JP2012032210A - Analysis light generation device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To achieve the microfabrication of a droplet of a liquid sample contained in sample gas introduced to a plasma generation unit.SOLUTION: A plasma generation unit 102 using micro-hollow cathode discharge is mounted on a container 4. Defense walls 9-1 and 9-2 are installed in the container 4. The defense walls 9-1 and 9-2 are respectively formed with a through-hole 9b at a position avoiding the central part (a position far from a position opposite to the central part of an ultrasonic oscillator 8). The through-hole 9b of the defense wall 9-2 at the second stage is formed at a position isolated from the through-hole 9b of the defense wall 9-1 at the first stage by 180°. Thus, a liquid sample contained in sample gas whose droplet is large is shaken off by the defense wall 9-1 at the first stage, and the remaining sample gas is transmitted through the through-hole 9b of the defense fall 9-1 at the first stage and the through-hole 9b of the defense wall 9-2 at the second stage (the relay path of the sample gas becomes long). Therefore, it is possible to achieve the microfabrication of the droplet of the liquid sample contained in the sample gas.

Description

この発明は、導入される液体試料に超音波を加えて噴霧化し、この噴霧化された液体試料にキャリアガスを混合して試料ガスとし、この試料ガスをプラズマ発生部に導いて液体試料中の元素を特定するための分析光を生成する分析光発生装置に関するものである。   In the present invention, an ultrasonic wave is applied to a liquid sample to be introduced for atomization, a carrier gas is mixed with the atomized liquid sample to form a sample gas, and the sample gas is guided to a plasma generation unit to be contained in the liquid sample. The present invention relates to an analytical light generator that generates analytical light for specifying an element.

従来より、液体試料中の元素を分析するための装置として、ICP発光分光分析装置が用いられている(例えば、特許文献1参照)。このICP発光分光分析装置では、液体試料を超音波を加えて噴霧化し、この噴霧化された液体試料にキャリアガスを混合して試料ガスとし、この試料ガスを高周波プラズマ中に導いて、液体試料中の元素を特定するための分析光を生成する。   Conventionally, an ICP emission spectroscopic analyzer has been used as an apparatus for analyzing elements in a liquid sample (see, for example, Patent Document 1). In this ICP emission spectroscopic analysis apparatus, a liquid sample is atomized by applying ultrasonic waves, a carrier gas is mixed with the atomized liquid sample to form a sample gas, and the sample gas is guided into a high-frequency plasma. Analytical light is generated to identify the elements in it.

このICP発光分光分析装置は、高周波発生用の設備が必要となるため、機器が大型となり、消費電力も大きい。また、大型のため、据え置きタイプとなり、現場配管などに直接繋げて元素分析を行うことができない。   Since this ICP emission spectroscopic analyzer requires equipment for generating high frequency, the equipment becomes large and power consumption is large. In addition, because of its large size, it becomes a stationary type and cannot be directly connected to on-site piping or the like for elemental analysis.

このため、ICP発光分光分析装置では、現場で直接、工場排水などの液体試料中の元素を分析したいという近年の要望に応えることができない。また、取り扱いやメンテナンス(試料導入部の洗浄など)の容易性の観点からも、ICP発光分光分析装置の現場での使用は不向きである。   For this reason, the ICP emission spectroscopic analyzer cannot meet the recent demand for analyzing elements in liquid samples such as factory effluent directly in the field. In addition, from the viewpoint of ease of handling and maintenance (cleaning of the sample introduction unit, etc.), the ICP emission spectroscopic analyzer is not suitable for use in the field.

そこで、本出願人は、マイクロホローカソード放電を利用したプラズマ発生部を用いることにより、装置の小型化を図ることを試みている。   Therefore, the present applicant has attempted to reduce the size of the apparatus by using a plasma generation unit using micro hollow cathode discharge.

図5はマイクロホローカソード放電を利用したプラズマ発生部の電極構造の概略を示す図である。同図において、1−1および1−2は平行平板電極であり、2はこの電極1−1,1−2間にサンドイッチ状に挟み込まれた絶縁板である。電極1−1,1−2および絶縁板2の中央には小径の孔3が形成されている。   FIG. 5 is a diagram showing an outline of an electrode structure of a plasma generating unit using micro hollow cathode discharge. In the figure, 1-1 and 1-2 are parallel plate electrodes, and 2 is an insulating plate sandwiched between the electrodes 1-1 and 1-2. A small-diameter hole 3 is formed in the center of the electrodes 1-1 and 1-2 and the insulating plate 2.

このような電極構造を有するプラズマ発生部では、電極1−1,1−2間に所定の直流電圧を印加することにより、試料ガスが導かれる小径の孔3にプラズマを発生させ、分析光を生成させる。   In the plasma generator having such an electrode structure, a predetermined DC voltage is applied between the electrodes 1-1 and 1-2 to generate plasma in the small-diameter hole 3 through which the sample gas is guided, and the analysis light is emitted. Generate.

これにより、大気圧下、小電力、小空間で、高い電流密度のプラズマを発生させることができ、液体試料が導入される容器とプラズマ発生部とを直結させるようにして、装置を小型化することが可能となる。   As a result, a plasma with a high current density can be generated under atmospheric pressure, with a small electric power and in a small space, and the container into which the liquid sample is introduced and the plasma generating unit are directly connected to reduce the size of the apparatus. It becomes possible.

なお、マイクロホローカソード放電については、特許文献2などにもその使用例があるので、ここでの詳細な説明は省略する。   In addition, since the micro hollow cathode discharge has the usage example also in patent document 2, etc., detailed description here is abbreviate | omitted.

特開平5−232025号公報JP-A-5-232025 特開2008−181704号公報JP 2008-181704 A

しかしながら、マイクロホローカソード放電を利用し、液体試料が導入される容器とプラズマ発生部とを直結させるようにした場合、図6にその概略図を示すように、噴霧化された液体試料6とキャリアガス7との混合ガス(試料ガス)がダイレクトにプラズマ発生部5に導かれることになる。   However, when the micro-hollow cathode discharge is used to directly connect the container into which the liquid sample is introduced and the plasma generating unit, the atomized liquid sample 6 and the carrier are shown in FIG. A mixed gas (sample gas) with the gas 7 is directly guided to the plasma generation unit 5.

このため、プラズマ発生部5に導かれる試料ガス中に液滴の大きな液体試料が含まれるものとなり、分析光の発光強度にバラツキが生じ、分析が不安定となるという問題があった。   For this reason, a liquid sample having large droplets is included in the sample gas guided to the plasma generation unit 5, and there is a problem that the emission intensity of the analysis light varies and the analysis becomes unstable.

なお、図6において、4−1は液体試料導入口、4−2はキャリアガス導入口、4−3は液体試料導出口、8は超音波振動子であり、超音波振動子8によって容器4内の液体試料6が噴霧化される。   In FIG. 6, 4-1 is a liquid sample inlet, 4-2 is a carrier gas inlet, 4-3 is a liquid sample outlet, and 8 is an ultrasonic vibrator. The liquid sample 6 inside is atomized.

本発明は、このような課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、プラズマ発生部に導かれる試料ガス中に含まれる液体試料の液滴を微細化し、安定した分析を連続的に行わせることが可能な分析光発生装置を提供することにある。   The present invention has been made in order to solve such problems. The object of the present invention is to reduce the size of a liquid sample droplet contained in a sample gas introduced to a plasma generator and perform stable analysis. An object of the present invention is to provide an analytical light generator capable of being continuously performed.

このような目的を達成するために本発明は、プラズマ発生部に向かう容器内の試料ガスの流路中に、超音波振動子の中心部に対向する位置から離れた位置に試料ガスを通過させる通路を有する防御壁を設置するようにしたものである。   In order to achieve such an object, the present invention allows the sample gas to pass through a position away from the position facing the central portion of the ultrasonic transducer in the flow path of the sample gas in the container toward the plasma generating section. A defensive wall having a passage is installed.

この発明において、超音波振動子によって噴霧化された液体試料は、キャリアガスと混合されて試料ガスとされ、容器内の流路中をプラズマ発生部に向かう。この途中、試料ガスは、容器内に設置されている防御壁に当たる。   In the present invention, the liquid sample atomized by the ultrasonic vibrator is mixed with the carrier gas to form the sample gas, and the liquid sample in the container is directed to the plasma generation unit. In the middle of this, the sample gas hits a defense wall installed in the container.

この際、噴霧化された液体試料は超音波振動子の中心部から吹き上げられ、この吹き上げられた液体試料とキャリアガスとの混合ガス(試料ガス)が防御壁に当たり、試料ガス中に含まれている液滴の大きな液体試料が振り落とされる。   At this time, the atomized liquid sample is blown up from the center of the ultrasonic transducer, and the mixed gas (sample gas) of the blown up liquid sample and the carrier gas hits the protective wall and is contained in the sample gas. A large liquid sample of a drop is shaken off.

これにより、試料ガスには液滴の小さな液体試料が残り、この試料ガスが超音波振動子の中心部に対向する位置から離れた位置にある防御壁の通路を通過して、容器内の流路中をプラズマ発生部に向かう。   As a result, a liquid sample with small droplets remains in the sample gas, and the sample gas passes through the passage of the defense wall at a position away from the position facing the center of the ultrasonic transducer, and flows in the container. Head toward the plasma generator along the road.

本発明において、防御壁が有する通路は、防御壁に形成された貫通孔であってもよいし、防御壁の外周面に形成された切欠(防御壁の外周面の一部と容器の内周面との間の隙間)などであってもよい。   In the present invention, the passage provided in the defense wall may be a through hole formed in the defense wall, or a notch formed in the outer peripheral surface of the defense wall (a part of the outer peripheral surface of the defense wall and the inner periphery of the container). Or a gap between the surfaces).

本発明において、防御壁は1つであっても構わないが、試料ガス中に含まれる液体試料の液滴をより小さくするためには、試料ガスの通過方向に間隔を設けて防御壁を複数設置することが好ましい。また、防御壁を複数設置する場合には、隣接する防御壁が有する通路を離隔して設置するようにするとよい。例えば、1段目の防御壁が有する通路に対して、2段目の防御壁が有する通路を180゜離隔した位置とする。   In the present invention, there may be one protective wall, but in order to make the droplet of the liquid sample contained in the sample gas smaller, a plurality of protective walls are provided at intervals in the sample gas passage direction. It is preferable to install. Further, when a plurality of defense walls are installed, it is preferable that the passages of the adjacent defense walls are installed separately. For example, the passage of the second-stage defense wall is positioned 180 ° apart from the passage of the first-stage defense wall.

また、本発明において、防御壁は固定されていても構わないが、試料ガスの通過方向に防御壁を移動可能に設置し、その位置を調整できるようにすることが好ましい。また、防御壁およびプラズマ発生部は、部品の交換やメンテナンスの観点から、容器に対して着脱可能に設けるようにした方がよい。また、容器を加熱する加熱手段を設け、試料ガス中に含まれる液体試料の液滴の微細化を促進するようにしてもよい。   In the present invention, the defense wall may be fixed, but it is preferable that the defense wall be installed so as to be movable in the direction of passage of the sample gas so that the position thereof can be adjusted. Further, it is preferable that the protective wall and the plasma generation unit are detachably provided to the container from the viewpoint of component replacement and maintenance. Further, a heating means for heating the container may be provided to promote the miniaturization of the liquid sample droplet contained in the sample gas.

本発明によれば、プラズマ発生部に向かう容器内の試料ガスの流路中に、超音波振動子の中心部に対向する位置から離れた位置に試料ガスを通過させる通路を有する防御壁を設置するようにしたので、試料ガス中に含まれている液滴の大きな液体試料を振り落とし、液滴の小さな液体試料を通過させるようにして、プラズマ発生部に導かれる試料ガス中に含まれる液体試料の液滴を微細化し、安定した分析を連続的に行わせることが可能となる。   According to the present invention, a protective wall having a passage through which the sample gas passes is installed at a position away from the position facing the central portion of the ultrasonic transducer in the flow path of the sample gas in the container toward the plasma generation unit. Since the liquid sample contained in the sample gas is shaken off and the liquid sample containing small droplets is allowed to pass therethrough, the liquid contained in the sample gas introduced to the plasma generation unit. Sample droplets can be made finer and stable analysis can be continuously performed.

本発明に係る分析光発生装置の一実施の形態の要部を示す構成図である。It is a block diagram which shows the principal part of one Embodiment of the analytical light generator which concerns on this invention. コーナ部に超音波振動子を設けるようにした分析光発生装置の要部を示す図である。It is a figure which shows the principal part of the analytical light generator which provided the ultrasonic transducer | vibrator in the corner part. 防御壁を分割構造としその間に通路を形成するようにした分析光発生装置の要部を示す図である。It is a figure which shows the principal part of the analytical light generator which made the defense wall a division structure and formed the channel | path between them. 容器の周囲にヒータを設けるようにした分析光発生装置の要部を示す構成図である。It is a block diagram which shows the principal part of the analytical light generator which provided the heater around the container. マイクロホローカソード放電を利用したプラズマ発生部の電極構造の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the electrode structure of the plasma generation part using micro hollow cathode discharge. 液体試料が導入される容器とマイクロホローカソード放電を利用したプラズマ発生部とを直結させるようにした場合の概略図である。It is the schematic at the time of making it connect directly the container in which a liquid sample is introduce | transduced, and the plasma generation part using micro hollow cathode discharge.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
図1はこの発明に係る分析光発生装置の一実施の形態の要部を示す構成図である。同図において、図6と同一符号は、図6を参照して説明した構成要素と同一或いは同等構成要素を示す。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a block diagram showing the main part of an embodiment of an analytical light generator according to the present invention. In FIG. 6, the same reference numerals as those in FIG. 6 denote the same or equivalent components as those described with reference to FIG.

この分析光発生装置100は、本体部101と、プラズマ発生部102と、コネクタ部103とから構成され、本体部101とプラズマ発生部102とを含めた高さ方向の寸法Hは150mm程度、幅方向の寸法Wは80mm程度と小型・コンパクトな構造とされている。   This analytical light generator 100 is composed of a main body 101, a plasma generator 102, and a connector 103. A dimension H in the height direction including the main body 101 and the plasma generator 102 is about 150 mm, and a width. The direction dimension W is about 80 mm, which is a small and compact structure.

〔本体部〕
本体部101は、有底円筒状のステンレス製の容器4を備え、容器4の底部には試料導入口4−1とキャリアガス導入口4−2と試料導出口4−3が設けられている。試料導入口4−1とキャリアガス導入口4−2は、キャリアガス導入口4−2を試料導入口4−1よりも高い位置として、容器4の外周面に設けられている。試料導出口4−3は容器4の底面に設けられている。
[Main body]
The main body 101 includes a bottomed cylindrical stainless steel container 4, and a sample introduction port 4-1, a carrier gas introduction port 4-2, and a sample outlet port 4-3 are provided at the bottom of the container 4. . The sample introduction port 4-1 and the carrier gas introduction port 4-2 are provided on the outer peripheral surface of the container 4 with the carrier gas introduction port 4-2 positioned higher than the sample introduction port 4-1. The sample outlet 4-3 is provided on the bottom surface of the container 4.

この本体部101において、試料導入口4−1からは液体試料6が容器4内に連続的に導入され、キャリアガス導入口4−2からはキャリアガス7が連続的に容器4内に導入される。キャリアガス7は、プラズマ発生部102での分析光の発光をし易くするために導入されるガスで、例えばアルゴンガス(Arガス)が用いられる。また、容器4に導入された液体試料6は、容器4の底部を流れて、試料導出口4−3から連続的に排出される。   In the main body 101, the liquid sample 6 is continuously introduced into the container 4 from the sample introduction port 4-1, and the carrier gas 7 is continuously introduced into the container 4 from the carrier gas introduction port 4-2. The The carrier gas 7 is a gas introduced to facilitate the emission of the analysis light at the plasma generation unit 102, and for example, argon gas (Ar gas) is used. The liquid sample 6 introduced into the container 4 flows through the bottom of the container 4 and is continuously discharged from the sample outlet 4-3.

容器4の底部には、容器4に導入された液体試料6、すなわち容器4の底部を流れる液体試料6に超音波を加えて噴霧化する超音波振動子8が設けられている。超音波振動子8は容器4の底部の中央に設けられている。すなわち、容器4の中心線Cに対して、超音波振動子8の中心部(振動中心)を一致させるようにして、超音波振動子8が容器4の底部に設けられている。   At the bottom of the container 4, there is provided an ultrasonic transducer 8 that applies an ultrasonic wave to the liquid sample 6 introduced into the container 4, that is, the liquid sample 6 that flows through the bottom of the container 4. The ultrasonic transducer 8 is provided at the center of the bottom of the container 4. That is, the ultrasonic transducer 8 is provided at the bottom of the container 4 so that the central portion (vibration center) of the ultrasonic transducer 8 matches the center line C of the container 4.

また、容器4の内周面には、容器4の上端面からネジ部4−4が形成されている。このネジ部4−4はキャリアガス導入口4−2の上方まで続いている。そして、このネジ部4−4にその外周面に形成されたネジ部9aを螺合させて、容器4内に円板状の防御壁9が設置されている。防御壁9も容器4と同じステンレス製とされている。   Further, a threaded portion 4-4 is formed on the inner peripheral surface of the container 4 from the upper end surface of the container 4. This screw portion 4-4 continues to above the carrier gas inlet 4-2. And the screw-shaped defense wall 9 is installed in the container 4 by screwing the screw part 9a formed in the outer peripheral surface to this screw part 4-4. The protective wall 9 is also made of the same stainless steel as the container 4.

防御壁9には、その中心部を避けた位置(超音波振動子8の中心部に対向する位置から離れた位置)に、試料ガスの通路として貫通孔9bが形成されている。この貫通孔9bは表面張力により液膜が張らない程度の大きさ(例えば、直径5mm以上)とされている。また、防御壁9の上面中央部には、この防御壁9の容器4内の上下方向の位置を調整可能とするための溝9cが形成されている。この例では、溝9cにドライバの先端を差し込んで回すことによって、防御壁9を回転させて容器4内の上下方向の位置を調整することができるものととされいる。   A through-hole 9b is formed in the defense wall 9 as a sample gas passage at a position avoiding the central portion (a position away from a position facing the central portion of the ultrasonic transducer 8). The through hole 9b has a size (for example, a diameter of 5 mm or more) such that the liquid film is not stretched due to surface tension. Further, a groove 9c is formed in the central portion of the upper surface of the defense wall 9 so that the vertical position of the defense wall 9 in the container 4 can be adjusted. In this example, it is assumed that the vertical position in the container 4 can be adjusted by rotating the defense wall 9 by inserting the tip of the driver into the groove 9c and turning it.

容器4内の防御壁9は2段とされている。この例では、試料ガスの通過方向に間隔を設けて、容器4内に2つの防御壁9−1,9−2を設置している。この場合、防御壁9−1,9−2の回転角度位置を調整することにより、1段目の防御壁9−1の貫通孔9bに対して、2段目の防御壁9−2の貫通孔9bを180゜離隔した位置としている。また、防御壁9−1,9−2の容器4内における上下方向の位置を調整することにより、容器4の底部に設けられている超音波振動子8から防御壁9−1までの距離L1および防御壁9−1と防御壁9−2との間の距離L2を予め定められた距離としている。   The defense wall 9 in the container 4 has two stages. In this example, two defense walls 9-1 and 9-2 are installed in the container 4 at intervals in the sample gas passage direction. In this case, by adjusting the rotation angle position of the defense walls 9-1 and 9-2, the second-stage defense wall 9-2 penetrates the through-hole 9b of the first-stage defense wall 9-1. The hole 9b is positioned 180 ° apart. Moreover, the distance L1 from the ultrasonic transducer | vibrator 8 provided in the bottom part of the container 4 to the defense wall 9-1 is adjusted by adjusting the vertical position in the container 4 of the defense walls 9-1 and 9-2. The distance L2 between the defense wall 9-1 and the defense wall 9-2 is set to a predetermined distance.

〔プラズマ発生部〕
プラズマ発生部102は、試料ガス導入部10と、マイクロホローカソード電極部11と、キャップ部12とから構成されている。
[Plasma generator]
The plasma generation unit 102 includes a sample gas introduction unit 10, a micro hollow cathode electrode unit 11, and a cap unit 12.

マイクロホローカソード電極部11は、図5にその電極構造を示したように、電極1−1,1−2間に絶縁板2をサンドイッチ状に挟み込んだ構造とされ、その中央に小径の孔(プラズマ発生孔)3が形成されている。この例において、電極1−1,1−2は銅、モリブデン、白金などの部材で形成され、絶縁板2はセラミックとされている。また、プラズマ発生孔3は500μm程度の孔とされている。   As shown in FIG. 5, the micro hollow cathode electrode portion 11 has a structure in which the insulating plate 2 is sandwiched between the electrodes 1-1 and 1-2, and a small-diameter hole ( Plasma generating holes) 3 are formed. In this example, the electrodes 1-1 and 1-2 are formed of a member such as copper, molybdenum, or platinum, and the insulating plate 2 is ceramic. The plasma generation hole 3 is about 500 μm.

プラズマ発生部102において、マイクロホローカソード電極部11は試料ガス導入部10の上面に配置され、マイクロホローカソード電極部11を試料ガス導入部10とで挟み込むような形でキャップ部12が設けられている。なお、プラズマ発生部102は試料ガス導入部10とキャップ部12とを接合した一体構造としてもよいが、キャップ部12をねじ蓋方式とするなど、キャップ部12とプラズマ発生部102とを分割可能な構成として、マイクロホローカソード電極部11を必要に応じて交換できるような構成としてもよい。   In the plasma generation unit 102, the micro hollow cathode electrode unit 11 is disposed on the upper surface of the sample gas introduction unit 10, and a cap unit 12 is provided so as to sandwich the micro hollow cathode electrode unit 11 with the sample gas introduction unit 10. Yes. The plasma generation unit 102 may have an integrated structure in which the sample gas introduction unit 10 and the cap unit 12 are joined. However, the cap unit 12 and the plasma generation unit 102 can be divided, for example, the cap unit 12 may be a screw cap type. As a simple configuration, the micro hollow cathode electrode portion 11 may be replaced as necessary.

試料ガス導入部10およびキャップ部12は絶縁部材とされている。試料ガス導入部10の中央部には、ロート状の試料ガス導入孔10aが設けられ、この試料ガス導入孔10aよりマイクロホローカソード電極部11のプラズマ発生孔3に試料ガスが導かれるものとされている。マイクロホローカソード電極部11の上面はキャップ部12によって覆われた空間12aとされている。   The sample gas introduction part 10 and the cap part 12 are insulating members. A funnel-shaped sample gas introduction hole 10a is provided at the center of the sample gas introduction part 10, and the sample gas is guided from the sample gas introduction hole 10a to the plasma generation hole 3 of the micro hollow cathode electrode part 11. ing. The upper surface of the micro hollow cathode electrode portion 11 is a space 12 a covered with the cap portion 12.

また、試料ガス導入部10の下端部には、その外周にネジ部10bが設けられており、このネジ部10bを容器4の内周面に形成されているネジ部4−4に螺合することによって、容器4の上面にプラズマ発生部102が着脱可能に取り付けられている。   Further, a screw portion 10 b is provided on the outer periphery of the lower end portion of the sample gas introducing portion 10, and this screw portion 10 b is screwed into a screw portion 4-4 formed on the inner peripheral surface of the container 4. Thus, the plasma generation unit 102 is detachably attached to the upper surface of the container 4.

〔コネクタ部〕
コネクタ部103は、光ファイバ13と、光ファイバ接合部14とから構成されている。光ファイバ接合部14は、キャップ部12に取り付けられ、プラズマ発生部102内で生じた分析光を光ファイバ13へ導く。光ファイバ13に導かれた分析光は図示されていない外部の分析装置に送られる。
(Connector part)
The connector portion 103 is composed of an optical fiber 13 and an optical fiber joint portion 14. The optical fiber bonding unit 14 is attached to the cap unit 12 and guides the analysis light generated in the plasma generation unit 102 to the optical fiber 13. The analysis light guided to the optical fiber 13 is sent to an external analyzer not shown.

〔分析光の生成〕
この分析光発生装置100では、試料導入口4−1から液体試料6が連続的に導入され、容器4の底部を流れて、試料導出口4−3から連続的に排出される。この間、容器4の底部に導入された液体試料6は、超音波振動子8によって超音波が加えられることによって噴霧化される。
[Generation of analytical light]
In the analytical light generator 100, the liquid sample 6 is continuously introduced from the sample introduction port 4-1, flows through the bottom of the container 4, and is continuously discharged from the sample outlet 4-3. During this time, the liquid sample 6 introduced into the bottom of the container 4 is atomized by applying ultrasonic waves by the ultrasonic vibrator 8.

この噴霧化された液体試料6は、キャリアガス導入口4−2から導入されるキャリアガス7と混合されて試料ガスとなり、容器4内の流路中をプラズマ発生部102に向かう。この途中、試料ガスは、先ず、容器4内に設置されている1段目の防御壁9−1に当たる。   The atomized liquid sample 6 is mixed with the carrier gas 7 introduced from the carrier gas introduction port 4-2 to become a sample gas, and travels in the flow path in the container 4 toward the plasma generation unit 102. In the middle of this, the sample gas first hits the first-stage defense wall 9-1 installed in the container 4.

この際、噴霧化された液体試料6は超音波振動子8の中心部から吹き上げられ、この吹き上げられた液体試料6とキャリアガス7との混合ガス(試料ガス)が1段目の防御壁9−1に当たり、試料ガス中に含まれている液滴の大きな液体試料が振り落とされる。   At this time, the atomized liquid sample 6 is blown up from the center of the ultrasonic vibrator 8, and the mixed gas (sample gas) of the blown up liquid sample 6 and the carrier gas 7 is the first-stage defense wall 9. In the case of -1, a liquid sample having large droplets contained in the sample gas is shaken off.

これにより、試料ガスには液滴の小さな液体試料が残り、この試料ガスが超音波振動子8の中心部に対向する位置から離れた位置にある防御壁9−1の貫通孔9bを通過して、1段目の防御壁9−1と2段目の防御壁9−2との間の空間AR1に入る。   Thereby, a liquid sample with small droplets remains in the sample gas, and the sample gas passes through the through hole 9b of the defense wall 9-1 located at a position away from the position facing the central portion of the ultrasonic transducer 8. And enters the space AR1 between the first-stage defense wall 9-1 and the second-stage defense wall 9-2.

1段目の防御壁9−1と2段目の防御壁9−2との間の空間AR1に入った試料ガスは、この空間AR1を防御壁9−1,9−2に沿って進み、2段目の防御壁9−2の貫通孔9bを通過して、2段目の防御壁9−2と試料ガス導入部10との間の空間AR2に入る。   The sample gas that has entered the space AR1 between the first-stage defensive wall 9-1 and the second-stage defensive wall 9-2 travels along the defensive walls 9-1 and 9-2 in this space AR1, It passes through the through hole 9b of the second-stage defense wall 9-2 and enters the space AR2 between the second-stage defense wall 9-2 and the sample gas introduction unit 10.

そして、2段目の防御壁9−2と試料ガス導入部10との間の空間AR2に入った試料ガスは、試料ガス導入部10の試料ガス導入孔10aに入る。そして、この試料ガス導入孔10aに入った試料ガスが、マイクロホローカソード電極部11のプラズマ発生孔3に導かれて、分析光が生成される。   The sample gas that has entered the space AR <b> 2 between the second-stage defense wall 9-2 and the sample gas introduction unit 10 enters the sample gas introduction hole 10 a of the sample gas introduction unit 10. Then, the sample gas that has entered the sample gas introduction hole 10a is guided to the plasma generation hole 3 of the micro hollow cathode electrode portion 11, and analysis light is generated.

この場合、1段目の防御壁9−1の貫通孔9bに対して、2段目の防御壁9−2の貫通孔9bは180゜離隔した位置にあり、試料ガス導入部10の試料ガス導入孔10aは容器4の中央にあるので、試料ガスの中継経路が長くなる。これにより、試料ガスに含まれる液体試料の液滴が徐々に小さくなり、微細化されて行く。   In this case, the through-hole 9b of the second-stage protective wall 9-2 is located 180 ° apart from the through-hole 9b of the first-stage protective wall 9-1, and the sample gas in the sample gas introduction unit 10 Since the introduction hole 10a is in the center of the container 4, the sample gas relay path becomes long. Thereby, the droplets of the liquid sample contained in the sample gas are gradually reduced and miniaturized.

このようにして、本実施の形態では、プラズマ発生部102に導かれる試料ガス中に含まれる液体試料の液滴が微細化されるので、プラズマ発生部102での分析光の発光強度にバラツキが生じなくなり、安定した分析を連続的に行わせることができるようになる。   In this manner, in this embodiment, since the droplet of the liquid sample contained in the sample gas guided to the plasma generation unit 102 is miniaturized, the emission intensity of the analysis light in the plasma generation unit 102 varies. It does not occur, and stable analysis can be performed continuously.

本実施の形態では、防御壁9−1,9−2をねじ込み式としているので、プラズマ発生部102での分析光の発光強度にバラツキが生じないように、防御壁9−1,9−2の上下方向の位置を必要に応じて任意の高さに調整することが可能である。また、プラズマ発生部102や防御壁9−1,9−2をねじ込み式としているので、部品の交換やメンテナンスも容易であり、現場での使用にも適している。   In the present embodiment, since the defense walls 9-1 and 9-2 are screwed, the defense walls 9-1 and 9-2 are arranged so that the emission intensity of the analysis light in the plasma generation unit 102 does not vary. It is possible to adjust the position in the vertical direction to an arbitrary height as required. Moreover, since the plasma generation part 102 and the defense walls 9-1 and 9-2 are screwed, replacement of parts and maintenance are easy, and it is also suitable for use in the field.

なお、上述した実施の形態では、試料ガスが通過する通路として貫通孔9bを防御壁9に形成するようにしたが、防御壁9の外周面に切欠を形成し、この切欠(防御壁9の外周面の一部と容器4の内周面との間の隙間)を試料ガスが通過する通路とするようにしてもよい。   In the above-described embodiment, the through-hole 9b is formed in the protective wall 9 as a passage through which the sample gas passes. However, a notch is formed on the outer peripheral surface of the protective wall 9, and this notch (the protective wall 9's A gap between a part of the outer peripheral surface and the inner peripheral surface of the container 4 may be a passage through which the sample gas passes.

また、上述した実施の形態では、防御壁9を防御壁9−1と9−2の2段としたが、さらに防御壁9の段数を増やすようにしてもよい。防御壁9を3段以上設置する場合も、2段の場合と同様、前段の防御壁9の貫通孔9bに対して、後段の防御壁9の貫通孔9bを180゜離隔した位置とするように配置する。   In the above-described embodiment, the defense wall 9 has two stages of the defense walls 9-1 and 9-2, but the number of stages of the defense wall 9 may be further increased. When three or more barrier walls 9 are installed, the through-hole 9b of the rear-stage defense wall 9 is positioned 180 ° away from the through-hole 9b of the front-stage defense wall 9 as in the case of the two-stage. To place.

また、本実施の形態では、防御壁9を複数段配置する場合、貫通孔9bを180゜離隔した位置とするが、必ずしも180゜隔離した位置としなくてもよい。すなわち、隣接する防御壁9の貫通孔9bが重ならなければよく、できるだけ両者を遠ざけるようにした方がよい。また、防御壁9は1段であってもよく、固定されていてもよい。   Further, in the present embodiment, when the defense walls 9 are arranged in a plurality of stages, the through holes 9b are positioned 180 ° apart from each other, but they are not necessarily separated from each other by 180 °. That is, it is only necessary that the through holes 9b of the adjacent defense walls 9 do not overlap with each other, and it is better to keep them as far as possible. Further, the defense wall 9 may be a single step or may be fixed.

また、上述した実施の形態では、防御壁9(9−1,9−2)を容器4内に水平に配置するようにしているが、貫通孔9b側が低くなるように少し傾けて配置するようにしてもよく、上面をそのような傾斜面とするようにしてもよい。このようにすることによって、防御壁9の上面に付着した試料ガス中の液体試料の液滴を貫通孔9bを通して落下させて、容器4の底部で回収することが可能となる。また、防御壁9−1と9−2との対向面に凹凸を設け、試料ガスが空間AR1を通過する際、その凹凸で試料ガスに含まれる液滴の大きな液体試料を捕捉するようにしてもよい。   In the above-described embodiment, the defense walls 9 (9-1, 9-2) are arranged horizontally in the container 4, but are arranged slightly inclined so that the through-hole 9b side is lowered. Alternatively, the upper surface may be such an inclined surface. By doing so, it is possible to drop the liquid sample droplet in the sample gas adhering to the upper surface of the defense wall 9 through the through hole 9 b and collect it at the bottom of the container 4. In addition, an uneven surface is provided on the opposing surfaces of the defense walls 9-1 and 9-2 so that when the sample gas passes through the space AR1, the liquid sample having a large droplet contained in the sample gas is captured by the uneven surface. Also good.

また、例えば図2に示すように、容器4を傾け、容器4のコーナ部に液体試料6を導入するようにし、この導入された液体試料6を容器4のコーナ部に設けた超音波振動子8によって噴霧化するようにしてもよい。   Further, for example, as shown in FIG. 2, the container 4 is tilted so that the liquid sample 6 is introduced into the corner portion of the container 4, and the introduced ultrasonic sample is provided at the corner portion of the container 4. You may make it atomize by 8.

この場合、防御壁9−1における超音波振動子8の中心部(振動中心)に対向する位置はP1点となる。したがって、防御壁9−1に設ける貫通孔9bは、このP1点から離れた位置にあればよい。   In this case, the position facing the central portion (vibration center) of the ultrasonic transducer 8 on the defense wall 9-1 is the point P1. Therefore, the through-hole 9b provided in the defense wall 9-1 should just be in the position away from this P1 point.

また、図3に示すように、防御壁15を第1の防御壁15aと第2の防御壁15bとの分割構造とし、防御壁15aと防御壁15bとの間に空間15cを作り、この空間15cを防御壁15が有する通路としてもよい。   Further, as shown in FIG. 3, the defense wall 15 is divided into a first defense wall 15a and a second defense wall 15b, and a space 15c is formed between the defense wall 15a and the defense wall 15b. It is good also as a channel | path which the defense wall 15 has 15c.

また、図4に示すように、容器4の周囲にヒータ16を設け、容器4を加熱するようにし、試料ガス中に含まれる液体試料の液滴の微細化を促進するようにしてもよい。   Further, as shown in FIG. 4, a heater 16 may be provided around the container 4 so as to heat the container 4 so as to promote the refinement of droplets of the liquid sample contained in the sample gas.

本発明の分析光発生装置は、導入される液体試料に超音波を加えて噴霧化し、この噴霧化された液体試料にキャリアガスを混合して試料ガスとし、この試料ガスをプラズマ発生部に導いて液体試料中の元素を特定するための分析光を生成する分析光発生装置として、現場で直接、工場排水などの液体試料中の元素の分析を行う際に利用することが可能である。   The analytical light generator of the present invention atomizes a liquid sample to be introduced by applying ultrasonic waves, mixes the atomized liquid sample with a carrier gas, and introduces the sample gas to a plasma generation unit. As an analytical light generator that generates analytical light for identifying an element in a liquid sample, it can be used when analyzing elements in a liquid sample such as factory effluent directly on site.

1−1,1−2…電極(平行平板電極)、2…絶縁板、3…小径の孔(プラズマ発生孔)、4…容器、4−1…液体試料導入口、4−2…キャリアガス導入口、4−3…液体試料導出口、4−4…ネジ部、6…液体試料、7…キャリアガス、8…超音波振動子、9(9−1,9−2)…防御壁、9a…ネジ部、9b…貫通孔(通路)、9c…溝、10…試料ガス導入部、10a…試料ガス導入孔、10b…ネジ部、11…マイクロホローカソード電極部、12…キャップ部、12a…空間、13…光ファイバ、14…光ファイバ接合部、15…防御壁、15a…第1の防御壁、15b…第2の防御壁、15c…空間(通路)、16…ヒータ、AR1,AR2…空間、100…分析光発生装置、101…本体部、102…プラズマ発生部、103…コネクタ部。   1-1, 1-2 ... electrode (parallel plate electrode), 2 ... insulating plate, 3 ... small-diameter hole (plasma generating hole), 4 ... container, 4-1 ... liquid sample inlet, 4-2 ... carrier gas Inlet, 4-3 ... Liquid sample outlet, 4-4 ... Screw part, 6 ... Liquid sample, 7 ... Carrier gas, 8 ... Ultrasonic vibrator, 9 (9-1, 9-2) ... Defense wall, DESCRIPTION OF SYMBOLS 9a ... Screw part, 9b ... Through-hole (passage), 9c ... Groove, 10 ... Sample gas introduction part, 10a ... Sample gas introduction hole, 10b ... Screw part, 11 ... Micro hollow cathode electrode part, 12 ... Cap part, 12a DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Space, 13 ... Optical fiber, 14 ... Optical fiber joint part, 15 ... Defense wall, 15a ... 1st defense wall, 15b ... 2nd defense wall, 15c ... Space (passage), 16 ... Heater, AR1, AR2 ... Space, 100 ... Analyzing light generator, 101 ... Main body, 102 ... Plasma generator, 10 ... connector portion.

Claims (6)

導入される液体試料に超音波を加えて噴霧化し、この噴霧化された液体試料にキャリアガスを混合して試料ガスとし、この試料ガスをプラズマ発生部に導いて前記液体試料中の元素を特定するための分析光を生成する分析光発生装置であって、
前記液体試料が導入される容器と、
前記容器に導入された液体試料に超音波を加えて噴霧化する超音波振動子と、
前記超音波振動子によって噴霧化され前記キャリアガスと混合されて前記プラズマ発生部に向かう前記容器内の試料ガスの流路中に設置された防御壁とを備え、
前記防御壁は、
前記超音波振動子の中心部に対向する位置から離れた位置に前記試料ガスを通過させる通路を有する
ことを特徴とする分析光発生装置。
The liquid sample to be introduced is atomized by applying ultrasonic waves, the carrier gas is mixed with the atomized liquid sample to form a sample gas, and this sample gas is guided to the plasma generation unit to identify the element in the liquid sample. An analytical light generator for generating analytical light for
A container into which the liquid sample is introduced;
An ultrasonic transducer that atomizes the liquid sample introduced into the container by applying ultrasonic waves;
A defense wall installed in the flow path of the sample gas in the container that is atomized by the ultrasonic transducer and mixed with the carrier gas and directed to the plasma generation unit,
The defense wall is
An analytical light generator characterized by having a passage through which the sample gas passes at a position away from a position facing the center of the ultrasonic transducer.
請求項1に記載された分析光発生装置において、
前記防御壁は、前記試料ガスの通過方向に間隔を設けて複数設置されている
ことを特徴とする分析光発生装置。
In the analytical light generator according to claim 1,
The analytical light generator, wherein a plurality of the barrier walls are provided at intervals in the passage direction of the sample gas.
請求項2に記載された分析光発生装置において、
前記防御壁は、隣接する防御壁が有する前記通路が離隔して設置されている
ことを特徴とする分析光発生装置。
In the analytical light generator according to claim 2,
The analysis light generating device, wherein the defense wall is installed with the passages of adjacent defense walls separated from each other.
請求項1〜3の何れか1項に記載された分析光発生装置において、
前記防御壁は、前記試料ガスの通過方向に移動可能に設置されている
ことを特徴とする分析光発生装置。
In the analytical light generator described in any one of Claims 1-3,
The analysis light generator, wherein the defense wall is installed so as to be movable in a direction in which the sample gas passes.
請求項1〜4の何れか1項に記載された分析光発生装置において、
前記防御壁および前記プラズマ発生部は、前記容器に対して着脱可能に設けられている
ことを特徴とする分析光発生装置。
In the analytical light generator described in any one of Claims 1-4,
The analysis light generator, wherein the defense wall and the plasma generator are detachably attached to the container.
請求項1〜5の何れか1項に記載された分析光発生装置において、
前記容器を加熱する加熱手段を備える
ことを特徴とする分析光発生装置。
In the analytical light generator described in any one of Claims 1-5,
An analytical light generator comprising heating means for heating the container.
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