JP2012028388A - 熱電変換モジュールの製造方法 - Google Patents

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慎介 広納
Takushi Kita
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Abstract

【課題】基板上に電解析出により多数の熱電変換材料チップを一括形成して多数の熱電変換素子から成る熱電変換モジュールを製造する方法を提供する。
【解決手段】絶縁基板上10に電極を配列し有機溶剤に可溶な樹脂製絶縁マスク14を電極間に配置し、一方の面全体に導電膜を備え、チップ形成予定位置に貫通孔20を有するモールド板18を位置あわせし、電解溶液中で、導電膜を介して電極をカソード電極として電解析出を行なうことにより、貫通孔を熱電変換材料32で充填してチップを形成し、導電膜付のモールド板、絶縁マスクを除去する工程を順次、P型・N型の熱電変換材料について行い、絶縁基板上に電極/P型チップが配列されたP型半体と、別の絶縁基板上に電極/N型チップが配列されたN型半体とを作製し、P型半体とN型半体を組み合わせて熱電変換素子が多数組み合わされた熱電変換モジュールを製造する。
【選択図】図4

Description

本発明は、熱電変換材料のチップを多数個一括して基板上に形成して熱電変換モジュールを製造する方法に関する。
熱電変換材料は、2つの基本的な熱電効果であるゼーベック(Seebeck)効果及びペルチェ(Peltier)効果に基づき、熱エネルギと電気エネルギとの直接変換を行なうエネルギ材料である。
熱電変換材料を用いた熱電発電デバイスは、従来の発電技術に比べて、構造は簡単で、堅牢かつ耐久性が高く、可動部材は存在せず、マイクロ化が容易であり、メンテナンス不要で信頼性が高く、寿命が長く、騒音は発生せず、汚染も発生せず、低温の廃熱を利用可能であるといった多くの利点がある。
熱電変換材料を用いた熱電冷却デバイスも、従来の圧縮冷却技術に比べて、フロン不要で汚染は発生せず、小型化は容易で、可動部材は存在せず、騒音も発生しないなどの利点がある。
そのため、特に近年のエネルギ問題や環境問題の重大化に伴い、航空・宇宙、国防建設、地質及び気象観測、医療衛生、マイクロ電子などの領域や石油化工、冶金、電力工業における廃熱利用方面などの広範な用途への実用化が期待されている。
従来、粉末の焼結や溶解凝固によりP型・N型各々のバルク熱電変換材料を製造し、これを機械加工によりダイシングして数mm角のP型チップ・N型チップとし、2枚の基板上にP型チップ・N型チップをそれぞれ所定パターンに配列し、各基板上のチップを両基板で挟むように接合して両基板間に多数の熱電変換素子を形成する。
本明細書においては、熱電変換材料そのものの小片(例えば数mm角)を「チップ」(熱電変換材料チップ)、一対のP型・N型のチップを電極を介して接合して構成したものを「素子」(熱電変換素子)、多数の素子を組み合わせた素子群を「モジュール」(熱電変換モジュール)と呼ぶ。一般に、素子単位の発電量は小さいため、多数の素子を組み合わせて素子群すなわちモジュールとして実用に供される。
ここで、電解析出により基板上に多数のチップを一括形成して素子パターンを直接得ることができれば、素子あるいはモジュールの作製コストを大幅に低減することが可能になり、非常に望ましい。
しかし、電極が基板上に離散して配列されるため、各電極上に各チップを電解析出により一括して形成することは実際的でなかった。
すなわち、(1)電解析出により多数のチップを一括形成するには、基板上に離散して配列された電極を電気的に接続する必要がある、(2)この電気接続用の導電材の露出部にも電解析出が起きてしまう、(3)電気接続用の導電材は使用後に除去しなくてはならない、という問題があった。
特許文献1に、熱電変換材料を電解析出により作製する方法が開示されている。しかし、電解析出による形成する熱電変換材料の結晶方位の制御や多層膜の作成方法が提案されているが、熱電変換材料から多数のチップを、そして素子を一括形成してモジュールを作製することについては何ら開示がない。
特開2001−7408号公報
本発明は、基板上に電解析出により多数の熱電変換材料チップを一括形成して、多数の熱電変換素子から成る熱電変換モジュールを一括して製造する方法を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明は、一対のP型およびN型の熱電変換材料のチップで構成された熱電変換素子を多数組み合わせた熱電変換モジュールを製造する方法であって、
(1)絶縁基板上に厚さの等しい多数の電極を所定パターンに配列する工程、
(2)有機溶剤で容易に溶解する樹脂製の、該電極と同じ厚さの絶縁マスクを、該多数の電極間を埋めるように配置して該電極の上面と該絶縁マスクの上面とを同一平面にする工程、
(3)一方の面全体に導電膜を備え、かつ、上記絶縁基板上に配列された上記電極上のチップ形成予定位置に対応する部位にチップ形状の貫通孔を有するモールド板を用意する工程、
(4)各電極の各チップ形成予定位置にモールド板の各貫通孔を位置あわせし、該モールド板の該一方の面にある該導電膜を上記絶縁基板上の該電極に密接させて、該モールド板を固定する工程、
(5)電解溶液中で、上記導電膜を介して各電極をカソード電極として電解析出を行なうことにより、上記絶縁基板上の該多数の電極上で、上記モールド板の上記チップ形状の各貫通孔内を上記熱電変換材料で充填して各電極上に該熱電変換材料のチップを形成する工程、
(6)上記モールド板を除去する工程、および
(7)上記樹脂製の絶縁マスクを有機溶剤で溶解して除去する工程、
を順次行なって該絶縁基板上に該電極およびその上の該チップを配列した熱電変換モジュールの半体を形成する操作を、P型およびN型の前記熱電変換材料について行い、一つの絶縁基板上に電極とその上のP型熱電変換材料チップが配列されたP型半体と、別の絶縁基板上に電極とその上のN型熱電変換材料チップが配列されたN型半体とを作製し、
上記P型半体と上記N型半体とを各々のチップ配列面を対面させて組み合わせることにより、P型熱電変換材料チップとN型熱電変換材料チップとが対を成して構成する熱電変換素子が多数組み合わされた熱電変換モジュールを製造することを特徴とする熱電変換モジュールの製造方法を提供する。
本発明によれば、(4)各電極の各チップ形成予定位置にモールド板の各貫通孔を位置あわせし、該モールド板の該一方の面にある該導電膜を上記絶縁基板上の該電極に密接させて、該モールド板を固定するので、工程(5)で、上記導電膜を介して絶縁基板上の全ての電極に電圧を印加して各電極上に電解析出により熱電変換材料チップを一括して形成でき、工程(7)で、上記樹脂製の絶縁マスクを有機溶剤で溶解して除去することができ、この工程をP型・N型の各熱電変換材料について行なって得たP型・N型の半体を組み合わせることで、多数の熱電変換素子から成る熱電変換モジュールを一括して製造できる。
図1は、本発明の方法の第1実施形態により、絶縁基板上に電極を配列した状態を示す。 図2は、本発明の方法の第1実施形態により、図1の次工程において、絶縁基板上の電極間を埋めるように絶縁マスクを配置した状態を示す。 図3は、本発明の方法の第1実施形態により、図2の次工程において、各電極上に熱電変換材料を電解析出させチップを形成するための(1)モールド板および(2)このモールド板を絶縁基板上に配置した状態を示す。 図4は、本発明の方法の第1実施形態により、図3の次工程において、(1)はモールド板を配置した基板に電解析出を行なう状態、(2)は電解析出によりモールド板の開口内に熱電変換材料チップを形成した状態、(3)は(2)の線III−IIIにおける断面図、(4)は別の電解液を用いて熱電変換材料の露出表面にニッケルめっき被膜を形成した状態を示す。 図5は、本発明の方法の第1実施形態により、図4の次工程において、電解析出後に、モールド板(導電膜付)、絶縁マスクを除去した状態の(1)P型半体および(2)N型半体を示す。 図6は、本発明の方法の第1実施形態により、図6の次工程において、P型半体とN型半体をチップ形成側の面同士を向かい合わせ、重ね合わせて接合し、熱電変換モジュールを完成させた状態を示す。 図7は、本発明の方法の第2実施形態により、チップを電解析出させる方法を示す断面図である。 図8は、本発明の方法の第2実施形態における変形例を示す断面図である。
〔第1実施形態〕
図1〜図6を参照して、本発明の方法の第1実施形態を説明する。
先ず、図1に示すように、絶縁基板10上に厚さの等しい多数の電極12を所定パターンに配列する。仮に、(1)(2)はP型用基板、(3)(4)はN型用基板とするが、P、Nは逆でもよい。(1)は平面図、(2)は(1)の線II−IIにおける断面図であり、(3)は平面図、(4)は(2)の線IV−IVにおける断面図である。図2においても同様である。
次に、図2に示すように、有機溶剤で容易に溶解する樹脂製の、電極12と同じ厚さの絶縁マスク14を、多数の電極12間を埋めるように配設して、電極12の上面と絶縁マスク14の上面を同一平面にする。絶縁マスク14は、有機溶媒に容易に溶解する樹脂製とすることにより、後工程で容易に除去可能である。
次に、図3(1)に示すように、一方の面全体にスパッタリング等により形成して導電膜16を備え、かつ、絶縁基板10上に配列された電極12上のチップ形成予定位置に対応する部位にチップ形状の各貫通孔20を有するモールド板18を用意し、図(2)に示すように各電極12の各チップ形成予定位置にモールド板18の各貫通孔20を位置あわせし、モールド板18の一方の面にある導電膜16を絶縁基板10上の電極12に密接させて、固定冶具22で固定モールド板18を固定する。導電膜16に電解析出用の給電リード24を接続しておく。固定されたアセンブリを19で示す。
次に、図4(1)に示すように、電解溶液26中で、導電膜16を介して各電極12をカソード電極として電解析出を行なう。電解溶液26中に、固定アセンブリ19を負極として配置し、白金等の対極28に正極とし、直流電源30から給電する。
これにより、図4(2)平面図および(3)断面図((2)の線III−III)に示すように、絶縁基板10上の多数の電極12上で、モールド板18のチップ形状の各貫通孔20内を熱電変換材料で充填して、各電極12上に熱電変換材料のチップ32を形成する。
すなわち、図4(3)の断面図に示すように、モールド板18の一方の面全体に形成されている導電膜16は、貫通孔20以外の部位で電極12と密着しており、多数の電極12間が導電膜16を介して相互に電気的に接合されている。したがって、給電リード24から導電膜16を介して多数の電極12に電解析出用の電流が一括して供給され、各電極12上にチップ32が一括して形成される。
更に、望ましくは、図4(4)に示すように、更に別の電解溶液中で、モールド板18の貫通孔20内にあるチップ32の表面にNi等の電解めっき膜34を形成する。これにより、接合材を使用してP型半導体とN型半導体とを組み合わせるときに、チップと電極との接合性を向上させることができる。
次に、図5に示すように、モールド板18(導電膜16を伴う)、絶縁マスク14を除去する。絶縁マスク14の除去は、マスクの材料である樹脂を有機溶剤で溶解することにより容易に行なえる。
図1〜図5の工程を順次行なって、絶縁基板10上に電極12およびその上のチップ32を配列した熱電変換モジュールの半体36、38が形成される。すなわち、以上の工程をP型およびN型の熱電変換材料について行い、一つの絶縁基板10上に電極12とその上のP型熱電変換材料チップ32が配列されたP型半体36と、別の絶縁基板10上に電極12とその上のN型熱電変換材料チップ32が配列されたN型半体38とを作製する。
次に、図6に示すように、P型半体36とN型半体38とを各々のチップ配列面を対面させて組み合わせることにより、P型熱電変換材料チップとN型熱電変換材料チップとが対を成して構成する熱電変換素子が多数組み合わされた熱電変換モジュール40を製造する。
〔第2実施形態〕
第2実施形態は、第1実施形態の構成に加えて、電極上のチップ形成予定位置以外の部位を、更に別の絶縁マスクで覆う。
モールド板18の導電膜16と電極12との密着性を得られない場合、導電膜16と電気12の接触面に電解液が侵入して、本来のチップ形成予定位置以外にも熱電変換材料が析出する虞がある。その防止のために、電極上のチップ形成予定位置以外の部位を、更に別の絶縁マスクで覆う。
図7を参照して、第2実施形態を説明する。
図2の工程の後、図7(1)に示すように、電極12のチップ形成予定位置5以外の部位を、更に第2絶縁マスク42で覆う。
次に図7(2)に示すように、チップ形成予定位置5に貫通孔20を位置合わせしてモールド板18を固定する。この状態では、電極12と導電膜16とは、第2絶縁膜42の厚さだけ離れており、電気的な導通はない。
電解析出処理を開始すると、図7(3)に示すように、導電膜16の断面から電解析出が開始して、電析部32Aが成長して、電極12と接続し、導電膜16と電極12とが導通状態になる。
更に電解析出処理を継続すれば、電析部が成長を続け、第1実施形態の場合と同様に、貫通孔20内にチップ32が形成される。
以降の処理は第1実施形態と同様である。
〔第2実施形態の変形例〕
図8に示したのは、図7の変形例であり、図8(1)に示すように、電極12のチップ形成予定位置5以外の一部5Aは第2絶縁膜42で覆われていない場合である。
この場合、チップ形成予定位置5に貫通孔20を位置合わせしてモールド板18を固定すると、図8(2)に示すように、電極12のチップ形成予定位置5以外の一部5Aは、モールド板18および導電膜16が第2絶縁膜42の端面より張り出した状態になり、導電膜16と電極12との間に空間Aが残る。
このような状態でも、電解析出処理を開始すると、図8(3)に示すように、導電膜16の断面から電解析出が開始して、電析部32Aが成長して、電極12と接続し、導電膜16と電極12とが導通状態になる。
そして、更に電解析出処理を継続すれば、電析部が成長を続け、第1実施形態の場合と同様に、貫通孔20内にチップ32が形成される。
以降の処理は、第1実施形態と同様である。
本発明の第1実施形態の実施例を説明する。
アルミナ基板10上に厚さ200μmの銅板をはんだ接合する。この銅板をエッチング処理により熱電変換素子用の電極12にパターニングする。これにより図1に示すように、P型チップ形成用およびN型チップ形成用に電極12が配列したP型用基板(1)(2)、N型用基板(3)(4)を準備する。アルミナ基板10に代えて、マグネシア、窒化珪素、炭化珪素等のセラミックスや樹脂系材料等の絶縁材料を用いることができる。電極12の材料としては、銅(Cu)に代えて、Al、Fe、Ag、Au、ステンレス鋼等の金属材料を用いることができる。
次に、図2に示すように、多数の電極12間を埋めるように絶縁マスク14を配置して、電極12の上面と絶縁マスク14の上面とを同一平面にする。絶縁マスク14は、有機溶剤で容易に溶解して除去可能な樹脂製である。
絶縁マスク14は、ポリイミド系、エポキシ系、アクリル系、フェノール系の樹脂等を用いることができ、スクリーン印刷によりインクレジスト材を塗布する方法や、予めパターニングしたドライフィルムを用いる方法、感光性を持つフォトレジストで露光部を硬化させ未硬化部分を洗浄除去する方法等によって形成することができる。
次に、図3(1)に示すように、一方の面全体に導電膜16を備え、かつ、絶縁基板10上に配列された電極12上のチップ形成予定位置に対応する部位にチップ形状の貫通孔20を有するモールド板18を用意する。
次に、図3(2)に示すように、各電極12の各チップ形成予定位置にモールド板18の各貫通孔20を位置あわせし、モールド板18の一方の面にある導電膜16を絶縁基板10上の電極12に密接させて、モールド板18を固定し、電解析出用アセンブリ19とする。モールド板18は、樹脂材料等の一方の面全体に、スパッタリング等の製膜法によって、電解析出の給電膜としての導電膜16を形成した後に、チップの形状・寸法(例えば2mm角)の貫通孔20を形成して作製する。この樹脂材料等としては、PTFE等の剥離性の高い材料が好ましいが、これに限定する必要はなく、他の樹脂やセラミックスを用いることもできる。チップ(貫通孔)の形状として直方体を図示したが他の形状でもよい。
次に、図4(1)に示すように電解析出を行なって、図4(2)(3)に示すように貫通孔20内にチップ32を形成する。電解析出用アセンブリ19を負極とし、白金等の貴金属を正極とする。モールド板18の導電膜16に通電することで、電極12の、貫通孔20内に露出した表面上にチップ32が形成される。P型チップ32とN型チップ32は別々の基板10上に形成する。
一例として、BiTe系熱電変換材料の熱電変換モジュールを作製する場合、電解溶液26としてBiとTeOを溶解させた硝酸溶液を用い、定電位で電解析出を行なうことにより、BiTe系熱電変換材料のチップ32が形成できる。電析電位によってBiとTeの組成比を調整し、P型チップとN型チップを作り分けることができる。ドーパントとなる金属イオンを電析浴中に溶解させることにより、P型やN型の組成調整を行なうこともできる。また、その他の金属塩と電解溶液26の組み合わせを変えて電析を行なえば、種々の組成の熱電変換材料のチップ32を形成することができる。
必要に応じて、図4(4)に示すように、形成したチップ32の頂面にNi電解めっき膜等の保護膜34を形成してもよい。
次に、図5に示すように、モールド板18(導電マスク16を伴う)、絶縁マスク14を除去する。これは、モールド板18(導電マスク16を伴う)を基板10上のチップ32から引き抜いた後、樹脂製の絶縁マスク14をトルエンやキシレン等の有機溶剤で溶解して除去することによって行なう。これにより、(1)P型半体36と(2)N型半体38が得られる。
次に、図6に示すように、P型半体36とN型半体38とを各々のチップ配列面を向き合わせて貼り合わせ、熱電変換モジュール40を製造する。
そのために、先ず、チップ32の頂面(この例ではNi保護膜34上)にスクリーン印刷によりはんだペースト(図示せず)を塗布する。次いで、位置合わせ用冶具を用いて、P型半体36のP型チップ32の頂面とN型半体38の電極とを位置合わせし且つN型半体38のN型チップ32の頂面とP型半体36の電極とを位置合わせして固定する。次に、この固定したアセンブリをはんだの溶融温度以上の高温で熱処理し、各半体のチップ32と相手方半体の電極12とを接合する。これにより、P型熱電変換材料チップとN型熱電変換材料チップとが対を成して構成する熱電変換素子が多数組み合わされた熱電変換モジュール40が得られる。
本発明によれば、基板上に電解析出により多数の熱電変換材料チップを一括形成して、多数の熱電変換素子から成る熱電変換モジュールを一括して製造する方法が提供される。
10 絶縁基板
12 熱電変換素子用の電極
14 絶縁マスク
16 導電膜
18 モールド板
20 貫通孔
22 固定冶具
24 給電リード
26 電解溶液
28 対極
30 直流電源
32 チップ(熱電変換材料のチップ)
34 電解めっき膜(保護膜)
36 P型半体
38 N型半体
40 熱電変換モジュール
42 別の(第2の)絶縁マスク

Claims (2)

  1. 一対のP型およびN型の熱電変換材料のチップで構成された熱電変換素子を多数組み合わせた熱電変換モジュールを製造する方法であって、
    (1)絶縁基板上に厚さの等しい多数の電極を所定パターンに配列する工程、
    (2)有機溶剤で容易に溶解する樹脂製の、該電極と同じ厚さの絶縁マスクを、該多数の電極間を埋めるように配置して該電極の上面と該絶縁マスクの上面とを同一平面にする工程、
    (3)一方の面全体に導電膜を備え、かつ、上記絶縁基板上に配列された上記電極上のチップ形成予定位置に対応する部位にチップ形状の貫通孔を有するモールド板を用意する工程、
    (4)各電極の各チップ形成予定位置にモールド板の各貫通孔を位置あわせし、該モールド板の該一方の面にある該導電膜を上記絶縁基板上の該電極に密接させて、該モールド板を固定する工程、
    (5)電解溶液中で、上記導電膜を介して各電極をカソード電極として電解析出を行なうことにより、上記絶縁基板上の該多数の電極上で、上記モールド板の上記チップ形状の各貫通孔内を上記熱電変換材料で充填して各電極上に該熱電変換材料のチップを形成する工程、
    (6)上記モールド板を除去する工程、および
    (7)上記樹脂製の絶縁マスクを有機溶剤で溶解して除去する工程、
    を順次行なって該絶縁基板上に該電極およびその上の該チップを配列した熱電変換モジュールの半体を形成する操作を、P型およびN型の前記熱電変換材料について行い、一つの絶縁基板上に電極とその上のP型熱電変換材料チップが配列されたP型半体と、別の絶縁基板上に電極とその上のN型熱電変換材料チップが配列されたN型半体とを作製し、
    上記P型半体と上記N型半体とを各々のチップ配列面を対面させて組み合わせることにより、P型熱電変換材料チップとN型熱電変換材料チップとが対を成して構成する熱電変換素子が多数組み合わされた熱電変換モジュールを製造することを特徴とする熱電変換モジュールの製造方法。
  2. 請求項1において、
    上記工程(2)の後、上記工程(4)の前に、上記電極上のチップ形成予定位置以外を、更に別の絶縁マスクで覆うことを特徴とする熱電変換モジュールの製造方法。
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