JP2012104383A - Wiring circuit board, fuel cell, and method for manufacturing wiring circuit board - Google Patents

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峰快 長谷川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring circuit board which allows a structure of a fuel cell to be simplified, and to provide a fuel cell and a method for manufacturing the wiring circuit board.SOLUTION: An FPC board 1 comprises a base insulating layer 2 made of a porous material having continuous pores. As a material of the base insulating layer 2, for example, a porous ePTFE (expanded polytetrafluoroethylene) having continuous pores is used. A conductor pattern 3 made of, for example, copper is formed on one surface of the base insulating layer 2 via an adhesive pattern 7. A coating layer 6 made of, for example, silver is formed so as to cover a surface of the conductor pattern 3.

Description

本発明は、配線回路基板、燃料電池および配線回路基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a printed circuit board, a fuel cell, and a method for manufacturing a wired circuit board.

携帯電話等のモバイル機器には、小型でかつ高容量の電池が求められる。そこで、リチウム二次電池等の従来の電池に比べて、高エネルギー密度を得ることが可能な燃料電池の開発が進められている。燃料電池としては、例えば直接メタノール型燃料電池(Direct Methanol Fuel Cells)がある。   Mobile devices such as mobile phones are required to have small and high capacity batteries. Therefore, development of a fuel cell capable of obtaining a high energy density as compared with a conventional battery such as a lithium secondary battery has been advanced. As the fuel cell, for example, there is a direct methanol fuel cell.

直接メタノール型燃料電池では、メタノールが触媒によって分解され、水素イオンが生成される。その水素イオンと空気中の酸素とを反応させることにより電力を発生させる。この場合、化学エネルギーを極めて効率良く電気エネルギーに変換することができ、非常に高いエネルギー密度を得ることができる。   In a direct methanol fuel cell, methanol is decomposed by a catalyst to generate hydrogen ions. Electric power is generated by reacting the hydrogen ions with oxygen in the air. In this case, chemical energy can be converted into electrical energy very efficiently, and a very high energy density can be obtained.

特許文献1には、気化膜、集電体、負極、電解質膜および正極がこの順に配置された液体燃料供給型燃料電池が記載されている。この液体燃料供給型燃料電池においては、気化膜に液体燃料が供給されることにより、気化膜と液体燃料との界面で蒸発した燃料気体が気化膜を通して負極に到達する。   Patent Document 1 describes a liquid fuel supply type fuel cell in which a vaporized film, a current collector, a negative electrode, an electrolyte membrane, and a positive electrode are arranged in this order. In this liquid fuel supply type fuel cell, the liquid fuel is supplied to the vaporization film, so that the fuel gas evaporated at the interface between the vaporization film and the liquid fuel reaches the negative electrode through the vaporization film.

また、特許文献2には、カソード導電層、発電部、アノード導電層、気液分離膜および燃料収容室がこの順に配置された燃料電池が記載されている。この燃料電池においては、燃料収容室内で液体メタノールの一部が気化することにより、気化されたメタノールが気液分離膜を通して発電部に送られる。   Patent Document 2 describes a fuel cell in which a cathode conductive layer, a power generation unit, an anode conductive layer, a gas-liquid separation membrane, and a fuel storage chamber are arranged in this order. In this fuel cell, a part of the liquid methanol is vaporized in the fuel storage chamber, whereby the vaporized methanol is sent to the power generation section through the gas-liquid separation membrane.

さらに、特許文献3には、フレキシブル配線回路基板の導体層を集電体として用いた燃料電池が記載されている。特許文献3の燃料電池の内部においては、屈曲されたフレキシブル配線回路基板間に、燃料極、空気極および電解質極からなる電極膜が配置される(例えば特許文献1参照)。このフレキシブル配線回路基板においては、ベース絶縁層上に集電体としての導体層が形成されている。   Furthermore, Patent Document 3 describes a fuel cell using a conductor layer of a flexible printed circuit board as a current collector. In the fuel cell of Patent Document 3, an electrode film including a fuel electrode, an air electrode, and an electrolyte electrode is disposed between the bent flexible printed circuit boards (see, for example, Patent Document 1). In this flexible printed circuit board, a conductor layer as a current collector is formed on a base insulating layer.

特開2009−140618号公報JP 2009-140618 A 国際公開第2008/023634号International Publication No. 2008/023634 特開2008−300238号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2008-300238

特許文献3のフレキシブル配線回路基板には、ベース絶縁層に空気およびメタノールを供給するための開口が設けられる。さらに、電解質極に気化したメタノールを供給するためには、導体層の上面またはベース絶縁層の下面に、上記の気化膜または気液分離膜を配置する必要がある。   The flexible printed circuit board of Patent Document 3 is provided with an opening for supplying air and methanol to the base insulating layer. Further, in order to supply vaporized methanol to the electrolyte electrode, it is necessary to dispose the vaporization film or gas-liquid separation film on the upper surface of the conductor layer or the lower surface of the base insulating layer.

本発明の目的は、燃料電池の構造を簡単にすることを可能にする配線回路基板、燃料電池および配線回路基板の製造方法を提供することである。   An object of the present invention is to provide a printed circuit board, a fuel cell, and a method for manufacturing the printed circuit board that can simplify the structure of the fuel cell.

(1)第1の発明に係る配線回路基板は、燃料電池に用いられる配線回路基板であって、ベース絶縁層と、ベース絶縁層上に形成される導体層とを備え、ベース絶縁層は、連続孔を有する多孔質材料を含むものである。   (1) A wired circuit board according to a first invention is a wired circuit board used in a fuel cell, comprising a base insulating layer and a conductor layer formed on the base insulating layer, wherein the base insulating layer comprises: It includes a porous material having continuous pores.

この配線回路基板においては、連続孔を有する多孔質材料を含むベース絶縁層上に導体層が形成される。この場合、ベース絶縁層が通気性を有する。そのため、この配線回路基板が燃料電池に用いられる場合、ベース絶縁層の連続孔を通して、気化された燃料および空気を電池要素に供給することができる。また、電池要素で発生される電力を導体層を介して燃料電池の外部に供給することができる。さらに、液体燃料から気化された燃料をベース絶縁層を介して分離することができる。このように、配線回路基板が集電作用と気液分離作用とを有するので、燃料電池の構造を簡単にすることができる。   In this printed circuit board, a conductor layer is formed on a base insulating layer containing a porous material having continuous holes. In this case, the base insulating layer has air permeability. Therefore, when this printed circuit board is used for a fuel cell, vaporized fuel and air can be supplied to the cell element through the continuous hole of the base insulating layer. Moreover, the electric power generated by the battery element can be supplied to the outside of the fuel cell through the conductor layer. Furthermore, the fuel vaporized from the liquid fuel can be separated through the base insulating layer. Thus, since the printed circuit board has a current collecting action and a gas-liquid separating action, the structure of the fuel cell can be simplified.

(2)導体層は、第1および第2の主面ならびに側面を有し、第2の主面がベース絶縁層に対向するようにベース絶縁層上に形成され、配線回路基板は、導体層の第1の主面および側面に形成される表面層をさらに備え、表面層は、ヤング率が105GPa以下でかつ標準電極電位が−1.5V以上であってもよい。   (2) The conductor layer has first and second main surfaces and side surfaces, and is formed on the base insulating layer so that the second main surface faces the base insulating layer. The surface layer may further include a surface layer formed on the first main surface and the side surface, and the surface layer may have a Young's modulus of 105 GPa or less and a standard electrode potential of −1.5 V or more.

この場合、燃料電池内におけるギ酸等の副生成物と導体層との接触が表面層により防止される。また、導体層と電池要素との導電性が表面層により確保される。その結果、簡単な構造で、導体層の集電効率を維持しつつ導体層の腐食を防止することができる。   In this case, contact between the by-product such as formic acid and the conductor layer in the fuel cell is prevented by the surface layer. Further, the conductivity between the conductor layer and the battery element is ensured by the surface layer. As a result, corrosion of the conductor layer can be prevented with a simple structure while maintaining the current collection efficiency of the conductor layer.

(3)表面層は、導体層と異なる材料からなってもよい。この場合、低コストかつ簡単な構造で、導体層の集電効率を維持しつつ導体層の腐食を防止することができる。   (3) The surface layer may be made of a material different from that of the conductor layer. In this case, corrosion of the conductor layer can be prevented while maintaining the current collection efficiency of the conductor layer with a low cost and simple structure.

(4)導体層は銅を含み、表面層は銀を含んでもよい。この場合、低コストかつ簡単な構造で、導体層の集電効率を維持しつつ導体層の腐食を防止することができる。   (4) The conductor layer may contain copper, and the surface layer may contain silver. In this case, corrosion of the conductor layer can be prevented while maintaining the current collection efficiency of the conductor layer with a low cost and simple structure.

(5)配線回路基板は、導体層と表面層との間に形成され、導体層および表面層と異なる材料からなるバリア層をさらに備えてもよい。   (5) The printed circuit board may further include a barrier layer formed between the conductor layer and the surface layer and made of a material different from the conductor layer and the surface layer.

この場合、導体層の成分が表面層上に移動することが防止される。それにより、簡単な構造で、導体層の腐食がより確実に防止されるとともに、導体層の集電効率の低下が十分に防止される。   In this case, the component of the conductor layer is prevented from moving onto the surface layer. Accordingly, corrosion of the conductor layer is more reliably prevented with a simple structure, and a decrease in current collection efficiency of the conductor layer is sufficiently prevented.

(6)バリア層はニッケルを含んでもよい。この場合、低コストで導体層の成分の移動を確実に防止することができる。   (6) The barrier layer may contain nickel. In this case, the movement of the components of the conductor layer can be reliably prevented at low cost.

(7)表面層は、導体層の第2の主面にさらに形成され、導体層は、第1の主面と絶縁層との間に表面層が介在するようにベース絶縁層上に設けられてもよい。   (7) The surface layer is further formed on the second main surface of the conductor layer, and the conductor layer is provided on the insulating base layer so that the surface layer is interposed between the first main surface and the insulating layer. May be.

この場合、燃料電池における副生成物がベース絶縁層の連続孔を通して導体層の第2の主面に接触することが防止される。それにより、簡単な構造で導体層の腐食がより確実に防止される。   In this case, the by-product in the fuel cell is prevented from contacting the second main surface of the conductor layer through the continuous hole of the base insulating layer. Thereby, corrosion of the conductor layer is more reliably prevented with a simple structure.

(8)導体層および表面層は同一の材料により一体的に形成されてもよい。   (8) The conductor layer and the surface layer may be integrally formed of the same material.

この場合、より簡単な構造で、導体層の集電効率を維持しつつ導体層の腐食を防止することができる。   In this case, corrosion of the conductor layer can be prevented with a simpler structure while maintaining the current collection efficiency of the conductor layer.

(9)導体層および表面層は銀を含んでもよい。この場合、より簡単な構造で、導体層の集電効率を維持しつつ導体層の腐食を防止することができる。   (9) The conductor layer and the surface layer may contain silver. In this case, corrosion of the conductor layer can be prevented with a simpler structure while maintaining the current collection efficiency of the conductor layer.

(10)配線回路基板は、ベース絶縁層と導体層との間に形成される接着剤層をさらに備えてもよい。   (10) The printed circuit board may further include an adhesive layer formed between the base insulating layer and the conductor layer.

この場合、導体層がベース絶縁層に確実に接着されるとともに、燃料電池における副生成物がベース絶縁層の連続孔を通して導体層に接触することが防止される。   In this case, the conductor layer is securely bonded to the base insulating layer, and a by-product in the fuel cell is prevented from coming into contact with the conductor layer through the continuous hole of the base insulating layer.

(11)第2の発明に係る燃料電池は、第1の発明係る配線回路基板と、電池要素と、配線回路基板および電池要素を収容する筺体とを備えるものである。   (11) A fuel cell according to a second invention includes the wired circuit board according to the first invention, a battery element, and a housing that houses the wired circuit board and the battery element.

この燃料電池においては、第1の発明に係る配線回路基板および電池要素が筺体内に収容される。電池要素の電力は、配線回路基板を通して筺体の外部に供給される。   In this fuel cell, the printed circuit board and the battery element according to the first invention are accommodated in the casing. The electric power of the battery element is supplied to the outside of the housing through the printed circuit board.

配線回路基板においては、連続孔を有する多孔質材料を含むベース絶縁層上に導体層が形成される。この場合、ベース絶縁層が通気性を有する。そのため、ベース絶縁層の連続孔を通して、気化された燃料および空気を電池要素に供給することができる。また、電池要素で発生される電力を導体層を介して燃料電池の外部に供給することができる。さらに、液体燃料から気化された燃料をベース絶縁層を介して分離することができる。このように、配線回路基板が集電作用と気液分離作用とを有するので、燃料電池の構造を簡単にすることができる。   In the printed circuit board, a conductor layer is formed on a base insulating layer containing a porous material having continuous holes. In this case, the base insulating layer has air permeability. Therefore, vaporized fuel and air can be supplied to the cell element through the continuous holes of the base insulating layer. Moreover, the electric power generated by the battery element can be supplied to the outside of the fuel cell through the conductor layer. Furthermore, the fuel vaporized from the liquid fuel can be separated through the base insulating layer. Thus, since the printed circuit board has a current collecting action and a gas-liquid separating action, the structure of the fuel cell can be simplified.

(12)第3の発明に係る配線回路基板の製造方法は、連続孔を有する多孔質材料を含むベース絶縁層を準備する工程と、ベース絶縁層上に導体層を形成する工程とを備えるものである。   (12) A method for manufacturing a printed circuit board according to a third invention includes a step of preparing a base insulating layer containing a porous material having continuous holes, and a step of forming a conductor layer on the base insulating layer. It is.

この製造方法においては、連続孔を有する多孔質材料を含むベース絶縁層上に導体層が形成される。この場合、ベース絶縁層が通気性を有する。そのため、ベース絶縁層の連続孔を通して、気化された燃料および空気を電池要素に供給することができる。また、電池要素で発生される電力を導体層を介して燃料電池の外部に供給することができる。さらに、液体燃料から気化された燃料をベース絶縁層を介して分離することができる。このように、配線回路基板が集電作用と気液分離作用とを有するので、燃料電池の構造を簡単にすることができる。   In this manufacturing method, a conductor layer is formed on a base insulating layer containing a porous material having continuous pores. In this case, the base insulating layer has air permeability. Therefore, vaporized fuel and air can be supplied to the cell element through the continuous holes of the base insulating layer. Moreover, the electric power generated by the battery element can be supplied to the outside of the fuel cell through the conductor layer. Furthermore, the fuel vaporized from the liquid fuel can be separated through the base insulating layer. Thus, since the printed circuit board has a current collecting action and a gas-liquid separating action, the structure of the fuel cell can be simplified.

本発明によれば、燃料電池の構造を簡単にすることができる。   According to the present invention, the structure of the fuel cell can be simplified.

(a)は第1の実施の形態に係るFPC基板の平面図であり、(b)は(a)のFPC基板のA−A線断面図である。(A) is a top view of the FPC board which concerns on 1st Embodiment, (b) is the sectional view on the AA line of the FPC board of (a). FPC基板を用いた燃料電池の模式的斜視図である。It is a typical perspective view of the fuel cell using an FPC board. 燃料電池内における作用を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the effect | action in a fuel cell. 第1の実施の形態に係るFPC基板の製造方法の第1の例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the 1st example of the manufacturing method of the FPC board which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係るFPC基板の製造方法の第1の例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the 1st example of the manufacturing method of the FPC board which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係るFPC基板の製造方法の第1の例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the 1st example of the manufacturing method of the FPC board which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係るFPC基板の製造方法の第2の例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the 2nd example of the manufacturing method of the FPC board which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係るFPC基板の製造方法の第2の例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the 2nd example of the manufacturing method of the FPC board which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係るFPC基板の製造方法の第2の例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the 2nd example of the manufacturing method of the FPC board which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係るFPC基板の製造方法の第4の例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the 4th example of the manufacturing method of the FPC board which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施の形態に係るFPC基板の製造方法の第4の例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the 4th example of the manufacturing method of the FPC board which concerns on 1st Embodiment. 第2の実施の形態に係るFPC基板の断面図である。It is sectional drawing of the FPC board which concerns on 2nd Embodiment. 第3の実施の形態に係るFPC基板の断面図である。It is sectional drawing of the FPC board which concerns on 3rd Embodiment. 第4の実施の形態に係るFPC基板の断面図である。It is sectional drawing of the FPC board which concerns on 4th Embodiment. 第4の実施の形態に係るFPC基板の製造方法の第1の例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the 1st example of the manufacturing method of the FPC board which concerns on 4th Embodiment. 第4の実施の形態に係るFPC基板の製造方法の第1の例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the 1st example of the manufacturing method of the FPC board which concerns on 4th Embodiment. 第4の実施の形態に係るFPC基板の製造方法の第1の例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the 1st example of the manufacturing method of the FPC board which concerns on 4th Embodiment. 第4の実施の形態に係るFPC基板の製造方法の第1の例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the 1st example of the manufacturing method of the FPC board which concerns on 4th Embodiment. 第4の実施の形態に係るFPC基板の製造方法の第1の例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the 1st example of the manufacturing method of the FPC board which concerns on 4th Embodiment. 第4の実施の形態に係るFPC基板の製造方法の第1の例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the 1st example of the manufacturing method of the FPC board which concerns on 4th Embodiment. 第4の実施の形態に係るFPC基板の製造方法の第2の例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the 2nd example of the manufacturing method of the FPC board which concerns on 4th Embodiment. 第4の実施の形態に係るFPC基板の製造方法の第3の例を説明するための工程断面図である。It is process sectional drawing for demonstrating the 3rd example of the manufacturing method of the FPC board which concerns on 4th Embodiment. 実施例1のサンプルの製造方法を示す工程断面図である。FIG. 6 is a process cross-sectional view illustrating the method for manufacturing the sample of Example 1. 実施例3のサンプルの製造方法を示す工程断面図である。FIG. 6 is a process cross-sectional view illustrating a sample manufacturing method of Example 3. 接触抵抗の測定方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the measuring method of contact resistance.

(1)第1の実施の形態
以下、第1の実施の形態に係る配線回路基板、燃料電池および配線回路基板の製造方法について図面を参照しつつ説明する。本実施の形態では、配線回路基板の例として、屈曲性を有するフレキシブル配線回路基板(以下、FPC基板と略記する)について説明する。このFPC基板は、燃料電池に用いられる。
(1) First Embodiment Hereinafter, a printed circuit board, a fuel cell, and a method for manufacturing a printed circuit board according to a first embodiment will be described with reference to the drawings. In this embodiment, as an example of a printed circuit board, a flexible printed circuit board having flexibility (hereinafter abbreviated as an FPC board) will be described. This FPC board is used for a fuel cell.

(1−1)FPC基板の構成
図1(a)は第1の実施の形態に係るFPC基板の平面図であり、図1(b)は図1(a)のFPC基板のA−A線断面図である。
(1-1) Configuration of FPC Board FIG. 1A is a plan view of the FPC board according to the first embodiment, and FIG. 1B is an AA line of the FPC board in FIG. It is sectional drawing.

図1(a)および図1(b)に示すように、FPC基板1は、連続孔を有する多孔質材料からなるベース絶縁層2を備える。ベース絶縁層2の材料としては、例えば、連続孔を有する多孔質性のePTFE(延伸ポリテトラフルオロエチレン)が用いられる。これにより、ベース絶縁層2は通気性を有する。ベース絶縁層2は、第1絶縁部2a、第2絶縁部2b、第3絶縁部2cおよび第4絶縁部2dからなる。第1絶縁部2aおよび第2絶縁部2bは、それぞれ矩形形状を有し、互いに隣接するように一体的に形成される。以下、第1絶縁部2aと第2絶縁部2bとの境界線に平行な辺を側辺と称し、第1絶縁部2aおよび第2絶縁部2bの側辺に垂直な一対の辺を端辺と称する。   As shown in FIGS. 1A and 1B, the FPC board 1 includes a base insulating layer 2 made of a porous material having continuous holes. As the material of the base insulating layer 2, for example, porous ePTFE (expanded polytetrafluoroethylene) having continuous pores is used. Thereby, the base insulating layer 2 has air permeability. The base insulating layer 2 includes a first insulating portion 2a, a second insulating portion 2b, a third insulating portion 2c, and a fourth insulating portion 2d. The first insulating portion 2a and the second insulating portion 2b each have a rectangular shape and are integrally formed so as to be adjacent to each other. Hereinafter, a side parallel to the boundary line between the first insulating portion 2a and the second insulating portion 2b is referred to as a side, and a pair of sides perpendicular to the side sides of the first insulating portion 2a and the second insulating portion 2b are end sides. Called.

第3絶縁部2cは、第1絶縁部2aの1つの角部における側辺の一部から外方へ延びるように形成される。第4絶縁部2dは、第1絶縁部2aの上記角部の対角に位置する第2絶縁部2bの角部における側辺の一部から外方へ延びるように形成される。   The third insulating portion 2c is formed to extend outward from a part of the side edge at one corner of the first insulating portion 2a. The 4th insulating part 2d is formed so that it may extend outward from a part of side edge in the corner | angular part of the 2nd insulating part 2b located in the diagonal of the said corner | angular part of the 1st insulating part 2a.

第1絶縁部2aと第2絶縁部2bとの境界線上にベース絶縁層2をほぼ二等分するように屈曲部B1が設けられる。後述のように、ベース絶縁層2は、屈曲部B1に沿って折曲可能である。屈曲部B1は、例えば線状の浅い溝であってもよく、または、線状の印等でもよい。あるいは、屈曲部B1でベース絶縁層2を折曲可能であれば、屈曲部B1に特に何もなくてもよい。ベース絶縁層2を屈曲部B1に沿って折曲する場合、第1絶縁部2aと第2絶縁部2bとが対向する。この場合、第3絶縁部2cと第4絶縁部2dとは対向しない。   A bent portion B1 is provided on the boundary line between the first insulating portion 2a and the second insulating portion 2b so as to bisect the base insulating layer 2. As will be described later, the insulating base layer 2 can be bent along the bent portion B1. The bent portion B1 may be, for example, a linear shallow groove, or a linear mark or the like. Alternatively, as long as the base insulating layer 2 can be bent at the bent portion B1, there may be nothing in the bent portion B1. When the base insulating layer 2 is bent along the bent portion B1, the first insulating portion 2a and the second insulating portion 2b face each other. In this case, the third insulating portion 2c and the fourth insulating portion 2d do not face each other.

ベース絶縁層2の一面に、図1(b)の接着剤パターン7を介して、例えば銅からなる導体パターン3が形成される。導体パターン3は、矩形の集電部3a,3b,3c,3d,3e,3f,3g,3h,3i,3j、接続導体部3k,3l,3m,3nおよび引き出し導体部3o,3pを含む。集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pは、ベース絶縁層2の一面に平行な一対の主面およびベース絶縁層2の一面に垂直な側面を有する。以下、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの一対の主面のうち、ベース絶縁層2に接着されない面を第1の主面と呼び、その反対側の面(ベース絶縁層2に接着される面)を第2の主面と呼ぶ。   A conductor pattern 3 made of, for example, copper is formed on one surface of the base insulating layer 2 via the adhesive pattern 7 of FIG. The conductor pattern 3 includes rectangular current collectors 3a, 3b, 3c, 3d, 3e, 3f, 3g, 3h, 3i, 3j, connection conductors 3k, 3l, 3m, 3n and lead conductors 3o, 3p. Current collectors 3 a to 3 j, connection conductors 3 k to 3 n and lead conductors 3 o and 3 p have a pair of main surfaces parallel to one surface of base insulating layer 2 and side surfaces perpendicular to one surface of base insulating layer 2. Hereinafter, of the pair of main surfaces of the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and the lead conductors 3o and 3p, the surface that is not bonded to the base insulating layer 2 is referred to as a first main surface, and the opposite side. This surface (the surface bonded to the base insulating layer 2) is referred to as a second main surface.

接着剤パターン7としては、例えばエポキシ樹脂系の接着剤、フェノール樹脂系の接着剤、ポリエステル樹脂系の接着剤、アクリル樹脂系の接着剤またはポリイミド系の接着剤等の任意の接着剤が用いられる。本実施の形態において、接着剤パターン7には光酸発生剤が添加される。これにより、接着剤パターン7は感光性を有する。   As the adhesive pattern 7, for example, an arbitrary adhesive such as an epoxy resin adhesive, a phenol resin adhesive, a polyester resin adhesive, an acrylic resin adhesive, or a polyimide adhesive is used. . In the present embodiment, a photoacid generator is added to the adhesive pattern 7. Thereby, the adhesive pattern 7 has photosensitivity.

集電部3a〜3eは、第1絶縁部2aの端辺に沿って平行に延びかつ第1絶縁部2aの側辺方向に沿って設けられる。同様に、集電部3f〜3jは、第2絶縁部2bの端辺に沿って平行に延びかつ第2絶縁部2bの側辺方向に沿って設けられる。この場合、集電部3a〜3eと集電部3f〜3jとは、屈曲部B1を中心として対称な位置に配置される。   The current collectors 3a to 3e extend in parallel along the edge of the first insulating part 2a and are provided along the side direction of the first insulating part 2a. Similarly, the current collectors 3f to 3j extend in parallel along the end side of the second insulating part 2b and are provided along the side direction of the second insulating part 2b. In this case, the current collectors 3a to 3e and the current collectors 3f to 3j are arranged at symmetrical positions with respect to the bent portion B1.

接続導体部3k〜3nは、屈曲部B1をまたぐように第1絶縁部2aおよび第2絶縁部2bにわたって形成される。接続導体部3kは集電部3bと集電部3fとを電気的に接続し、接続導体部3lは集電部3cと集電部3gとを電気的に接続し、接続導体部3mは集電部3dと集電部3hとを電気的に接続し、接続導体部3nは集電部3eと集電部3iとを電気的に接続する。   The connecting conductor portions 3k to 3n are formed over the first insulating portion 2a and the second insulating portion 2b so as to straddle the bent portion B1. The connecting conductor portion 3k electrically connects the current collecting portion 3b and the current collecting portion 3f, the connecting conductor portion 3l electrically connects the current collecting portion 3c and the current collecting portion 3g, and the connecting conductor portion 3m is the current collecting portion. The current collector 3d and the current collector 3h are electrically connected, and the connection conductor 3n electrically connects the current collector 3e and the current collector 3i.

集電部3a〜3eの各々には、端辺方向に沿って複数(本例では4個)の開口H11が形成される。また、集電部3f〜3jの各々には、端辺方向に沿って複数(本例では4個)の開口H12が形成される。   In each of the current collectors 3a to 3e, a plurality (four in this example) of openings H11 are formed along the edge direction. Each of the current collectors 3f to 3j is formed with a plurality (four in this example) of openings H12 along the edge direction.

引き出し導体部3oは、集電部3aの外側の短辺から第3絶縁部2c上に直線状に延びるように形成される。引き出し導体部3pは、集電部3jの外側の短辺から第4絶縁部2d上に直線状に延びるように形成される。   The lead conductor portion 3o is formed to extend linearly on the third insulating portion 2c from the outer short side of the current collecting portion 3a. The lead conductor portion 3p is formed so as to extend linearly on the fourth insulating portion 2d from the outer short side of the current collecting portion 3j.

導体パターン3の表面を被覆するように、被覆層6が形成される。この場合、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの各々の第1の主面および側面が導体パターン3の表面に相当する。被覆層6は、被覆部6a〜6nを含む。被覆部6aは、集電部3aおよび引き出し導体部3oの一部の表面を被覆するように形成される。引き出し導体部3oの先端部は被覆部6aに被覆されずに露出する。露出した引き出し導体部3oの部分を、引き出し電極5aと称する。被覆部6b,6c,6d,6eは、集電部3b〜3eの表面をそれぞれ被覆するように形成される。   A covering layer 6 is formed so as to cover the surface of the conductor pattern 3. In this case, the first main surfaces and the side surfaces of the current collectors 3 a to 3 j, the connection conductors 3 k to 3 n, and the lead conductors 3 o and 3 p correspond to the surface of the conductor pattern 3. The covering layer 6 includes covering portions 6a to 6n. The covering portion 6a is formed so as to cover a part of the surfaces of the current collecting portion 3a and the lead conductor portion 3o. The leading end portion of the lead conductor portion 3o is exposed without being covered with the covering portion 6a. The exposed portion of the lead conductor portion 3o is referred to as a lead electrode 5a. The covering portions 6b, 6c, 6d, and 6e are formed so as to cover the surfaces of the current collecting portions 3b to 3e, respectively.

被覆部6jは、集電部3jおよび引き出し導体部3pの一部の表面を被覆するように形成される。引き出し導体部3pの先端部は被覆部6jに被覆されずに露出する。露出した引き出し導体部3pの部分を、引き出し電極5bと称する。被覆部6f,6g,6h,6iは、集電部3f〜3iの表面をそれぞれ被覆するように形成される。被覆部6k,6l,6m,6nは、接続導体部3k〜3nの表面をそれぞれ被覆するように形成される。   The covering portion 6j is formed so as to cover a part of the surfaces of the current collecting portion 3j and the lead conductor portion 3p. The leading end portion of the lead conductor portion 3p is exposed without being covered with the covering portion 6j. The exposed portion of the lead conductor portion 3p is referred to as a lead electrode 5b. The covering portions 6f, 6g, 6h, and 6i are formed so as to cover the surfaces of the current collecting portions 3f to 3i, respectively. The covering portions 6k, 6l, 6m, and 6n are formed so as to cover the surfaces of the connection conductor portions 3k to 3n, respectively.

本実施の形態において、被覆層6は、ヤング率が105Gpa以下でありかつ標準電極電位がー1.5V以上である材料からなる。被覆層6の材料としては、例えば、銀または金等が用いられる。ここで、標準電極電位とは、0価の単体が生成される際の標準電極電位をいう。   In the present embodiment, the coating layer 6 is made of a material having a Young's modulus of 105 Gpa or less and a standard electrode potential of −1.5 V or more. As a material of the coating layer 6, for example, silver or gold is used. Here, the standard electrode potential refers to a standard electrode potential when a zero-valent simple substance is generated.

例えば、銀のヤング率は100GPaであり、標準電極電位は0.799Vであり、金のヤング率は80GPaであり、標準電極電位は1.520Vである。   For example, the Young's modulus of silver is 100 GPa, the standard electrode potential is 0.799V, the Young's modulus of gold is 80 GPa, and the standard electrode potential is 1.520V.

被覆層6のヤング率は、1GPa以上105Gpa以下であることが好ましく、10GPa以上105GPa以下であることがより好ましく、70GPa以上105GPa以下であることがさらに好ましい。   The Young's modulus of the coating layer 6 is preferably 1 GPa or more and 105 GPa or less, more preferably 10 GPa or more and 105 GPa or less, and further preferably 70 GPa or more and 105 GPa or less.

導体パターン3の標準電極電位は、−1.5V以上2.0V以下であることが好ましく、−1.0V以上1.6V以下であることがより好ましく、0.7V以上1.6V以下であることがさらに好ましい。   The standard electrode potential of the conductor pattern 3 is preferably −1.5 V or more and 2.0 V or less, more preferably −1.0 V or more and 1.6 V or less, and 0.7 V or more and 1.6 V or less. More preferably.

この場合、このFPC基板1を用いた燃料電池において、燃料として用いられるメタノール等の酸がFPC基板1に接触する状態であっても、集電効率を低下させることなく、導体パターン3の腐食を防止することができる。   In this case, in the fuel cell using this FPC board 1, even if the acid such as methanol used as the fuel is in contact with the FPC board 1, the conductor pattern 3 is corroded without reducing the current collection efficiency. Can be prevented.

(1−2)FPC基板を用いた燃料電池
図2は、FPC基板1を用いた燃料電池100の模式的斜視図である。図3は、燃料電池100内における作用を説明するための図であり、図2の燃料電池100のB−B線断面図である。
(1-2) Fuel Cell Using FPC Board FIG. 2 is a schematic perspective view of a fuel cell 100 using the FPC board 1. FIG. 3 is a diagram for explaining the operation in the fuel cell 100, and is a cross-sectional view taken along the line BB of the fuel cell 100 of FIG.

図2および図3に示すように、燃料電池100は直方体状のケーシング40を有する。図2では、ケーシング40を点線により示している。ケーシング40は、上面部41、下面部42、一方の側面部43および他方の側面部44を有する。   As shown in FIGS. 2 and 3, the fuel cell 100 has a rectangular parallelepiped casing 40. In FIG. 2, the casing 40 is indicated by a dotted line. The casing 40 has an upper surface portion 41, a lower surface portion 42, one side surface portion 43, and the other side surface portion 44.

FPC基板1は、被覆層6が形成された一面を内側にして図1の屈曲部B1に沿って折曲された状態でケーシング40の上面部41および下面部42により狭持される。図2には、被覆層6の図示が省略される。   The FPC board 1 is sandwiched between the upper surface portion 41 and the lower surface portion 42 of the casing 40 in a state where the FPC substrate 1 is bent along the bent portion B1 in FIG. In FIG. 2, illustration of the coating layer 6 is omitted.

FPC基板1の引き出し電極5a,5bは、ケーシング40の一方の側面部43から外側に引き出される。引き出し電極5a,5bには、種々の外部回路の端子が電気的に接続される。   The lead electrodes 5 a and 5 b of the FPC board 1 are drawn outward from one side surface portion 43 of the casing 40. Terminals of various external circuits are electrically connected to the extraction electrodes 5a and 5b.

ケーシング40内において、複数(本実施の形態では5個)の電極膜35が、折曲されたFPC基板1の被覆部6aと被覆部6fとの間、被覆部6bと被覆部6gとの間、被覆部6cと被覆部6hとの間、被覆部6dと被覆部6iとの間、および被覆部6eと被覆部6jとの間にそれぞれ配置される(図1(a)参照)。これにより、複数の電極膜35が直列接続される。   Within the casing 40, a plurality (five in the present embodiment) of electrode films 35 are provided between the cover portion 6a and the cover portion 6f of the bent FPC board 1 and between the cover portion 6b and the cover portion 6g. , Between the covering portion 6c and the covering portion 6h, between the covering portion 6d and the covering portion 6i, and between the covering portion 6e and the covering portion 6j (see FIG. 1A). Thereby, the plurality of electrode films 35 are connected in series.

各電極膜35は空気極35a、燃料極35bおよび電解質膜35cからなる。空気極35aは電解質膜35cの一面に形成され、燃料極35bは電解質膜35cの他面に形成される。複数の電極膜35の空気極35aはFPC基板1の被覆部6f〜6jにそれぞれ対向し、複数の電極膜35の燃料極35bはFPC基板1の被覆部6a〜6eにそれぞれ対向する。   Each electrode film 35 includes an air electrode 35a, a fuel electrode 35b, and an electrolyte film 35c. The air electrode 35a is formed on one surface of the electrolyte membrane 35c, and the fuel electrode 35b is formed on the other surface of the electrolyte membrane 35c. The air electrodes 35a of the plurality of electrode films 35 are opposed to the coating portions 6f to 6j of the FPC substrate 1, respectively, and the fuel electrodes 35b of the plurality of electrode films 35 are respectively opposed to the coating portions 6a to 6e of the FPC substrate 1.

ケーシング40内の上面部41には、集電部3f〜3jの複数の開口H12に対応するように複数の開口H41が形成される。電極膜35の空気極35aには、ケーシング40の複数の開口H41、通気性を有するFPC基板1のベース絶縁層2および集電部3f〜3jの複数の開口H12を通して空気が供給される。   A plurality of openings H41 are formed on the upper surface portion 41 in the casing 40 so as to correspond to the plurality of openings H12 of the current collectors 3f to 3j. Air is supplied to the air electrode 35a of the electrode film 35 through the plurality of openings H41 of the casing 40, the base insulating layer 2 of the air-permeable FPC board 1, and the plurality of openings H12 of the current collectors 3f to 3j.

ケーシング40の下面部42には、ベース絶縁層2の第1絶縁部2a(図1(a)参照)に接するように燃料収容室50が設けられる。燃料収容室50には、燃料供給管51の一端が接続される。燃料供給管51の他端は、ケーシング40の他方の側面部44を通って外部の図示しない燃料供給部に接続される。燃料供給部から燃料供給管51を通して燃料収容室50内に燃料が供給される。なお、本実施の形態では、燃料として液体状のメタノールを用いる。   A fuel storage chamber 50 is provided on the lower surface portion 42 of the casing 40 so as to be in contact with the first insulating portion 2 a (see FIG. 1A) of the base insulating layer 2. One end of a fuel supply pipe 51 is connected to the fuel storage chamber 50. The other end of the fuel supply pipe 51 is connected to an external fuel supply unit (not shown) through the other side surface 44 of the casing 40. Fuel is supplied from the fuel supply unit into the fuel storage chamber 50 through the fuel supply pipe 51. In the present embodiment, liquid methanol is used as the fuel.

本実施の形態に係るFPC基板1は気液分離膜として機能する。これにより、燃料収容室50内でメタノールの一部が気化することにより、各電極膜35の燃料極35bには、通気性を有するFPC基板1のベース絶縁層2および集電部3a〜3eの複数の開口H11を通して気化されたメタノールが供給される。   The FPC board 1 according to the present embodiment functions as a gas-liquid separation membrane. As a result, part of the methanol is vaporized in the fuel storage chamber 50, so that the fuel electrode 35b of each electrode film 35 has the base insulating layer 2 and the current collectors 3a to 3e of the FPC substrate 1 having air permeability. The vaporized methanol is supplied through the plurality of openings H11.

上記の構成においては、複数の燃料極35bにおいて、メタノールが水素イオンと二酸化炭素とに分解され、電子が生成される。生成された電子は、FPC基板1の集電部3a(図1参照)から引き出し電極5aに導かれる。メタノールから分解された水素イオンは、電解質膜35cを透過して空気極35aに達する。複数の空気極35aにおいて、引き出し電極5bから集電部3jに導かれた電子を消費しつつ水素イオンと酸素とが反応し、水が生成される。このようにして、引き出し電極5a,5bに接続された外部回路に電力が供給される。   In the above configuration, methanol is decomposed into hydrogen ions and carbon dioxide in the plurality of fuel electrodes 35b, and electrons are generated. The generated electrons are guided from the current collector 3a (see FIG. 1) of the FPC board 1 to the extraction electrode 5a. Hydrogen ions decomposed from methanol pass through the electrolyte membrane 35c and reach the air electrode 35a. In the plurality of air electrodes 35a, hydrogen ions and oxygen react while consuming electrons guided from the extraction electrode 5b to the current collector 3j, and water is generated. In this way, power is supplied to the external circuit connected to the extraction electrodes 5a and 5b.

(1−3)FPC基板の製造方法
(1−3−1)第1の例
次に、図1に示したFPC基板1の製造方法の第1の例を説明する。図4、図5および図6は、FPC基板1の製造方法の第1の例を説明するための工程断面図である。なお、図4〜図6は、図1のA−A線断面に相当する箇所における工程断面図である。
(1-3) Method for Manufacturing FPC Board (1-3-1) First Example Next, a first example of a method for manufacturing the FPC board 1 shown in FIG. 1 will be described. 4, 5, and 6 are process cross-sectional views for explaining a first example of the method for manufacturing the FPC board 1. 4 to 6 are process cross-sectional views in a portion corresponding to the cross section taken along the line AA of FIG.

まず、図4(a)に示すように、キャリア層8と導体層30とからなる二層基材を用意する。キャリア層8としては、粘着剤層を有するPET(ポリエチレンテレフタレート)等の樹脂または粘着剤層を有するステンレス等の金属薄膜を用いることができる。また、導体層30は例えば銅からなる。キャリア層8と導体層30とは、ラミネータにより貼り付けられていてもよいし、プレス機により圧着されていてもよい。キャリア層8と導体層30との圧着は、加温された状態または真空の状態で行われてもよい。スパッタリング、蒸着またはめっき等の他の方法により、キャリア層8上に導体層30が形成されてもよい。   First, as shown in FIG. 4A, a two-layer base material including a carrier layer 8 and a conductor layer 30 is prepared. As the carrier layer 8, a resin such as PET (polyethylene terephthalate) having an adhesive layer or a metal thin film such as stainless steel having an adhesive layer can be used. The conductor layer 30 is made of copper, for example. The carrier layer 8 and the conductor layer 30 may be affixed by a laminator or may be pressure-bonded by a press machine. The pressure bonding between the carrier layer 8 and the conductor layer 30 may be performed in a heated state or in a vacuum state. The conductor layer 30 may be formed on the carrier layer 8 by other methods such as sputtering, vapor deposition, or plating.

次に、図4(b)に示すように、導体層30上に例えば、感光性ドライフィルムレジスト等によりレジスト膜22を形成する。図4(c)に示すように、レジスト膜22を所定のパターンで露光した後、現像することによりエッチングレジストパターン22aを形成する。   Next, as shown in FIG. 4B, a resist film 22 is formed on the conductor layer 30 by using, for example, a photosensitive dry film resist. As shown in FIG. 4C, the resist film 22 is exposed in a predetermined pattern and then developed to form an etching resist pattern 22a.

次に、図4(d)に示すように、塩化第二鉄を用いてエッチングレジストパターン22aから露出する導体層30の領域をエッチングにより除去する。次に、図5(a)に示すように、エッチングレジストパターン22aを剥離液により除去する。これにより、キャリア層8上に集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3p(図1(a)参照)を含む導体パターン3が形成される。集電部3a〜3eには複数の開口H11が形成され、集電部3f〜3jには複数の開口H12が形成される。   Next, as shown in FIG. 4D, the region of the conductor layer 30 exposed from the etching resist pattern 22a is removed by etching using ferric chloride. Next, as shown in FIG. 5A, the etching resist pattern 22a is removed with a stripping solution. As a result, the conductor pattern 3 including the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and the lead conductors 3o and 3p (see FIG. 1A) is formed on the carrier layer 8. A plurality of openings H11 are formed in the current collectors 3a to 3e, and a plurality of openings H12 are formed in the current collectors 3f to 3j.

スパッタリング、蒸着またはめっき等の他の方法によりキャリア層8上に導体パターン3を形成してもよい。   The conductor pattern 3 may be formed on the carrier layer 8 by other methods such as sputtering, vapor deposition, or plating.

続いて、図5(b)に示すように、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの上面(第2の主面)を含む全面に接着剤層前駆体7pを塗布する。次に、図5(c)に示すように、所定のマスクパターンを介して接着剤層前駆体7pを露光した後、現像することにより、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3p上に、所定のパターンを有する接着剤パターン7を形成する。   Subsequently, as shown in FIG. 5 (b), the adhesive layer precursor is formed on the entire surface including the upper surfaces (second main surfaces) of the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and the lead conductors 3o and 3p. Apply body 7p. Next, as shown in FIG. 5 (c), the adhesive layer precursor 7p is exposed through a predetermined mask pattern, and then developed to collect current collecting portions 3a to 3j, connecting conductor portions 3k to 3n, and An adhesive pattern 7 having a predetermined pattern is formed on the lead conductor portions 3o and 3p.

ここで、接着剤層前駆体7pがネガ型の感光性を有する場合、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの反転形状を有するマスクパターンを介して接着剤層前駆体7pを露光する。接着剤層前駆体7pがポジ型の感光性を有する場合、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pと同一形状を有するマスクパターンを介して接着剤層前駆体7pを露光する。   Here, when the adhesive layer precursor 7p has negative photosensitivity, the adhesive layers 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and the lead conductors 3o and 3p are bonded via a mask pattern having an inverted shape. The agent layer precursor 7p is exposed. When the adhesive layer precursor 7p has positive photosensitivity, the adhesive layer precursor is passed through a mask pattern having the same shape as the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p. The body 7p is exposed.

また、接着剤層前駆体7pがポジ型の感光性を有する場合、接着剤層前駆体7pの下面(集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pと接する面)側から露光を行ってもよい。この場合、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pをマスクパターンとして用いることができるので、別途マスクパターンを用いなくてよい。なお、PETからなるキャリア層8は露光光を透過するため、接着剤層前駆体7pの下面(集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pと接する面)側からの露光の妨げとならない。   Further, when the adhesive layer precursor 7p has positive photosensitivity, the lower surface of the adhesive layer precursor 7p (the surface in contact with the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p). ) Exposure may be performed from the side. In this case, the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p can be used as mask patterns, so that it is not necessary to use a separate mask pattern. In addition, since the carrier layer 8 made of PET transmits exposure light, the lower surface (the surface in contact with the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p) side of the adhesive layer precursor 7p Will not interfere with the exposure.

集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3p上を除く部分に塗布された接着剤層前駆体7pの部分を、薬液、レーザ光またはプラズマ処理により除去してもよい。この場合、接着剤層前駆体7pの露光時にマスクパターンを用いなくてよい。同様に、スクリーン印刷またはペーストディスペンサにより、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3p上のみに接着剤層前駆体7pを塗布してもよい。この場合も、接着剤層前駆体7pの露光時にマスクパターンを用いなくてよい。   Even if the part of the adhesive layer precursor 7p applied to the parts other than the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and the lead conductors 3o and 3p is removed by chemical solution, laser light or plasma treatment. Good. In this case, it is not necessary to use a mask pattern when exposing the adhesive layer precursor 7p. Similarly, the adhesive layer precursor 7p may be applied only on the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and the lead conductors 3o and 3p by screen printing or a paste dispenser. Also in this case, it is not necessary to use a mask pattern when exposing the adhesive layer precursor 7p.

次に、図5(d)に示すように、接着剤パターン7を介して集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3p上にベース絶縁層2を接合する。その後、図6(a)に示すように、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pからキャリア層8を剥離する。   Next, as shown in FIG. 5 (d), the base insulating layer 2 is bonded onto the current collecting portions 3 a to 3 j, the connecting conductor portions 3 k to 3 n and the lead conductor portions 3 o and 3 p through the adhesive pattern 7. Thereafter, as shown in FIG. 6A, the carrier layer 8 is peeled from the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p.

次に、図6(b)に示すように、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの表面を被覆するように、無電解めっきにより被覆部6a〜6nを含む被覆層6(図1(a)参照)を形成する。ここで、引き出し電極5a,5b(図1(a)参照)が被覆部6a,6jから露出する。スパッタリング、蒸着またはめっき等の他の方法により、導体パターン3の表面を被覆するように被覆層6を形成してもよい。なお、図6(b)および図6(c)の断面図は、図6(a)の断面図とは上下を逆にして示している。   Next, as shown in FIG. 6B, the covering portions 6a to 6n are formed by electroless plating so as to cover the surfaces of the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p. A covering layer 6 (see FIG. 1A) containing Here, the extraction electrodes 5a and 5b (see FIG. 1A) are exposed from the covering portions 6a and 6j. The coating layer 6 may be formed so as to cover the surface of the conductor pattern 3 by other methods such as sputtering, vapor deposition, or plating. Note that the cross-sectional views of FIGS. 6B and 6C are shown upside down from the cross-sectional view of FIG.

最後に、図6(c)に示すように、ベース絶縁層2を所定の形状に切断することにより、ベース絶縁層2、導体パターン3および被覆層6を備えるFPC基板1が完成する。   Finally, as shown in FIG. 6C, the base insulating layer 2 is cut into a predetermined shape, whereby the FPC board 1 including the base insulating layer 2, the conductor pattern 3, and the covering layer 6 is completed.

なお、キャリア層8の厚みは1μm以上500μm以下であることが好ましく、10μm以上200μm以下であることがより好ましく、25μm以上150μm以下であることがさらに好ましい。キャリア層8の厚みが10μm以上であるとキャリア層8の取り扱い性が向上し、キャリア層8の厚みが200μm以下であるとキャリア層8のフレキシブル性が向上しかつコストの増大が抑制される。   The thickness of the carrier layer 8 is preferably 1 μm or more and 500 μm or less, more preferably 10 μm or more and 200 μm or less, and further preferably 25 μm or more and 150 μm or less. When the thickness of the carrier layer 8 is 10 μm or more, the handleability of the carrier layer 8 is improved, and when the thickness of the carrier layer 8 is 200 μm or less, the flexibility of the carrier layer 8 is improved and the increase in cost is suppressed.

導体パターン3の厚みは1μm以上100μm以下であることが好ましく、5μm以上70μm以下であることがより好ましく、10μm以上50μm以下であることがさらに好ましい。導体層30の厚みが1μm以上であると抵抗等の電気特性が向上し、導体層30の厚みが100μm以下であると導体層30の取り扱い性が向上する。   The thickness of the conductor pattern 3 is preferably 1 μm or more and 100 μm or less, more preferably 5 μm or more and 70 μm or less, and further preferably 10 μm or more and 50 μm or less. When the thickness of the conductor layer 30 is 1 μm or more, electrical characteristics such as resistance are improved, and when the thickness of the conductor layer 30 is 100 μm or less, the handleability of the conductor layer 30 is improved.

被覆層6の厚みは0.1μm以上10μm以下であることが好ましく、0.3μm以上8μm以下であることがより好ましく、0.3μm以上5μm以下であることがさらに好ましい。被覆層6の厚みが0.1μm以上であると導体パターン3の腐食を十分に防止することができかつ集電効率を向上させることができる。被覆層6の厚みが10μm以下であると被覆層6の取り扱い性が向上しかつコストの増大が抑制される。   The thickness of the coating layer 6 is preferably 0.1 μm or more and 10 μm or less, more preferably 0.3 μm or more and 8 μm or less, and further preferably 0.3 μm or more and 5 μm or less. When the thickness of the coating layer 6 is 0.1 μm or more, the conductor pattern 3 can be sufficiently prevented from corroding and the current collection efficiency can be improved. When the thickness of the coating layer 6 is 10 μm or less, the handleability of the coating layer 6 is improved and the increase in cost is suppressed.

接着剤パターン7の厚みは1μm以上100μm以下であることが好ましく、5μm以上70μm以下であることがより好ましく、5μm以上30μm以下であることがさらに好ましい。接着剤パターン7の厚みが5μm以上であると接着剤の接着力が向上し、接着剤パターン7の厚みが100μm以下であると接着剤パターン7の取り扱い性が向上する。   The thickness of the adhesive pattern 7 is preferably 1 μm or more and 100 μm or less, more preferably 5 μm or more and 70 μm or less, and further preferably 5 μm or more and 30 μm or less. When the thickness of the adhesive pattern 7 is 5 μm or more, the adhesive strength of the adhesive is improved, and when the thickness of the adhesive pattern 7 is 100 μm or less, the handleability of the adhesive pattern 7 is improved.

ベース絶縁層2の厚みは1μm以上100μm以下であることが好ましく、5μm以上50μm以下であることがより好ましく、5μm以上30μm以下であることがさらに好ましい。ベース絶縁層2の厚みが1μm以上であるとベース絶縁層2の取り扱い性が向上し、ベース絶縁層2の厚みが100μm以下であるとベース絶縁層2のフレキシブル性が向上するとともに小型化が可能となる。上述のように、ベース絶縁層2は連続孔を有する多孔質性のePTFEからなる。   The thickness of the base insulating layer 2 is preferably 1 μm or more and 100 μm or less, more preferably 5 μm or more and 50 μm or less, and further preferably 5 μm or more and 30 μm or less. When the thickness of the insulating base layer 2 is 1 μm or more, the handleability of the insulating base layer 2 is improved, and when the insulating base layer 2 is 100 μm or less, the flexibility of the insulating base layer 2 is improved and the size can be reduced. It becomes. As described above, the insulating base layer 2 is made of porous ePTFE having continuous pores.

ベース絶縁層2に含まれる複数の孔の直径(孔径)は、0.03μm以上100μm以下であることが好ましく、0.1μm以上50μm以下であることがより好ましい。   The diameter (hole diameter) of the plurality of holes included in the base insulating layer 2 is preferably 0.03 μm or more and 100 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 50 μm or less.

図4〜図6では、サブトラクティブ法によるFPC基板1の製造方法を示したが、これに限定されず、セミアディティブ法等の他の製造方法を用いてもよい。   4 to 6 show the manufacturing method of the FPC board 1 by the subtractive method, but the present invention is not limited to this, and other manufacturing methods such as a semi-additive method may be used.

(1−3−2)第2の例
FPC基板1の製造方法の第2の例について、上記第1の例と異なる点を説明する。図7および図8は、FPC基板1の製造方法の第2の例を説明するための工程断面図である。
(1-3-2) Second Example Regarding the second example of the method for manufacturing the FPC board 1, differences from the first example will be described. 7 and 8 are process cross-sectional views for explaining a second example of the method for manufacturing the FPC board 1.

まず、図7(a)に示すように、キャリア層8と導体層30とからなる二層基材を用意する。次に、図7(b)に示すように、導体層30上に接着剤層前駆体7pを塗布する。続いて、図7(c)に示すように、図1(a)の集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pと同一の形状を有するマスクパターンを介して接着剤層前駆体7pを露光した後、現像することにより、導体層30上に所定のパターンを有する接着剤パターン7を形成する。   First, as shown in FIG. 7A, a two-layer base material including a carrier layer 8 and a conductor layer 30 is prepared. Next, as shown in FIG. 7B, an adhesive layer precursor 7 p is applied on the conductor layer 30. Subsequently, as shown in FIG. 7C, through a mask pattern having the same shape as the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p in FIG. After the adhesive layer precursor 7p is exposed, the adhesive pattern 7 having a predetermined pattern is formed on the conductor layer 30 by developing.

次に、図7(d)に示すように、塩化第二鉄を用いて接着剤パターン7から露出する導体層30の領域をエッチングにより除去する。これにより、キャリア層8上に集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3p(図1(a)参照)が形成される。また、集電部3a〜3eには複数の開口H11が形成され、集電部3f〜3jには複数の開口H12が形成される。   Next, as shown in FIG. 7D, the region of the conductor layer 30 exposed from the adhesive pattern 7 is removed by etching using ferric chloride. As a result, current collecting portions 3a to 3j, connection conductor portions 3k to 3n, and lead conductor portions 3o and 3p (see FIG. 1A) are formed on the carrier layer 8. The current collectors 3a to 3e have a plurality of openings H11, and the current collectors 3f to 3j have a plurality of openings H12.

次に、図8(a)に示すように、接着剤パターン7を介して集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3p上にベース絶縁層2を接合する。その後、図8(b)に示すように、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pからキャリア層8を剥離する。   Next, as shown in FIG. 8A, the base insulating layer 2 is bonded onto the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p via the adhesive pattern 7. Thereafter, as shown in FIG. 8B, the carrier layer 8 is peeled from the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p.

次に、図8(c)に示すように、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの表面を被覆するように、被覆部6a〜6nを含む被覆層6(図1(a)参照)を形成する。なお、図8(c)および図8(d)の断面図は、図8(a)の断面図とは上下を逆にして示している。   Next, as shown in FIG.8 (c), the coating layer containing coating | coated parts 6a-6n so that the surface of the current collection parts 3a-3j, the connection conductor parts 3k-3n, and the lead conductor parts 3o and 3p may be coat | covered. 6 (see FIG. 1A). Note that the cross-sectional views of FIGS. 8C and 8D are shown upside down from the cross-sectional view of FIG. 8A.

最後に、図8(d)に示すように、ベース絶縁層2を所定の形状に切断することにより、ベース絶縁層2、導体パターン3および被覆部6を備えるFPC基板1が完成する。   Finally, as shown in FIG. 8D, the base insulating layer 2 is cut into a predetermined shape, whereby the FPC board 1 including the base insulating layer 2, the conductor pattern 3, and the covering portion 6 is completed.

FPC基板1の製造方法の第2の例においては、キャリア層8と導体層30との積層構造を有する基材の導体層30上に接着剤パターン7が形成される。また、接着剤パターン7をマスクとして用いて導体層30の露出した領域が除去される。これにより、別途マスクパターンを用意することなく集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pを形成することができる。その結果、FPC基板1の製造工程および製造コストを削減することができる。   In the second example of the method for manufacturing the FPC board 1, the adhesive pattern 7 is formed on the conductive layer 30 of the base material having a laminated structure of the carrier layer 8 and the conductive layer 30. Further, the exposed region of the conductor layer 30 is removed using the adhesive pattern 7 as a mask. Accordingly, the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p can be formed without preparing a mask pattern separately. As a result, the manufacturing process and manufacturing cost of the FPC board 1 can be reduced.

また、接着剤パターン7が感光性を有するので、露光処理および現像処理を行うことにより容易に接着剤パターン7を形成することができる。   Further, since the adhesive pattern 7 has photosensitivity, the adhesive pattern 7 can be easily formed by performing exposure processing and development processing.

(1−3−3)第3の例
FPC基板1の製造方法の第3の例について、上記第1の例と異なる点を説明する。図9は、FPC基板1の製造方法の第3の例を説明するための工程断面図である。本例において、接着剤パターン7は感光性を有しない。
(1-3-3) Third Example A third example of the method for manufacturing the FPC board 1 will be described while referring to differences from the first example. FIG. 9 is a process cross-sectional view for explaining a third example of the manufacturing method of the FPC board 1. In this example, the adhesive pattern 7 does not have photosensitivity.

図4(a)の工程から図5(b)の工程までは、上記第1の例と同じである。図5(b)の工程の次に、図9(a)に示すように、接着剤層前駆体7pを乾燥させることにより接着剤層7qを形成し、接着剤層7qを介して集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3p上にベース絶縁層2を接合する。続いて、図9(b)に示すように、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pからキャリア層8を剥離する。その後、図9(c)に示すように、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pから露出する接着剤層7qの領域をプラズマ処理により除去する。このようにして、接着剤パターン7を形成する。   The process from FIG. 4A to the process of FIG. 5B is the same as the first example. Next to the step of FIG. 5 (b), as shown in FIG. 9 (a), the adhesive layer precursor 7p is dried to form an adhesive layer 7q, and the current collector portion is interposed via the adhesive layer 7q. The base insulating layer 2 is joined on the 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p. Subsequently, as shown in FIG. 9B, the carrier layer 8 is peeled from the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p. Thereafter, as shown in FIG. 9C, the regions of the adhesive layer 7q exposed from the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and the lead conductors 3o and 3p are removed by plasma treatment. In this way, the adhesive pattern 7 is formed.

次に、図9(d)に示すように、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの表面を被覆するように、被覆部6a〜6nを含む被覆層6(図1(a)参照)を形成する。なお、図9(d)および図9(e)の断面図は、図9(c)の断面図とは上下を逆にして示している。   Next, as shown in FIG. 9D, a covering layer including covering portions 6a to 6n so as to cover the surfaces of the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p. 6 (see FIG. 1A). Note that the cross-sectional views of FIGS. 9D and 9E are shown upside down from the cross-sectional view of FIG. 9C.

最後に、図9(e)に示すように、ベース絶縁層2を所定の形状に切断することにより、ベース絶縁層2、ベース絶縁層2、導体パターン3および被覆部6を備えるFPC基板1が完成する。   Finally, as shown in FIG. 9E, the FPC board 1 including the base insulating layer 2, the base insulating layer 2, the conductor pattern 3, and the covering portion 6 is obtained by cutting the base insulating layer 2 into a predetermined shape. Complete.

本実施の形態に係るFPC基板1の製造方法おいては、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pをマスクとして用いることができるので、別途マスクパターンを用意することなく接着剤パターン7を形成することができる。その結果、FPC基板1の製造工程および製造コストを削減することができる。   In the method of manufacturing the FPC board 1 according to the present embodiment, the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and the lead conductors 3o and 3p can be used as masks, so a separate mask pattern is prepared. The adhesive pattern 7 can be formed without doing so. As a result, the manufacturing process and manufacturing cost of the FPC board 1 can be reduced.

また、接着剤パターン7がプラズマ処理により形成されるので、接着剤層前駆体7pが感光性であるか非感光性であるかにかかわらず、接着剤パターン7を容易に形成することができる。   Further, since the adhesive pattern 7 is formed by plasma treatment, the adhesive pattern 7 can be easily formed regardless of whether the adhesive layer precursor 7p is photosensitive or non-photosensitive.

(1−3−4)第4の例
FPC基板1の製造方法の第4の例について、上記第1の例と異なる点を説明する。図10および図11は、FPC基板1の製造方法の第4の例を説明するための工程断面図である。本例において、接着剤パターン7は感光性を有しない。
(1-3-4) Fourth Example A fourth example of the method for manufacturing the FPC board 1 will be described while referring to differences from the first example. 10 and 11 are process cross-sectional views for explaining a fourth example of the method for manufacturing the FPC board 1. In this example, the adhesive pattern 7 does not have photosensitivity.

まず、図10(a)に示すように、粘着剤層を有するキャリア層8、導体層30、および接着剤層前駆体7pを用意する。接着剤層前駆体7pはセパレータ23上に形成されている。   First, as shown to Fig.10 (a), the carrier layer 8 which has an adhesive layer, the conductor layer 30, and the adhesive bond layer precursor 7p are prepared. The adhesive layer precursor 7 p is formed on the separator 23.

次に、図10(b)に示すように、キャリア層8上に導体層30を貼り合わせるとともに導体層30上に接着剤層前駆体7pを貼り合わせる。キャリア層8、導体層30および接着剤層前駆体7pは、ラミネータにより貼り合わせてもよく、またはプレス機によって圧着することにより貼り合わせてもよい。その後、接着剤層前駆体7pからセパレータ23を剥離する。接着剤層前駆体7pは、上記第1〜第3の実施の形態と同様に、塗布により導体層30上に形成されてもよい。   Next, as shown in FIG. 10B, the conductor layer 30 is bonded onto the carrier layer 8 and the adhesive layer precursor 7 p is bonded onto the conductor layer 30. The carrier layer 8, the conductor layer 30, and the adhesive layer precursor 7p may be bonded together by a laminator, or may be bonded together by pressure bonding with a press machine. Thereafter, the separator 23 is peeled from the adhesive layer precursor 7p. The adhesive layer precursor 7p may be formed on the conductor layer 30 by coating, as in the first to third embodiments.

次に、図10(c)に示すように、金型を用いて接着剤層前駆体7p、導体層30およびキャリア層8の複数箇所を打ち抜くことにより、複数の貫通孔HAを形成する。これにより、導体層30に開口H11,H12が形成される。また、金型を用いて集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3p(図1(a)参照)の形状に沿った切り込みTHを接着剤層前駆体7pおよび導体層30に形成する。この場合、共通の金型を用いて貫通孔HAの形成と切り込みTHの形成とを同時に行ってもよく、または異なる金型を用いて貫通孔HAの形成と切り込みTHの形成とを順に行ってもよい。切り込みTHは、キャリア層8の粘着剤層に達するように形成されることが好ましい。   Next, as shown in FIG. 10C, a plurality of through holes HA are formed by punching out a plurality of locations of the adhesive layer precursor 7p, the conductor layer 30, and the carrier layer 8 using a mold. Thus, openings H11 and H12 are formed in the conductor layer 30. Further, using a mold, a cut TH along the shapes of the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p (see FIG. 1A) is used as an adhesive layer precursor 7p and The conductive layer 30 is formed. In this case, the formation of the through hole HA and the formation of the cut TH may be performed simultaneously using a common mold, or the formation of the through hole HA and the formation of the cut TH are sequentially performed using different molds. Also good. The cut TH is preferably formed so as to reach the pressure-sensitive adhesive layer of the carrier layer 8.

次に、図10(d)に示すように、切り込みTHによって分離された不要な接着剤層前駆体7pおよび導体層30の部分を除去する。これにより、キャリア層8上に集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3n、引き出し導体部3o,3p(図1(a)参照)および接着剤パターン7が形成される。なお、図10(c)の工程において、切り込みTHがキャリア層8の粘着剤層に達するように形成されることにより、不要な接着剤層前駆体7pおよび導体層30の部分を除去しやすくなる。   Next, as shown in FIG. 10D, the unnecessary adhesive layer precursor 7p and conductor layer 30 portions separated by the cut TH are removed. As a result, the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, the lead conductor portions 3o and 3p (see FIG. 1A), and the adhesive pattern 7 are formed on the carrier layer 8. In addition, in the process of FIG.10 (c), it becomes easy to remove the part of unnecessary adhesive bond layer precursor 7p and the conductor layer 30 by forming so that the cut | notch TH reaches the adhesive layer of the carrier layer 8. FIG. .

次に、図11(a)に示すように、接着剤パターン7を介して集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3p上にベース絶縁層2を接合する。その後、図11(b)に示すように、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pからキャリア層8を剥離する。   Next, as shown in FIG. 11A, the base insulating layer 2 is bonded onto the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p via the adhesive pattern 7. Thereafter, as shown in FIG. 11B, the carrier layer 8 is peeled from the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p.

次に、図11(c)に示すように、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの表面を被覆するように、無電解めっきにより被覆部6a〜6n(図1(a)参照)を含む被覆層6を形成する。最後に、図11(d)に示すように、ベース絶縁層2を所定の形状に切断することにより、ベース絶縁層2、導体パターン3および被覆層6を備えるFPC基板1が完成する。   Next, as shown in FIG. 11C, the covering portions 6a to 6n are formed by electroless plating so as to cover the surfaces of the current collecting portions 3a to 3j, the connection conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p. The covering layer 6 including (see FIG. 1A) is formed. Finally, as shown in FIG. 11D, the base insulating layer 2 is cut into a predetermined shape, whereby the FPC board 1 including the base insulating layer 2, the conductor pattern 3, and the covering layer 6 is completed.

本例においては、金型による貫通孔HAおよび切り込みTHの形成により、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3n、引き出し導体部3o,3pおよび接着剤パターン7が形成される。この場合、露光、現像またはエッチング等の処理が行われないので、FPC基板1の製造が容易となる。その結果、製造工程および製造コストの削減が可能となる。   In this example, the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, the lead conductors 3o and 3p, and the adhesive pattern 7 are formed by forming the through holes HA and the cuts TH by the mold. In this case, since processing such as exposure, development or etching is not performed, the FPC board 1 can be easily manufactured. As a result, the manufacturing process and manufacturing cost can be reduced.

また、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3n、引き出し導体部3o,3pおよび接着剤パターン7が形成された後に、ベース絶縁層2が集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pに接合されるので、金型による貫通孔HAおよび切り込みTHの形成時に、ベース絶縁層2が損傷することがない。したがって、歩留まりの低下が防止される。   In addition, after the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, the lead conductors 3o and 3p, and the adhesive pattern 7 are formed, the base insulating layer 2 includes the current collectors 3a to 3j and the connection conductors 3k to 3k. Since it is joined to 3n and the lead conductor portions 3o and 3p, the base insulating layer 2 is not damaged when the through hole HA and the cut TH are formed by the mold. Accordingly, a decrease in yield is prevented.

なお、図10(c)の工程で接着剤層前駆体7p、導体層30およびキャリア層8を打ち抜いて貫通孔HAを形成する代わりに、図10(c)の工程で接着剤層前駆体7pおよび導体層30の対応箇所に円環状の切り込みを形成し、図10(d)の工程でその円環状の切り込みの内側における接着剤層前駆体7pおよび導体層30の部分を除去してもよい。ただし、この場合には、複数の対応箇所において、接着剤層前駆体7pおよび導体層30の除去処理が必要になる。製造工程の簡略化のためには、接着剤層前駆体7p、導体層30およびキャリア層8を打ち抜いて貫通孔HAを形成することが好ましい。   Instead of punching the adhesive layer precursor 7p, the conductor layer 30 and the carrier layer 8 in the step of FIG. 10C to form the through hole HA, the adhesive layer precursor 7p in the step of FIG. 10C. Further, an annular cut may be formed at a corresponding portion of the conductor layer 30, and the adhesive layer precursor 7p and the portion of the conductor layer 30 inside the annular cut may be removed in the step of FIG. . However, in this case, it is necessary to remove the adhesive layer precursor 7p and the conductor layer 30 at a plurality of corresponding locations. In order to simplify the manufacturing process, it is preferable to punch through the adhesive layer precursor 7p, the conductor layer 30, and the carrier layer 8 to form the through hole HA.

一方、図10(c)の工程で集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの形状に沿うように接着剤層前駆体7pおよび導体層30に切り込みTHを形成し、図10(d)の工程で不要な接着剤層前駆体7pおよび導体層30の部分を除去する代わりに、図10(c)の工程で集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの形状に沿うように接着剤層前駆体7p、導体層30およびキャリア層8を打ち抜いてもよい。ただし、この場合には、接着剤層前駆体7p、導体層30およびキャリア層8が複数に分離する。取り扱いを容易にするためには、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの形状に沿うように接着剤層前駆体7pおよび導体層30に切り込みTHを形成し、次工程で不要部分を除去することが好ましい。   On the other hand, in the process of FIG. 10C, the TH is cut into the adhesive layer precursor 7p and the conductor layer 30 so as to follow the shapes of the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and the lead conductors 3o and 3p. Instead of forming and removing the unnecessary adhesive layer precursor 7p and conductor layer 30 in the step of FIG. 10 (d), the current collecting portions 3a to 3j and the connecting conductor portion 3k in the step of FIG. 10 (c). The adhesive layer precursor 7p, the conductor layer 30, and the carrier layer 8 may be punched out along the shapes of ˜3n and the lead conductor portions 3o and 3p. However, in this case, the adhesive layer precursor 7p, the conductor layer 30, and the carrier layer 8 are separated into a plurality. In order to facilitate handling, cut TH is formed in the adhesive layer precursor 7p and the conductor layer 30 so as to conform to the shapes of the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p. Then, it is preferable to remove unnecessary portions in the next step.

(1−3−5)第5の例
FPC基板1の製造方法の第5の例について、上記第4の例と異なる点を説明する。
(1-3-5) Fifth Example A fifth example of the method for manufacturing the FPC board 1 will be described while referring to differences from the fourth example.

本実施の形態においては、図10(c)の工程において、金型を用いて貫通孔HAおよび切り込みTHを形成する代わりに、レーザにより貫通孔HAおよび切り込みTHを形成する。その後、図10(d)に示すように、切り込みTHによって分離された不要な接着剤層前駆体7pおよび導体層30の部分を除去することにより、キャリア層8上に集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3n、引き出し導体部3o,3p(図1(a)参照)および接着剤パターン7が形成される。   In the present embodiment, in the step of FIG. 10C, the through hole HA and the cut TH are formed by a laser instead of forming the through hole HA and the cut TH using a mold. Thereafter, as shown in FIG. 10 (d), by removing the unnecessary adhesive layer precursor 7p and the conductor layer 30 separated by the cut TH, current collectors 3a to 3j on the carrier layer 8, Connection conductor portions 3k to 3n, lead conductor portions 3o and 3p (see FIG. 1A), and adhesive pattern 7 are formed.

本例においても、露光、現像またはエッチング等の処理が行われないので、FPC基板1の製造が容易となる。その結果、製造工程および製造コストの削減が可能となる。   Also in this example, since processing such as exposure, development, or etching is not performed, manufacture of the FPC board 1 is facilitated. As a result, the manufacturing process and manufacturing cost can be reduced.

また、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3n、引き出し導体部3o,3pおよび接着剤パターン7が形成された後に、ベース絶縁層2が集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pに接合されるので、レーザによる貫通孔HAの形成および切り込みTHの形成時に、ベース絶縁層2が損傷することがない。したがって、歩留まりの低下が防止される。   In addition, after the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, the lead conductors 3o and 3p, and the adhesive pattern 7 are formed, the base insulating layer 2 includes the current collectors 3a to 3j and the connection conductors 3k to 3k. Since it is joined to 3n and the lead conductor portions 3o and 3p, the base insulating layer 2 is not damaged when the through hole HA is formed by the laser and the cut TH is formed. Accordingly, a decrease in yield is prevented.

(1−4)効果
本実施の形態に係るFPC基板1においては、ベース絶縁層2が、連続孔を有する多孔質材料からなる。それにより、燃料電池100内において、ベース絶縁層2の連続孔を通して、複数の電極膜35に燃料および空気を供給することができる。また、電極膜35で発生される電力を導体パターン3を介して燃料電池100の外部に供給することができる。
(1-4) Effects In the FPC board 1 according to the present embodiment, the base insulating layer 2 is made of a porous material having continuous holes. Thereby, fuel and air can be supplied to the plurality of electrode films 35 through the continuous holes of the base insulating layer 2 in the fuel cell 100. Further, the electric power generated in the electrode film 35 can be supplied to the outside of the fuel cell 100 through the conductor pattern 3.

また、液体状のメタノールから気化されたメタノールをベース絶縁層2を介して分離することができる。したがって、別途気液分離膜を配置することなく、気化されたメタノールを電極膜35に供給することが可能となる。   Further, methanol vaporized from liquid methanol can be separated through the base insulating layer 2. Therefore, it is possible to supply vaporized methanol to the electrode membrane 35 without arranging a separate gas-liquid separation membrane.

このように、FPC基板1が集電作用と気液分離作用とを有するので、燃料電池100の構造を簡単にすることができる。   Thus, since the FPC board 1 has a current collecting action and a gas-liquid separating action, the structure of the fuel cell 100 can be simplified.

また、本実施の形態に係るFPC基板1においては、導体パターン3の第1の主面および側面を被覆するように被覆層6が形成される。被覆層6においては、ヤング率が105Gpa以下でかつ標準電極電位が−1.5V以上である。そのため、被覆層6は高い耐腐食性を有するとともに、高い導電性を有する。   In FPC board 1 according to the present embodiment, coating layer 6 is formed so as to cover the first main surface and side surfaces of conductive pattern 3. In the coating layer 6, the Young's modulus is 105 Gpa or less and the standard electrode potential is −1.5 V or more. Therefore, the coating layer 6 has high corrosion resistance and high conductivity.

これにより、燃料電池100内において、副生成物のギ酸が被覆層6に接触する状態であっても、被覆層6および導体パターン3の腐食が防止される。また、被覆層6を介して導体パターン3と複数の電極膜35との導電性が十分に確保される。その結果、導体パターン3の集電効率を維持しつつ導体パターン3の腐食を防止することができる。   Thereby, even if the by-product formic acid is in contact with the coating layer 6 in the fuel cell 100, corrosion of the coating layer 6 and the conductor pattern 3 is prevented. Further, the conductivity between the conductor pattern 3 and the plurality of electrode films 35 is sufficiently ensured through the covering layer 6. As a result, corrosion of the conductor pattern 3 can be prevented while maintaining the current collection efficiency of the conductor pattern 3.

また、導体パターン3の第2の主面が接着剤パターン7を介してベース絶縁層2に接着されるので、導体パターン3の第2の主面にギ酸が接触することが防止される。それにより、導体パターン3の腐食がより確実に防止される。   In addition, since the second main surface of the conductor pattern 3 is bonded to the base insulating layer 2 via the adhesive pattern 7, formic acid is prevented from coming into contact with the second main surface of the conductor pattern 3. Thereby, corrosion of the conductor pattern 3 is more reliably prevented.

(2)第2の実施の形態
本発明の第2の実施の形態に係る配線回路基板について、上記第1の実施の形態と異なる点を説明する。
(2) Second Embodiment A printed circuit board according to a second embodiment of the present invention will be described while referring to differences from the first embodiment.

(2−1)構成
図12(a)は、第2の実施の形態に係るFPC基板の平面図であり、図12(b)は図12(a)のFPC基板のA−A線断面図である。図12のFPC基板1においては、被覆層6が形成されず、導体パターン3の全体が露出する。導体パターン3は、ヤング率が105Gpa以下でありかつ標準電極電位がー1.5V以上である材料からなる。すなわち、導体パターン3は、上記第1の実施の形態における被覆層6と同様の材料(例えば銀)からなる。図12のFPC基板1は、導体層および表面層が同一材料により一体的に形成された例である。
(2-1) Configuration FIG. 12A is a plan view of an FPC board according to the second embodiment, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along the line AA of the FPC board in FIG. It is. In the FPC board 1 of FIG. 12, the coating layer 6 is not formed, and the entire conductor pattern 3 is exposed. The conductor pattern 3 is made of a material having a Young's modulus of 105 Gpa or less and a standard electrode potential of −1.5 V or more. That is, the conductor pattern 3 is made of the same material (for example, silver) as the covering layer 6 in the first embodiment. The FPC board 1 of FIG. 12 is an example in which the conductor layer and the surface layer are integrally formed of the same material.

図12のFPC基板1の製造時には、被覆層6が形成されない。また、導体パターン3が、ヤング率が105Gpa以下でありかつ標準電極電位がー1.5V以上である材料から形成される。図12のFPC基板1の製造方法の他の点は、上記第1の実施の形態におけるFPC基板1の製造方法と同様である。   At the time of manufacturing the FPC board 1 of FIG. 12, the coating layer 6 is not formed. The conductor pattern 3 is formed of a material having a Young's modulus of 105 Gpa or less and a standard electrode potential of −1.5 V or more. Other points of the manufacturing method of the FPC board 1 in FIG. 12 are the same as the manufacturing method of the FPC board 1 in the first embodiment.

(2−2)効果
本実施の形態に係るFPC基板1においても、ベース絶縁層2が、連続孔を有する多孔質材料からなる。それにより、FPC基板1が集電作用と気液分離作用とを有するので、燃料電池100の構造を簡単にすることができる。
(2-2) Effect Also in the FPC board 1 according to the present embodiment, the insulating base layer 2 is made of a porous material having continuous holes. Thereby, since the FPC board 1 has a current collecting action and a gas-liquid separating action, the structure of the fuel cell 100 can be simplified.

また、導体パターン3のヤング率が105Gpa以下でかつ導体パターン3の標準電極電位が−1.5V以上である。そのため、導体パターン3は高い耐腐食性を有するとともに、高い導電性を有する。   The Young's modulus of the conductor pattern 3 is 105 Gpa or less, and the standard electrode potential of the conductor pattern 3 is −1.5 V or more. Therefore, the conductor pattern 3 has high corrosion resistance and high conductivity.

これにより、燃料電池100内において、副生成物のギ酸が導体パターン3に接触する状態であっても、導体パターン3の腐食が防止される。また、導体パターン3と複数の電極膜35との導電性が十分に確保される。その結果、導体パターン3の集電効率を維持しつつ導体パターン3の腐食を防止することができる。   Thereby, even if the by-product formic acid is in contact with the conductor pattern 3 in the fuel cell 100, corrosion of the conductor pattern 3 is prevented. Further, sufficient conductivity between the conductor pattern 3 and the plurality of electrode films 35 is ensured. As a result, corrosion of the conductor pattern 3 can be prevented while maintaining the current collection efficiency of the conductor pattern 3.

(3)第3の実施の形態
本発明の第3の実施の形態に係る配線回路基板について、上記第1の実施の形態と異なる点を説明する。
(3) Third Embodiment A printed circuit board according to a third embodiment of the present invention will be described while referring to differences from the first embodiment.

(3−1)構成
図13は、第3の実施の形態に係るFPC基板の断面図である。図13の断面は、図1のA−A線断面に対応する。図13のFPC基板1においては、導体パターン3と被覆層6との間に、例えばニッケルからなるバリア層11が形成される。
(3-1) Configuration FIG. 13 is a cross-sectional view of an FPC board according to the third embodiment. The cross section in FIG. 13 corresponds to the cross section along line AA in FIG. In the FPC board 1 of FIG. 13, a barrier layer 11 made of, for example, nickel is formed between the conductor pattern 3 and the covering layer 6.

図13のFPC基板1の製造時には、ベース絶縁層2に集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pが接合された後(図11(b)参照)、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの表面(第1の主面および側面)を被覆するように、例えば無電解めっきによりバリア層11が形成される。続いて、バリア層11を被覆するように、例えば無電解めっきにより被覆層6が形成される。図13のFPC基板1の製造方法の他の点は、上記第1の実施の形態におけるFPC基板1の製造方法と同様である。   When the FPC board 1 shown in FIG. 13 is manufactured, the current collectors 3a to 3j, the connection conductors 3k to 3n, and the lead conductors 3o and 3p are joined to the base insulating layer 2 (see FIG. 11B). The barrier layer 11 is formed by, for example, electroless plating so as to cover the surfaces (first main surface and side surfaces) of the electric parts 3a to 3j, the connecting conductor parts 3k to 3n, and the lead conductor parts 3o and 3p. Subsequently, the coating layer 6 is formed by, for example, electroless plating so as to cover the barrier layer 11. Other points of the manufacturing method of the FPC board 1 in FIG. 13 are the same as the manufacturing method of the FPC board 1 in the first embodiment.

バリア層11の厚みは、0.1μm以上10μm以下であることが好ましく、0.3μm以上8μm以下であることがより好ましく、0.3μm以上5μm以下であることがさらに好ましい。バリア層11の厚みが0.1μm以上であると導体層30と被覆層6との間の密着性が向上し、バリア層11の厚みが10μm以下であると導体パターン3と被覆層6との間の電気伝導率が向上する。バリア層11の材料はニッケルに限らず、ニッケル銅等の他の導電性材料が用いられてもよい。   The thickness of the barrier layer 11 is preferably 0.1 μm or more and 10 μm or less, more preferably 0.3 μm or more and 8 μm or less, and further preferably 0.3 μm or more and 5 μm or less. When the thickness of the barrier layer 11 is 0.1 μm or more, the adhesion between the conductor layer 30 and the coating layer 6 is improved, and when the thickness of the barrier layer 11 is 10 μm or less, the conductor pattern 3 and the coating layer 6 The electrical conductivity between them is improved. The material of the barrier layer 11 is not limited to nickel, and other conductive materials such as nickel copper may be used.

(3−2)効果
本実施の形態に係るFPC基板1においても、ベース絶縁層2が、連続孔を有する多孔質材料からなる。それにより、FPC基板1が集電作用と気液分離作用とを有するので、燃料電池100の構造を簡単にすることができる。
(3-2) Effect Also in the FPC board 1 according to the present embodiment, the base insulating layer 2 is made of a porous material having continuous holes. Thereby, since the FPC board 1 has a current collecting action and a gas-liquid separating action, the structure of the fuel cell 100 can be simplified.

また、導体パターン3と被覆層6との間にバリア層11が形成される。それにより、導体パターン3の成分が被覆層6上に移動することが防止される。したがって、導体パターン3の腐食がより十分に防止される。   Further, the barrier layer 11 is formed between the conductor pattern 3 and the covering layer 6. Thereby, the component of the conductor pattern 3 is prevented from moving onto the coating layer 6. Therefore, corrosion of the conductor pattern 3 is more sufficiently prevented.

(4)第4の実施の形態
本発明の第4の実施の形態に係る配線回路基板について、上記第1の実施の形態と異なる点を説明する。
(4) Fourth Embodiment A printed circuit board according to a fourth embodiment of the present invention will be described while referring to differences from the first embodiment.

(4−1)構成
図14は、第4の実施の形態に係るFPC基板の断面図である。図14の断面は、図1のA−A線断面に相当する。
(4-1) Configuration FIG. 14 is a cross-sectional view of an FPC board according to the fourth embodiment. The cross section in FIG. 14 corresponds to the cross section along line AA in FIG.

図14のFPC基板1においては、接着剤パターン7と導体パターン3との間にも被覆層6が形成される。この場合、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3n、引き出し導体部3o,3pの各々の第1の主面、第2の主面および側面を被覆するように被覆層6が形成される。   In the FPC board 1 of FIG. 14, the coating layer 6 is also formed between the adhesive pattern 7 and the conductor pattern 3. In this case, the covering layer 6 is formed so as to cover the first main surface, the second main surface, and the side surfaces of the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p. The

(4−2)製造方法
(4−2−1)第1の例
図14に示したFPC基板1の製造方法を説明する。図15、図16、図17および図18は、図14のFPC基板1の製造方法の第1の例を説明するための工程断面図である。なお、図15〜図18は、図14のFPC基板1のA−A線断面に対応する箇所における工程断面図である。
(4-2) Manufacturing Method (4-2-1) First Example A method for manufacturing the FPC board 1 shown in FIG. 14 will be described. 15, FIG. 16, FIG. 17 and FIG. 18 are process cross-sectional views for explaining a first example of the method for manufacturing the FPC board 1 of FIG. 15 to 18 are process cross-sectional views at locations corresponding to the cross section taken along the line AA of the FPC board 1 of FIG.

まず、図15(a)に示すように、例えば銅からなる導体層30が用意される。導体層30の厚みは例えば35μmである。次に、図15(b)に示すように、レーザ加工により、導体層30から集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pを含む導体パターン3(図1(a)参照)が形成される。レーザ加工に代えて、エッチングまたは金型を用いた打ち抜きにより集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pが形成されてもよい。   First, as shown in FIG. 15A, a conductor layer 30 made of, for example, copper is prepared. The thickness of the conductor layer 30 is, for example, 35 μm. Next, as shown in FIG. 15B, the conductor pattern 3 including the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p from the conductor layer 30 by laser processing (FIG. 1B). a)) is formed. Instead of laser processing, current collectors 3a to 3j, connection conductors 3k to 3n, and lead conductors 3o and 3p may be formed by etching or punching using a mold.

続いて、図15(c)に示すように、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの第1の主面E1、第2の主面E2および側面E3を被覆するように、被覆部6a〜6nを含む被覆層6(図1(a)参照)を形成する。このようにして形成された導体パターン3および被覆層6からなる積層体を第1の積層体L1と呼ぶ。   Subsequently, as shown in FIG. 15C, the first main surface E1, the second main surface E2, and the side surface E3 of the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p. The covering layer 6 including the covering portions 6a to 6n (see FIG. 1A) is formed so as to cover the surface. A laminate composed of the conductor pattern 3 and the coating layer 6 formed in this manner is referred to as a first laminate L1.

図15(a)〜図15(c)の第1の積層体L1の形成工程と並行して、図16(a)に示すように、接着剤層前駆体7pおよびキャリア層9が用意される。接着剤層前駆体7pの一面および他面には、それぞれ剥離層7a,7bが設けられている。剥離層7a,7bの材料としては、例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)が用いられる。キャリア層9の一面には粘着層9aが設けられている。キャリア層9の材料としては、例えばPETが用いられる。粘着層9aの材料としては、例えばアクリル系の接着剤が用いられる。   In parallel with the formation process of the first stacked body L1 of FIGS. 15A to 15C, as shown in FIG. 16A, an adhesive layer precursor 7p and a carrier layer 9 are prepared. . Release layers 7a and 7b are provided on one surface and the other surface of the adhesive layer precursor 7p, respectively. As a material for the release layers 7a and 7b, for example, PET (polyethylene terephthalate) is used. An adhesive layer 9 a is provided on one surface of the carrier layer 9. As a material of the carrier layer 9, for example, PET is used. As a material for the adhesive layer 9a, for example, an acrylic adhesive is used.

次に、図16(b)に示すように、剥離層7aおよび粘着層9aを介して、接着剤層前駆体7pとキャリア層9とが貼り合わされる。続いて、図16(c)に示すように、剥離層7bが接着剤層前駆体7pから剥離される。   Next, as shown in FIG.16 (b), the adhesive layer precursor 7p and the carrier layer 9 are bonded together via the peeling layer 7a and the adhesion layer 9a. Subsequently, as shown in FIG. 16C, the release layer 7b is released from the adhesive layer precursor 7p.

その後、図16(d)に示すように、レーザ加工により、接着剤層前駆体7pおよび剥離層7aに所定のパターンが形成される。これにより、接着剤パターン7が形成される。レーザ加工に代えて、エッチングまたは金型を用いた打ち抜きにより接着剤層前駆体7pおよび剥離層7aに所定のパターンが形成されてもよい。このようにして形成された接着剤パターン7、剥離層7a、粘着層9aおよびキャリア層9からなる積層体を第2の積層体L2と呼ぶ。接着剤パターン7は、図15(c)の第1の積層体L1に形成されるパターンと同様である。   Thereafter, as shown in FIG. 16D, a predetermined pattern is formed on the adhesive layer precursor 7p and the release layer 7a by laser processing. Thereby, the adhesive pattern 7 is formed. Instead of laser processing, a predetermined pattern may be formed on the adhesive layer precursor 7p and the release layer 7a by etching or punching using a mold. The laminate composed of the adhesive pattern 7, the release layer 7 a, the adhesive layer 9 a, and the carrier layer 9 formed in this manner is referred to as a second laminate L2. The adhesive pattern 7 is the same as the pattern formed on the first laminate L1 in FIG.

次に、図17(a)に示すように、図15(c)の第1の積層体L1および図16(d)の第2の積層体L2に加え、キャリア層8が用意される。キャリア層8の一面には粘着層8aが設けられている。キャリア層8の材料としては、例えばPETが用いられる。粘着層8aの材料としては、例えばアクリル系の接着剤が用いられる。   Next, as shown in FIG. 17A, a carrier layer 8 is prepared in addition to the first stacked body L1 in FIG. 15C and the second stacked body L2 in FIG. An adhesive layer 8 a is provided on one surface of the carrier layer 8. For example, PET is used as the material of the carrier layer 8. As the material for the adhesive layer 8a, for example, an acrylic adhesive is used.

続いて、図17(b)に示すように、第1の積層体L1の一面(導体パターン3の第1の主面E1側の面)が粘着層8aを介してキャリア層8と貼り合わされるとともに、第1の積層体L1の他面(導体パターン3の第2の主面E2側の面)が接着剤パターン7を介して第2の積層体L2と貼り合わされる。その後、図17(c)に示すように、第2の積層体L2から粘着層9aおよびキャリア層9とともに剥離層7aが剥離される。これにより、第1の積層体L1の他面に接着剤パターン7が残存する。   Subsequently, as shown in FIG. 17B, one surface of the first laminate L1 (the surface on the first main surface E1 side of the conductor pattern 3) is bonded to the carrier layer 8 via the adhesive layer 8a. At the same time, the other surface of the first laminate L1 (the surface on the second main surface E2 side of the conductor pattern 3) is bonded to the second laminate L2 via the adhesive pattern 7. Thereafter, as shown in FIG. 17C, the release layer 7a is peeled off from the second laminate L2 together with the adhesive layer 9a and the carrier layer 9. Thereby, the adhesive pattern 7 remains on the other surface of the first stacked body L1.

次に、図18(a)に示すように、図14のベース絶縁層2が用意される。続いて、図18(b)に示すように、接着剤パターン7を介して第1の積層体L1の他面にベース絶縁層2が貼り合わされる。その後、図18(c)に示すように、第1の積層体L1から粘着層8aおよびキャリア層8が除去される。これにより、FPC基板1が完成する。   Next, as shown in FIG. 18A, the base insulating layer 2 shown in FIG. 14 is prepared. Subsequently, as illustrated in FIG. 18B, the base insulating layer 2 is bonded to the other surface of the first stacked body L <b> 1 via the adhesive pattern 7. Thereafter, as shown in FIG. 18C, the adhesive layer 8a and the carrier layer 8 are removed from the first laminate L1. Thereby, the FPC board 1 is completed.

導体層30(図2(a)参照)の厚みは500μm以下であることが好ましく、1μm以上100μm以下であることがより好ましい。導体層30の厚みが500μm以下であると導体層30の取り扱い性が向上する。本例において導体層30の材料として銅が用いられるが、これに代えてニッケル、アルミニウム、銀もしくは金またはこれらの合金が用いられてもよい。   The thickness of the conductor layer 30 (see FIG. 2A) is preferably 500 μm or less, and more preferably 1 μm or more and 100 μm or less. When the thickness of the conductor layer 30 is 500 μm or less, the handleability of the conductor layer 30 is improved. In this example, copper is used as the material of the conductor layer 30, but nickel, aluminum, silver, gold, or an alloy thereof may be used instead.

本例において、導体パターン3と被覆層6との間にバリア層11が形成されてもよい。この場合、集電部3a〜3j、接続導体部3k〜3nおよび引き出し導体部3o,3pの第1の主面E1、第2の主面E2および側面を被覆するようにバリア層11が形成される。   In this example, the barrier layer 11 may be formed between the conductor pattern 3 and the coating layer 6. In this case, the barrier layer 11 is formed so as to cover the first main surface E1, the second main surface E2, and the side surfaces of the current collecting portions 3a to 3j, the connecting conductor portions 3k to 3n, and the lead conductor portions 3o and 3p. The

接着剤パターン7(図16〜図18参照)の厚みは1μm以上100μm以下であることが好ましく、10μm以上50μm以下であることがより好ましい。接着剤パターン7の厚みが1μm以上であると接着剤の接着力が向上し、接着剤パターン7の厚みが100μm以下であると接着剤パターン7の取り扱い性が向上する。   The thickness of the adhesive pattern 7 (see FIGS. 16 to 18) is preferably 1 μm or more and 100 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 50 μm or less. When the thickness of the adhesive pattern 7 is 1 μm or more, the adhesive strength of the adhesive is improved, and when the thickness of the adhesive pattern 7 is 100 μm or less, the handleability of the adhesive pattern 7 is improved.

キャリア層8,9(図17参照)の厚みは1μm以上500μm以下であることが好ましく、25μm以上250μm以下であることがより好ましい。キャリア層8,9の厚みが1μm以上であるとキャリア層8,9の取り扱い性が向上し、キャリア層8,9の厚みが500μm以下であるとキャリア層8,9のフレキシブル性が向上する。   The thicknesses of the carrier layers 8 and 9 (see FIG. 17) are preferably 1 μm or more and 500 μm or less, and more preferably 25 μm or more and 250 μm or less. When the thickness of the carrier layers 8 and 9 is 1 μm or more, the handleability of the carrier layers 8 and 9 is improved, and when the thickness of the carrier layers 8 and 9 is 500 μm or less, the flexibility of the carrier layers 8 and 9 is improved.

図17(b)の第1の積層体L1をキャリア層8および第2の積層体L2に貼り合わせる工程において、位置合わせ部材および固定部材を用いて第1の積層体L1がキャリア層8と第2の積層体L2との間で位置決めされてもよい。図19は、キャリア層8、第1の積層体L1、位置合わせ部材20aおよび第2の積層体L2の斜視図である。図20は、キャリア層8、第1の積層体L1、位置合わせ部材20a、第2の積層体L2および固定部材20bの断面図である。   In the step of bonding the first laminated body L1 of FIG. 17B to the carrier layer 8 and the second laminated body L2, the first laminated body L1 and the carrier layer 8 and the first laminated body using the alignment member and the fixing member. It may be positioned between the two laminated bodies L2. FIG. 19 is a perspective view of the carrier layer 8, the first stacked body L1, the alignment member 20a, and the second stacked body L2. FIG. 20 is a cross-sectional view of the carrier layer 8, the first stacked body L1, the alignment member 20a, the second stacked body L2, and the fixing member 20b.

図19に示すように、位置合わせ部材20aは、開口H11,H12(図17参照)の部分を除いて第1の積層体L1の反転パターンを有する板状部材である。これにより、第1の積層体L1は、位置合わせ部材20aに嵌合可能である。位置合わせ部材20aの厚みは、第1の積層体L1の厚みと略等しい。これにより、第1の積層体L1が位置合わせ部材20aに嵌合された場合、第1の積層体L1の一面(導体パターン3の第1の主面E1側の面)と位置合わせ部材20aの一面とは同一平面上にあり、第1の積層体L1の他面(導体層パターン3の第2の主面E2側の面)と位置合わせ部材20aの他面とは同一平面上にある。   As shown in FIG. 19, the alignment member 20a is a plate-like member having the reverse pattern of the first stacked body L1 except for the portions of the openings H11 and H12 (see FIG. 17). Thereby, the 1st laminated body L1 can be fitted to the alignment member 20a. The thickness of the alignment member 20a is substantially equal to the thickness of the first stacked body L1. Thereby, when the 1st laminated body L1 is fitted by the alignment member 20a, one surface (surface by the side of the 1st main surface E1 of the conductor pattern 3) of the 1st laminated body L1 and the alignment member 20a The one surface is on the same plane, and the other surface of the first laminate L1 (the surface on the second main surface E2 side of the conductor layer pattern 3) and the other surface of the alignment member 20a are on the same plane.

図20(a)に示すように、図17(a)のキャリア層8、第1の積層体L1および第2の積層体L2に加え、位置合わせ部材20aおよび固定部材20bが配置される。キャリア層8の一面には粘着層8aが設けられている。続いて、図20(b)に示すように、位置合わせ部材20aが固定部材20bにより第2の積層体L2上に固定される。固定部材20bは、例えばピンである。これにより、第2の積層体L2の接着剤パターン7が位置合わせ部材20aのパターンから露出する。   As shown in FIG. 20A, an alignment member 20a and a fixing member 20b are disposed in addition to the carrier layer 8, the first stacked body L1, and the second stacked body L2 in FIG. An adhesive layer 8 a is provided on one surface of the carrier layer 8. Subsequently, as shown in FIG. 20B, the alignment member 20a is fixed on the second stacked body L2 by the fixing member 20b. The fixing member 20b is a pin, for example. Thereby, the adhesive pattern 7 of the second stacked body L2 is exposed from the pattern of the alignment member 20a.

次に、図20(c)に示すように、第1の積層体L1が第2の積層体L2上の位置合わせ部材20aに嵌合されるとともに、第1の積層体L1の他面(導体パターン3の第2の主面E2側の面)が位置合わせ部材20aから露出する接着剤パターン7を介して第2の積層体L2に貼り合わされる。これにより、第1の積層体L1が第2の積層体L2上で位置決めされる。続いて、粘着層8aを介してキャリア層8が第1の積層体L1の一面(導体パターン3の第1の主面E1側の面)に貼り合わされる。   Next, as shown in FIG. 20C, the first stacked body L1 is fitted into the alignment member 20a on the second stacked body L2, and the other surface (conductor) of the first stacked body L1. The surface of the pattern 3 on the second main surface E2 side) is bonded to the second stacked body L2 via the adhesive pattern 7 exposed from the alignment member 20a. Thereby, the first stacked body L1 is positioned on the second stacked body L2. Subsequently, the carrier layer 8 is bonded to one surface of the first laminate L1 (the surface on the first main surface E1 side of the conductor pattern 3) via the adhesive layer 8a.

その後、固定部材20bが除去され、FPC基板1の製造工程は図17(b)の工程に続く。なお、位置合わせ部材20aは、例えば図17(c)の工程の後に除去される。   Thereafter, the fixing member 20b is removed, and the manufacturing process of the FPC board 1 continues to the process of FIG. The alignment member 20a is removed after, for example, the step of FIG.

(4−2−2)第2の例
図14のFPC基板1の製造方法の第2の例について、上記第1の例と異なる点を説明する。図21は、FPC基板1の製造方法の第2の例を説明するための工程断面図である。
(4-2-2) Second Example A second example of the method for manufacturing the FPC board 1 of FIG. 14 will be described while referring to differences from the first example. FIG. 21 is a process cross-sectional view for explaining a second example of the manufacturing method of the FPC board 1.

まず、図21(a)に示すように、図16(d)の第2の積層体L2および図1のベース絶縁層2が用意される。続いて、図21(b)に示すように、ベース絶縁層2が接着剤パターン7を介して第2の積層体L2と貼り合わされる。その後、図21(c)に示すように、第2の積層体L2から粘着層9aおよびキャリア層9とともに剥離層7aが剥離される。これにより、ベース絶縁層2に接着剤パターン7が残存する。   First, as shown in FIG. 21A, the second stacked body L2 in FIG. 16D and the base insulating layer 2 in FIG. 1 are prepared. Subsequently, as illustrated in FIG. 21B, the base insulating layer 2 is bonded to the second stacked body L <b> 2 via the adhesive pattern 7. Thereafter, as shown in FIG. 21C, the release layer 7a is peeled from the second laminate L2 together with the adhesive layer 9a and the carrier layer 9. As a result, the adhesive pattern 7 remains in the base insulating layer 2.

次に、図21(d)に示すように、図15(c)の第1の積層体L1が用意される。続いて、図21(e)に示すように、接着剤パターン7を介して第1の積層体L1にベース絶縁層2が貼り合わされる。このとき、図19および図20の位置合わせ部材20aを用いて第1の積層体L1がベース絶縁層2上で位置決めされてもよい。この場合、第1の積層体L1がベース絶縁層2に貼り合わされた後、位置合わせ部材20aが除去される。これにより、FPC基板1が完成する。   Next, as shown in FIG. 21D, the first stacked body L1 of FIG. 15C is prepared. Subsequently, as illustrated in FIG. 21E, the base insulating layer 2 is bonded to the first stacked body L <b> 1 via the adhesive pattern 7. At this time, the first stacked body L1 may be positioned on the base insulating layer 2 using the alignment member 20a of FIGS. In this case, after the first stacked body L1 is bonded to the base insulating layer 2, the alignment member 20a is removed. Thereby, the FPC board 1 is completed.

(4−2−3)第3の例
FPC基板1の製造方法の第3の例について、上記第1の例と異なる点を説明する。図22は、FPC基板1の製造方法の第3の例を説明するための工程断面図である。
(4-2-3) Third Example A third example of the method for manufacturing the FPC board 1 will be described while referring to differences from the first example. FIG. 22 is a process cross-sectional view for explaining a third example of the method for manufacturing the FPC board 1.

まず、図22(a)に示すように、図15(c)の第1の積層体L1および図1のベース絶縁層2が用意される。続いて、図22(b)に示すように、ベース絶縁層2の融点よりも高い温度でかつ所定の圧力で所定時間第1の積層体L1をベース絶縁層2にプレス(押圧)することにより、第1の積層体L1がベース絶縁層2に貼り合わされる。   First, as shown in FIG. 22A, the first stacked body L1 in FIG. 15C and the base insulating layer 2 in FIG. 1 are prepared. Subsequently, as shown in FIG. 22B, the first laminated body L1 is pressed (pressed) on the base insulating layer 2 at a temperature higher than the melting point of the base insulating layer 2 and at a predetermined pressure for a predetermined time. The first stacked body L1 is bonded to the base insulating layer 2.

第1の積層体L1がベース絶縁層2にプレスされる前に、図19および図20の位置合わせ部材20aを用いて第1の積層体L1がベース絶縁層2上で位置決めされてもよい。この場合、第1の積層体L1がベース絶縁層2上に位置決めされた後、位置合わせ部材20aが除去される。その後、第1の積層体L1がベース絶縁層2にプレスされる。これにより、FPC基板1が完成する。   Before the first stacked body L1 is pressed to the insulating base layer 2, the first stacked body L1 may be positioned on the insulating base layer 2 using the alignment member 20a of FIGS. In this case, after the first stacked body L1 is positioned on the base insulating layer 2, the alignment member 20a is removed. Thereafter, the first stacked body L1 is pressed onto the base insulating layer 2. Thereby, the FPC board 1 is completed.

(4−3)効果
本実施の形態に係るFPC基板1においても、ベース絶縁層2が、連続孔を有する多孔質材料からなる。それにより、FPC基板1が集電作用と気液分離作用とを有するので、燃料電池100の構造を簡単にすることができる。
(4-3) Effects Also in the FPC board 1 according to the present embodiment, the base insulating layer 2 is made of a porous material having continuous holes. Thereby, since the FPC board 1 has a current collecting action and a gas-liquid separating action, the structure of the fuel cell 100 can be simplified.

また、導体パターン3の第1の主面、第2の主面および側面を被覆するように被覆層6が形成される。この場合、燃料電池100内において、導体パターン3の全面が被覆層6により一体的に被覆されるので、ギ酸が導体パターン3に接触することが確実に防止される。したがって、導体パターン3の腐食がより確実に防止される。   In addition, coating layer 6 is formed so as to cover the first main surface, the second main surface, and the side surfaces of conductive pattern 3. In this case, since the entire surface of the conductor pattern 3 is integrally covered with the coating layer 6 in the fuel cell 100, formic acid is reliably prevented from coming into contact with the conductor pattern 3. Therefore, corrosion of the conductor pattern 3 is more reliably prevented.

(5)他の実施の形態
上記実施の形態において、ベース絶縁層2の材料として多孔質性のePTFEが用いられたが、これに限定されない。例えば、ベース絶縁層2の材料として、ePTFEに代えて、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリオレフィン樹脂、シクロオレフィンポリマー樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリメチルメタクリレートポリマー樹脂、液晶ポリマー樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリテトラフルオロエチレン樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ポリエステル樹脂およびポリウレタン樹脂のうちの少なくとも1つを含む樹脂が多孔質化されたフィルムが用いられてもよい。
(5) Other Embodiments In the above embodiment, porous ePTFE is used as the material of the base insulating layer 2, but the present invention is not limited to this. For example, instead of ePTFE, the material of the base insulating layer 2 is epoxy resin, polyimide resin, polyetherimide resin, polyamideimide resin, polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, polybutylene terephthalate resin, polyolefin resin, cycloolefin polymer Resin, polyarylate resin, polymethyl methacrylate polymer resin, liquid crystal polymer resin, polycarbonate resin, polyphenylene sulfide resin, polyether ether ketone resin, polyether sulfone resin, polyacetal resin, polytetrafluoroethylene resin, polyvinylidene fluoride resin, polyester A film in which a resin containing at least one of a resin and a polyurethane resin is made porous may be used.

上記第1、第3および第4の実施の形態においては、導体パターン3の材料として銅が用いられたが、これに限定されない。例えば、銅に代えて金(Au)もしくはアルミニウム等の他の金属、または銅合金、金合金、銀合金もしくはアルミニウム合金等の合金を用いてもよい。   In the said 1st, 3rd and 4th embodiment, although copper was used as a material of the conductor pattern 3, it is not limited to this. For example, another metal such as gold (Au) or aluminum, or an alloy such as a copper alloy, a gold alloy, a silver alloy, or an aluminum alloy may be used instead of copper.

上記第1、第3および第4の実施の形態においては被覆層6の材料として、また、上記第2の実施の形態においては導体パターン3の材料として、ヤング率が105Gpa以下でありかつ表面層の標準電極電位がー1.5V以上である材料(例えば、銀)が用いられたが、これに限定されない。例えば、第1、第3および第4の実施の形態の被覆層6ならびに第2の実施の形態の導体パターン3の材料として、銅もしくはアルミニウム等の他の金属、または銅合金、金合金、銀合金もしくはアルミニウム合金等の合金を用いてもよい。または、第1、第3および第4の実施の形態の被覆層6の材料として、カーボンブラック等の導電性材料を含む樹脂組成物が用いられてもよい。   In the first, third and fourth embodiments, as the material of the covering layer 6 and as the material of the conductor pattern 3 in the second embodiment, the Young's modulus is 105 Gpa or less and the surface layer Although a material (for example, silver) having a standard electrode potential of −1.5 V or more was used, the present invention is not limited to this. For example, as the material of the coating layer 6 of the first, third and fourth embodiments and the conductor pattern 3 of the second embodiment, other metals such as copper or aluminum, or copper alloys, gold alloys, silver An alloy such as an alloy or an aluminum alloy may be used. Alternatively, a resin composition containing a conductive material such as carbon black may be used as the material of the coating layer 6 of the first, third, and fourth embodiments.

上記実施の形態では、ベース絶縁層2と導体パターン3との間に接着剤パターン7が形成されるが、ベース絶縁層2と導体パターン3との接合性を確保することができ、かつ導体パターン3の腐食を防止することができるのであれば、ベース絶縁層2上に導体パターン3が直接形成されてもよい。   In the above embodiment, the adhesive pattern 7 is formed between the base insulating layer 2 and the conductor pattern 3, but the bondability between the base insulating layer 2 and the conductor pattern 3 can be ensured, and the conductor pattern If the corrosion of 3 can be prevented, the conductor pattern 3 may be directly formed on the insulating base layer 2.

上記実施の形態において、FPC基板1は5対の集電部(集電部3a,3f、集電部3b,3g、集電部3c,3h、集電部3d,3iおよび集電部3e,3j)を有するが、これに限定されない。FPC基板1の集電部の数は4対以下であってもよいし、6対以上であってもよい。これにより、任意の数の電極膜35を直列接続することができる。また、FPC基板1が1対の集電部を有してもよい。この場合、接続導体部3k〜3nは設けられない。   In the above embodiment, the FPC board 1 includes five pairs of current collectors (current collectors 3a and 3f, current collectors 3b and 3g, current collectors 3c and 3h, current collectors 3d and 3i, and current collectors 3e, 3j), but is not limited to this. The number of current collecting portions of the FPC board 1 may be 4 pairs or less, or 6 pairs or more. Thereby, an arbitrary number of electrode films 35 can be connected in series. Further, the FPC board 1 may have a pair of current collectors. In this case, the connection conductor portions 3k to 3n are not provided.

(6)実施例
実施例1〜7として、FPC基板1のサンプルを作製した。
(6) Example As Examples 1 to 7, samples of the FPC board 1 were produced.

(6−1−1)実施例1
図23は、実施例1のサンプルの製造方法を示す工程断面図である。図23(a)に示すように、キャリア層8上に銅からなる導体層30を貼り合わせるとともに、導体層30上にエポキシ樹脂からなる接着剤層前駆体7pを貼り合わせた。次に、図23(b)に示すように、金型を用いて接着剤層前駆体7p、導体層30およびキャリア層8を所定の形状に打ち抜き、接着剤パターン7および導体パターン3を形成した。
(6-1-1) Example 1
23 is a process cross-sectional view illustrating the method for manufacturing the sample of Example 1. FIG. As shown in FIG. 23A, a conductor layer 30 made of copper was bonded to the carrier layer 8, and an adhesive layer precursor 7p made of an epoxy resin was bonded to the conductor layer 30. Next, as shown in FIG. 23B, the adhesive layer precursor 7p, the conductor layer 30, and the carrier layer 8 were punched into a predetermined shape using a mold to form the adhesive pattern 7 and the conductor pattern 3. .

次に、図23(c)に示すように、接着剤パターン7を介して導体パターン3を多孔質性のePTFE(日東電工株式会社製;TEMISHNTF−1121)からなるベース絶縁層2に接合した。次に、図23(d)に示すように、導体パターン3からキャリア層8を剥離し、ベース絶縁層2、接着剤パターン7および導体パターン3を150℃で3時間加熱することにより接着剤パターン7を硬化させた。   Next, as shown in FIG. 23 (c), the conductor pattern 3 was bonded to the base insulating layer 2 made of porous ePTFE (manufactured by Nitto Denko Corporation; TEMISHNTF-1211) via the adhesive pattern 7. Next, as shown in FIG. 23 (d), the carrier layer 8 is peeled from the conductor pattern 3, and the base insulating layer 2, the adhesive pattern 7 and the conductor pattern 3 are heated at 150 ° C. for 3 hours to form the adhesive pattern. 7 was cured.

最後に、図23(e)に示すように、導体パターン3の表面を被覆するように銀からなる被覆層6を形成し、実施例1のサンプルを得た。   Finally, as shown in FIG. 23 (e), a coating layer 6 made of silver was formed so as to cover the surface of the conductor pattern 3, and the sample of Example 1 was obtained.

(6−1−2)実施例2
導体パターン3の材料として銅の代わりに銀を用い、かつ被覆層6を形成しない点を除いて、上記実施例1と同様にサンプルを作製した。
(6-1-2) Example 2
A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that silver was used instead of copper as the material of the conductor pattern 3 and the coating layer 6 was not formed.

(6−1−3)実施例3
図24は、実施例3のサンプルの製造方法を示す断面図である。図24(a)に示すように、実施例1の図23(a)〜図23(d)と同様に、ベース絶縁層2上に接着剤パターン7および銅からなる導体パターン3を形成した。次に、図24(b)に示すように、無電解ニッケルめっきにより、導体パターン3の表面を被覆するようにニッケルからなるバリア層11を形成した。次に、図24(c)に示すように、無電解銀めっきにより、バリア層11の表面を被覆するように銀からなる被覆層6を形成し、実施例3のサンプルを得た。
(6-1-3) Example 3
FIG. 24 is a cross-sectional view illustrating the method for manufacturing the sample of Example 3. As shown in FIG. 24A, the adhesive pattern 7 and the conductor pattern 3 made of copper were formed on the base insulating layer 2 in the same manner as in FIGS. 23A to 23D of Example 1. Next, as shown in FIG. 24B, the barrier layer 11 made of nickel was formed by electroless nickel plating so as to cover the surface of the conductor pattern 3. Next, as shown in FIG. 24C, the coating layer 6 made of silver was formed by electroless silver plating so as to cover the surface of the barrier layer 11, and the sample of Example 3 was obtained.

(6−1−4)実施例4
被覆層6を形成しない点を除いて、上記実施例1と同様にサンプルを作製した。
(6-1-4) Example 4
A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coating layer 6 was not formed.

(6−1−5)実施例5
導体パターン3の材料として銀の代わりにアルミニウムを用いた点を除いて、実施例4と同様にサンプルを作製した。
(6-1-5) Example 5
A sample was prepared in the same manner as in Example 4 except that aluminum was used instead of silver as the material of the conductor pattern 3.

(6−1−6)実施例6
導体パターン3の材料として銅の代わりにニッケルを用いた点を除いて、実施例4と同様にサンプルを作製した。
(6-1-6) Example 6
A sample was prepared in the same manner as in Example 4 except that nickel was used instead of copper as the material of the conductor pattern 3.

(6−1−7)実施例7
導体パターン3の材料として銅の代わりにジルコニウムを用いた点を除いて、実施例4と同様にサンプルを作製した。
(6-1-7) Example 7
A sample was prepared in the same manner as in Example 4 except that zirconium was used instead of copper as the material of the conductor pattern 3.

(6−2)評価
実施例1〜7のサンプルにおいて、以下の評価を行った。以下の説明では、ベース絶縁層2上に接着剤パターン7を介して形成される層のうち、最表面となる層を表面層と呼ぶ。実施例1,3では、被覆層6が表面層となり、実施例2,4〜7では、導体パターン3が表面層となる。
(6-2) Evaluation In the samples of Examples 1 to 7, the following evaluation was performed. In the following description, among the layers formed on the base insulating layer 2 via the adhesive pattern 7, the layer that is the outermost surface is referred to as a surface layer. In Examples 1 and 3, the coating layer 6 is a surface layer, and in Examples 2 and 4 to 7, the conductor pattern 3 is a surface layer.

(6−2−1)接触抵抗
次のようにして実施例1〜7のサンプルの接触抵抗を測定した。図25は、実施例1のサンプルにおける接触抵抗の測定方法を示す模式図である。実施例2〜7におけるのサンプルにおける接触抵抗の測定方法は、図25に示す方法と同様である。
(6-2-1) Contact Resistance The contact resistance of the samples of Examples 1 to 7 was measured as follows. FIG. 25 is a schematic diagram illustrating a method of measuring contact resistance in the sample of Example 1. The method for measuring the contact resistance of the samples in Examples 2 to 7 is the same as the method shown in FIG.

図25に示すように、実施例1のサンプルをそれぞれ一対用意した。導体パターン3が形成されたベース絶縁層2の面が互いに向き合うように一対のサンプルを配置するとともに、一対のサンプルの被覆層6の間にカーボンペーパーCPを配置した。25℃の環境下において、一対のサンプルをカーボンペーパーCPの一面および他面に1Mpaの圧力でそれぞれ押し当てた。その状態で、一対のサンプルの導体パターン3間の抵抗値をAC mΩ HITESTER(日置電機株式会社製)を用いて測定した。   As shown in FIG. 25, a pair of samples of Example 1 were prepared. A pair of samples was arranged so that the surfaces of the base insulating layer 2 on which the conductor pattern 3 was formed face each other, and a carbon paper CP was arranged between the coating layers 6 of the pair of samples. In a 25 ° C. environment, a pair of samples were pressed against one side and the other side of the carbon paper CP at a pressure of 1 Mpa, respectively. In this state, the resistance value between the conductor patterns 3 of the pair of samples was measured using AC mΩ HITESTER (manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.).

(6−2−2)腐食性
ギ酸が1000ppmの濃度で含まれる水溶液に、実施例1〜7のサンプルを50℃の環境下で7日間浸漬させ、導体パターン3、被覆層6およびバリア層11の腐食を観察した。
(6-2-2) Corrosiveness The samples of Examples 1 to 7 were immersed in an aqueous solution containing formic acid at a concentration of 1000 ppm in an environment of 50 ° C. for 7 days, and the conductor pattern 3, the coating layer 6, and the barrier layer 11. Was observed for corrosion.

表1には、実施例1〜7における表面層の材料、ならびに表面層のヤング率(参考文献:日本金属学会編 金属データブック)および表面層の標準電極電位(参考文献:日本化学会編 化学便覧(基礎編II))が示される。表2には、実施例1〜7における接触抵抗の測定値および腐食の観察結果が示される。   Table 1 shows the material of the surface layer in Examples 1 to 7, the Young's modulus of the surface layer (reference: Metal Data Book edited by the Japan Institute of Metals), and the standard electrode potential of the surface layer (reference: edited by the Chemical Society of Japan) Handbook (Basics II)) is shown. Table 2 shows the measured values of contact resistance and the observation results of corrosion in Examples 1 to 7.

Figure 2012104383
Figure 2012104383

Figure 2012104383
Figure 2012104383

表1および表2に示すように、実施例1〜3のサンプルにおいては、接触抵抗値が2.4〜3.3mΩと低かった。また、実施例1〜3,7のサンプルにおいては、導体パターン3、被覆層6およびバリア層11に腐食が生じなかった。一方、実施例4〜7のサンプルにおいては、接触抵抗値が35.1〜720mΩと高かった。また、実施例4〜6のサンプルにおいては、導体パターン3に腐食が生じた。   As shown in Table 1 and Table 2, in the samples of Examples 1 to 3, the contact resistance value was as low as 2.4 to 3.3 mΩ. Further, in the samples of Examples 1 to 3 and 7, no corrosion occurred on the conductor pattern 3, the coating layer 6, and the barrier layer 11. On the other hand, in the samples of Examples 4 to 7, the contact resistance value was as high as 35.1 to 720 mΩ. Further, in the samples of Examples 4 to 6, the conductor pattern 3 was corroded.

これにより、表面層のヤング率が105Gpa以下でありかつ表面層の標準電極電位がー1.5V以上であることにより、導体パターン3の集電効率を維持しつつ導体パターン3の腐食を防止することができることがわかった。   Thereby, the Young's modulus of the surface layer is 105 Gpa or less and the standard electrode potential of the surface layer is −1.5 V or more, thereby preventing the conductor pattern 3 from corroding while maintaining the current collecting efficiency of the conductor pattern 3. I found out that I could do it.

他の方法により、導体パターン3の集電効率を維持しつつ導体パターン3の腐食を防止することができるのであれば、実施例4〜7のように、表面層のヤング率および標準電極電位が上記範囲内でなくてもよい。   If the corrosion of the conductor pattern 3 can be prevented while maintaining the current collection efficiency of the conductor pattern 3 by another method, the Young's modulus of the surface layer and the standard electrode potential are as in Examples 4-7. It may not be within the above range.

(7)請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
(7) Correspondence between each component of claim and each part of embodiment The following describes an example of the correspondence between each component of the claim and each part of the embodiment. It is not limited.

上記実施の形態においては、ベース絶縁層2がベース絶縁層の例であり、導体パターン3が導体層または被覆層の例であり、被覆層6が被覆層の例であり、バリア層11がバリア層の例であり、接着剤パターン7が接着剤層の例であり、電極膜35が電池要素の例であり、ケーシング40が筐体の例である。   In the above embodiment, the insulating base layer 2 is an example of an insulating base layer, the conductor pattern 3 is an example of a conductor layer or a covering layer, the covering layer 6 is an example of a covering layer, and the barrier layer 11 is a barrier. It is an example of a layer, the adhesive pattern 7 is an example of an adhesive layer, the electrode film 35 is an example of a battery element, and the casing 40 is an example of a housing.

請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。   As each constituent element in the claims, various other elements having configurations or functions described in the claims can be used.

本発明は、燃料電池に用いられる配線回路基板の製造に有効に利用できる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be effectively used for manufacturing a printed circuit board used for a fuel cell.

1 FPC基板
2 ベース絶縁層
2a 第1絶縁部
2b 第2絶縁部
2c 第3絶縁部
2d 第4絶縁部
3 導体パターン
3a〜3j 集電部
3k〜3n 接続導体部
3o,3p 引き出し導体部
5a,5b 引き出し電極
6 被覆層
6a〜6n 被覆部
7 接着剤パターン
7p 接着剤層前駆体
7q 接着剤層
8,9 キャリア層
11 バリア層
22 レジスト膜
22a エッチングレジストパターン
30 導体層
35 電極膜
35a 空気極
35b 燃料極
35c 電解質膜
40 ケーシング
41 上面部
42 下面部
43,44 側面部
50 燃料収容室
B1 屈曲部
H11,H12,H41 開口
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 FPC board 2 Base insulating layer 2a 1st insulating part 2b 2nd insulating part 2c 3rd insulating part 2d 4th insulating part 3 Conductor pattern 3a-3j Current collecting part 3k-3n Connection conductor part 3o, 3p Leading conductor part 5a, 5b Lead electrode 6 Covering layer 6a-6n Covering part 7 Adhesive pattern 7p Adhesive layer precursor 7q Adhesive layer 8,9 Carrier layer 11 Barrier layer 22 Resist film 22a Etching resist pattern 30 Conductive layer 35 Electrode film 35a Air electrode 35b Fuel electrode 35c Electrolyte membrane 40 Casing 41 Upper surface portion 42 Lower surface portion 43, 44 Side surface portion 50 Fuel storage chamber B1 Bending portion H11, H12, H41 Opening

Claims (12)

燃料電池に用いられる配線回路基板であって、
ベース絶縁層と、
前記ベース絶縁層上に形成される導体層とを備え、
前記ベース絶縁層は、連続孔を有する多孔質材料を含むことを特徴とする配線回路基板。
A printed circuit board used for a fuel cell,
A base insulating layer;
A conductor layer formed on the insulating base layer;
The printed circuit board according to claim 1, wherein the insulating base layer includes a porous material having continuous holes.
前記導体層は、第1および第2の主面ならびに側面を有し、前記第2の主面が前記ベース絶縁層に対向するように前記ベース絶縁層上に形成され、
前記導体層の前記第1の主面および前記側面に形成される表面層をさらに備え、
前記表面層は、ヤング率が105GPa以下でかつ標準電極電位が−1.5V以上であることを特徴とする請求項1記載の配線回路基板。
The conductor layer has first and second main surfaces and side surfaces, and is formed on the base insulating layer so that the second main surface faces the base insulating layer,
A surface layer formed on the first main surface and the side surface of the conductor layer;
The printed circuit board according to claim 1, wherein the surface layer has a Young's modulus of 105 GPa or less and a standard electrode potential of −1.5 V or more.
前記表面層は、前記導体層と異なる材料からなることを特徴とする請求項2記載の配線回路基板。 The printed circuit board according to claim 2, wherein the surface layer is made of a material different from that of the conductor layer. 前記導体層は銅を含み、前記表面層は銀を含むことを特徴とする請求項3記載の配線回路基板。 4. The printed circuit board according to claim 3, wherein the conductor layer includes copper, and the surface layer includes silver. 前記導体層と前記表面層との間に形成され、前記導体層および前記表面層と異なる材料からなるバリア層をさらに備えることを特徴とする請求項3または4記載の配線回路基板。 5. The printed circuit board according to claim 3, further comprising a barrier layer formed between the conductor layer and the surface layer and made of a material different from that of the conductor layer and the surface layer. 前記バリア層はニッケルを含むことを特徴とする請求項5載の配線回路基板。 6. The printed circuit board according to claim 5, wherein the barrier layer contains nickel. 前記表面層は、前記導体層の前記第2の主面にさらに形成され、
前記導体層は、前記第1の主面と前記絶縁層との間に前記表面層が介在するように前記ベース絶縁層上に設けられることを特徴とする請求項3〜6のいずれかに記載の配線回路基板。
The surface layer is further formed on the second main surface of the conductor layer;
The said conductor layer is provided on the said base insulating layer so that the said surface layer may interpose between the said 1st main surface and the said insulating layer, The any one of Claims 3-6 characterized by the above-mentioned. Printed circuit board.
前記導体層および前記表面層は同一の材料により一体的に形成されることを特徴とする請求項2記載の配線回路基板。 3. The printed circuit board according to claim 2, wherein the conductor layer and the surface layer are integrally formed of the same material. 前記導体層および前記表面層は銀を含むことを特徴とする請求項8記載の配線回路基板。 9. The printed circuit board according to claim 8, wherein the conductor layer and the surface layer contain silver. 前記ベース絶縁層と前記導体層との間に形成される接着剤層をさらに備えることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の配線回路基板。 The wired circuit board according to claim 1, further comprising an adhesive layer formed between the base insulating layer and the conductor layer. 請求項1〜10のいずれかに記載の配線回路基板と、
電池要素と、
前記配線回路基板および前記電池要素を収容する筺体とを備えることを特徴とする燃料電池。
A wired circuit board according to any one of claims 1 to 10,
A battery element;
A fuel cell comprising: the printed circuit board and a housing for housing the battery element.
連続孔を有する多孔質材料を含むベース絶縁層を準備する工程と、
前記ベース絶縁層上に導体層を形成する工程とを備えることを特徴とする配線回路基板の製造方法。
Providing a base insulating layer comprising a porous material having continuous pores;
And a step of forming a conductor layer on the insulating base layer.
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