JP2012048251A - ハウジング構造体 - Google Patents
ハウジング構造体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012048251A JP2012048251A JP2011215486A JP2011215486A JP2012048251A JP 2012048251 A JP2012048251 A JP 2012048251A JP 2011215486 A JP2011215486 A JP 2011215486A JP 2011215486 A JP2011215486 A JP 2011215486A JP 2012048251 A JP2012048251 A JP 2012048251A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- housing
- frame
- optical element
- freedom
- structural module
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/04—Optical benches therefor
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
- G02B7/182—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】ハウジング構造体は、装着部6若しくは構造モジュールに保持された複数の光学素子5が、複数の接続部材7によって配置されたフレーム構造体1を有している。光学素子5は、取付け状態で、取着部若しくは構造モジュールと接続部材とが、支持ユニットしてフレーム構造体に一体的であるように、取着部6若しくは構造モジュールと接続部材7とによってフレーム構造1に着脱可能に接続されている。
【選択図】図1
Description
Claims (51)
- 装着部若しくは構造モジュールに保持されている複数の光学素子が、複数の接続部材によって配置されているフレーム構造体を有するハウジング構造体において、前記光学素子(5)は、取付け状態で、前記装着部若しくは構造モジュールと前記接続部材とが、支持ユニットとして前記フレーム構造体(1)と一体的であるように、前記装着部(6)若しくは構造モジュール(6’)と接続部材(7)とによって前記フレーム構造体(1)に着脱可能に接続されていることを特徴とするハウジング構造体。
- 前記光学素子(5)は、基部部材(6)の形状の前記装着部(6)に支持されていることを特徴とする請求項1のハウジング構造体。
- 前記装着部(6)若しくは構造モジュール(6’)には、セッティング部材(8)が設けられていることを特徴とする請求項1のハウジング構造体。
- アクチュエータ(8)が、前記セッティング部材として、前記光学素子(5)と、前記装着部(6)若しくは構造モジュール(6’)との間に設けられていることを特徴とする請求項3のハウジング構造体。
- 前記光学素子(5)は、前記セッティング部材(8)によって6自由度で調節され得ることを特徴とする請求項3のハウジング構造体。
- 調節部材(10)が、前記基部部材(6)とフレーム構造体(1)との間に配置されていることを特徴とする請求項2のハウジング構造体。
- 前記装着部(6)若しくは構造モジュール(6’)は、前記接続部材によって6自由度で前記フレーム構造体(1)に固定して接続されていることを特徴とする請求項1のハウジング構造体。
- 前記6自由度の力の少なくとも幾つかの方向は、前記フレーム構造体(1)のプレート面若しくは支柱面内にあることを特徴とする請求項1のハウジング構造体。
- 重力補償器(11)が、前記光学素子(5)と、前記装着部(6)若しくは構造モジュール(6’)との間に配置されていることを特徴とする請求項1のハウジング構造体。
- 前記フレーム構造体(1)と、前記装着部(6)若しくは構造モジュール(6’)と、前記接続部材(7)とは、ほぼ同じ熱膨張係数を少なくとも有していることを特徴とする請求項1のハウジング構造体。
- 前記フレーム構造体(1)と、前記装着部(6)若しくは構造モジュール(6’)と、前記接続部材(7)とは、例えばゼロデュア若しくはキョウセラのような、熱膨張係数の低い材料で形成されることを特徴とする請求項10のハウジング構造体。
- マイクロリソグラフィーでの投影対象物のための対物ハウジング(9)としての構造によって特徴付けられている請求項1のハウジング構造体。
- 前記対物ハウジング(9)は、EUVリソグラフィーのために設けられていることを特徴とする請求項12のハウジング構造体。
- ミラー(5)が、光学素子として前記対物ハウジング(9)内に設けられていることを特徴とする請求項13のハウジング構造体。
- 第1のフレーム部分と、前記第1のフレーム部分に横方向に対向する第2のフレーム部分と、を含む複数のフレーム部分を具えているフレーム構造体と、
前記第1のフレーム部分および前記第2のフレーム部分を接続している構造モジュールと、
前記構造モジュールによって担持される第1の光学素子と、
を具えるハウジングであって、
EUVマイクロリソグラフィーの投影対物ハウジングであることを特徴とするハウジング。 - 前記構造モジュールは、前記フレーム部分間の開口部に、部分的に配置されている、あるいは、前記構造化モジュールは、前記フレーム部分のうちの1つの開口部に配置されていることを特徴とする請求項15に記載のハウジング。
- 装着部をさらに具え、
前記装着部は、前記フレーム部分間の開口部に配置されている、あるいは、前記装着部は前記フレーム部分のうちの1つの開口部に配置されていることを特徴とする請求項15に記載のハウジング。 - 第2の光学素子をさらに具え、
前記第2の光学素子は、前記装着部によって担持されることを特徴とする請求項17に記載のハウジング。 - 前記フレーム部分と、前記構造モジュールと、前記装着部とは、少なくともほぼ同じ熱膨張率を有することを特徴とする請求項18に記載のハウジング。
- 前記フレーム部分と、前記構造モジュールと、前記装着部とは、結晶化ガラスで構成されることを特徴とする請求項18に記載のハウジング。
- 前記装着部と前記第2の光学素子との間のアクチュエータをさらに具えることを特徴とする請求項18のハウジング。
- 前記装着部と前記第2の光学素子との間の複数のアクチュエータをさらに具え、
前記複数のアクチュエータは、6自由度で、前記第2の光学素子の位置を調整するように構成されていることを特徴とする請求項18に記載のハウジング。 - 前記装着部と前記第2の光学素子との間の重力補償器をさらに具えることを特徴とする請求項21のハウジング。
- 前記構造モジュールは、6自由度で、前記第1のフレーム部分および前記第2のフレーム部分に、強固に接続されていることを特徴とする請求項15のハウジング。
- 前記第1のフレーム部分と、前記第2のフレーム部分と、前記構造モジュールは、少なくともほぼ同じ熱膨張率を有することを特徴とする請求項15に記載のハウジング。
- 前記第1のフレーム部分と、前記第2のフレーム部分と、前記構造モジュールは、結晶化ガラスで構成されることを特徴とする請求項15に記載のハウジング。
- 前記構造モジュールは、1自由度で柔軟性がなく、他の自由度で柔軟性がある接続点を介して、前記フレーム構造体に接続されていることを特徴とする請求項15に記載のハウジング。
- フレーム構造体と、
装着部および構造モジュールからなる群から選択される部材であって、1自由度で柔軟性がなく、他の自由度で柔軟性がある第1の接続点を介して前記フレーム構造体に接続されている部材と、
前記部材によって担持される光学素子と、
を具えるハウジングであって、
EUVマイクロリソグラフィーの投影対物ハウジングであることを特徴とするハウジング。 - 前記部材は、前記第1の接続点を含む多数の接続点によって、前記フレーム構造体に接続されていることを特徴とする請求項28に記載のハウジング。
- 各接続点のために、前記接続点は、1自由度で柔軟性がなく、他の自由度で柔軟性があることを特徴とする請求項29に記載のハウジング。
- 前記フレーム構造体および前記部材は、少なくともほぼ同じ熱膨張率を有することを特徴とする請求項28に記載のハウジング。
- 前記フレーム構造体および前記部材は、結晶化ガラスで構成されることを特徴とする請求項28に記載のハウジング。
- 前記部材と前記光学素子との間のアクチュエータをさらに具えることを特徴とする請求項28に記載のハウジング。
- 前記装着部と前記光学素子との間の複数のアクチュエータをさらに具え、
前記複数のアクチュエータは、6自由度で、前記光学素子の位置を調整するように構成されていることを特徴とする請求項28に記載のハウジング。 - 前記部材と前記光学素子との間の重力補償器をさらに具えることを特徴とする請求項34に記載のハウジング。
- 前記部材は、第2の装着部を具えることを特徴とする請求項28に記載のハウジング。
- 前記フレーム構造体は、複数のフレーム部分を具え、
前記第2の装着部は、前記フレーム部分間の開口部に配置されている、あるいは、
前記第2の装着部は、前記フレーム部分のうちの1つの開口部に配置されていることを特徴とする請求項36に記載のハウジング。 - 前記フレーム構造体は複数のフレーム部分を具え、前記構造モジュールは前記フレーム部分間の開口部に配置されていることを特徴とする請求項28に記載のハウジング。
- 前記フレーム構造体は、第1のフレーム部分と、前記第1のフレーム部分に横方向に対向する第2フレーム部分と、を具え、
前記部材は、横方向に対向するフレーム部分を接続することを特徴とする請求項28に記載のハウジング。 - 前記フレーム構造体は、複数のフレーム部分を具えることを特徴とする請求項28に記載のハウジング。
- 2つのフレーム部分を具えているフレーム構造体と、
前記2つのフレーム部分に接続されている第1の部材と、
前記2つのフレーム部分の一方に接続されている第2の部材と、
前記第1の部材および前記第2の部材からなる群から選択される少なくとも1つの部材によって担持される光学素子と、
を具えるハウジングであって、
前記第1の部材および前記第2の部材は、装着部および構造モジュールからなる群から選択され、
EUVマイクロリソグラフィーの投影対物ハウジングであることを特徴とするハウジング。 - 前記第1の部材および前記第2の部材のうちの1つは、第1の接続点を介して前記フレーム構造体に接続され、
前記第1の接続点は、1自由度で柔軟性がなく、他の自由度で柔軟性があることを特徴とする請求項41に記載のハウジング。 - 前記第1の接続点を介して前記フレーム構造体に接続されている前記部材は、前記第1の接続点を含む多数の接続点によって、前記フレーム構造体に接続されていることを特徴とする請求項42に記載のハウジング。
- 各接続点のために、前記接続点は、1自由度で柔軟性がなく、他の自由度で柔軟性があることを特徴とする請求項43に記載のハウジング。
- 前記フレーム構造体、前記第1部材および前記第2部材は、少なくともほぼ同じ熱膨張率を有することを特徴とする請求項41に記載のハウジング。
- 前記フレーム構造体、前記第1部材および前記第2部材は、結晶化ガラスで構成されることを特徴とする請求項41に記載のハウジング。
- 前記光学素子と前記部材の1つとの間のアクチュエータをさらに具えることを特徴とする請求項41に記載のハウジング。
- 前記装着部と前記光学素子との間の複数のアクチュエータをさらに具え、
前記複数のアクチュエータは、6自由度で、前記光学素子の位置を調整するように構成されていることを特徴とする請求項47に記載のハウジング。 - 前記光学素子と前記部材のうちの1つのとの間に重力補償器をさらに具えることを特徴とする請求項48に記載のハウジング。
- 前記第1のフレーム部分および前記第2のフレーム部分は互いに横方向に対向して配置され、前記部材のうちの1つは前記横方向に対向したフレーム部分を接続することを特徴とする請求項41に記載のハウジング。
- 前記第1部材は前記フレーム部分間の開口部に配置されている、あるいは、前記第1部材は前記2つのフレーム部分の開口部に配置されていることを特徴とする請求項41に記載のハウジング。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102004009243 | 2004-02-26 | ||
DE102004009243.5 | 2004-02-26 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007500060A Division JP5008551B2 (ja) | 2004-02-26 | 2004-04-20 | ハウジング構造体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012048251A true JP2012048251A (ja) | 2012-03-08 |
JP5583646B2 JP5583646B2 (ja) | 2014-09-03 |
Family
ID=34894865
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007500060A Expired - Fee Related JP5008551B2 (ja) | 2004-02-26 | 2004-04-20 | ハウジング構造体 |
JP2011215486A Expired - Fee Related JP5583646B2 (ja) | 2004-02-26 | 2011-09-29 | ハウジング構造体 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007500060A Expired - Fee Related JP5008551B2 (ja) | 2004-02-26 | 2004-04-20 | ハウジング構造体 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8018664B2 (ja) |
JP (2) | JP5008551B2 (ja) |
WO (1) | WO2005083487A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005083487A1 (en) * | 2004-02-26 | 2005-09-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Housing structure |
DE102005060622A1 (de) * | 2005-12-19 | 2007-04-19 | Carl Zeiss Smt Ag | Montagevorrichtung für eine optische Einrichtung |
EP1882983A1 (en) * | 2006-07-25 | 2008-01-30 | Carl Zeiss SMT AG | Gravity compensating support for an optical element |
DE102009045223A1 (de) * | 2009-09-30 | 2011-03-31 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung in einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Lithographie |
KR101328870B1 (ko) | 2009-09-30 | 2013-11-13 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 광학 시스템 |
CN104380201B (zh) * | 2012-05-31 | 2016-11-23 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 具有多个度量支撑单元的光学成像设备 |
USD734471S1 (en) * | 2013-09-02 | 2015-07-14 | Ocuspecto Oy | Eye testing apparatus |
EP3041399B1 (en) | 2013-09-02 | 2017-11-01 | Ocuspecto OY | Automated perimetry |
USD738510S1 (en) * | 2014-10-02 | 2015-09-08 | Carl Zeiss Meditec, Inc. | Ophthalmic device |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10253872A (ja) * | 1997-03-13 | 1998-09-25 | Nikon Corp | 反射光学部材の保持装置及び露光装置 |
JPH11345760A (ja) * | 1998-05-29 | 1999-12-14 | Nikon Corp | 露光装置 |
US6147818A (en) * | 1998-12-21 | 2000-11-14 | The Regents Of The University Of California | Projection optics box |
JP2002072120A (ja) * | 2000-08-28 | 2002-03-12 | Canon Inc | 光偏向器 |
JP2003158070A (ja) * | 2001-07-14 | 2003-05-30 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
EP1321823A2 (en) * | 2001-12-21 | 2003-06-25 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2003227986A (ja) * | 2002-02-04 | 2003-08-15 | Nikon Corp | 光学要素の位置決め方法及び装置、投影光学系、並びに露光装置 |
JP2004128307A (ja) * | 2002-10-04 | 2004-04-22 | Nikon Corp | 露光装置及びその調整方法 |
JP2004327529A (ja) * | 2003-04-22 | 2004-11-18 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2007524129A (ja) * | 2004-02-26 | 2007-08-23 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | ハウジング構造体 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0961684A (ja) * | 1995-08-29 | 1997-03-07 | Olympus Optical Co Ltd | 光学部材の保持機構 |
JP3596707B2 (ja) * | 1996-09-02 | 2004-12-02 | 日本電信電話株式会社 | 変位鏡装置 |
US6043863A (en) * | 1996-11-14 | 2000-03-28 | Nikon Corporation | Holder for reflecting member and exposure apparatus having the same |
US6095697A (en) * | 1998-03-31 | 2000-08-01 | Honeywell International Inc. | Chip-to-interface alignment |
US6031598A (en) * | 1998-09-25 | 2000-02-29 | Euv Llc | Extreme ultraviolet lithography machine |
US6056405A (en) * | 1998-10-15 | 2000-05-02 | In Focus Systems, Inc. | Lamp module with kinematic mount |
US6325351B1 (en) * | 2000-01-05 | 2001-12-04 | The Regents Of The University Of California | Highly damped kinematic coupling for precision instruments |
US6449106B1 (en) * | 2000-08-10 | 2002-09-10 | Nikon Corporation | Catadioptric lens barrel structure having a support structure to maintain alignment of a plurality of sub-barrels |
KR100775796B1 (ko) * | 2000-08-18 | 2007-11-12 | 가부시키가이샤 니콘 | 광학소자 유지장치 |
JP5041810B2 (ja) | 2003-09-12 | 2012-10-03 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学素子操作装置 |
KR101134210B1 (ko) * | 2003-10-02 | 2012-04-09 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 반도체 리토그래피용 광학 서브어셈블리 및 투영 대물렌즈 |
-
2004
- 2004-04-20 WO PCT/EP2004/004235 patent/WO2005083487A1/en active Application Filing
- 2004-04-20 US US10/598,014 patent/US8018664B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-04-20 JP JP2007500060A patent/JP5008551B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-05-16 US US13/108,549 patent/US20110216428A1/en not_active Abandoned
- 2011-09-29 JP JP2011215486A patent/JP5583646B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10253872A (ja) * | 1997-03-13 | 1998-09-25 | Nikon Corp | 反射光学部材の保持装置及び露光装置 |
JPH11345760A (ja) * | 1998-05-29 | 1999-12-14 | Nikon Corp | 露光装置 |
US6147818A (en) * | 1998-12-21 | 2000-11-14 | The Regents Of The University Of California | Projection optics box |
JP2002072120A (ja) * | 2000-08-28 | 2002-03-12 | Canon Inc | 光偏向器 |
JP2003158070A (ja) * | 2001-07-14 | 2003-05-30 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
EP1321823A2 (en) * | 2001-12-21 | 2003-06-25 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2003227986A (ja) * | 2002-02-04 | 2003-08-15 | Nikon Corp | 光学要素の位置決め方法及び装置、投影光学系、並びに露光装置 |
JP2004128307A (ja) * | 2002-10-04 | 2004-04-22 | Nikon Corp | 露光装置及びその調整方法 |
JP2004327529A (ja) * | 2003-04-22 | 2004-11-18 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2007524129A (ja) * | 2004-02-26 | 2007-08-23 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | ハウジング構造体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5008551B2 (ja) | 2012-08-22 |
JP5583646B2 (ja) | 2014-09-03 |
WO2005083487A1 (en) | 2005-09-09 |
US20090303626A1 (en) | 2009-12-10 |
US8018664B2 (en) | 2011-09-13 |
US20110216428A1 (en) | 2011-09-08 |
JP2007524129A (ja) | 2007-08-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5583646B2 (ja) | ハウジング構造体 | |
KR101129119B1 (ko) | 광학 요소의 조작을 위한 장치 | |
KR100636755B1 (ko) | 이중 격리 시스템을 갖는 리소그래피 공구 및 그를 구성하기 위한 방법 | |
US7995884B2 (en) | Device consisting of at least one optical element | |
US8199315B2 (en) | Projection objective for semiconductor lithography | |
US6529264B1 (en) | Support structure for a projection exposure apparatus and projection exposure apparatus having the same | |
US10386732B2 (en) | Bearing assembly for a lithography system, and lithography system | |
JPH08288198A (ja) | 露光装置 | |
WO2006022200A1 (ja) | ステージ装置及び露光装置 | |
JP5918815B2 (ja) | 投影光学系 | |
TW200944955A (en) | Exposure apparatus and device manufacturing method | |
KR20120052364A (ko) | 광학 소자용 홀딩 장치 | |
JP4237755B2 (ja) | 半導体リソグラフィにおける光学的半組立品及び投射対物レンズ | |
US20230094685A1 (en) | Stage apparatus, exposure apparatus, method of manufacturing flat panel display, and device manufacturing method | |
JP5127515B2 (ja) | 光学素子保持装置 | |
WO2024061869A1 (en) | Bipod, optical system and projection exposure apparatus | |
TW200947163A (en) | Positioning unit of optical element, optical system, exposure apparatus, adjustment method of optical system | |
US20060187511A1 (en) | Device for mounting an optical element, particularly a lens in an objective | |
JP2004279899A (ja) | 反射鏡支持調整機構 | |
JP4331329B2 (ja) | レーザー墨出し器 | |
Damm et al. | Wafer stage assembly for ion projection lithography | |
TW202424564A (zh) | 雙腳架、光學系統及投影曝光設備 | |
JP2011107438A (ja) | 高精度な折り曲げミラーの構成と組立方法 | |
JP2013051239A (ja) | 部材の支持構造、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
JP2715182C (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130829 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130917 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20131216 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20131219 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140317 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140624 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140716 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5583646 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |