen ions with oxygen in the air. In this case, chemical energy can be converted into electrical energy very efficiently, and a very high energy density can be obtained.

特許文献1には、アノード、カソードおよび電解質膜からなる電極膜接合体が絶縁フィルム上のアノード集電体およびカソード集電体間に配置された燃料電池が記載されている。アノードとアノード集電体とは電気的に接触し、カソードとカソード集電体とは電気的に接触している。   Patent Document 1 describes a fuel cell in which an electrode membrane assembly including an anode, a cathode, and an electrolyte membrane is disposed between an anode current collector and a cathode current collector on an insulating film. The anode and the anode current collector are in electrical contact, and the cathode and the cathode current collector are in electrical contact.

特開2009−123441号公報JP 2009-123441 A

特許文献1に記載されている燃料電池においては、アノード集電体に形成された孔を通って燃料がアノードに供給される。しかしながら、アノード集電体およびカソード集電体に長時間燃料が接触すると、アノード集電体およびカソード集電体が腐食する。そのため、アノード集電体およびカソード集電体の抵抗が増加する。その結果、アノード集電体およびカソード集電体の集電効率が低下する。   In the fuel cell described in Patent Document 1, fuel is supplied to the anode through a hole formed in the anode current collector. However, when the fuel contacts the anode current collector and the cathode current collector for a long time, the anode current collector and the cathode current collector are corroded. Therefore, the resistance of the anode current collector and the cathode current collector is increased. As a result, the current collection efficiency of the anode current collector and the cathode current collector is lowered.

本発明の目的は、導体層の腐食が防止されるとともに導体層の抵抗が低減された配線回路基板およびその製造方法ならびに配線回路基板を備えた燃料電池を提供することである。   An object of the present invention is to provide a printed circuit board in which corrosion of a conductor layer is prevented and resistance of the conductor layer is reduced, a manufacturing method thereof, and a fuel cell including the wired circuit board.

(1)第1の発明に係る配線回路基板は、絶縁層と、所定のパターンを有しかつ第1および第2の主面ならびに側面を有する導体層と、導体層の第1の主面および側面に形成される導電性の被覆層とを備え、導体層は、第2の主面が絶縁層に接触するように絶縁層上に形成され、導体層の第1の主面および側面の表面粗度が300nm以上800nm以下であるものである。   (1) A printed circuit board according to a first invention includes an insulating layer, a conductor layer having a predetermined pattern and having first and second main surfaces and side surfaces, a first main surface of the conductor layer, and And a conductive layer formed on the insulating layer such that the second main surface is in contact with the insulating layer, and the surface of the first main surface and the side surface of the conductor layer. The roughness is not less than 300 nm and not more than 800 nm.

この配線回路基板においては、導体層の第1の主面および側面に導電性の被覆層が形成される。それにより、導体層の腐食が防止される。また、導体層の第1の主面および側面の表面粗度が300nm以上800nm以下である。この場合、導体層と被覆層との間の接触面積を十分に大きくすることができる。これにより、導体層と被覆層との間の接触抵抗を低減することができる。さらに、導体層の第1の主面および側面から被覆層が浮き上がることが防止される。そのため、配線回路基板の導体層および被覆層を燃料電池の電極として用いる場合でも、導体層と被覆層との界面に蟻酸等の燃料電池の副生成物が浸入することが抑制される。これにより、導体層と被覆層との間の接触抵抗を低減することができる。   In this printed circuit board, a conductive coating layer is formed on the first main surface and side surfaces of the conductor layer. Thereby, corrosion of the conductor layer is prevented. Further, the surface roughness of the first main surface and the side surface of the conductor layer is not less than 300 nm and not more than 800 nm. In this case, the contact area between the conductor layer and the coating layer can be made sufficiently large. Thereby, the contact resistance between a conductor layer and a coating layer can be reduced. Further, the covering layer is prevented from floating from the first main surface and the side surface of the conductor layer. Therefore, even when the conductor layer and the coating layer of the printed circuit board are used as the electrodes of the fuel cell, the by-product of the fuel cell such as formic acid is prevented from entering the interface between the conductor layer and the coating layer. Thereby, the contact resistance between a conductor layer and a coating layer can be reduced.

これらの結果、導体層の腐食が防止されるとともに導体層の抵抗が低減される。   As a result, corrosion of the conductor layer is prevented and the resistance of the conductor layer is reduced.

(2)被覆層は、導電材料および樹脂組成物を含んでもよい。この場合、被覆層は、導電性を保持しつつフレキシブル性を有する。これにより、配線回路基板を屈曲させて使用する場合でも、被覆層が破損することが十分に防止される。   (2) The coating layer may include a conductive material and a resin composition. In this case, the coating layer has flexibility while maintaining conductivity. Thereby, even when the printed circuit board is bent and used, the covering layer is sufficiently prevented from being damaged.

(3)絶縁層は、連続孔を有する多孔質材料を含んでもよい。この場合、絶縁層が通気性を有する。それにより、配線回路基板を燃料電池の電極として用いることが可能となる。   (3) The insulating layer may include a porous material having continuous pores. In this case, the insulating layer has air permeability. Thereby, the printed circuit board can be used as an electrode of the fuel cell.

(4)第2の発明に係る燃料電池は、電池要素と、電池要素の電極として配置される第1の発明に係る配線回路基板と、電池要素および配線回路基板を収容する筺体とを備えるものである。   (4) A fuel cell according to a second invention includes a battery element, a wired circuit board according to the first invention arranged as an electrode of the battery element, and a housing that houses the battery element and the wired circuit board. It is.

この燃料電池においては、電池要素および上記の配線回路基板が筺体内に収容される。電池要素の電力は、配線回路基板を通して筺体の外部に供給される。   In this fuel cell, the battery element and the wired circuit board are accommodated in a casing. The electric power of the battery element is supplied to the outside of the housing through the printed circuit board.

上記の配線回路基板においては、導体層の第1の主面および側面に導電性の被覆層が形成される。それにより、導体層の腐食が防止される。また、導体層の第1の主面および側面の表面粗度が300nm以上800nm以下である。この場合、導体層と被覆層との間の接触面積を十分に大きくすることができる。これにより、導体層と被覆層との間の接触抵抗を低減することができる。さらに、導体層の第1の主面および側面から被覆層が浮き上がることが防止される。そのため、導体層と被覆層との界面に蟻酸等の燃料電池の副生成物が浸入することが抑制される。これにより、導体層と被覆層との間の接触抵抗を低減することができる。   In the above printed circuit board, a conductive coating layer is formed on the first main surface and side surfaces of the conductor layer. Thereby, corrosion of the conductor layer is prevented. Further, the surface roughness of the first main surface and the side surface of the conductor layer is 300 nm or more and 800 nm or less. In this case, the contact area between the conductor layer and the coating layer can be made sufficiently large. Thereby, the contact resistance between a conductor layer and a coating layer can be reduced. Further, the covering layer is prevented from floating from the first main surface and the side surface of the conductor layer. For this reason, infiltration of by-products such as formic acid into the interface between the conductor layer and the coating layer is suppressed. Thereby, the contact resistance between a conductor layer and a coating layer can be reduced.

これらの結果、導体層の腐食が防止されるとともに導体層の抵抗が低減される。したがって、電池要素の電力を効率的に外部に供給することができる。   As a result, corrosion of the conductor layer is prevented and the resistance of the conductor layer is reduced. Therefore, the power of the battery element can be efficiently supplied to the outside.

(5)第3の発明に係る配線回路基板の製造方法は、所定のパターンを有しかつ第1および第2の主面ならびに側面を有する導体層を、第2の主面が絶縁層に接触するように絶縁層上に形成する工程と、導体層の第1の主面および側面を表面粗度が300nm以上800nm以下になるように処理する工程と、導体層の第1の主面および側面に導電性の被覆層を形成する工程とを含むものである。   (5) A method for manufacturing a printed circuit board according to a third aspect of the invention includes a conductor layer having a predetermined pattern and having first and second main surfaces and side surfaces, and the second main surface is in contact with the insulating layer. The step of forming on the insulating layer, the step of treating the first main surface and the side surface of the conductor layer so that the surface roughness is not less than 300 nm and not more than 800 nm, and the first main surface and the side surface of the conductor layer. And a step of forming a conductive coating layer.

この配線回路基板の製造方法によれば、導体層の第1の主面および側面に導電性の被覆層が形成される。それにより、導体層の腐食が防止される。また、導体層の第1の主面および側面の表面粗度が300nm以上800nm以下である。この場合、導体層と被覆層との間の接触面積を十分に大きくすることができる。これにより、導体層と被覆層との間の接触抵抗を低減することができる。さらに、導体層の第1の主面および側面から被覆層が浮き上がることが防止される。そのため、配線回路基板の導体層および被覆層を燃料電池の電極として用いる場合でも、導体層と被覆層との界面に蟻酸等の燃料電池の副生成物が浸入することが抑制される。これにより、導体層と被覆層との間の接触抵抗を低減することができる。   According to the method for manufacturing the printed circuit board, the conductive coating layer is formed on the first main surface and the side surface of the conductor layer. Thereby, corrosion of the conductor layer is prevented. Further, the surface roughness of the first main surface and the side surface of the conductor layer is 300 nm or more and 800 nm or less. In this case, the contact area between the conductor layer and the coating layer can be made sufficiently large. Thereby, the contact resistance between a conductor layer and a coating layer can be reduced. Further, the covering layer is prevented from floating from the first main surface and the side surface of the conductor layer. Therefore, even when the conductor layer and the coating layer of the printed circuit board are used as the electrodes of the fuel cell, the by-product of the fuel cell such as formic acid is prevented from entering the interface between the conductor layer and the coating layer. Thereby, the contact resistance between a conductor layer and a coating layer can be reduced.

これらの結果、導体層の腐食が防止されるとともに導体層の抵抗が低減される。   As a result, corrosion of the conductor layer is prevented and the resistance of the conductor layer is reduced.

(6)処理する工程は、導体層の第1の主面および側面をエッチングにより処理する工程を含んでもよい。この場合、導体層の第1の主面および側面を表面粗度が300nm以上800nm以下になるように容易に処理することができる。   (6) The process to process may include the process of processing the 1st main surface and side surface of a conductor layer by an etching. In this case, the first main surface and the side surface of the conductor layer can be easily processed so that the surface roughness is not less than 300 nm and not more than 800 nm.

本発明によれば、配線回路基板の導体層の腐食が防止されるとともに導体層の抵抗が低減される。   According to the present invention, corrosion of the conductor layer of the printed circuit board is prevented and the resistance of the conductor layer is reduced.

本発明の一実施の形態に係るフレキシブル配線回路基板の平面図および断面図である。It is the top view and sectional view of a flexible printed circuit board concerning one embodiment of the present invention. 図1(b)のA部の拡大断面図である。It is an expanded sectional view of the A section of FIG.1 (b). FPC基板の製造方法を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of a FPC board | substrate. FPC基板の製造方法を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of a FPC board | substrate. FPC基板を用いた燃料電池の外観斜視図である。1 is an external perspective view of a fuel cell using an FPC board. 燃料電池内における作用を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the effect | action in a fuel cell. 実施例1〜5および比較例1,2におけるFPC基板の製造方法を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the FPC board in Examples 1-5 and Comparative Examples 1 and 2. FIG. 実施例1〜5および比較例1,2におけるFPC基板の接触抵抗の測定方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the measuring method of the contact resistance of the FPC board in Examples 1-5 and Comparative Examples 1 and 2.

以下、図面を参照しながら本発明の一実施の形態に係る配線回路基板について説明する。なお、本実施の形態では、配線回路基板の例として、屈曲性を有するフレキシブル配線回路基板について説明する。   Hereinafter, a printed circuit board according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the present embodiment, a flexible printed circuit board having flexibility will be described as an example of the printed circuit board.

(1)フレキシブル配線回路基板の構成
図1(a)は本発明の一実施の形態に係るフレキシブル配線回路基板の平面図であり、図1(b)は図1(a)のフレキシブル配線回路基板のA−A線断面図である。以下の説明においては、フレキシブル配線回路をFPC基板と略記する。
(1) Configuration of Flexible Wiring Circuit Board FIG. 1A is a plan view of a flexible wiring circuit board according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a flexible wiring circuit board of FIG. It is an AA sectional view taken on the line. In the following description, the flexible wiring circuit is abbreviated as an FPC board.

図1(a)および図1(b)に示すように、FPC基板1は、例えばポリイミドからなるベース絶縁層2を備える。ベース絶縁層2は第1絶縁部2a、第2絶縁部2b、第3絶縁部2cおよび第4絶縁部2dからなる。第1絶縁部2aおよび第2絶縁部2bは、それぞれ矩形形状を有し、互いに隣接するように一体的に形成される。以下、第1絶縁部2aと第2絶縁部2bとの境界線に平行な辺を側辺と称し、第1絶縁部2aおよび第2絶縁部2bの側辺に垂直な一対の辺を端辺と称する。   As shown in FIGS. 1A and 1B, the FPC board 1 includes a base insulating layer 2 made of polyimide, for example. The base insulating layer 2 includes a first insulating portion 2a, a second insulating portion 2b, a third insulating portion 2c, and a fourth insulating portion 2d. The first insulating portion 2a and the second insulating portion 2b each have a rectangular shape and are integrally formed so as to be adjacent to each other. Hereinafter, a side parallel to the boundary line between the first insulating portion 2a and the second insulating portion 2b is referred to as a side, and a pair of sides perpendicular to the side sides of the first insulating portion 2a and the second insulating portion 2b are end sides. Called.

第3絶縁部2cは、第1絶縁部2aの1つの角部における側辺の一部から延出する。第4絶縁部2dは、第1絶縁部2aの上記角部の対角に位置する第2絶縁部2bの角部における側辺の一部から延出する。   The third insulating portion 2c extends from a part of the side edge at one corner of the first insulating portion 2a. The 4th insulating part 2d extends from a part of the side in the corner of the 2nd insulating part 2b located in the diagonal of the above-mentioned corner of the 1st insulating part 2a.

第1絶縁部2aと第2絶縁部2bとの境界線上にベース絶縁層2をほぼ二等分するように折曲部B1が設けられる。後述のように、ベース絶縁層2は、折曲部B1に沿って折曲可能である。折曲部B1は、例えば線状の浅い溝であってもよく、または、線状の印等でもよい。あるいは、折曲部B1でベース絶縁層2を折曲可能であれば、折曲部B1に特に何もなくてもよい。ベース絶縁層2を折曲部B1に沿って折曲する場合、第1絶縁部2aと第2絶縁部2bとが対向する。この場合、第3絶縁部2cと第4絶縁部2dとは対向しない。   A bent portion B1 is provided on the boundary line between the first insulating portion 2a and the second insulating portion 2b so as to bisect the base insulating layer 2. As will be described later, the insulating base layer 2 can be bent along the bent portion B1. The bent portion B1 may be, for example, a linear shallow groove, or a linear mark or the like. Alternatively, as long as the base insulating layer 2 can be bent at the bent portion B1, there may be nothing in the bent portion B1. When the base insulating layer 2 is bent along the bent portion B1, the first insulating portion 2a and the second insulating portion 2b face each other. In this case, the third insulating portion 2c and the fourth insulating portion 2d do not face each other.

第1絶縁部2aには、複数(本例では端辺方向に沿って4個かつ側辺方向に沿って5個の合計20個)の開口H1が形成される。また、第2絶縁部2bには、複数(本例では端辺方向に沿って4個かつ側辺方向に沿って5個の合計20個)の開口H2が形成される。   In the first insulating portion 2a, a plurality of openings H1 (a total of 20 in the example, four along the edge direction and five along the side direction) are formed. The second insulating portion 2b is formed with a plurality of openings H2 (a total of 20 in the example, four along the edge direction and five along the side direction).

ベース絶縁層2の一面には、矩形の集電部3a,3b,3c,3d,3e,3f,3g,3h,3i,3j、接続導体部3k,3l,3m,3nおよび引き出し導体部3o,3pが形成される。集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pは例えば銅からなる。   On one surface of the base insulating layer 2, rectangular current collectors 3a, 3b, 3c, 3d, 3e, 3f, 3g, 3h, 3i, 3j, connection conductors 3k, 3l, 3m, 3n and lead conductors 3o, 3p is formed. The current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and the lead conductors 3o and 3p are made of, for example, copper.

集電部3a〜3jの各々は長方形状を有する。集電部3a〜3eは、第1絶縁部2aの端辺に沿って平行に延びかつ第1絶縁部2aの側辺方向に沿って設けられる。ここで、集電部3a〜3eの各々は、第1絶縁部2aの端辺に平行に並ぶ4個の開口H1を含む第1絶縁部2aの領域に形成される。   Each of the current collectors 3a to 3j has a rectangular shape. The current collectors 3a to 3e extend in parallel along the edge of the first insulating part 2a and are provided along the side direction of the first insulating part 2a. Here, each of the current collectors 3a to 3e is formed in a region of the first insulating portion 2a including the four openings H1 arranged in parallel with the end side of the first insulating portion 2a.

同様に、集電部3f〜3jは、第2絶縁部2bの端辺に沿って平行に延びかつ第2絶縁部2bの側辺方向に沿って設けられる。ここで、集電部3f〜3jの各々は、第2絶縁部2bの端辺に平行に並ぶ4個の開口H2を含む第2絶縁部2bの領域に形成される。   Similarly, the current collectors 3f to 3j extend in parallel along the end side of the second insulating part 2b and are provided along the side direction of the second insulating part 2b. Here, each of the current collecting portions 3f to 3j is formed in the region of the second insulating portion 2b including the four openings H2 arranged in parallel with the end side of the second insulating portion 2b.

この場合、集電部3a〜3eと集電部3f〜3jとは、折曲部B1を中心として対称な位置に配置される。   In this case, the current collectors 3a to 3e and the current collectors 3f to 3j are arranged at symmetrical positions with the bent part B1 as the center.

接続導体部3k〜3nは、折曲部B1をまたぐように第1絶縁部2aおよび第2絶縁部2bにわたって形成される。接続導体部3kは集電部3bと集電部3fとを電気的に接続し、接続導体部3lは集電部3cと集電部3gとを電気的に接続し、接続導体部3mは集電部3dと集電部3hとを電気的に接続し、接続導体部3nは集電部3eと集電部3iとを電気的に接続する。   The connection conductor portions 3k to 3n are formed across the first insulating portion 2a and the second insulating portion 2b so as to straddle the bent portion B1. The connecting conductor portion 3k electrically connects the current collecting portion 3b and the current collecting portion 3f, the connecting conductor portion 3l electrically connects the current collecting portion 3c and the current collecting portion 3g, and the connecting conductor portion 3m is the current collecting portion. The current collector 3d and the current collector 3h are electrically connected, and the connection conductor 3n electrically connects the current collector 3e and the current collector 3i.

第1絶縁部2aの開口H1上における集電部3a〜3eの部分には、開口H1よりも径大の開口H11が形成される。また、第2絶縁部2bの開口H2上における集電部3f〜3jの部分には、開口H2よりも径大の開口H12が形成される。   An opening H11 having a diameter larger than that of the opening H1 is formed in the portion of the current collecting parts 3a to 3e on the opening H1 of the first insulating part 2a. In addition, an opening H12 having a diameter larger than that of the opening H2 is formed in the portion of the current collecting parts 3f to 3j on the opening H2 of the second insulating part 2b.

引き出し導体部3oは、集電部3aの外側の短辺から第3絶縁部2c上に直線状に延びるように形成される。引き出し導体部3pは、集電部3jの外側の短辺から第4絶縁部2d上に直線状に延びるように形成される。   The lead conductor portion 3o is formed to extend linearly on the third insulating portion 2c from the outer short side of the current collecting portion 3a. The lead conductor portion 3p is formed so as to extend linearly on the fourth insulating portion 2d from the outer short side of the current collecting portion 3j.

集電部3aおよび引き出し導体部3oの一部を覆うように、第1絶縁部2a上に被覆層6aが形成される。これにより、引き出し導体部3oの先端部は被覆層6aに覆われずに露出する。この露出した引き出し導体部3oの部分を、引き出し電極5aと称する。また、集電部3b〜3eをそれぞれ覆うように、第1絶縁部2a上に被覆層6b,6c,6d,6eが形成される。集電部3a〜3eの開口H11内において、被覆層6a〜6eは第1絶縁部2aの上面に接する。   A covering layer 6a is formed on the first insulating portion 2a so as to cover a part of the current collecting portion 3a and the lead conductor portion 3o. Thereby, the front-end | tip part of the lead conductor part 3o is exposed without being covered with the coating layer 6a. This exposed portion of the lead conductor portion 3o is referred to as a lead electrode 5a. Also, covering layers 6b, 6c, 6d, and 6e are formed on the first insulating portion 2a so as to cover the current collecting portions 3b to 3e, respectively. In the openings H11 of the current collectors 3a to 3e, the covering layers 6a to 6e are in contact with the upper surface of the first insulating part 2a.

集電部3jおよび引き出し導体部3pの一部を覆うように、第2絶縁部2b上に被覆層6jが形成される。これにより、引き出し導体部3pの先端部は被覆層6jに覆われずに露出する。この露出した引き出し導体部3pの部分を、引き出し電極5bと称する。また、集電部3f〜3iをそれぞれ覆うように、第2絶縁部2b上に被覆層6f,6g,6h,6iが形成される。集電部3f〜3jの開口H12内において、被覆層6f〜6jは第2絶縁部2bの上面に接する。   A covering layer 6j is formed on the second insulating portion 2b so as to cover a part of the current collecting portion 3j and the lead conductor portion 3p. As a result, the leading end portion of the lead conductor portion 3p is exposed without being covered with the coating layer 6j. This exposed portion of the lead conductor portion 3p is referred to as a lead electrode 5b. In addition, coating layers 6f, 6g, 6h, and 6i are formed on the second insulating portion 2b so as to cover the current collecting portions 3f to 3i, respectively. In the openings H12 of the current collectors 3f to 3j, the covering layers 6f to 6j are in contact with the upper surface of the second insulating part 2b.

接続導体部3k〜3nをそれぞれ覆うように、第1絶縁部2a上および第2絶縁部2b上に被覆層6k,6l,6m,6nが形成される。   Covering layers 6k, 6l, 6m, and 6n are formed on first insulating portion 2a and second insulating portion 2b so as to cover connection conductor portions 3k to 3n, respectively.

図2は、図1(b)のA部の拡大断面図である。図2に示すように、集電部3cは、主面E1,E2および側面E3を有する。集電部3cは、主面E2がベース絶縁層2に接触するようにベース絶縁層2上に形成される。集電部3cの主面E1および側面E3が粗化処理される。これにより、集電部3cの主面E1および側面E3に微小な凹凸が形成される。微小な凹凸を有する主面E1および側面E3に被覆層6cが形成される。   FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a portion A in FIG. As shown in FIG. 2, the current collector 3c has main surfaces E1, E2 and a side surface E3. The current collector 3c is formed on the base insulating layer 2 so that the main surface E2 is in contact with the base insulating layer 2. The main surface E1 and the side surface E3 of the current collector 3c are roughened. Thereby, micro unevenness | corrugation is formed in the main surface E1 and the side surface E3 of the current collection part 3c. The coating layer 6c is formed on the main surface E1 and the side surface E3 having minute irregularities.

同様に、図1の集電部3a,3b,3d〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pは、主面E1,E2および側面E3を有する。集電部3a,3b,3d〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pは、主面E2がベース絶縁層2に接触するようにベース絶縁層2上に形成される。集電部3a,3b,3d〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3が粗化処理される。これにより、集電部3a,3b,3d〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3に微小な凹凸が形成される。微小な凹凸を有する主面E1および側面E3に被覆層6a,6b,6d〜6nが形成される。   Similarly, the current collecting portions 3a, 3b, 3d to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p in FIG. 1 have main surfaces E1 and E2 and a side surface E3. Current collectors 3 a, 3 b, 3 d to 3 j, connection conductors 3 k to 3 n and lead conductors 3 o and 3 p are formed on base insulating layer 2 so that main surface E <b> 2 is in contact with base insulating layer 2. The main surfaces E1 and side surfaces E3 of the current collecting portions 3a, 3b, 3d to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p are roughened. Thereby, micro unevenness | corrugations are formed in the main surface E1 and the side surface E3 of current collection part 3a, 3b, 3d-3j, connection conductor part 3k-3n, and extraction conductor part 3o, 3p. Coating layers 6a, 6b, 6d to 6n are formed on main surface E1 and side surface E3 having minute irregularities.

ベース絶縁層2と接触する集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E2は粗化処理されていない。そのため、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3の表面粗度Raは、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E2の表面度粗よりも大きい。   The main surfaces E2 of the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and the lead conductors 3o and 3p that are in contact with the base insulating layer 2 are not roughened. Therefore, the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and the surface roughness Ra of the main surface E1 and the side surface E3 of the lead conductors 3o and 3p are the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and The surface roughness of the main surface E2 of the lead conductor portions 3o and 3p is larger than that.

被覆層6a〜6nは、導電材料を含有した樹脂組成物からなる。そのため、被覆層6a〜6nは、導電性を保持しつつフレキシブル性を有する。これにより、FPC基板1を屈曲させて使用する場合でも、被覆層6a〜6nが破損することが十分に防止される。   The coating layers 6a to 6n are made of a resin composition containing a conductive material. Therefore, the coating layers 6a to 6n have flexibility while maintaining conductivity. Thereby, even when the FPC board 1 is bent and used, the covering layers 6a to 6n are sufficiently prevented from being damaged.

樹脂組成物として、例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂もしくはポリエステル樹脂、またはこれらの樹脂を2種類以上混合した樹脂を用いることができる。熱硬化性のポリマーを樹脂組成物として用いることが好ましい。フェノール樹脂、エポキシ樹脂またはポリエステル樹脂を樹脂組成物として用いることがより好ましい。   As the resin composition, for example, a phenol resin, an epoxy resin, an acrylic resin, a polyurethane resin, a polyimide resin, a polyamideimide resin, a polyester resin, or a resin in which two or more of these resins are mixed can be used. It is preferable to use a thermosetting polymer as the resin composition. More preferably, a phenol resin, an epoxy resin, or a polyester resin is used as the resin composition.

一方、導電材料として、例えば金(Au)、銀もしくはナノ銀粒子等の金属材料、カーボンブラック、黒鉛もしくはカーボンナノチューブ等の炭素材料、またはポリチオフェンもしくはポリアニリン等の導電性高分子材料を用いることができ、またはこれらの材料を2種類以上混合した材料を用いることができる。   On the other hand, for example, a metal material such as gold (Au), silver or nano silver particles, a carbon material such as carbon black, graphite or carbon nanotube, or a conductive polymer material such as polythiophene or polyaniline can be used as the conductive material. Alternatively, a material obtained by mixing two or more of these materials can be used.

(2)FPC基板の製造方法
次に、図1に示したFPC基板1の製造方法を説明する。図3および図4は、FPC基板1の製造方法を説明するための工程断面図である。なお、図3および図4は、図1のFPC基板1のA−A線から見た工程断面図である。
(2) Manufacturing Method of FPC Board Next, a manufacturing method of the FPC board 1 shown in FIG. 1 will be described. 3 and 4 are process cross-sectional views for explaining a method for manufacturing the FPC board 1. 3 and 4 are process cross-sectional views as seen from the line AA of the FPC board 1 of FIG.

まず、図3(a)に示すように、例えばポリイミドからなる絶縁膜20と例えば銅からなる導体膜30とからなる2層CCL(Copper Clad Laminate:銅張積層板)を用意する。絶縁膜20の厚みは例えば25μmであり、導体膜30の厚みは例えば18μmである。   First, as shown in FIG. 3A, a two-layer CCL (Copper Clad Laminate) made of, for example, an insulating film 20 made of polyimide and a conductor film 30 made of copper, for example, is prepared. The thickness of the insulating film 20 is, for example, 25 μm, and the thickness of the conductor film 30 is, for example, 18 μm.

次に、図3(b)に示すように、導体膜30上に所定のパターンを有するエッチングレジスト22が形成される。エッチングレジスト22は、例えば、ドライフィルムレジスト等により導体膜30上にレジスト膜を形成し、そのレジスト膜を所定のパターンで露光し、その後、現像することにより形成される。   Next, as shown in FIG. 3B, an etching resist 22 having a predetermined pattern is formed on the conductor film 30. The etching resist 22 is formed, for example, by forming a resist film on the conductor film 30 with a dry film resist or the like, exposing the resist film in a predetermined pattern, and then developing the resist film.

次に、図3(c)に示すように、塩化第二鉄等のエッチング液を用いたエッチングにより、エッチングレジスト22の下の領域を除く導体膜30の領域が除去される。次に、図3(d)に示すように、エッチングレジスト22が剥離液により除去される。これにより、主面E2が絶縁膜20に接触するように絶縁膜20上に集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3p(図1参照)が形成される。なお、図3(d)には、集電部3c,3h、接続導体部3lおよび引き出し導体部3oのみが表されている。   Next, as shown in FIG. 3C, the region of the conductor film 30 excluding the region under the etching resist 22 is removed by etching using an etchant such as ferric chloride. Next, as shown in FIG. 3D, the etching resist 22 is removed by a stripping solution. Thus, current collecting portions 3a to 3j, connection conductor portions 3k to 3n, and lead conductor portions 3o and 3p (see FIG. 1) are formed on the insulating film 20 so that the main surface E2 is in contact with the insulating film 20. In FIG. 3 (d), only the current collecting portions 3c and 3h, the connecting conductor portion 31 and the lead conductor portion 3o are shown.

スパッタ、蒸着またはめっき等の一般的な方法により絶縁膜20上に集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pが形成されてもよい。   The current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p may be formed on the insulating film 20 by a general method such as sputtering, vapor deposition, or plating.

ここで、硫酸−過酸化水素系のエッチング液を用いたエッチングにより、被覆層6a〜6jと接触する集電部3a〜3jおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3ならびに被覆層6k〜6nと接触する接続導体部3k〜3nの主面E1および側面E3が粗化処理される。集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3の表面粗度Raは、300nm以上800nm以下である。   Here, the main surfaces E1 and side surfaces E3 of the current collecting portions 3a to 3j and the lead conductor portions 3o and 3p that are in contact with the coating layers 6a to 6j and the coating layer 6k are etched by using an etching solution of sulfuric acid-hydrogen peroxide. The main surface E1 and the side surface E3 of the connection conductor portions 3k to 3n that are in contact with ˜6n are roughened. The surface roughness Ra of the main surface E1 and the side surface E3 of the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and the lead conductors 3o and 3p is not less than 300 nm and not more than 800 nm.

続いて、図4(a)に示すように、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3を覆うように絶縁膜20上に導電材料を含有する樹脂組成物の塗布またはラミネートにより被覆膜60が形成される。被覆膜60の厚みは例えば20μmである。   Subsequently, as shown in FIG. 4A, the conductive portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the conductor surfaces 3o and 3p are electrically conductive on the insulating film 20 so as to cover the main surface E1 and the side surface E3. The coating film 60 is formed by applying or laminating a resin composition containing the material. The thickness of the coating film 60 is, for example, 20 μm.

次に、図4(b)に示すように、被覆膜60を所定のパターンで露光し、その後、現像することにより、被覆層6a〜6n(図1(a)参照)が形成される。ここで、引き出し電極5a,5b(図1(a)参照)が被覆層6a,6jから露出する。   Next, as shown in FIG. 4B, the coating film 60 is exposed in a predetermined pattern and then developed to form the coating layers 6a to 6n (see FIG. 1A). Here, the extraction electrodes 5a and 5b (see FIG. 1A) are exposed from the coating layers 6a and 6j.

最後に、図4(c)に示すように、絶縁膜20が所定の形状に切断されることにより、ベース絶縁層2、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3n、引き出し導体部3o,3pおよび被覆層6a〜6nを備えるFPC基板1が完成する。   Finally, as shown in FIG. 4C, the insulating film 20 is cut into a predetermined shape, whereby the base insulating layer 2, the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portion 3o. , 3p and the coating layers 6a to 6n are completed.

本実施の形態において、ベース絶縁層2の材料としては、ポリイミドが用いられるが、これに限定されない。ベース絶縁層2の材料としては、ポリイミドに代えて、例えばポリアミドイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマーまたはポリオレフィン等が用いられてもよい。   In the present embodiment, polyimide is used as a material for the insulating base layer 2, but the material is not limited to this. As the material of the base insulating layer 2, for example, polyamideimide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyphenylene sulfide, liquid crystal polymer, polyolefin, or the like may be used instead of polyimide.

なお、ベース絶縁層2の厚みは、1μm以上100μm以下であることが好ましく、5μm以上50μm以下であることがより好ましく、5μm以上30μm以下であることがさらに好ましい。ベース絶縁層2の厚みが1μm以上であると、ベース絶縁層2の取り扱い性が向上する。また、ベース絶縁層2の厚みが100μm以下であると、FPC基板1のフレキシブル性が向上するとともに、FPC基板1の小型化が容易になる。   The insulating base layer 2 has a thickness of preferably 1 μm or more and 100 μm or less, more preferably 5 μm or more and 50 μm or less, and further preferably 5 μm or more and 30 μm or less. When the thickness of the base insulating layer 2 is 1 μm or more, the handleability of the base insulating layer 2 is improved. Moreover, when the thickness of the insulating base layer 2 is 100 μm or less, the flexibility of the FPC board 1 is improved and the FPC board 1 can be easily downsized.

本実施の形態においては、エッチングにより集電部3a〜3j、被覆層6k〜6nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3が粗化処理されたが、これに限定されない。表面粗度Raを制御可能な他の方法により、集電部3a〜3j、被覆層6k〜6nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3が粗化処理されてもよい。   In the present embodiment, the current collectors 3a to 3j, the covering layers 6k to 6n, and the main surfaces E1 and side surfaces E3 of the lead conductors 3o and 3p are roughened by etching, but the present invention is not limited to this. The main surfaces E1 and side surfaces E3 of the current collecting portions 3a to 3j, the covering layers 6k to 6n, and the lead conductor portions 3o and 3p may be roughened by other methods capable of controlling the surface roughness Ra.

図3および図4では、サブトラクティブ法によるFPC基板1の製造方法を示したが、これに限定されず、セミアディティブ法等の他の製造方法を用いてもよい。さらに、図3および図4では、露光法を用いて被覆層6a〜6nを形成する例を示したが、これに限定されず、印刷技術を用いて所定のパターンの被覆膜を形成し、その後、熱硬化処理を行うことに被覆層6a〜6nを形成してもよい。   3 and 4 show the manufacturing method of the FPC board 1 by the subtractive method, but the present invention is not limited to this, and other manufacturing methods such as a semi-additive method may be used. Furthermore, in FIG. 3 and FIG. 4, although the example which forms the coating layers 6a-6n using the exposure method was shown, it is not limited to this, The coating film of a predetermined pattern is formed using a printing technique, Then, you may form the coating layers 6a-6n by performing a thermosetting process.

(3)FPC基板を用いた燃料電池
図5は、FPC基板1を用いた燃料電池100の外観斜視図である。図6は、燃料電池100内における作用を説明するための図であり、図5の燃料電池100のB−B線から見た断面図である。
(3) Fuel Cell Using FPC Board FIG. 5 is an external perspective view of a fuel cell 100 using the FPC board 1. 6 is a view for explaining the operation in the fuel cell 100, and is a cross-sectional view of the fuel cell 100 in FIG.

図5および図6に示すように、燃料電池100は直方体状のケーシング40を有する。図5では、ケーシング40を破線により示している。ケーシング40は、上面部41、下面部42、一方の側面部43および他方の側面部44を有する。   As shown in FIGS. 5 and 6, the fuel cell 100 has a rectangular parallelepiped casing 40. In FIG. 5, the casing 40 is indicated by a broken line. The casing 40 has an upper surface portion 41, a lower surface portion 42, one side surface portion 43, and the other side surface portion 44.

FPC基板1は、被覆層6a〜6nが形成された一面を内側にして図1の折曲部B1に沿って折曲された状態でケーシング40の上面部41および下面部42により狭持される。   The FPC board 1 is sandwiched between the upper surface portion 41 and the lower surface portion 42 of the casing 40 in a state where the FPC substrate 1 is bent along the bent portion B1 in FIG. .

FPC基板1の引き出し電極5a,5bは、ケーシング40の一方の側面部43から外側に引き出される。引き出し電極5a,5bには、種々の外部回路の端子が電気的に接続される。   The lead electrodes 5 a and 5 b of the FPC board 1 are drawn outward from one side surface portion 43 of the casing 40. Terminals of various external circuits are electrically connected to the extraction electrodes 5a and 5b.

ケーシング40内において、複数(本実施の形態では5個)の電極膜35が、折曲されたFPC基板1の被覆層6aと被覆層6fとの間、被覆層6bと被覆層6gとの間、被覆層6cと被覆層6hとの間、被覆層6dと被覆層6iとの間、および被覆層6eと被覆層6jとの間にそれぞれ配置される(図1(a)参照)。これにより、複数の電極膜35が直列接続される。   Within the casing 40, a plurality (five in the present embodiment) of electrode films 35 are disposed between the cover layer 6a and the cover layer 6f of the folded FPC board 1 and between the cover layer 6b and the cover layer 6g. And between the coating layer 6c and the coating layer 6h, between the coating layer 6d and the coating layer 6i, and between the coating layer 6e and the coating layer 6j (see FIG. 1A). Thereby, the plurality of electrode films 35 are connected in series.

各電極膜35は空気極35a、燃料極35bおよび電解質膜35cからなる。空気極35aは電解質膜35cの一面に形成され、燃料極35bは電解質膜35cの他面に形成される。複数の電極膜35の空気極35aはFPC基板1の被覆層6f〜6jにそれぞれ対向し、複数の電極膜35の燃料極35bはFPC基板1の被覆層6a〜6eにそれぞれ対向する。   Each electrode film 35 includes an air electrode 35a, a fuel electrode 35b, and an electrolyte film 35c. The air electrode 35a is formed on one surface of the electrolyte membrane 35c, and the fuel electrode 35b is formed on the other surface of the electrolyte membrane 35c. The air electrodes 35a of the plurality of electrode films 35 face the coating layers 6f to 6j of the FPC board 1, respectively, and the fuel electrodes 35b of the plurality of electrode films 35 face the coating layers 6a to 6e of the FPC board 1, respectively.

ケーシング40内の上面部41上には、集電部3f〜3jの複数の開口H12およびベース絶縁層2の複数の開口H2に対応するように複数の開口H41が形成される。電極膜35の空気極35aには、ケーシング40の複数の開口H41、ベース絶縁層2の複数の開口H2、および集電部3f〜3jの複数の開口H12を通して空気が供給される。   A plurality of openings H41 are formed on the upper surface portion 41 in the casing 40 so as to correspond to the plurality of openings H12 of the current collectors 3f to 3j and the plurality of openings H2 of the base insulating layer 2. Air is supplied to the air electrode 35a of the electrode film 35 through the plurality of openings H41 of the casing 40, the plurality of openings H2 of the base insulating layer 2, and the plurality of openings H12 of the current collectors 3f to 3j.

ケーシング40の下面部42には、ベース絶縁層2の第1絶縁部2a(図1(a)参照)に接するように燃料収容室50が設けられる。燃料収容室50には、燃料供給管51の一端が接続される。燃料供給管51の他端は、ケーシング40の他方の側面部44を通って外部の図示しない燃料供給部に接続される。燃料供給部から燃料供給管51を通して燃料収容室50内に燃料が供給される。各電極膜35の燃料極35bには、ベース絶縁層2の複数の開口H1および集電部3f〜3jの複数の開口H11を通して燃料が供給される。なお、本実施の形態では、燃料としてメタノールを用いる。   A fuel storage chamber 50 is provided on the lower surface portion 42 of the casing 40 so as to be in contact with the first insulating portion 2 a (see FIG. 1A) of the base insulating layer 2. One end of a fuel supply pipe 51 is connected to the fuel storage chamber 50. The other end of the fuel supply pipe 51 is connected to an external fuel supply unit (not shown) through the other side surface 44 of the casing 40. Fuel is supplied from the fuel supply unit into the fuel storage chamber 50 through the fuel supply pipe 51. Fuel is supplied to the fuel electrode 35b of each electrode film 35 through the plurality of openings H1 of the base insulating layer 2 and the plurality of openings H11 of the current collectors 3f to 3j. In this embodiment, methanol is used as the fuel.

上記の構成においては、複数の燃料極35bにおいて、メタノールが水素イオンと二酸化炭素とに分解され、電子が生成される。生成された電子は、FPC基板1の集電部3a(図1参照)から引き出し電極5aに導かれる。メタノールから分解された水素イオンは、電解質膜35cを透過して空気極35aに達する。複数の空気極35aにおいて、引き出し電極5bから集電部3jに導かれた電子を消費しつつ水素イオンと酸素とが反応し、水が生成される。このようにして、引き出し電極5a,5bに接続された外部回路に電力が供給される。   In the above configuration, methanol is decomposed into hydrogen ions and carbon dioxide in the plurality of fuel electrodes 35b, and electrons are generated. The generated electrons are guided from the current collector 3a (see FIG. 1) of the FPC board 1 to the extraction electrode 5a. Hydrogen ions decomposed from methanol pass through the electrolyte membrane 35c and reach the air electrode 35a. In the plurality of air electrodes 35a, hydrogen ions and oxygen react while consuming electrons guided from the extraction electrode 5b to the current collector 3j, and water is generated. In this way, power is supplied to the external circuit connected to the extraction electrodes 5a and 5b.

(4)効果
本実施の形態に係るFPC基板1においては、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3に導電性の被覆層6a〜6nが形成される。それにより、導体層の腐食が防止される。
(4) Effect In the FPC board 1 according to the present embodiment, the conductive cover layer 6a is provided on the main surface E1 and the side surface E3 of the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and the lead conductors 3o and 3p. ~ 6n are formed. Thereby, corrosion of the conductor layer is prevented.

また、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3の表面粗度Raが300nm以上800nm以下である。この場合、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pと被覆層6a〜6nとの間の接触面積を十分に大きくすることができる。これにより、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pと被覆層6a〜6nとの間の接触抵抗を低減することができる。   Further, the surface roughness Ra of the main surface E1 and the side surface E3 of the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p is not less than 300 nm and not more than 800 nm. In this case, the contact areas between the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, the lead conductor portions 3o and 3p, and the covering layers 6a to 6n can be sufficiently increased. Thereby, the contact resistances between the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, the lead conductors 3o and 3p, and the coating layers 6a to 6n can be reduced.

さらに、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの主面E1および側面E3から被覆層6a〜6nが浮き上がることが防止される。そのため、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pと被覆層6a〜6nとの界面に蟻酸等の燃料電池100の副生成物が浸入することが抑制される。これにより、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pと被覆層6a〜6nとの間の接触抵抗の増加を低減することができる。   Furthermore, the covering layers 6a to 6n are prevented from floating from the main surfaces E1 and the side surfaces E3 of the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p. Therefore, it is suppressed that by-products of the fuel cell 100 such as formic acid enter the interfaces between the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, the lead conductors 3o and 3p, and the coating layers 6a to 6n. . Thereby, the increase in the contact resistance between the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, the lead conductors 3o and 3p, and the coating layers 6a to 6n can be reduced.

これらの結果、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの腐食が防止されるとともに集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの抵抗が低減される。したがって、燃料電池100の電極膜35の電力を効率的に外部に供給することができる。   As a result, the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and the lead conductors 3o and 3p are prevented from being corroded, and the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and the lead conductors 3o, The resistance of 3p is reduced. Therefore, the electric power of the electrode film 35 of the fuel cell 100 can be efficiently supplied to the outside.

(5)他の実施の形態
(5−1)上記実施の形態において、FPC基板1のベース絶縁層2の材料としてポリイミドが用いられたが、これに限定されない。例えば、ポリイミドに代えて、ポリアミドイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー、ポリオレフィン、エポキシまたはポリテトラフルオロエチレン等の他の絶縁材料が用いられてもよい。
(5) Other Embodiments (5-1) In the above embodiment, polyimide is used as the material of the base insulating layer 2 of the FPC board 1, but the present invention is not limited to this. For example, instead of polyimide, other insulating materials such as polyamideimide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyphenylene sulfide, liquid crystal polymer, polyolefin, epoxy, or polytetrafluoroethylene may be used.

(5−2)上記実施の形態において、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの材料として銅が用いられたが、これに限定されない。例えば、銅に代えて、金(Au)、銀、もしくはアルミニウム等の他の金属、または銅合金、金合金、銀合金もしくはアルミニウム合金等の合金を用いてもよい。   (5-2) In the above embodiment, copper is used as a material for the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and the lead conductors 3o and 3p, but is not limited thereto. For example, instead of copper, another metal such as gold (Au), silver, or aluminum, or an alloy such as a copper alloy, a gold alloy, a silver alloy, or an aluminum alloy may be used.

(5−3)上記実施の形態において、FPC基板1は5対の集電部(集電部3a,3f、集電部3b,3g、集電部3c,3h、集電部3d,3iおよび集電部3e,3j)を有するが、これに限定されない。FPC基板1の集電部の数は2対以上であれば、4対以下であってもよいし、6対以上であってもよい。これにより、任意の数の電極膜35を直列接続することができる。   (5-3) In the above embodiment, the FPC board 1 includes five pairs of current collectors (current collectors 3a and 3f, current collectors 3b and 3g, current collectors 3c and 3h, current collectors 3d and 3i, and Although it has the current collection parts 3e and 3j), it is not limited to this. As long as the number of current collecting portions of the FPC board 1 is 2 pairs or more, it may be 4 pairs or less, or 6 pairs or more. Thereby, an arbitrary number of electrode films 35 can be connected in series.

また、FPC基板1が1対の集電部を有してもよい。この場合、接続導体部3k〜3nは設けられない。   Further, the FPC board 1 may have a pair of current collectors. In this case, the connection conductor portions 3k to 3n are not provided.

(5−4)上記実施の形態において、配線回路基板は屈曲性を有するFPC基板であるが、これに限定されない。例えば、配線回路基板に屈曲性を要しない場合、配線回路基板はリジッド配線回路基板であってもよい。   (5-4) In the above embodiment, the printed circuit board is a flexible FPC board, but is not limited to this. For example, when the wiring circuit board does not require flexibility, the wiring circuit board may be a rigid wiring circuit board.

(5−5)上記実施の形態において、ベース絶縁層2は連続孔を有さないが、これに限定されない。例えば、ベース絶縁層2は多孔質性の連続孔を有してもよい。この場合、ベース絶縁層2は通気性を有する。そのため、ベース絶縁層2に開口H1,H2を形成しなくても、FPC基板1を燃料電池100の電極として用いることが可能となる。   (5-5) In the above embodiment, the base insulating layer 2 does not have continuous holes, but is not limited thereto. For example, the base insulating layer 2 may have porous continuous holes. In this case, the base insulating layer 2 has air permeability. Therefore, the FPC board 1 can be used as the electrode of the fuel cell 100 without forming the openings H1 and H2 in the base insulating layer 2.

(5−6)上記実施の形態において、所定のパターンを有する導体膜30の全体の主面E1および側面E3に被覆膜60が形成されるが、これに限定されない。例えば、集電部3a〜3nおよび接続導体部3k〜3nを含む導体膜30の主面E1および側面E3にのみ被覆膜60が形成されてもよい。この場合、集電部3a〜3nおよび接続導体部3k〜3nを含む導体膜30の部分に蟻酸等の燃料電池100の副生成物が付着しても、導体膜30に腐食が発生することが防止される。   (5-6) In the above embodiment, the coating film 60 is formed on the entire main surface E1 and side surface E3 of the conductor film 30 having a predetermined pattern, but the present invention is not limited to this. For example, the coating film 60 may be formed only on the main surface E1 and the side surface E3 of the conductor film 30 including the current collectors 3a to 3n and the connection conductors 3k to 3n. In this case, even if a by-product of the fuel cell 100 such as formic acid adheres to the portion of the conductor film 30 including the current collecting portions 3a to 3n and the connecting conductor portions 3k to 3n, the conductor film 30 may be corroded. Is prevented.

(6)請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
(6) Correspondence between each component of claim and each part of embodiment The following describes an example of a correspondence between each component of the claim and each part of the embodiment. It is not limited.

上記実施の形態においては、ベース絶縁層2または絶縁膜20が絶縁層の例であり、主面E1が第1の主面の例であり、主面E2が第2の主面の例であり、側面E3が側面の例である。集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3p、または導体膜30が導体層の例であり、被覆層6a〜6nまたは被覆膜60が被覆層の例である。FPC基板1が配線回路基板の例であり、電極膜35が電池要素の例であり、ケーシング40が筺体の例である。   In the above embodiment, the base insulating layer 2 or the insulating film 20 is an example of an insulating layer, the main surface E1 is an example of a first main surface, and the main surface E2 is an example of a second main surface. Side surface E3 is an example of a side surface. The current collectors 3a to 3j, the connecting conductors 3k to 3n and the lead conductors 3o and 3p, or the conductor film 30 are examples of conductor layers, and the coating layers 6a to 6n or the coating film 60 are examples of coating layers. . The FPC board 1 is an example of a printed circuit board, the electrode film 35 is an example of a battery element, and the casing 40 is an example of a casing.

請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。   As each constituent element in the claims, various other elements having configurations or functions described in the claims can be used.

(7)実施例
(7−1)実施例および比較例
実施例1〜5および比較例1,2では、以下の方法でFPC基板を製造した。図7は、実施例1〜5および比較例1,2におけるFPC基板の製造方法を説明するための工程断面図である。
(7) Examples (7-1) Examples and Comparative Examples In Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2, FPC boards were manufactured by the following method. FIG. 7 is a process cross-sectional view for explaining a method of manufacturing an FPC board in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2.

まず、図7(a)に示すように、ポリイミドからなる絶縁膜20と銅からなる導体膜30とからなる2層CCLを用意する。2層CCLは4cm×8cmの矩形状を有する。絶縁膜20の厚みは25μmであり、導体膜30の厚みは18μmである。次に、図7(b)に示すように、塩化第二鉄のエッチング液を用いたエッチングにより、導体膜30を所定のパターンに形成する。この場合、導体膜30は、主面E2が絶縁膜20に接触するように絶縁膜20上に設けられる。   First, as shown in FIG. 7A, a two-layer CCL made of an insulating film 20 made of polyimide and a conductor film 30 made of copper is prepared. The two-layer CCL has a rectangular shape of 4 cm × 8 cm. The insulating film 20 has a thickness of 25 μm, and the conductor film 30 has a thickness of 18 μm. Next, as shown in FIG. 7B, the conductor film 30 is formed in a predetermined pattern by etching using a ferric chloride etchant. In this case, the conductor film 30 is provided on the insulating film 20 so that the main surface E2 is in contact with the insulating film 20.

続いて、図7(c)に示すように、硫酸−過酸化水素系のエッチング液を用いたエッチングにより、絶縁膜20と接触していない導体膜30の主面E1および側面E3を粗化処理する。最後に、図7(d)に示すように、導体膜30の主面E1および側面E3を覆うように絶縁膜20上にカーボンインクからなる被覆膜60を塗布した後、温度180℃で30分間乾燥および硬化させる。被覆膜60の厚みは20μmである。このようにして、実施例1〜5および比較例1,2におけるFPC基板1sが完成する。   Subsequently, as shown in FIG. 7C, the main surface E1 and the side surface E3 of the conductor film 30 not in contact with the insulating film 20 are roughened by etching using a sulfuric acid-hydrogen peroxide-based etching solution. To do. Finally, as shown in FIG. 7 (d), a coating film 60 made of carbon ink is applied on the insulating film 20 so as to cover the main surface E1 and the side surface E3 of the conductor film 30, and then the temperature is 180 ° C. Allow to dry and cure for a minute. The thickness of the coating film 60 is 20 μm. Thus, the FPC board 1s in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 is completed.

実施例1〜5のFPC基板1sにおいては、導体膜30の主面E1および側面E3の表面粗度Raを、それぞれ310nm、440nm、520nm、620nmおよび780nmに調整した。比較例1,2のFPC基板1sにおいては、導体膜30の主面E1および側面E3の表面粗度Raを、それぞれ210nmおよび850nmに調整した。   In the FPC substrates 1s of Examples 1 to 5, the surface roughness Ra of the main surface E1 and the side surface E3 of the conductor film 30 was adjusted to 310 nm, 440 nm, 520 nm, 620 nm, and 780 nm, respectively. In the FPC substrates 1s of Comparative Examples 1 and 2, the surface roughness Ra of the main surface E1 and the side surface E3 of the conductor film 30 was adjusted to 210 nm and 850 nm, respectively.

(7−2)耐薬品性試験および接触抵抗
実施例1〜5および比較例1,2のFPC基板1sを濃度1000ppm、温度50℃の蟻酸水溶液に7日間浸漬させた。その後、FPC基板1sの導体膜30と被覆膜60との接触面(主面E1および側面E3)の状態を断面走査型電子顕微鏡(SEM)により観察した。導体膜30と被覆膜60との接触面の状態として、被覆膜60の追従性および浮きを評価した。
(7-2) Chemical resistance test and contact resistance The FPC substrates 1s of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 were immersed in an aqueous formic acid solution having a concentration of 1000 ppm and a temperature of 50 ° C. for 7 days. Thereafter, the state of the contact surfaces (main surface E1 and side surface E3) between the conductor film 30 and the coating film 60 of the FPC board 1s was observed with a cross-sectional scanning electron microscope (SEM). As the state of the contact surface between the conductor film 30 and the coating film 60, the followability and floating of the coating film 60 were evaluated.

被覆膜60の追従性が良好な状態とは、被覆膜60と導体膜30の凹凸の上面、側面および底面との間に隙間が生じることなく被覆膜60が凹凸形状に沿って導体膜30に形成されている状態をいう。被覆膜60の追従性が悪い状態とは、被覆膜60と導体膜30の凹凸の上面、側面または底面との間に隙間が生じている状態をいう。被覆膜60の浮きが生じた状態とは、導体膜30の主面E1および側面E3から被覆膜60が部分的に剥離した状態をいう。   The state in which the followability of the coating film 60 is good means that the coating film 60 is a conductor along the concavo-convex shape without any gaps between the top, side and bottom surfaces of the concavo-convex surface of the coating film 60 and the conductor film 30 A state where the film 30 is formed. The state in which the followability of the coating film 60 is poor refers to a state in which a gap is generated between the coating film 60 and the top, side, or bottom surface of the unevenness of the conductor film 30. The state in which the coating film 60 is lifted refers to a state in which the coating film 60 is partially peeled from the main surface E1 and the side surface E3 of the conductor film 30.

また、次のようにして実施例1〜5および比較例1,2のFPC基板1sの接触抵抗を測定した。図8は、実施例1〜5および比較例1,2におけるFPC基板1sの接触抵抗の測定方法を示す模式図である。   Further, the contact resistances of the FPC boards 1s of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 were measured as follows. FIG. 8 is a schematic diagram illustrating a method for measuring the contact resistance of the FPC board 1s in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2.

図8に示すように、実施例1〜5および比較例1,2のFPC基板1sをそれぞれ一対ずつ用意した。導体膜30が形成された絶縁膜20の面が互いに向き合うように一対のFPC基板1sを配置するとともに、一対のFPC基板1sの被覆膜60間にカーボンペーパーCPを配置した。各FPC基板1sの被覆膜60には、接続端子Cおよび接続線Lを介して図示しない抵抗測定装置を接続した。一対のFPC基板1sをカーボンペーパーCPの一面および他面に3MPaの圧力で押し当てた。その状態で、一対のFPC基板1sの接続端子C間の抵抗値を接触抵抗として抵抗測定装置により測定した。FPC基板1sの耐薬品性試験および接触抵抗の結果を表1に示す。   As shown in FIG. 8, a pair of FPC substrates 1s of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 were prepared. A pair of FPC substrates 1s are arranged so that the surfaces of the insulating film 20 on which the conductor film 30 is formed face each other, and a carbon paper CP is arranged between the coating films 60 of the pair of FPC substrates 1s. A resistance measuring device (not shown) was connected to the coating film 60 of each FPC board 1s via a connection terminal C and a connection line L. A pair of FPC substrates 1s were pressed against one side and the other side of the carbon paper CP with a pressure of 3 MPa. In this state, the resistance value between the connection terminals C of the pair of FPC boards 1s was measured as a contact resistance by a resistance measuring device. Table 1 shows the chemical resistance test and contact resistance results of the FPC board 1s.

Figure 2012109476
Figure 2012109476

表1に示すように、実施例1のFPC基板1sにおいて、導体膜30の全域に渡って被覆膜60の追従性が良好であった。また、被覆膜60の浮きが発生しなかった。蟻酸水溶液への浸漬前および浸漬後のFPC基板1sの接触抵抗は、それぞれ17mΩおよび21mΩであった。   As shown in Table 1, in the FPC board 1s of Example 1, the followability of the coating film 60 was good over the entire area of the conductor film 30. Further, the coating film 60 did not float. The contact resistances of the FPC board 1s before and after immersion in the formic acid aqueous solution were 17 mΩ and 21 mΩ, respectively.

実施例2のFPC基板1sにおいて、導体膜30の全域に渡って被覆膜60の追従性が良好であった。また、被覆膜60の浮きが発生しなかった。蟻酸水溶液への浸漬前および浸漬後のFPC基板1sの接触抵抗は、それぞれ16mΩおよび22mΩであった。   In the FPC board 1s of Example 2, the followability of the coating film 60 was good over the entire area of the conductor film 30. Further, the coating film 60 did not float. The contact resistances of the FPC board 1s before and after immersion in the formic acid aqueous solution were 16 mΩ and 22 mΩ, respectively.

実施例3のFPC基板1sにおいて、導体膜30の全域に渡って被覆膜60の追従性が良好であった。また、被覆膜60の浮きが発生しなかった。蟻酸水溶液への浸漬前および浸漬後のFPC基板1sの接触抵抗は、それぞれ17mΩおよび21mΩであった。   In the FPC board 1s of Example 3, the followability of the coating film 60 was good over the entire area of the conductor film 30. Further, the coating film 60 did not float. The contact resistances of the FPC board 1s before and after immersion in the formic acid aqueous solution were 17 mΩ and 21 mΩ, respectively.

実施例4のFPC基板1sにおいて、導体膜30の全域に渡って被覆膜60の追従性が良好であった。また、被覆膜60の浮きが発生しなかった。蟻酸水溶液への浸漬前および浸漬後のFPC基板1sの接触抵抗は、それぞれ15mΩおよび21mΩであった。   In the FPC board 1 s of Example 4, the followability of the coating film 60 was good over the entire area of the conductor film 30. Further, the coating film 60 did not float. The contact resistances of the FPC board 1s before and after immersion in the formic acid aqueous solution were 15 mΩ and 21 mΩ, respectively.

実施例5のFPC基板1sにおいて、導体膜30の全域に渡って被覆膜60の追従性が良好であった。また、被覆膜60の浮きが発生しなかった。蟻酸水溶液への浸漬前および浸漬後のFPC基板1sの接触抵抗は、それぞれ15mΩおよび20mΩであった。   In the FPC board 1s of Example 5, the followability of the coating film 60 was good over the entire area of the conductor film 30. Further, the coating film 60 did not float. The contact resistances of the FPC board 1s before and after immersion in the formic acid aqueous solution were 15 mΩ and 20 mΩ, respectively.

比較例1のFPC基板1sにおいて、導体膜30の全域に渡って被覆膜60の追従性が良好ではなかった。また、被覆膜60の浮きが発生した。蟻酸水溶液への浸漬前および浸漬後のFPC基板1sの接触抵抗は、それぞれ21mΩおよび740mΩであった。   In the FPC board 1s of Comparative Example 1, the followability of the coating film 60 was not good over the entire area of the conductor film 30. Further, the coating film 60 was lifted. The contact resistances of the FPC board 1s before and after immersion in the formic acid aqueous solution were 21 mΩ and 740 mΩ, respectively.

比較例2のFPC基板1sにおいて、導体膜30の全域に渡って被覆膜60の追従性が良好ではなかった。また、被覆膜60の浮きが発生した。蟻酸水溶液への浸漬前および浸漬後のFPC基板1sの接触抵抗は、それぞれ26mΩおよび98mΩであった。   In the FPC board 1s of Comparative Example 2, the followability of the coating film 60 over the entire area of the conductor film 30 was not good. Further, the coating film 60 was lifted. The contact resistances of the FPC board 1s before and after being immersed in the formic acid aqueous solution were 26 mΩ and 98 mΩ, respectively.

実施例1〜5および比較例1,2の結果から、導体膜30の主面E1および側面E3の表面粗度Raが300nm以上800nm以下である場合、FPC基板1sが蟻酸水溶液に接触しても、導体膜30の全域に渡って被覆膜60の追従性が良好であること、および被覆膜60の浮きが発生しないことが確認された。   From the results of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2, when the surface roughness Ra of the main surface E1 and the side surface E3 of the conductor film 30 is 300 nm or more and 800 nm or less, the FPC substrate 1s is in contact with the formic acid aqueous solution. It was confirmed that the followability of the coating film 60 was good over the entire area of the conductor film 30 and that the coating film 60 did not float.

また、実施例1〜5および比較例1,2の結果から、導体膜30の主面E1および側面E3の表面粗度Raが300nm以上800nm以下である場合、FPC基板1sが蟻酸水溶液に接触しても、接触抵抗がほとんど増加しないことが確認された。   Further, from the results of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2, when the surface roughness Ra of the main surface E1 and the side surface E3 of the conductor film 30 is 300 nm or more and 800 nm or less, the FPC substrate 1s comes into contact with the formic acid aqueous solution. However, it was confirmed that the contact resistance hardly increased.

本発明は、種々の配線回路基板およびその製造に有効に利用できる。   The present invention can be effectively used for various printed circuit boards and their manufacture.

1,1s FPC基板
2 ベース絶縁層
2a 第1絶縁部
2b 第2絶縁部
2c 第3絶縁部
2d 第4絶縁部
3a〜3j 集電部
3k〜3n 接続導体部
3o,3p 引き出し導体部
5a,5b 引き出し電極
6a〜6n 被覆層
20 絶縁膜
22 エッチングレジスト
30 導体膜
35 電極膜
35a 空気極
35b 燃料極
35c 電解質膜
40 ケーシング
41 上面部
42 下面部
43,44 側面部
50 燃料収容室
51 燃料供給管
60 被覆膜
100 燃料電池
B1 折曲部
C 接続端子
CP カーボンペーパー
E1,E2 主面
E3 側面
H1,H2,H11,H12,H41 開口
L 接続線
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,1s FPC board 2 Base insulating layer 2a 1st insulating part 2b 2nd insulating part 2c 3rd insulating part 2d 4th insulating part 3a-3j Current collecting part 3k-3n Connection conductor part 3o, 3p Lead-out conductor part 5a, 5b Lead electrodes 6a to 6n Cover layer 20 Insulating film 22 Etching resist 30 Conductor film 35 Electrode film 35a Air electrode 35b Fuel electrode 35c Electrolyte film 40 Casing 41 Upper surface portion 42 Lower surface portion 43, 44 Side surface portion 50 Fuel storage chamber 51 Fuel supply pipe 60 Cover membrane 100 Fuel cell B1 Bending part C Connection terminal CP Carbon paper E1, E2 Main surface E3 Side surface H1, H2, H11, H12, H41 Opening L Connection line

Claims (6)

絶縁層と、
所定のパターンを有しかつ第1および第2の主面ならびに側面を有する導体層と、
前記導体層の前記第1の主面および前記側面に形成される導電性の被覆層とを備え、
前記導体層は、前記第2の主面が前記絶縁層に接触するように前記絶縁層上に形成され、
前記導体層の前記第1の主面および前記側面の表面粗度が300nm以上800nm以下であることを特徴とする配線回路基板。
An insulating layer;
A conductor layer having a predetermined pattern and having first and second main surfaces and side surfaces;
A conductive coating layer formed on the first main surface and the side surface of the conductor layer;
The conductor layer is formed on the insulating layer so that the second main surface is in contact with the insulating layer,
A printed circuit board, wherein the first main surface and the side surface of the conductor layer have a surface roughness of 300 nm to 800 nm.
前記被覆層は、導電材料および樹脂組成物を含むことを特徴とする請求項1記載の配線回路基板。 The printed circuit board according to claim 1, wherein the coating layer includes a conductive material and a resin composition. 前記絶縁層は、連続孔を有する多孔質材料を含むことを特徴とする請求項1または2記載の配線回路基板。 The printed circuit board according to claim 1, wherein the insulating layer includes a porous material having continuous holes. 電池要素と、
前記電池要素の電極として配置される請求項1〜3のいずれかに記載の配線回路基板と、
前記電池要素および前記配線回路基板を収容する筺体とを備えることを特徴とする燃料電池。
A battery element;
The wired circuit board according to any one of claims 1 to 3, arranged as an electrode of the battery element,
A fuel cell comprising: a housing for housing the battery element and the printed circuit board.
所定のパターンを有しかつ第1および第2の主面ならびに側面を有する導体層を、前記第2の主面が絶縁層に接触するように前記絶縁層上に形成する工程と、
前記導体層の前記第1の主面および前記側面を表面粗度が300nm以上800nm以下になるように処理する工程と、
前記導体層の前記第1の主面および前記側面に導電性の被覆層を形成する工程とを含むことを特徴とする配線回路基板の製造方法。
Forming a conductor layer having a predetermined pattern and having first and second main surfaces and side surfaces on the insulating layer such that the second main surface is in contact with the insulating layer;
Treating the first principal surface and the side surface of the conductor layer so that the surface roughness is not less than 300 nm and not more than 800 nm;
Forming a conductive coating layer on the first main surface and the side surface of the conductor layer.
前記処理する工程は、前記導体層の前記第1の主面および前記側面をエッチングにより処理する工程を含むことを特徴とする請求項5記載の配線回路基板の製造方法。 6. The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 5, wherein the step of treating includes a step of treating the first main surface and the side surface of the conductor layer by etching.
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