JP2012077021A - Method for producing epoxy compound - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new method for producing an epoxy compound, with which an epoxy compound is produced with high activity and high selectivity, and further with which the reaction is safely conducted since no peroxide is used.SOLUTION: In the method for producing an epoxy compound, an olefin, a secondary alcohol, and molecular oxygen are made to react with one another in the presence of a palladium complex catalyst composed of a palladium compound, a nitrogen-containing aromatic compound and carboxylic acid amide, and crystalline titanosilicate.

Description

本発明は、エポキシ化合物の新規な製造方法に関するものであり、さらに詳細には、ジオール又はポリオールの原料として工業的に有用なエポキシ化合物をオレフィン、第二級アルコール及び分子状酸素を反応することにより、高活性かつ高選択的に安全に製造する方法に関するものである。   The present invention relates to a novel method for producing an epoxy compound. More specifically, the present invention relates to an epoxy compound industrially useful as a raw material for a diol or a polyol by reacting an olefin, a secondary alcohol and molecular oxygen. The present invention relates to a method for producing a highly active and highly selective and safe product.

エポキシ化合物の製造方法、特にプロピレンオキシドの製造方法については、いくつかの方法が知られている。   Several methods are known about the manufacturing method of an epoxy compound, especially the manufacturing method of propylene oxide.

例えばプロピレンからクロルヒドリンを経由するクロルヒドリン法が知られているが、該クロルヒドリン法は、クロルヒドリンを石灰乳で脱塩化水素することから多量の塩化カルシウムが副生し、この副生塩化カルシウムの処理や排水負荷が高くなる等の課題がある。   For example, a chlorohydrin method in which propylene is passed through chlorohydrin is known. In the chlorohydrin method, a large amount of calcium chloride is produced as a by-product because chlorhydrin is dehydrochlorinated with lime milk, and this by-product calcium chloride is treated and discharged. There are problems such as high load.

また、過酸化物であるエチルベンゼンヒドロペルオキシドを酸化剤として用いプロピレンを酸化するハルコン法が知られている。この方法によれば、エポキシ化合物の酸素元素源は過酸化物中の酸素原子に由来するものである。   Further, a Halcon method is known in which propylene is oxidized using ethylbenzene hydroperoxide, which is a peroxide, as an oxidizing agent. According to this method, the oxygen element source of the epoxy compound is derived from oxygen atoms in the peroxide.

従って、該ハルコン法は、生成するエポキシ化合物に対し当モル以上の過酸化物を必要とする。このため、多量の過酸化物の使用により、安全性や経済性の面で課題がある。更に、副生1−フェニルエタノールは、一般的にはスチレンに転換して副生品を販売することが行われている。   Therefore, the Halcon method requires an equimolar amount or more of the peroxide to the epoxy compound to be produced. For this reason, there are problems in terms of safety and economy due to the use of a large amount of peroxide. Furthermore, by-product 1-phenylethanol is generally converted to styrene and sold as a by-product.

そして、多量の副生品処理や販売を必要としない方法として、過酸化物として過酸化水素を用いるエポキシ化合物の製造方法が提案されている(例えば特許文献1参照。)。この方法は、エポキシ化合物の他、副生する化合物は水であり、クリーンな方法として知られている。   As a method that does not require a large amount of by-product processing or sales, a method for producing an epoxy compound using hydrogen peroxide as a peroxide has been proposed (for example, see Patent Document 1). This method is known as a clean method because the by-product compound is water in addition to the epoxy compound.

しかし、特許文献1に提案の方法においては、生成エポキシ化合物に対して過酸化水素を当モル以上必要とすることから、多量の過酸化物の使用が必要であり、高価な過酸化物の使用により安全性や経済性に課題を有していた。   However, in the method proposed in Patent Document 1, hydrogen peroxide is required in an amount equivalent to or higher than that of the generated epoxy compound, so that a large amount of peroxide is necessary, and expensive peroxide is used. As a result, there were problems in safety and economy.

そこで、エポキシ化合物の製造において、高価かつ危険性の高い過酸化物の使用を必要としないエポキシ化合物の製造方法が望まれ、提案されてきた。   Accordingly, a method for producing an epoxy compound that does not require the use of an expensive and dangerous peroxide in the production of an epoxy compound has been desired and proposed.

例えば、周期律表第8〜10族の貴金属とチタノシリケートからなる触媒を用い、酸素と水素によりオレフィンを直接酸化してエポキシ化合物を製造する方法(例えば特許文献2参照。)、ヘテロポリ化合物の過酸化物と貴金属化合物からなる触媒を用い、プロピレンと分子状酸素でエポキシ化合物を製造する方法(例えば特許文献3参照。)、チタン化合物で修飾した多孔性金属酸化物とパラジウムを含有した触媒を用い、プロピレンを分子状酸素で直接酸化し、エポキシ化合物を製造する方法(例えば特許文献4参照。)、等が提案されている。   For example, a method of producing an epoxy compound by directly oxidizing an olefin with oxygen and hydrogen using a catalyst comprising a noble metal of Groups 8 to 10 of the periodic table and titanosilicate (see, for example, Patent Document 2), a heteropoly compound Using a catalyst comprising a peroxide and a noble metal compound, a method for producing an epoxy compound with propylene and molecular oxygen (see, for example, Patent Document 3), a porous metal oxide modified with a titanium compound and a catalyst containing palladium And a method for producing an epoxy compound by directly oxidizing propylene with molecular oxygen (see, for example, Patent Document 4) has been proposed.

特開平04−005028号公報(第1頁参照。)JP 04-005028 A (see page 1) 特開平04−352771号公報(第2頁参照。)Japanese Patent Laid-Open No. 04-352771 (see page 2) 特開2006−068622号公報(第4頁参照。)JP 2006-068622 A (see page 4) 特許4002971号公報(第2頁参照。)Japanese Patent No. 4002971 (see page 2)

しかし、特許文献2に提案の方法は、高価な過酸化物を必要としない点で優れている反面、エポキシ化合物への反応効率が低い上に、水素と酸素が共存する反応系であるため、爆発に対する安全対策を施す必要があり、安全性の面でも課題を有するものであった。また、特許文献3に提案の方法においては、触媒を構成するヘテロポリ化合物の過酸化物は、熱的安定性に乏しいことから、触媒の安定性に課題を有する。さらに、特許文献4に提案の方法においては、エポキシ化合物の選択率が低いため、工業的利用にはまだまだ改良の余地を有するものであった。   However, while the method proposed in Patent Document 2 is excellent in that it does not require an expensive peroxide, it is a reaction system in which hydrogen and oxygen coexist in addition to low reaction efficiency to an epoxy compound. It was necessary to take safety measures against the explosion, and there was a problem in terms of safety. Moreover, in the method proposed in Patent Document 3, the peroxide of the heteropoly compound constituting the catalyst is poor in thermal stability, and thus has a problem in the stability of the catalyst. Further, in the method proposed in Patent Document 4, since the selectivity of the epoxy compound is low, there is still room for improvement for industrial use.

そこで、安全性が高く、しかも高活性で高選択的なエポキシ化合物の新規な製造方法が望まれてきた。   Therefore, a novel method for producing an epoxy compound having high safety, high activity and high selectivity has been desired.

本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討した結果、特定のパラジウム錯体触媒と結晶性チタノシリケートの存在下、オレフィン、第二級アルコール及び分子状酸素を反応するエポキシ化合物の新規な製造方法を見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have made a novel production of an epoxy compound that reacts with an olefin, a secondary alcohol and molecular oxygen in the presence of a specific palladium complex catalyst and crystalline titanosilicate. The method has been found and the present invention has been completed.

即ち、本発明は、パラジウム化合物、含窒素芳香族化合物及びカルボン酸アミドからなるパラジウム錯体触媒並びに結晶性チタノシリケート触媒の存在下、オレフィン、第二級アルコール及び分子状酸素を反応することを特徴とするエポキシ化合物の製造方法に関するものである。   That is, the present invention is characterized by reacting an olefin, a secondary alcohol and molecular oxygen in the presence of a palladium complex catalyst comprising a palladium compound, a nitrogen-containing aromatic compound and a carboxylic acid amide, and a crystalline titanosilicate catalyst. This relates to a method for producing an epoxy compound.

以下に、本発明を詳細に説明する。   The present invention is described in detail below.

本発明の製造方法においては、パラジウム錯体触媒及び結晶系チタノシリケートを用いるものであり、該パラジウム錯体触媒は、パラジウム化合物、含窒素芳香族化合物及びカルボン酸アミドからなるものである。ここで、パラジウム錯体触媒又は結晶性チタノシリケートを単独で用い、エポキシ化合物の製造を行っても活性等に優れる製造方法とはならない。   In the production method of the present invention, a palladium complex catalyst and a crystalline titanosilicate are used, and the palladium complex catalyst is composed of a palladium compound, a nitrogen-containing aromatic compound, and a carboxylic acid amide. Here, even if it manufactures an epoxy compound using a palladium complex catalyst or crystalline titanosilicate independently, it does not become a manufacturing method excellent in activity etc.

該パラジウム化合物としては、パラジウム化合物の範疇に属するものであれば如何なるものも用いることができ、例えば塩化パラジウム、臭化パラジウム、硝酸パラジウム、硫酸パラジウム等の無機パラジウム化合物;酢酸パラジウム、テトラアンミンジクロロパラジウム、ビス(ベンゾニトリル)ジクロロパラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム等の有機パラジウム化合物、等を挙げることができ、これらパラジウム化合物は、単独又は二種以上の混合物として用いることができる。そして、特に溶媒への溶解性に優れ、エポキシ化合物製造時の反応性に優れることから、有機パラジウム化合物であることが好ましく、さらに酢酸パラジウムであることが好ましい。   As the palladium compound, any compound can be used as long as it belongs to the category of palladium compounds. For example, inorganic palladium compounds such as palladium chloride, palladium bromide, palladium nitrate, palladium sulfate; palladium acetate, tetraamminedichloropalladium, List organic palladium compounds such as bis (benzonitrile) dichloropalladium, dichlorobis (triphenylphosphine) palladium, tetrakis (triphenylphosphine) palladium, bis (dibenzylideneacetone) palladium, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, etc. These palladium compounds can be used alone or as a mixture of two or more. And since it is excellent in especially the solubility to a solvent and the reactivity at the time of epoxy compound manufacture, it is preferable that it is an organic palladium compound, and it is more preferable that it is palladium acetate.

含窒素芳香族化合物は、パラジウム錯体触媒において配位子として機能するものであり、パラジウム錯体触媒として含窒素芳香族化合物を用いないものを用いた場合、エポキシ化合物の製造を行っても活性等の優れた製造方法とはならない。そして、該含窒素芳香族化合物としては、含窒素芳香族化合物に属する限りにおいて如何なる制限を受けるものではなく、例えばピリジン、2−メチルピリジン、2,6−ジメチルピリジン、3−フェニルピリジン、キノリン、4−メチルキノリン、イソキノリン、1−メチルイソキノリン等の単座の含窒素芳香族化合物;2,2’−ビピリジン、2,2’−ビキノリン、2,2’−ビ−4−レピジン、1,10−フェナントロリン、4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリンビススルホン酸ナトリウム等の二座の含窒素芳香族化合物;2,2’:6’,2’’−ターピリジン等の三座の含窒素芳香族化合物、等が挙げられ、これら含窒素芳香族化合物は、単独又は二種以上の混合物として用いてもよい。そして、特にエポキシ化合物の生産性に優れた製造方法となることから、二座及び/又は三座の含窒素芳香族化合物が好ましく、さらに2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン、ピリジン、2,2’:6’,2’’−ターピリジンであることが好ましい。なお、単座の含窒素芳香族化合物とは、分子内に配位性の原子を一つ有する含窒素芳香族化合物であり、二座の含窒素芳香族化合物とは、分子内に配位性の原子を二つ有する含窒素芳香族化合物であり、三座の含窒素芳香族化合物とは、分子内に配位性の原子を三つ有する含窒素芳香族化合物である。   The nitrogen-containing aromatic compound functions as a ligand in the palladium complex catalyst, and when a compound containing no nitrogen-containing aromatic compound is used as the palladium complex catalyst, the activity or the like is maintained even if an epoxy compound is produced. It is not an excellent manufacturing method. The nitrogen-containing aromatic compound is not subject to any limitation as long as it belongs to the nitrogen-containing aromatic compound, such as pyridine, 2-methylpyridine, 2,6-dimethylpyridine, 3-phenylpyridine, quinoline, Monodentate nitrogen-containing aromatic compounds such as 4-methylquinoline, isoquinoline, 1-methylisoquinoline; 2,2′-bipyridine, 2,2′-biquinoline, 2,2′-bi-4-repidine, 1,10- Phenanthroline, 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline, 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline, 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline bis Bidentate nitrogen-containing aromatic compounds such as sodium sulfonate; tridentate such as 2,2 ′: 6 ′, 2 ″ -terpyridine Nitrogen-containing aromatic compound, etc., and these nitrogen-containing aromatic compounds may be used alone or as a mixture of two or more. A bidentate and / or tridentate nitrogen-containing aromatic compound is preferable because it is a production method particularly excellent in the productivity of an epoxy compound, and 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10 is preferred. -Preference is given to phenanthroline, pyridine, 2,2 ': 6', 2 "-terpyridine. The monodentate nitrogen-containing aromatic compound is a nitrogen-containing aromatic compound having one coordinating atom in the molecule, and the bidentate nitrogen-containing aromatic compound is a coordinating molecule in the molecule. A nitrogen-containing aromatic compound having two atoms. The tridentate nitrogen-containing aromatic compound is a nitrogen-containing aromatic compound having three coordinating atoms in the molecule.

カルボン酸アミドとしては、カルボン酸アミドの範疇に属するものであれば如何なる制限を受けるものではなく、その中でも特にエポキシ化合物の生産性に優れた製造方法となることから、下記一般式(1)で表されるカルボン酸アミドであることが好ましく、例えばN,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N,N−ジプロピルアセトアミド、N,N−ジブチルアセトアミド、N,N−ジメチルプロピオンアミド、N,N,2−トリメチルプロピオンアミド、N,N−ジエチルプロピオンアミド、N−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン等が挙げられ、これらカルボン酸アミドは単独又は二種以上の混合物として用いてもよい。そして、特にN,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N,N−ジブチルアセトアミド、N,N−ジメチルプロピオンアミド、N−メチルピロリドンが好ましく、さらにN,N−ジエチルアセトアミドであることが好ましい。なお、パラジウム錯体触媒としてカルボン酸アミドを用いないものを用いた場合、エポキシ化合物の製造を行っても活性等の優れた製造方法とはならない。   The carboxylic acid amide is not subject to any limitation as long as it belongs to the category of carboxylic acid amide, and among them, the production method is particularly excellent in the productivity of the epoxy compound. Preferred examples thereof include N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, N, N-dipropylacetamide, N, N-dibutylacetamide, N, N-dimethylpropionamide, N, N, 2-trimethylpropionamide, N, N-diethylpropionamide, N-methylpyrrolidone, N-ethylpyrrolidone and the like may be mentioned, and these carboxylic acid amides may be used alone or as a mixture of two or more. In particular, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, N, N-dibutylacetamide, N, N-dimethylpropionamide, and N-methylpyrrolidone are preferable, and N, N-diethylacetamide is more preferable. preferable. In addition, when the thing which does not use carboxylic acid amide as a palladium complex catalyst is used, even if it manufactures an epoxy compound, it will not become an excellent manufacturing method, such as activity.

Figure 2012077021
(1)
(式中、置換基R〜Rは同一又は異なって、炭素数1〜4のアルキル基を表す。なお、R〜Rのうち、任意の二以上のものは互いに結合し、環を形成していてもよい。)
本発明に用いられるパラジウム錯体触媒を調整する際の該パラジウム化合物、該含窒素芳香族化合物、該カルボン酸アミドの割合は、エポキシ化合物の製造が可能である限りにおいて如何なる制限を受けるものではなく、その中でも特に効率的なエポキシ化合物の製造方法となることから、該パラジウム化合物1モルに対して、該含窒素芳香族化合物1〜40モル、該カルボン酸アミド90〜100000モルであることが好ましく、特に該パラジウム化合物1モルに対して、該含窒素芳香族化合物1〜6モル、該カルボン酸アミド90〜10000モルであることが好ましい。なお、該含窒素芳香族化合物に関しては、単座の含窒素芳香族化合物である場合、パラジウム化合物1モルに対し、該単座の含窒素芳香族化合物2〜40モルであることが好ましく、特に2〜6モルであることが好ましい。また、二座又は三座の含窒素芳香族化合物である場合、パラジウム化合物1モルに対し、該二座又は三座の含窒素芳香族化合物1〜20モルであることが好ましく、特に1〜3モルであることが好ましい。
Figure 2012077021
(1)
(In the formula, substituents R 1 to R 3 are the same or different and represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Of R 1 to R 3 , any two or more of them are bonded to each other to form a ring. May be formed.)
The ratio of the palladium compound, the nitrogen-containing aromatic compound, and the carboxylic acid amide in adjusting the palladium complex catalyst used in the present invention is not subject to any limitation as long as the epoxy compound can be produced, Among these, since it becomes a particularly efficient method for producing an epoxy compound, it is preferable that the nitrogen-containing aromatic compound is 1 to 40 mol and the carboxylic acid amide is 90 to 100,000 mol with respect to 1 mol of the palladium compound. In particular, 1 to 6 moles of the nitrogen-containing aromatic compound and 90 to 10,000 moles of the carboxylic acid amide are preferable with respect to 1 mole of the palladium compound. Regarding the nitrogen-containing aromatic compound, when it is a monodentate nitrogen-containing aromatic compound, it is preferably 2 to 40 mol of the monodentate nitrogen-containing aromatic compound with respect to 1 mol of the palladium compound. It is preferably 6 moles. Moreover, when it is a bidentate or tridentate nitrogen-containing aromatic compound, it is preferable that it is 1-20 mol of this bidentate or tridentate nitrogen-containing aromatic compound with respect to 1 mol of palladium compounds, and especially 1-3. Mole is preferred.

本発明で用いられるパラジウム錯体触媒は、如何なる方法で調製されたものであってよく、例えば溶媒の存在下、該パラジウム化合物、該含窒素芳香族化合物及び該カルボン酸アミドを混合することによって調製することができる。その際の溶媒としては、アルコール類以外の溶媒であることが好ましく、例えば、上記のカルボン酸アミドを溶媒として用いることも可能である。また、例えばクロロホルム、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒;ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル等のカルボン酸エステル類;アセトニトリル、プロピオンニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類;水、等を挙げることができ、これらの溶媒は、単独又は二種以上の混合物として用いることができる。   The palladium complex catalyst used in the present invention may be prepared by any method, for example, by mixing the palladium compound, the nitrogen-containing aromatic compound and the carboxylic acid amide in the presence of a solvent. be able to. In this case, the solvent is preferably a solvent other than alcohols. For example, the above carboxylic acid amide can be used as the solvent. Further, for example, halogen solvents such as chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene; ethers such as dimethyl ether, diethyl ether, tetrahydrofuran, dimethoxyethane; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone; carboxylic acids such as methyl acetate, ethyl acetate Examples include esters; nitriles such as acetonitrile, propiononitrile, and benzonitrile; water, and the like. These solvents can be used alone or as a mixture of two or more.

また、該パラジウム錯体触媒を調製する際の温度としては、特に制限されず、例えば−20〜80℃をあげることができ、特に煩雑な操作を伴わないことから室温またはその付近であることが好ましい。その際の圧力としては、特に制限はなく、操作が容易で、特に煩雑な操作を伴わないことから大気圧またはその付近であることが好ましい。さらに雰囲気としては、例えば大気;窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化炭素等の不活性ガス、等のいずれの雰囲気下であってもよい。   In addition, the temperature at which the palladium complex catalyst is prepared is not particularly limited, and can be, for example, -20 to 80 ° C. It is preferably room temperature or the vicinity thereof because it does not involve any complicated operation. . The pressure at that time is not particularly limited, and is preferably at or near atmospheric pressure because it is easy to operate and does not involve any complicated operation. Further, the atmosphere may be any atmosphere such as air; an inert gas such as nitrogen, helium, argon, carbon dioxide, or the like.

本発明で用いられる結晶性チタノシリケ−トは、ゼオライト構造を有する結晶性SiO(シリカライトと称されることもある。)の結晶格子を形成するケイ素の一部をチタニウムで置き換えた一般式nSiO・(1−n)TiOで表される合成ゼオライト物質である。ここで、nは通常0.8〜0.999である。該結晶性チタノシリケートの構造は、特に限定するものではなく結晶性チタノシリケートと称される範疇に属するものであれば如何なるものを用いることも可能であり、例えば国際ゼオライト学会の構造コードで示されるBEA型、DON型、ITQ型、MFI型、MOR型、MWW型等の構造を挙げることができ、その中でも、高活性かつ高選択的にエポキシ化合物を製造することが可能となることから、MFI型の構造であることが好ましい。 The crystalline titanosilicate used in the present invention has a general formula nSiO in which a part of silicon forming a crystal lattice of crystalline SiO 2 having a zeolite structure (sometimes referred to as silicalite) is replaced with titanium. It is a synthetic zeolitic material represented by 2 · (1-n) TiO 2 . Here, n is usually 0.8 to 0.999. The structure of the crystalline titanosilicate is not particularly limited, and any structure belonging to the category called crystalline titanosilicate can be used. Examples of the structure include BEA type, DON type, ITQ type, MFI type, MOR type, and MWW type. Among them, it is possible to produce an epoxy compound with high activity and high selectivity. The structure is preferably MFI type.

該結晶性チタノシリケートの合成法としては、特に制限はなく、例えば特開昭56−096720号公報、特開昭60−127217号公報等に記載の方法により合成することが可能である。   The method for synthesizing the crystalline titanosilicate is not particularly limited, and can be synthesized by the methods described in, for example, JP-A-56-096720 and JP-A-60-127217.

特開昭56−96720号公報によれば、結晶性チタノシリケートはテトラアルキルオルトシリケートとテトラアルキルオルトチタネートを水酸化テトラアルキルアンモニウム水溶液で加水分解し、次いで水熱合成して合成される。この際のテトラアルキルオルトシリケートとしては、例えばテトラメチルオルトシリケート、テトラエチルオルトシリケート、テトラプロピルオルトシリケート、テトラブチルオルトシリケート、テトラペンチルオルトシリケート、テトラヘキシルオルトシリケート、テトラヘプチルオルトシリケート、テトラオクチルオルトシリケート、トリメチルエチルシリケート、ジメチルジエチルシリケート、メチルトリエチルシリケート、ジメチルジプロピルシリケート及びエチルトリプロピルシリケート等が挙げられ、これらのうち入手の容易さから、テトラエチルオルトシリケートが好ましい。   According to JP-A-56-96720, crystalline titanosilicate is synthesized by hydrolyzing a tetraalkylorthosilicate and a tetraalkylorthotitanate with a tetraalkylammonium hydroxide aqueous solution and then hydrothermally synthesizing. Examples of the tetraalkylorthosilicate include tetramethylorthosilicate, tetraethylorthosilicate, tetrapropylorthosilicate, tetrabutylorthosilicate, tetrapentylorthosilicate, tetrahexylorthosilicate, tetraheptylorthosilicate, tetraoctylorthosilicate, Examples thereof include trimethylethyl silicate, dimethyldiethyl silicate, methyltriethyl silicate, dimethyldipropyl silicate and ethyltripropyl silicate. Of these, tetraethylorthosilicate is preferred because of its availability.

また、テトラアルキルオルトチタネートとしては、例えばテトラメチルオルトチタネート、テトラエチルオルトチタネート、テトラプロピルオルトチタネート、テトラブチルオルトチタネート、テトラオクチルオルトチタネート、トリメチルエチルチタネート、ジメチルジエチルチタネート、メチルトリエチルチタネート、ジメチルジプロピルチタネート及びエチルトリプロピルチタネート等が挙げられ、これらのうち入手の容易さから、テトラエチルオルトチタネート、テトラブチルオルトチタネートが好ましい。   Examples of the tetraalkyl orthotitanate include tetramethyl orthotitanate, tetraethyl orthotitanate, tetrapropyl orthotitanate, tetrabutyl orthotitanate, tetraoctyl orthotitanate, trimethylethyl titanate, dimethyldiethyl titanate, methyltriethyl titanate, dimethyldipropyl titanate. And ethyl tripropyl titanate. Among these, tetraethyl orthotitanate and tetrabutyl orthotitanate are preferable because they are easily available.

さらに、水酸化テトラアルキルアンモニウムとしては、例えば水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム等が挙げられ、これらのうち入手の容易さから、水酸化テトラプロピルアンモニウムが好ましい。   Furthermore, examples of the tetraalkylammonium hydroxide include tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, and the like. Propyl ammonium is preferred.

該結晶性チタノシリケートを合成する際のこれら反応原料の仕込み比率に制限はなく、例えばテトラアルキルオルトシリケートの使用量は、テトラアルキルオルトチタネート1モルに対して通常1〜100当量であり、好ましくは5〜35当量である。水酸化テトラアルキルアンモニウムの使用量は、テトラアルキルオルトシリケート1モルに対して通常0.1〜1当量であり、好ましくは0.2〜0.6当量である。また、水酸化テトラアルキルアンモニウム水溶液の濃度は、通常3〜50重量%であり、好ましくは5〜40重量%である。   There is no limitation on the charging ratio of these reaction raw materials when synthesizing the crystalline titanosilicate. For example, the amount of tetraalkylorthosilicate used is usually 1 to 100 equivalents per 1 mol of tetraalkylorthotitanate, preferably Is 5 to 35 equivalents. The usage-amount of the tetraalkylammonium hydroxide is 0.1-1 equivalent normally with respect to 1 mol of tetraalkyl orthosilicate, Preferably it is 0.2-0.6 equivalent. Moreover, the density | concentration of the tetraalkylammonium hydroxide aqueous solution is 3 to 50 weight% normally, Preferably it is 5 to 40 weight%.

該結晶性チタノシリケートを合成する際の加水分解の温度に制限はなく、例えば−20〜60℃、好ましくは−10〜40℃である。反応時間としては、通常10分〜100時間、好ましくは30分〜50時間である。また、加水分解時に必要であれば溶媒を用いてもよく、該溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類、等を挙げることができる。加水分解反応は、均一な加水分解生成物を得ることができれば、テトラアルキルオルトシリケート、テトラアルキルオルトチタネート及び水酸化テトラアルキルアンモニウム水溶液の反応原料の混合順序と混合方法は特に限定するものではなく、例えば前記化合物の全てを一度に混合しても良いし、テトラアルキルオルトシリケートとテトラアルキルオルトチタネートの混合物に水酸化アルキルアンモニウム水溶液を滴下してもよい。また、テトラアルキルオルトシリケートに水酸化アルキルアンモニウム水溶液を、次いでテトラアルキルオルトチタネートを加えても良い。また、加水分解によって副生したアルコールは、必ずしも除去する必要はないが、予め加熱によってその量を減ずることが好ましい。   There is no restriction | limiting in the temperature of the hydrolysis at the time of synthesize | combining this crystalline titanosilicate, For example, -20-60 degreeC, Preferably it is -10-40 degreeC. The reaction time is usually 10 minutes to 100 hours, preferably 30 minutes to 50 hours. Further, if necessary at the time of hydrolysis, a solvent may be used. Examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol and octanol; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; diethyl ether, tetrahydrofuran and dimethoxy. And ethers such as ethane. As long as a uniform hydrolysis product can be obtained in the hydrolysis reaction, the mixing order and mixing method of the reaction raw materials of tetraalkylorthosilicate, tetraalkylorthotitanate and tetraalkylammonium hydroxide aqueous solution are not particularly limited, For example, all of the above compounds may be mixed at once, or an aqueous alkylammonium hydroxide solution may be added dropwise to a mixture of tetraalkylorthosilicate and tetraalkylorthotitanate. Further, an alkyl ammonium hydroxide aqueous solution and then a tetraalkyl orthotitanate may be added to the tetraalkyl orthosilicate. The alcohol by-produced by hydrolysis does not necessarily have to be removed, but it is preferable to reduce the amount by heating in advance.

以上のようにして得られた加水分解生成物は、必要に応じて水を添加して水熱合成に付される。水熱合成に使用する水量に制限はなく、例えば加水分解反応時に添加した水と合わせ、ケイ素原子1モルに対して通常15〜100当量であり、好ましくは25〜80当量となるように調整する。水熱合成反応は、この混合液を密閉容器内にて通常60〜300℃、好ましくは100〜200℃の温度条件下に加熱し、通常1〜100時間、好ましくは6〜50時間、この温度を保持することによって実施される。この際、圧力は自圧もしくは加圧下のいずれかの方法で行うことができるが、通常は自圧下で行える。反応系の攪拌は必ずしも行う必要はなく、静置状態でも結晶化は十分進行する。このように水熱合成処理され結晶化した固体粉末は、イオン交換水で十分に洗浄後、焼成処理に付される。焼成処理の温度に特に制限はなく、例えば300〜700℃であり、好ましくは350〜600℃である。焼成時間は、通常1〜50時間、好ましくは2〜20時間焼成処理をすることにより、結晶性チタノシリケートを製造することができる。   The hydrolysis product obtained as described above is subjected to hydrothermal synthesis by adding water as necessary. There is no restriction | limiting in the amount of water used for hydrothermal synthesis, for example, it combines with the water added at the time of a hydrolysis reaction, and is normally 15-100 equivalent with respect to 1 mol of silicon atoms, Preferably it adjusts so that it may become 25-80 equivalent. . In the hydrothermal synthesis reaction, this mixed solution is heated in a sealed container under a temperature condition of usually 60 to 300 ° C., preferably 100 to 200 ° C., usually 1 to 100 hours, preferably 6 to 50 hours. It is carried out by holding. At this time, the pressure can be performed by either self-pressure or under pressure, but usually it can be performed under self-pressure. The reaction system is not necessarily stirred, and crystallization proceeds sufficiently even in a stationary state. The solid powder thus crystallized by hydrothermal synthesis is sufficiently washed with ion-exchanged water and then subjected to a firing treatment. There is no restriction | limiting in particular in the temperature of a baking process, For example, it is 300-700 degreeC, Preferably it is 350-600 degreeC. The firing time is usually 1 to 50 hours, preferably 2 to 20 hours, whereby crystalline titanosilicate can be produced.

本発明で用いる結晶性チタノシリケートには、必要に応じて、ホウ素、アルミニウム、リン、カルシウム、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ガリウム、ジルコニウム等が含まれてもよく、これら金属の酸化物源を加えて、異元素含有の結晶性チタノシリケートとしてもよい。また、該結晶性チタノシリケートは、そのまま使用してもよく、成型して使用してもよい。成型して使用する場合には、一般にはバインダーを用いるが、該バインダーとしては、例えばシリカ、アルミナ等を挙げることができる。   The crystalline titanosilicate used in the present invention may contain boron, aluminum, phosphorus, calcium, vanadium, chromium, manganese, iron, cobalt, nickel, copper, zinc, gallium, zirconium, etc., if necessary. It is also possible to add a source of these metal oxides to form a crystalline titanosilicate containing a different element. The crystalline titanosilicate may be used as it is, or may be used after being molded. In the case of molding and using, a binder is generally used, and examples of the binder include silica and alumina.

本発明の製造方法においは、該パラジウム錯体触媒及び該結晶性チタノシリケートを用いることにより、優れた選択性、生産性を有するエポキシ化合物の製造方法となるものである。   In the production method of the present invention, by using the palladium complex catalyst and the crystalline titanosilicate, an epoxy compound production method having excellent selectivity and productivity is obtained.

本発明の製造方法における該パラジウム錯体触媒の使用量は、反応形式により適宜選択することが可能であり、例えば固定床連続流通式、回分式、または、半回分式でエポキシ化合物の製造を行う場合には、反応速度や熱収支によりその使用量を決定すればよく、その中でも製造の際の反応が効率的に進行することから、溶媒に対してパラジウム錯体触媒中のパラジウムがモル濃度で0.001〜100mmol/lであることが好ましく、特に0.01〜10mmol/lであることが好ましい。   The amount of the palladium complex catalyst used in the production method of the present invention can be appropriately selected depending on the reaction mode. For example, when the epoxy compound is produced by a fixed bed continuous flow type, a batch type, or a semibatch type. In this case, the amount used may be determined based on the reaction rate and heat balance. Among them, the reaction during the production proceeds efficiently, so that the palladium in the palladium complex catalyst has a molar concentration of 0. It is preferably 001 to 100 mmol / l, and particularly preferably 0.01 to 10 mmol / l.

本発明の製造方法における該結晶性チタノシリケートの使用量は、反応形式により適宜選択することが可能であり、例えば固定床連続流通式でエポキシ化合物の製造を行う場合には、反応速度や熱収支によりその使用量を決定すればよく、その中でも製造の際の反応が効率的に進行することから、重量時間空間速度(WHSV)として、0.01〜1000hr−1であることが好ましく、特に0.1〜100hr−1であることが好ましい。ここで、重量時間空間速度(WHSV)とは、単位触媒重量当たりの単位時間(hr)に対するオレフィンの供給量の合計重量を表すものである。また、懸濁床の回分式、または、半回分式でエポキシ化合物の製造を行う場合には、溶媒に対して0.0001〜30重量%であることが好ましく、特に0.001〜10重量%であることが好ましい。 The amount of the crystalline titanosilicate used in the production method of the present invention can be appropriately selected depending on the reaction mode. For example, when producing an epoxy compound in a fixed bed continuous flow system, the reaction rate and heat What is necessary is just to determine the usage-amount by the balance, and since reaction in the case of manufacture progresses among them efficiently, it is preferable that it is 0.01-1000hr < -1 > as a weight hour space velocity (WHSV), especially It is preferably 0.1 to 100 hr −1 . Here, the weight hourly space velocity (WHSV) represents the total weight of olefins supplied per unit time (hr) per unit catalyst weight. In addition, when the epoxy compound is produced in a batch system or a semi-batch system of a suspended bed, it is preferably 0.0001 to 30% by weight, particularly 0.001 to 10% by weight, based on the solvent. It is preferable that

また、該パラジウム錯体触媒と該結晶性チタノシリケートとの比率は適宜選択することが可能であり、パラジウム錯体触媒中のパラジウムのモル数は結晶性チタノシリケートの重量に対し、0.0001〜100mmol/g、特に反応が効率的に進行することから、0.001〜10mmol/gであることが好ましい。   The ratio of the palladium complex catalyst to the crystalline titanosilicate can be selected as appropriate, and the number of moles of palladium in the palladium complex catalyst is 0.0001 to the weight of the crystalline titanosilicate. 100 mmol / g, particularly 0.001 to 10 mmol / g is preferable because the reaction proceeds efficiently.

本発明の製造方法における該パラジウム錯体触媒と結晶性チタノシリケートは、それぞれを別々に調製し混合することにより用いることも可能であるし、パラジウム錯体触媒を結晶性チタノシリケートに担持した担持触媒として用いることも可能である。   The palladium complex catalyst and the crystalline titanosilicate in the production method of the present invention can be used by separately preparing and mixing each, or a supported catalyst in which the palladium complex catalyst is supported on the crystalline titanosilicate. Can also be used.

本発明の製造方法におけるオレフィンは、エポキシ化合物を生成するものであり、該オレフィンとしては、オレフィンと称される範疇に属するものであれば如何なるものも用いることが可能であり、例えばプロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、ノネン、デセン、ドデセン、シクロプロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネン、シクロデセン、メチルシクロペンテン、エチルシクロペンテン、プロピルシクロペンテン、ブチルシクロペンテン、メチルシクロヘキセン、エチルシクロヘキセン、プロピルシクロヘキセン、ブチルシクロヘキセン、ジメチルシクロヘキセン、トリメチルシクロヘキセン、シクロペンチルプロペン、シクロペンチルブテン、シクロペンチルペンテン、シクロヘキシルプロペン、シクロヘキシルブテン、スチレン、フェニルプロペン、フェニルブテン等が挙げられ、反応が効率的に進行することから、好ましくは、炭素数3〜10のオレフィンである。   The olefin in the production method of the present invention generates an epoxy compound, and any olefin can be used as long as it belongs to the category called olefin, such as propylene, butene, Pentene, hexene, heptene, octene, nonene, decene, dodecene, cyclopropene, cyclobutene, cyclopentene, cyclohexene, cycloheptene, cyclooctene, cyclononene, cyclodecene, methylcyclopentene, ethylcyclopentene, propylcyclopentene, butylcyclopentene, methylcyclohexene, ethylcyclohexene, Propylcyclohexene, butylcyclohexene, dimethylcyclohexene, trimethylcyclohexene, cyclopentylpropene, cyclopentylbutene Cyclopentyl Le Pen Ten, cyclohexyl propene, cyclohexyl butene, styrene, phenyl propene, phenyl butene and the like, because the reaction proceeds efficiently, preferably, the olefin having 3 to 10 carbon atoms.

本発明の製造方法における分子状酸素としては、分子状酸素の範疇に属するものであれば如何なるものを用いることも可能であり、例えば酸素ガスからなる純酸素;窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化炭素等の不活性ガスで希釈された酸素はもとより、空気であってもよい。また、該分子状酸素の使用量としては、本発明の製造方法が実施できる限りにおいて如何なる制限を受けることはなく、特にエポキシ化合物を製造する際の反応が効率的に進行することから、オレフィン1モルに対し0.01〜100モルが好ましく、特に0.1〜50モルが好ましい。また、反応時の酸素圧は、特に制限がなく、例えば常圧〜10MPa、高活性、高選択的かつ触媒の安定性が高いことから、0.2〜5MPaであることがこのましく、さらに0.2〜2MPaであることが好ましい。   Any molecular oxygen can be used as the molecular oxygen in the production method of the present invention as long as it belongs to the category of molecular oxygen, for example, pure oxygen composed of oxygen gas; nitrogen, helium, argon, carbon dioxide, etc. In addition to oxygen diluted with an inert gas, air may be used. Further, the amount of the molecular oxygen used is not limited as long as the production method of the present invention can be carried out. In particular, since the reaction during production of the epoxy compound proceeds efficiently, the olefin 1 0.01-100 mol is preferable with respect to mol, and 0.1-50 mol is especially preferable. Further, the oxygen pressure during the reaction is not particularly limited, and is preferably from 0.2 to 5 MPa, for example, normal pressure to 10 MPa, high activity, high selectivity, and high catalyst stability. It is preferable that it is 0.2-2 MPa.

本発明の製造方法における第二級アルコールとしては、第二級アルコールの範疇に属するものであれば如何なるものを用いることも可能であり、例えば2−プロパノール、2−ブタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−ヘキサノール、3−ヘキサノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタノール、4−ヘプタノール、2−オクタノール、3−オクタノール、4−オクタノール、2−ノナノール、3−ノナノール、4−ノナノール、5−ノナノール、2−デカノール、3−デカノール、4−デカノール、5−デカノール、2−トリデカノール、3−トリデカノール、4−トリデカノール、5−トリデカノール、6−トリデカノール、7−トリデカノール、2−ペンタデカノール、3−ペンタデカノール、4−ペンタデカノール、5−ペンタデカノール、6−ペンタデカノール、7−ペンタデカノール、8−ペンタデカノール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、シクロヘプタノール、シクロオクタノール、シクロノナノール、シクロデカノール、ジシクロヘキシルメタノール、1−フェニルエタノール、1−フェニルプロパノール、1−フェニルブタノール、1−フェニルペンタノール、1−フェニルヘキサノール、1−フェニルヘプタノール、1−フェニルオクタノール、1−フェニルノナノール、1−フェニルデカノール等を挙げることができ、特に製造の際の反応が効率的に進行することから2−プロパノール、2−ブタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−ヘキサノール、3−ヘキサノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタノール、4−ヘプタノール、2−オクタノール、3−オクタノール、4−オクタノール、2−ノナノール、3−ノナノール、4−ノナノール、5−ノナノール、2−デカノール、3−デカノール、4−デカノール、5−デカノール、2−トリデカノール、3−トリデカノール、4−トリデカノール、5−トリデカノール、6−トリデカノール、7−トリデカノール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、シクロヘプタノール、シクロオクタノール、シクロノナノール、シクロデカノール、ジシクロヘキシルメタノール、1−フェニルエタノール、1−フェニルプロパノール、1−フェニルブタノール、1−フェニルペンタノール、1−フェニルヘキサノール、1−フェニルヘプタノール、ベンズヒドロール等の炭素数3〜13の第二級アルコールが好ましい。更に好ましくは、2−プロパノール、2−ブタノール、3−ペンタノールである。   As the secondary alcohol in the production method of the present invention, any alcohol can be used as long as it belongs to the category of secondary alcohol, for example, 2-propanol, 2-butanol, 2-pentanol, 3 -Pentanol, 2-hexanol, 3-hexanol, 2-heptanol, 3-heptanol, 4-heptanol, 2-octanol, 3-octanol, 4-octanol, 2-nonanol, 3-nonanol, 4-nonanol, 5- Nonanol, 2-decanol, 3-decanol, 4-decanol, 5-decanol, 2-tridecanol, 3-tridecanol, 4-tridecanol, 5-tridecanol, 6-tridecanol, 7-tridecanol, 2-pentadecanol, 3- Pentadecanol, 4-pentadecanol, 5 Pentadecanol, 6-pentadecanol, 7-pentadecanol, 8-pentadecanol, cyclopentanol, cyclohexanol, cycloheptanol, cyclooctanol, cyclononanol, cyclodecanol, dicyclohexylmethanol, 1-phenyl Examples include ethanol, 1-phenylpropanol, 1-phenylbutanol, 1-phenylpentanol, 1-phenylhexanol, 1-phenylheptanol, 1-phenyloctanol, 1-phenylnonanol, 1-phenyldecanol and the like. In particular, since the reaction during production proceeds efficiently, 2-propanol, 2-butanol, 2-pentanol, 3-pentanol, 2-hexanol, 3-hexanol, 2-heptanol, 3-heptanol, 4- Ptanol, 2-octanol, 3-octanol, 4-octanol, 2-nonanol, 3-nonanol, 4-nonanol, 5-nonanol, 2-decanol, 3-decanol, 4-decanol, 5-decanol, 2-tridecanol, 3-tridecanol, 4-tridecanol, 5-tridecanol, 6-tridecanol, 7-tridecanol, cyclopentanol, cyclohexanol, cycloheptanol, cyclooctanol, cyclononanol, cyclodecanol, dicyclohexylmethanol, 1-phenylethanol, Secondary alcohols having 3 to 13 carbon atoms such as 1-phenylpropanol, 1-phenylbutanol, 1-phenylpentanol, 1-phenylhexanol, 1-phenylheptanol and benzhydrol are preferred. Good. More preferred are 2-propanol, 2-butanol, and 3-pentanol.

また、第二級アルコールの使用量としては、本発明の製造方法が実施できる限りにおいて制限を受けることはなく、特に製造の際の反応が効率的に進行することから、オレフィン1モルに対し0.1〜1000モルが好ましく、特に1〜100モルで用いることが好ましい。   In addition, the amount of secondary alcohol used is not limited as long as the production method of the present invention can be carried out, and in particular, the reaction during the production proceeds efficiently. .1 to 1000 mol is preferable, particularly 1 to 100 mol is preferable.

本発明の製造方法により得られるエポキシ化合物としては、特に制限はなく、例えばプロピレンオキシド、ブテンオキシド、ペンテンオキシド、ヘキセンオキシド、ヘプテンオキシド、オクテンオキシド、ノネンオキシド、デセンオキシド、ドデセンオキシド、シクロプロペンオキシド、シクロブテンオキシド、シクロペンテンオキシド、シクロヘキセンオキシド、シクロヘプテンオキシド、シクロオクテンオキシド、シクロノネンオキシド、シクロデセンオキシド、メチルシクロペンテンオキシド、エチルシクロペンテンオキシド、プロピルシクロペンテンオキシド、ブチルシクロペンテンオキシド、メチルシクロヘキセンオキシド、エチルシクロヘキセンオキシド、プロピルシクロヘキセンオキシド、ブチルシクロヘキセンオキシド、ジメチルシクロヘキセンオキシド、トリメチルシクロヘキセンオキシド、シクロペンチルプロペンオキシド、シクロペンチルブテンオキシド、シクロペンチルペンテンオキシド、シクロヘキシルプロペンオキシド、シクロヘキシルブテンオキシド、スチレンオキシド、フェニルプロペンオキシド、フェニルブテンオキシド等が挙げられる。   The epoxy compound obtained by the production method of the present invention is not particularly limited, and for example, propylene oxide, butene oxide, pentene oxide, hexene oxide, heptene oxide, octene oxide, nonene oxide, decene oxide, dodecene oxide, cyclopropene oxide. , Cyclobutene oxide, cyclopentene oxide, cyclohexene oxide, cycloheptene oxide, cyclooctene oxide, cyclononene oxide, cyclodecene oxide, methylcyclopentene oxide, ethylcyclopentene oxide, propylcyclopentene oxide, butylcyclopentene oxide, methylcyclohexene oxide, ethylcyclohexene Oxide, propylcyclohexene oxide, butylcyclohexene oxide, di Chill cyclohexene oxide, trimethyl cyclohexene oxide, cyclopentyl propene oxide, cyclopentyl butene oxide, cyclopentyl point pen Ten oxide, cyclohexyl propene oxide, cyclohexyl butene oxide, styrene oxide, phenyl propene oxide, and phenyl-butene oxide and the like.

本発明のエポキシ化合物の製造方法は、液相で行うことが好ましく、その際の溶媒としては特に制限はなく、上記のアルコール及び/又は一般式(1)で表されるカルボン酸アミドを溶媒として用いることもできる。さらに、例えばジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル等のカルボン酸エステル類;アセトニトリル、プロピオンニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類;水、等を溶媒として用いることもできる。そして、その中でも、エポキシ化合物の生産性に優れた製造方法となることから、上記のアルコール、一般式(1)で表されるカルボン酸アミドが好ましい。   The method for producing an epoxy compound of the present invention is preferably carried out in a liquid phase, and the solvent at that time is not particularly limited, and the above-mentioned alcohol and / or carboxylic acid amide represented by the general formula (1) is used as a solvent. It can also be used. Furthermore, ethers such as dimethyl ether, diethyl ether, tetrahydrofuran, and dimethoxyethane; ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; carboxylic acid esters such as methyl acetate and ethyl acetate; nitriles such as acetonitrile, propiononitrile, and benzonitrile Water or the like can also be used as a solvent. Among them, the above alcohol and the carboxylic acid amide represented by the general formula (1) are preferable because the production method is excellent in the productivity of the epoxy compound.

本発明のエポキシ化合物の製造方法を行う際の反応温度に制限はなく、その中でも副反応を抑制しつつ高い反応速度でのエポキシ化合物の製造が可能となることから0〜200℃であることが好ましく、特に20〜150℃、さらに40〜100℃であることが好ましい。また、反応圧力としては、常圧〜20MPaが好ましく、特に常圧〜5MPaであることが好ましい。なお、本発明の製造方法においては、オレフィンは気体又は液体のいずれの状態でも用いることができ、液体状態で用いる場合には加圧下で反応すればよい。   There is no restriction | limiting in the reaction temperature at the time of performing the manufacturing method of the epoxy compound of this invention, and since it becomes possible to manufacture an epoxy compound at a high reaction rate, suppressing side reactions, it is 0-200 degreeC. Particularly, it is preferably 20 to 150 ° C, more preferably 40 to 100 ° C. The reaction pressure is preferably normal pressure to 20 MPa, particularly preferably normal pressure to 5 MPa. In the production method of the present invention, the olefin can be used in a gas or liquid state, and when used in a liquid state, the reaction may be performed under pressure.

本発明のエポキシ化合物の製造方法においては、パラジウム錯体触媒及び結晶性チタノシリケートの存在下、オレフィン、第二級アルコール及び分子状酸素との反応が可能であれば如何なる方法を用いることも可能であり、例えばオレフィン、第二級アルコール、分子状酸素、パラジウム錯体触媒及び結晶性チタノシリケートを一括して反応装置に仕込む回分式、反応装置にオレフィン、第二級アルコール及び分子状酸素を連続的に供給する半回分式、オレフィン、第二級アルコール及び分子状酸素を連続的に供給するとともに、未反応ガス及び反応液を連続的に抜き出す固定床又は懸濁床の連続式、等のいずれの方法でも実施できる。   In the method for producing an epoxy compound of the present invention, any method can be used as long as it can react with an olefin, a secondary alcohol and molecular oxygen in the presence of a palladium complex catalyst and crystalline titanosilicate. Yes, for example, batch-wise charging olefin, secondary alcohol, molecular oxygen, palladium complex catalyst and crystalline titanosilicate into the reactor at once, olefin, secondary alcohol and molecular oxygen are continuously added to the reactor Any one of a semi-batch system, a olefin, a secondary alcohol, and molecular oxygen are continuously supplied to a fixed bed or a suspension bed in which unreacted gas and reaction liquid are continuously extracted. The method can also be implemented.

また、本発明のエポキシ化合物の製造方法においては、製造されたエポキシ化合物を順次蒸留・回収する工程など分離・回収工程等の付随工程を設けることも可能である。   Further, in the method for producing an epoxy compound of the present invention, it is possible to provide an accompanying step such as a separation / recovery step such as a step of sequentially distilling / recovering the produced epoxy compound.

本発明のエポキシ化合物の製造方法においては、副生成するケトン化合物は、水素化することにより容易に第二級アルコールに戻すことが可能であり、該第二級アルコールは原料として再生利用することができる。   In the method for producing an epoxy compound of the present invention, a by-product ketone compound can be easily returned to a secondary alcohol by hydrogenation, and the secondary alcohol can be recycled as a raw material. it can.

パラジウム化合物、含窒素芳香族化合物及びカルボン酸アミドからなるパラジウム錯体触媒並びに結晶性チタノシリケートの存在下、オレフィン、第二級アルコール及び分子状酸素を反応することで、エポキシ化合物を高活性かつ高選択的に製造することができ、更に過酸化物を使用しないことから安全な製造方法とすることが可能な、新規なエポキシ化合物の製造方法を提供することができる。   A highly active and highly active epoxy compound is obtained by reacting an olefin, a secondary alcohol and molecular oxygen in the presence of a palladium complex catalyst comprising a palladium compound, a nitrogen-containing aromatic compound and a carboxylic acid amide, and crystalline titanosilicate. It is possible to provide a novel method for producing an epoxy compound which can be selectively produced and can be a safe production method because no peroxide is used.

以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

調製例(結晶性チタノシリケートの調製)
特許第3697737号公報に準拠し結晶性チタノシリケートを調製した。
Preparation example (Preparation of crystalline titanosilicate)
Crystalline titanosilicate was prepared according to Japanese Patent No. 3697737.

温度計及び攪拌装置を備えた内容積1000mlの四つ口フラスコにテトラエチルオルトチタネート44.1g、次いでテトラエチルオルトシリケート198gを窒素気流下で入れ混合した。この混合溶液を0℃に冷却後、25重量%水酸化テトラプロピルアンモニウム水溶液345gをフィードポンプにより1時間かけて滴下した。さらにこの液を室温で1時間攪拌して熟成処理を行った。攪拌後、混合物は均一溶液になった。この四つ口フラスコを油浴で約90℃に加熱し、加水分解によって生じたエタノール及び水を蒸留除去した。   44.1 g of tetraethylorthotitanate and then 198 g of tetraethylorthosilicate were placed in a four-necked flask having an internal volume of 1000 ml equipped with a thermometer and a stirrer and mixed under a nitrogen stream. After cooling this mixed solution to 0 ° C., 345 g of a 25 wt% tetrapropylammonium hydroxide aqueous solution was added dropwise over 1 hour with a feed pump. Further, this solution was aged at room temperature for 1 hour. After stirring, the mixture became a homogeneous solution. This four-necked flask was heated to about 90 ° C. in an oil bath, and ethanol and water generated by hydrolysis were distilled off.

蒸留除去された混合物にイオン交換水604gを加えた後、その400mlを温度計及び攪拌装置を備えた内容積500mlのハステロイ製耐圧反応容器に入れ、自圧下、170℃まで2時間で昇温させ、48時間攪拌して水熱合成を行った。オートクレーブの内容物を遠心分離し、60℃のイオン交換水で十分洗浄した。得られた白色粉末を90℃で15時間乾燥後、550℃にて5時間焼成して結晶性チタノシリケート21.5gを得た。得られた結晶性チタノシリケートは、X線回折装置(XRD)よりMFI型構造であることを確認した。   After adding 604 g of ion-exchanged water to the distilled and removed mixture, 400 ml thereof was put into a 500 ml Hastelloy pressure-resistant reaction vessel equipped with a thermometer and a stirrer, and the temperature was raised to 170 ° C. under self-pressure for 2 hours. The mixture was stirred for 48 hours for hydrothermal synthesis. The contents of the autoclave were centrifuged and washed thoroughly with ion exchange water at 60 ° C. The obtained white powder was dried at 90 ° C. for 15 hours and then calcined at 550 ° C. for 5 hours to obtain 21.5 g of crystalline titanosilicate. The obtained crystalline titanosilicate was confirmed to have an MFI type structure by an X-ray diffractometer (XRD).

(反応評価)
反応評価は、200mlのステンレス製オートクレーブ(耐圧硝子工業社製、(商品名)TPR−1型)を用いて行った。反応液およびガスの分析は、ガスクロマトグラフ(島津製作所製、(商品名)GC−14A)で行い、キャピラリーカラム(GLサイエンス社製、(商品名)TC−FFAP、60m×0.25mm(内径)、膜厚0.25μm)を使用し、水素炎イオン化検出器(FID)を用い反応生成物を定量した。
(Reaction evaluation)
Reaction evaluation was performed using a 200 ml stainless steel autoclave (manufactured by Pressure Glass Industrial Co., Ltd., (trade name) TPR-1 type). The analysis of the reaction solution and gas was performed with a gas chromatograph (manufactured by Shimadzu Corporation, (trade name) GC-14A), and a capillary column (manufactured by GL Science, (trade name) TC-FFAP, 60 m × 0.25 mm (inner diameter), The reaction product was quantified using a flame ionization detector (FID) using a film thickness of 0.25 μm.

実施例1
酢酸パラジウム(和光純薬製)0.011g(0.05mmol)と、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(東京化成製)0.036g(パラジウム1モルに対し、2モルに相当。)に、N,N−ジエチルアセトアミド(東京化成製)5ml(パラジウム1モルに対し、790モルに相当。)を加え、室温で撹拌し溶解させた後、一晩放置しパラジウム錯体触媒溶液を調製した。
Example 1
0.011 g (0.05 mmol) of palladium acetate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) and 0.036 g of 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (manufactured by Tokyo Chemical Industry) (1 mol of palladium, 5 ml of N, N-diethylacetamide (manufactured by Tokyo Kasei) (corresponding to 790 moles per 1 mole of palladium) was added to the solution and stirred at room temperature for dissolution, and then left overnight for palladium. A complex catalyst solution was prepared.

オートクレーブ内にパラジウム錯体触媒溶液全量、2−プロパノール62g(1mol;80ml)、調製例により得られた結晶性チタノシリケート0.2gを仕込んだ。次に、オートクレーブ内を窒素で置換した後、酸素0.4MPa、プロピレン50mmol、窒素0.2MPaを加え、反応温度80℃で1.5時間撹拌し、プロピレンオキシドの製造を行った。   The total amount of the palladium complex catalyst solution, 62 g (1 mol; 80 ml) of 2-propanol, and 0.2 g of crystalline titanosilicate obtained by the preparation example were charged in the autoclave. Next, after replacing the inside of the autoclave with nitrogen, oxygen 0.4 MPa, propylene 50 mmol and nitrogen 0.2 MPa were added, and the mixture was stirred at a reaction temperature of 80 ° C. for 1.5 hours to produce propylene oxide.

反応結果を表1に示す。生成量、選択率、生産効率はともに高くプロピレンオキシド生産性に優れるものであった。   The reaction results are shown in Table 1. The production amount, selectivity and production efficiency were all high and the propylene oxide productivity was excellent.

実施例2
N,N−ジエチルアセトアミド5ml(パラジウム1モルに対し、790モルに相当。)の代わりに、N,N−ジブチルアセトアミド(アルファ・ランカスター)5ml(パラジウム1モルに対し、510モルに相当。)を用いた以外は、実施例1と同様の方法によりプロピレンオキシドの製造を行った。
Example 2
Instead of 5 ml of N, N-diethylacetamide (equivalent to 790 moles per mole of palladium), 5 ml of N, N-dibutylacetamide (Alpha Lancaster) (equivalent to 510 moles per mole of palladium). Propylene oxide was produced in the same manner as in Example 1 except that it was used.

反応結果を表1に示す。生成量、選択率、生産効率はともに高くプロピレンオキシド生産性に優れるものであった。   The reaction results are shown in Table 1. The production amount, selectivity and production efficiency were all high and the propylene oxide productivity was excellent.

実施例3
N,N−ジエチルアセトアミド5ml(パラジウム1モルに対し、790モルに相当。)の代わりに、N,N−ジメチルアセトアミド(東京化成)0.5ml(パラジウム1モルに対し、110モルに相当。)及びクロロベンゼン5mlの混合物を用いた以外は、実施例1と同様の方法によりプロピレンオキシドの製造を行った。
Example 3
Instead of 5 ml of N, N-diethylacetamide (equivalent to 790 moles per 1 mole of palladium), 0.5 ml of N, N-dimethylacetamide (Tokyo Kasei) is equivalent to 110 moles per mole of palladium. Propylene oxide was produced in the same manner as in Example 1 except that 5 ml of chlorobenzene was used.

反応結果を表1に示す。生成量、選択率、生産効率はともに高くプロピレンオキシド生産性に優れるものであった。   The reaction results are shown in Table 1. The production amount, selectivity and production efficiency were all high and the propylene oxide productivity was excellent.

実施例4
N,N−ジメチルアセトアミド0.5ml(パラジウム1モルに対し、110モルに相当。)の代わりに、N,N−ジメチルプロピオンアミド(東京化成)0.5ml(パラジウム1モルに対し、92モルに相当。)を用いた以外は、実施例3と同様の方法によりプロピレンオキシドの製造を行った。
Example 4
Instead of 0.5 ml of N, N-dimethylacetamide (corresponding to 110 moles per 1 mole of palladium), 0.5 ml of N, N-dimethylpropionamide (Tokyo Kasei) was added to 92 moles per 1 mole of palladium. Propylene oxide was produced in the same manner as in Example 3 except that it was used.

反応結果を表1に示す。生成量、選択率、生産効率はともに高くプロピレンオキシド生産性に優れるものであった。   The reaction results are shown in Table 1. The production amount, selectivity and production efficiency were all high and the propylene oxide productivity was excellent.

実施例5
酢酸パラジウム0.011g(0.05mmol)及び2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン0.036gに、N,N−ジエチルアセトアミド5mlを加え、室温で撹拌し溶解した後、一晩放置しパラジウム錯体触媒溶液を調製した。
Example 5
After adding 5 ml of N, N-diethylacetamide to 0.011 g (0.05 mmol) of palladium acetate and 0.036 g of 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline, and stirring and dissolving at room temperature. The palladium complex catalyst solution was prepared by standing overnight.

パラジウム錯体触媒溶液全量をオートクレーブに入れ、2−プロパノール62g(1mol)、1−ヘキセン(東京化成製)4.2g(50mmol)、調製例により得られた結晶性チタノシリケート0.2gを仕込んだ。次に、オートクレーブを窒素で置換した後、酸素0.4MPa、窒素0.2MPaを加え、反応温度80℃で1.5時間撹拌し、ヘキセンオキシドの製造を行った。   The whole amount of the palladium complex catalyst solution was put into an autoclave, and charged with 62 g (1 mol) of 2-propanol, 4.2 g (50 mmol) of 1-hexene (manufactured by Tokyo Chemical Industry), and 0.2 g of crystalline titanosilicate obtained by the preparation example. . Next, after replacing the autoclave with nitrogen, oxygen 0.4 MPa and nitrogen 0.2 MPa were added, and the mixture was stirred at a reaction temperature of 80 ° C. for 1.5 hours to produce hexene oxide.

反応結果を表1に示す。生成量、選択率、生産効率はともに高くヘキセンオキシド生産性に優れるものであった。   The reaction results are shown in Table 1. The production amount, selectivity and production efficiency were all high and the hexene oxide productivity was excellent.

実施例6
1−ヘキセン50mmolの代わりに、1−デセン(関東化学製)7.0g(50mmol)を用いた以外は、実施例5と同様の方法によりデセンオキシドの製造を行った。
Example 6
Decene oxide was produced in the same manner as in Example 5 except that 7.0 g (50 mmol) of 1-decene (manufactured by Kanto Chemical) was used instead of 50 mmol of 1-hexene.

反応結果を表1に示す。生成量、選択率、生産効率はともに高くデセンオキシド生産性に優れるものであった。   The reaction results are shown in Table 1. The production amount, selectivity, and production efficiency were all high and the decene oxide productivity was excellent.

実施例7
2−プロパノール62gの代わりに、3−ペンタノール(関東化学製)66g(0.7mol)を用いた以外は、実施例1と同様の方法によりプロピレンオキシドの製造を行った。
Example 7
Propylene oxide was produced in the same manner as in Example 1 except that 66 g (0.7 mol) of 3-pentanol (manufactured by Kanto Kagaku) was used instead of 62 g of 2-propanol.

反応結果を表1に示す。生成量、選択率、生産効率はともに高くプロピレンオキシド生産性に優れるものであった。   The reaction results are shown in Table 1. The production amount, selectivity and production efficiency were all high and the propylene oxide productivity was excellent.

実施例8
N,N−ジエチルアセトアミドを80mLとし、2−プロパノールを4g(0.07mol)とした以外は、実施例1と同様の方法によりプロピレンオキシドの製造を行った。
Example 8
Propylene oxide was produced in the same manner as in Example 1 except that 80 mL of N, N-diethylacetamide and 4 g (0.07 mol) of 2-propanol were used.

反応結果を表1に示す。生成量、選択率、生産効率はともに高くプロピレンオキシド生産性に優れるものであった。   The reaction results are shown in Table 1. The production amount, selectivity and production efficiency were all high and the propylene oxide productivity was excellent.

比較例1
N,N−ジエチルアセトアミド5ml(パラジウム1モルに対し、790モルに相当。)の代わりに、クロロベンゼン(和光純薬製)5mlを用いた以外は、実施例1と同様の方法によりプロピレンオキシドの製造を行った。
Comparative Example 1
Production of propylene oxide by the same method as in Example 1 except that 5 ml of chlorobenzene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was used instead of 5 ml of N, N-diethylacetamide (corresponding to 790 moles per 1 mole of palladium). Went.

反応結果を表1に示す。生成量、生産効率はともに非常に低いものであった。   The reaction results are shown in Table 1. Both production and production efficiency were very low.

Figure 2012077021
Figure 2012077021

本発明は、ジオール又はポリオールの原料として工業的に有用なエポキシ化合物を安全性に優れ、効率よく製造する方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing an industrially useful epoxy compound as a raw material for a diol or polyol with excellent safety and efficiency.

Claims (7)

パラジウム化合物、含窒素芳香族化合物及びカルボン酸アミドからなるパラジウム錯体触媒並びに結晶性チタノシリケートの存在下、オレフィン、第二級アルコール及び分子状酸素を反応することを特徴とするエポキシ化合物の製造方法。 A process for producing an epoxy compound comprising reacting an olefin, a secondary alcohol and molecular oxygen in the presence of a palladium complex catalyst comprising a palladium compound, a nitrogen-containing aromatic compound and a carboxylic acid amide, and crystalline titanosilicate . パラジウム錯体触媒が、パラジウム化合物1モルに対し、含窒素芳香族化合物1〜40モル及びカルボン酸アミド90〜100000モルからなるパラジウム錯体触媒であることを特徴とする請求項1に記載のエポキシ化合物の製造方法。 2. The epoxy compound catalyst according to claim 1, wherein the palladium complex catalyst is a palladium complex catalyst comprising 1 to 40 mol of a nitrogen-containing aromatic compound and 90 to 100,000 mol of a carboxylic acid amide with respect to 1 mol of the palladium compound. Production method. カルボン酸アミドが、下記一般式(1)で示されるカルボン酸アミドであることを特徴とする請求項1又は2に記載のエポキシ化合物の製造方法。
Figure 2012077021
(1)
(式中、置換基R〜Rは同一又は異なって、炭素数1〜4のアルキル基を表す。なお、R〜Rのうち、任意の二以上のものは互いに結合し、環を形成していてもよい。)
The method for producing an epoxy compound according to claim 1 or 2, wherein the carboxylic acid amide is a carboxylic acid amide represented by the following general formula (1).
Figure 2012077021
(1)
(In the formula, substituents R 1 to R 3 are the same or different and represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Of R 1 to R 3 , any two or more of them are bonded to each other to form a ring. May be formed.)
パラジウム化合物が酢酸パラジウムであり、含窒素芳香族化合物が2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン、ピリジン又は2,2’:6’、2”−ターピリジンであり、カルボン酸アミドがN,N−ジエチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルプロピオンアミド、N,N−ジブチルアセトアミド又はN−メチルピロリドンあることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のエポキシ化合物の製造方法。 The palladium compound is palladium acetate, the nitrogen-containing aromatic compound is 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline, pyridine or 2,2 ′: 6 ′, 2 ″ -terpyridine, 4. The acid amide according to claim 1, wherein the acid amide is N, N-diethylacetamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylpropionamide, N, N-dibutylacetamide or N-methylpyrrolidone. The manufacturing method of the epoxy compound of description. 結晶性チタノシリケートが、MFI型構造を有する結晶性チタノシリケートであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のエポキシ化合物の製造方法。 The method for producing an epoxy compound according to any one of claims 1 to 4, wherein the crystalline titanosilicate is a crystalline titanosilicate having an MFI type structure. オレフィンが、炭素数3〜10を有するオレフィンであることを特徴と請求項1〜5のいずれかに記載のエポキシ化合物の製造方法。 The method for producing an epoxy compound according to any one of claims 1 to 5, wherein the olefin is an olefin having 3 to 10 carbon atoms. 第二級アルコールが、2−プロパノール、2−ブタノール、3−ペンタノールであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のエポキシ化合物の製造方法。 The method for producing an epoxy compound according to any one of claims 1 to 6, wherein the secondary alcohol is 2-propanol, 2-butanol, or 3-pentanol.
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