JP2012054349A - ファイバレーザ発振装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】出射ビーム断面の光強度分布が均一化され過大なピークが抑制されたファイバレーザ発振装置を提供する。
【解決手段】ファイバレーザ発振装置は、シード光を放出可能なシード光源と、励起光を放出可能な励起光源と、光ファイバと、を有する。前記光ファイバは、前記励起光を吸収可能な希土類元素がコアに添加され、前記コアに導入された前記シード光を増幅して放出可能な増幅部を少なくとも有する。また、光ファイバには、最小曲げ半径よりも大きい第1の半径を有する第1のループと、前記第1のループの前記第1の半径よりも大きい第2の半径を有し前記増幅部に設けられた第2のループと、を含むことを特徴とする。
【選択図】図1
【解決手段】ファイバレーザ発振装置は、シード光を放出可能なシード光源と、励起光を放出可能な励起光源と、光ファイバと、を有する。前記光ファイバは、前記励起光を吸収可能な希土類元素がコアに添加され、前記コアに導入された前記シード光を増幅して放出可能な増幅部を少なくとも有する。また、光ファイバには、最小曲げ半径よりも大きい第1の半径を有する第1のループと、前記第1のループの前記第1の半径よりも大きい第2の半径を有し前記増幅部に設けられた第2のループと、を含むことを特徴とする。
【選択図】図1
Description
本発明の実施形態は、ファイバレーザ発振装置に関する。
レーザ発振装置は、高品質かつ高出力のビームを放出することが要求される。この場合、高品質のシード光をファイバ増幅器を用いて増幅すると、高出力ビームを得ることが容易となる。このようなファイバレーザ発振装置を用いると、レーザ発振装置を小型化することができる。
ファイバレーザ発振装置において、シード光を入射する光ファイバのコア端面への入射角が僅かに変化しても、出射ビームの光強度分布が変化し、ピーク強度が過大となる問題がある。このような過大なピーク強度は、光部品の損傷や、増幅効率の低下を生じることがある。
出射ビーム断面の光強度分布が均一化され、過大なピークが抑制されたファイバレーザ発振装置を提供する。
実施形態にかかるファイバレーザ発振装置は、シード光を放出可能なシード光源と、励起光を放出可能な励起光源と、光ファイバと、を有する。前記光ファイバは、前記励起光を吸収可能な希土類元素がコアに添加され、前記コアに導入された前記シード光を増幅して放出可能な増幅部を少なくとも有する。また、光ファイバには、最小曲げ半径よりも大きい第1の半径を有する第1のループと、前記第1のループの前記第1の半径よりも大きい第2の半径を有し前記増幅部に設けられた第2のループと、を含むことを特徴とする。
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明する。
図1(a)は本発明の第1の実施形態にかかるファイバレーザ発振装置の構成図、図1(b)はA−A線に沿った光ファイバの模式断面図、である。
ファイバレーザ発振装置は、光ファイバ(増幅部)10、シード光源12、励起光源14、16、励起用光ファイバ18、19、入射光学部20、及び出射光学部30を有している。
図1(a)は本発明の第1の実施形態にかかるファイバレーザ発振装置の構成図、図1(b)はA−A線に沿った光ファイバの模式断面図、である。
ファイバレーザ発振装置は、光ファイバ(増幅部)10、シード光源12、励起光源14、16、励起用光ファイバ18、19、入射光学部20、及び出射光学部30を有している。
光ファイバ10は、石英を含むコア60にTmやHoなどの希土類元素が添加されており、励起光Ge1、Ge2を吸収し、シード光Gsを増幅して、出射光Goを出力可能である。本図において、光ファイバ10は、増幅部のみからなるものとする。また、光ファイバ10をダブルクラッド構造とすると、シード光Gsをコア60に、励起光Ge1、Ge2を第1クラッド62に、それぞれ効率よく閉じ込めることができる。例えば、コア60の直径M1は40μm、石英を含む第1クラッド62の直径M2は200μm、石英や樹脂を含む第2クラッド64の直径M3は400μm、などとできる。第2クラッド64の周囲には、内部を保護するためにサポート66が設けられる。
シード光Gsとしては、例えばNd:YAGレーザ装置からのレーザ光を非線形結晶などを用いて波長変換した1980nmの高品質のレーザ光を用いることができる。
また、励起光源14、16は、例えば並列接続された高出力半導体レーザモジュールなどとすることができる。高出力レーザ光を励起光Ge1、Ge2として用いると、希土類元素を励起することが容易となる。また、その波長は、希土類元素の吸収及び放出スペクトルの極大値のいずれかに対応するように選択する。励起光Ge1、Ge2の波長は、例えば808nm近傍とすることができる。
励起用光ファイバ18、19の直径を大きくしマルチモード伝送とすると、励起光源14、16との光結合が容易となる。光ファイバ10の一方の端部から励起光を入射しても励起は可能である。もし、光ファイバ10の両端部から励起光Ge1、Ge2をそれぞれ入射すると、励起エネルギーをより高め、高出力の増幅光を得ることが容易となる。
入射光学部20は、集光レンズ21、22、ダイクロイックミラー23、ミラー24、25、を有する。励起光Ge1が励起用光ファイバ18から出射すると広がり始めるが集光レンズ21により平行光となる。他方、シード光Gsは、ミラー25、24を介し、ダイクロイックミラー23へ入射したのち反射されて光ファイバ10の光軸50に沿って進む。なお、光軸50は、光ファイバ10のコア60の中心軸とする。
集光レンズ21、22の中心軸は、光軸50と一致するように配置される。励起光Ge1、Ge2はダイクロイックミラー23を透過したのち集光レンズ22により集光され、光ファイバ10の第1クラッド62へ入射する。なお、ダイクロイックミラー23は、シード光Gsを反射し、シード光Gsの波長とは異なる波長を有する励起光Ge1を透過する光学特性を有する。このため、シード光Gsと、励起光Ge1と、を光ファイバ10へ入射させることができる。
光ファイバ10の第1クラッド62をマルチモード伝搬する励起光Ge1、Ge2は、コア60と交差するとき、その一部がコア60内に添加された希土類元素により吸収される。励起光Ge1、Ge2を吸収した希土類元素は励起され、誘導放出によりシード光Gsを増幅する。すなわち、希土類元素は励起光Ge1、Ge2の発光波長の近傍に吸収スペクトルの極大値を有しており、シード光Gsの波長の近傍に放出スペクトルの極大値を有する。光ファイバ10は、所望の増幅出力となるようにその長さが決定される。
出射光学部30は、集光レンズ31、32、及びダイクロイックミラー33を有する。励起光Ge2は、励起用光ファイバ19から出射すると広がり始めるが集光レンズ32により平行光とされ、光軸50に沿って光ファイバ10の第1クラッド62へ入射し、希土類元素を励起する。他方、出射光Goは、光ファイバ10のコア60から出射されると広がり始めるが集光レンズ31により平行光とされダイクロイックミラー33により略45度の角度で反射され、光軸50に対して90度をなす方向に折り曲げられ、出射光Goとして取り出し可能となる。
第1の実施形態では、光ファイバ10において、シード光Gsが入射する側の端部近傍、出射光Goが出射する側の端部近傍、に第1のループ10aがそれぞれ設けられる。第1のループ10aの半径R1は、光ファイバ10の最小(許容)曲げ半径よりも大きいものとする。最小曲げ半径は、光ケーブルが破断などを生じない曲げ可能な最小の半径として決められ、例えば100mmなどとされる。
また、光ファイバ10の長さを10mなどとすると、所望の増幅出力を得るのが容易となる。この場合、光ファイバ10に、例えば250〜500mmなどの範囲の半径R2を有する第2のループ10bを設けると、ファイバレーザ発振装置を小型化しつつ、光ファイバ10で発生した熱を放散することが容易となる。第1のループ10aの半径R1は、第2のループ10bの半径よりも小さくされる。また、第1のループ10aの半径R1は、最小曲げ半径よりも大きければ、入射光学部20の側と、出射光学部30の側と、で異なっていてもよい。
第1及び第2ループの形状は、円、楕円、またはそれらの変形であってもよい。ループの形状が円以外の場合、その半径は、ループの面積と等しい面積を有する円の半径として定義するものとする。
図2(a)は第1のループの光軸方向に沿った模式断面図、図2(b)は、出射増幅光の光強度分布を表す図である。
図2(a)は、図1(b)のB−B線に沿った模式断面図である。なお、図2(a)において、コア60の直径M1は、第1クラッド62の直径M2に対して実際よりも大きい比率で示してある。光ファイバ10がループを有する場合、その光軸50はループの曲率に対応して曲がると考えて良い。光ファイバ10のコア60を伝搬するシード光Gsが増幅されつつ、第1のループ10a内で伝搬しかつ単位長当たりに反射される回数は、増幅光Gaがループ半径が大きい第2のループ10b内で伝搬しかつ単位長当たりで反射される回数よりも多くすることができる。
図2(a)は、図1(b)のB−B線に沿った模式断面図である。なお、図2(a)において、コア60の直径M1は、第1クラッド62の直径M2に対して実際よりも大きい比率で示してある。光ファイバ10がループを有する場合、その光軸50はループの曲率に対応して曲がると考えて良い。光ファイバ10のコア60を伝搬するシード光Gsが増幅されつつ、第1のループ10a内で伝搬しかつ単位長当たりに反射される回数は、増幅光Gaがループ半径が大きい第2のループ10b内で伝搬しかつ単位長当たりで反射される回数よりも多くすることができる。
図2(b)において、縦軸は出射光Goの出射位置35における相対光強度I(r)、横軸はビーム径方向位置r、である。このような光強度分布は、出射位置35に設けたフォトディテクターなどにより測定可能である。本実施形態では、最小曲げ半径よりも大きい範囲内で、その半径R1を小さくするのに応じて、コア60内で反射される回数が増加する。光ファイバ10の最小曲げ半径が100mmの場合、第1のループ10aの半径R1は、例えば150〜200mmの範囲内とすることができる。
図3(a)は比較例にかかるファイバレーザ発振装置の構成図、図3(b)は光ファイバの模式断面図、図3(c)、(d)、及び(e)は出射光の光強度分布を表す図、である。
比較例における光ファイバ(増幅部)110は、ループ110bよりも半径が小さいループを端部近傍に有していない。光ファイバ110のコア端面160aに対してシード光Gssの入射角θiは、初期調整において、増幅利得が高くなるように決定される。
比較例における光ファイバ(増幅部)110は、ループ110bよりも半径が小さいループを端部近傍に有していない。光ファイバ110のコア端面160aに対してシード光Gssの入射角θiは、初期調整において、増幅利得が高くなるように決定される。
例えば、図3(b)において、初期調整において実線のようにシード光Gssの入射角θiを設定しても、使用環境の温度変化により入射角θiが破線のように変化する場合がある。この結果、初期調整時に図3(c)のような均一な光強度分布を有していても、入射角θiの変化など入射状態により、図3(d)、図3(e)のように、ビーム断面の横方向高次モードなどにより光強度が複数のピークを生じることがある。
出射光は、非線形結晶などを用いて波長変換する場合がある。例えば、BaB2O4、LiB3O5、BiB3O6、LiNbO3、KTiOPO4などの非線形光学効果を利用すると、光パラメトリック発振による波長変換を行うことができる。すなわち、2個のミラーで形成される光共振器内に配置された非線形結晶において、1個の高いエネルギー(高周波数)のフォトンが、2個の低エネルギーのフォトンに分割されることにより波長変換が可能である。この場合、過大なピーク強度を有する出射光はこれらの非線形結晶に損傷を与えたり、光強度の変化により変換効率を低下させることがある。
これに対して、本実施形態では、第1のループ10aを適正な半径R1及び適正な長さに設定し反射回数を増加することにより、コア60内における光強度分布I(r)を平均化することができる。このため、非線形結晶へ与える損傷が抑制され、励起強度も変化しない。その結果、変換効率が一定となり、波長変換出力の安定度が高められる。また、非線形結晶以外の光学部品の損傷が抑制され、光出力を安定化できる。
また、第1のループ10aの半径R1を大きくするのに応じて、自然発光(ASE:Amplified Spontaneous Emission)成分が伝搬可能となる。このため、光ファイバ内に蓄積されたエネルギーがASE成分となり、光ファイバを伝搬し無駄に消費される。ところが、第1のループ10aを設けることにより、ASE成分の伝搬を抑制することができる。
図4は、第2の実施形態にかかるファイバレーザ発振装置の構成図である。
光ファイバ10の両端部近傍に最小曲げ半径よりも大きい半径を有する第1のループを設けることがスペース上で困難である場合、第2のループ10bの近傍または中間領域に、最小曲げ半径よりも大きく第2のループ10bよりも小さい半径R3を有する第1のループ10cを設けてもよい。このようにすると、ファイバレーザ発振装置をさらに小型化することが容易となる。
光ファイバ10の両端部近傍に最小曲げ半径よりも大きい半径を有する第1のループを設けることがスペース上で困難である場合、第2のループ10bの近傍または中間領域に、最小曲げ半径よりも大きく第2のループ10bよりも小さい半径R3を有する第1のループ10cを設けてもよい。このようにすると、ファイバレーザ発振装置をさらに小型化することが容易となる。
図5は、第3の実施形態にかかるファイバレーザ発振装置の構成図である。
シード光Gsは、入射光学部20を介して、シード光Gsを増幅せずに伝送可能な光ファイバ(伝送部)11へ入射する。光ファイバ11は、最小曲げ半径よりも大きく、光ファイバ(増幅部)10の第2のループ10bの半径R2よりも小さい半径R4を有する第1のループ11aを有する。
シード光Gsは、入射光学部20を介して、シード光Gsを増幅せずに伝送可能な光ファイバ(伝送部)11へ入射する。光ファイバ11は、最小曲げ半径よりも大きく、光ファイバ(増幅部)10の第2のループ10bの半径R2よりも小さい半径R4を有する第1のループ11aを有する。
また、シード光Gsをコンバイナ47の入力ポートに入射させる。コンバイナ47の他の入力ポートへ、励起光Ge1が入力される。コンバイナ47の出力ポートから出射されたシード光Gsは,光ファイバ(増幅部)10へ入射する。この場合にも、シード光Gsの光強度が平均化され、増幅光Gaおよび出射光Goの光強度分布を均一にすることができる。
なお、入射光学部20を構成するミラー43、出射光学部30を構成するミラー45は、励起光を透過する必要がないのでダイクロイックミラーのような波長選択性を有していなくともよい。また、第1のループ11aを有する光ファイバ(伝送部)11を、光ファイバ(増幅部)10と、出射光学部30と、の間に設けてもよい。
以上のように、第1〜第3の実施形態によれば、ビーム断面内の光強度分布において、光強度ピークの抑制が容易なファイバレーザ発振装置が提供される。このようなピーク強度が低減されたビームにより、光学部品の損傷などが抑制される。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
10 光ファイバ(増幅部)、10a、10c 第1のループ、10b 第2のループ、11 光ファイバ(伝送部)、12 シード光源、14、16 励起光源、60 コア、62 第1クラッド、64 第2クラッド、Gs シード光、Ge1、Ge2 励起光、Ga 増幅光、Go 出射光、R1、R3、R4 第1のループの半径、R2 第2のループの半径
Claims (5)
- シード光を放出可能なシード光源と、
励起光を放出可能な励起光源と、
前記励起光を吸収可能な希土類元素がコアに添加され、前記コアに導入された前記シード光を増幅して放出可能な増幅部を少なくとも有する光ファイバであって、最小曲げ半径よりも大きい第1の半径を有する第1のループと、前記第1のループの前記第1の半径よりも大きい第2の半径を有し前記増幅部に設けられた第2のループと、を含む光ファイバと、
を備えたことを特徴とするファイバレーザ発振装置。 - 前記増幅部は、前記コアの周囲に設けられ前記コアの屈折率よりも低い屈折率を有し、前記励起光を導波可能な第1クラッドと、前記第1クラッドの周囲に設けられ、前記第1クラッドの前記屈折率よりも低い屈折率を有する第2クラッドと、を有することを特徴とする請求項1記載のファイバレーザ発振装置。
- 前記第1のループは、前記増幅部に設けられたことを特徴とする請求項1または2に記載のファイバレーザ発振装置。
- 前記シード光の増幅光が前記第1のループの単位長当たりに反射される回数は、前記増幅光が前記第2のループの単位長当たりに反射される回数よりも多いことを特徴とする請求項3記載のファイバレーザ発振装置。
- 前記光ファイバは、前記シード光を増幅せずに伝送可能な伝送部をさらに有し、
前記第1のループは前記伝送部に設けられたことを特徴とする請求項1または2に記載のファイバレーザ発振装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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2010
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