JP2012007004A - 実装用封止材及びそれを用いて封止した半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有し、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂を20質量%以上含有する、液状エポキシ樹脂 100質量部、
(B)アルケニル基含有液状フェノール樹脂、
(C)マイクロカプセル化硬化促進剤 有効成分として1.5〜50質量部、
(D)1分子中にエポキシ基を1個有するエポキシ化合物からなる反応性希釈剤、及び
(E)無機充填材 100〜250質量部
を含有してなり、
[本組成物中に全エポキシ基/(B)成分中のフェノール性水酸基]のモル比が1.3〜3.0である、
組成物からなる、基板と該基板上に搭載された素子とを有する半導体装置の実装用封止材。
【選択図】なし
Description
(A)1分子中にエポキシ基を2個以上有し、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂を20質量%以上含有する、液状エポキシ樹脂 100質量部、
(B)アルケニル基含有液状フェノール樹脂、
(C)マイクロカプセル化硬化促進剤 有効成分として1.5〜50質量部、
(D)1分子中にエポキシ基を1個有するエポキシ化合物からなる反応性希釈剤、及び
(E)無機充填材 100〜250質量部
を含有してなり、
[本組成物中に全エポキシ基/(B)成分中のフェノール性水酸基]のモル比が1.3〜3.0である、
組成物からなる、基板と該基板上に搭載された素子とを有する半導体装置の実装用封止材を提供するものである。
−液状エポキシ樹脂組成物−
本発明の液状エポキシ樹脂組成物に用いられる(A)成分の液状エポキシ樹脂は、実装用封止材に硬化性を付与する成分であり、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するもので、それ自体が室温で液状のものであることとの条件を満たす必要がある。また、該液状エポキシ樹脂はビスフェノールA型エポキシ樹脂を20質量%以上含有することが必須であり、ビスフェノールA型エポキシ樹脂単独でもよいし、必要に応じて他のエポキシ樹脂を含んでもよい。これらのエポキシ樹脂は、室温で液状であることを満たせば、分子構造、分子量等は特に限定されず、公知のエポキシ樹脂を全て用いることができる。(A)成分に占めるビスフェノールA型エポキシ樹脂の割合は、(A)成分の20〜60質量%が好ましく、さらには25〜50質量%がより好ましい。したがって、(A)成分として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂は80〜40質量%の範囲で用いることが好ましい。
HaRbSiO(4−a−b)/2 (1)
(式中、Rは脂肪族不飽和基以外の非置換又は置換の一価炭化水素基であり、aは0.005〜0.10、好ましくは0.01〜0.05の正数であり、bは1.80〜2.20、好ましくは1.90〜2.00の正数であり、かつ、a+bの和は1.81〜2.30、好ましくは1.91〜2.05の正数である。)
で表され、かつ1分子中の珪素原子の数が20〜400、好ましくは40〜200であり、1分子中にケイ素原子に結合した水素原子(SiH基)を好ましくは1〜5個、より好ましくは2〜4個、特に好ましくは2個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンとの、ヒドロシリル化反応により得られる付加反応生成物を使用することが好ましい。前記ヒドロシリル化反応は、前記アルケニル基と前記SiH基とが付加する反応であって、当業者に周知のものであり、通常のとおり、白金系触媒を用いて、公知の反応条件で実施すればよい。
本発明の液状エポキシ樹脂組成物に用いられる(B)成分であるアルケニル基含有液状フェノール樹脂は、(A)成分の液状エポキシ樹脂の硬化剤として作用する。該(B)成分のフェノール樹脂は上記(A)成分の液状エポキシ樹脂100質量部に対し、5〜80質量部が好ましく、40〜70質量部がより好ましい。
本発明の液状エポキシ樹脂組成物には、上記(B)成分の硬化剤とともに、硬化促進剤を使用する。この硬化促進剤は低温速硬化を可能とするもので、多量に添加する。加えて、保存安定性を維持するため、マイクロカプセル化させて使用する。なお、このマイクロカプセルのコア材に有効成分として使用される硬化促進剤(触媒)としては、保存安定性と一定温度以上の低温で速硬化性を発現するように、反応温度(即ち、触媒作用を発現する温度)が60℃以上であることが好ましく、70〜150℃の範囲がより好ましく、80〜120℃の範囲がさらに好ましい。かかる硬化促進剤としては、例えば、イミダゾール化合物、第3級アミン化合物、有機リン系化合物等を挙げることができる。
(D)成分の反応性希釈剤は1分子中にエポキシ基を1個有するエポキシ化合物からなる。樹脂骨格中に単官能のエポキシ化合物が導入されることにより、ガラス転移温度以上の温度において、化学構造中に疎な部位を生じ、リワーク時において除去しやすくなる効果がある。反応性希釈剤としては1分子中にエポキシ基を1個有しておれば、特に制限されることはなく、例えばアリルグリシジルエーテル、2-エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、パラターシャルブチルフェニルグリシジルエーテル、ジブロモフェニルグリシジルエーテルなどが挙げられる。これらの化合物は1種単独でも2種類以上を組み合わせてもよい。これらの中でも強度を付与する成分としてフェニル基を有する化合物が好ましい。
(E)成分の無機充填剤は(A)成分100質量部に対して、100〜250質量部の範囲で、好ましくは120〜220質量部、より好ましくは120〜200質量部の範囲で配合する。無機充填剤をかかる範囲で配合することにより耐熱衝撃性、破壊靭性などの機械強度、高温での寸法安定性、耐湿性が向上する。しかし、配合量が多すぎると組成物の粘度が上昇し、基板とチップ間の間隙への浸入性等が低下する。
また、半導体装置に前記無機充填材を用いる場合、その平均粒子径は、特に限定されないが、0.1〜30μmが好ましく、特に0.2〜8μmが好ましい。前記平均粒子径が前記下限値を超えると樹脂組成物の粘度が適度に低下し流動性が向上する効果が高くなり、前記上限値未満であると樹脂組成物が半導体装置への流動する際にフィラー詰まりによる部分的な未充填や充填不良を抑制する効果が高くなる。
本発明の液状エポキシ樹脂組成物には、上記各成分に加えて、必要に応じて他の成分を配合することができる。但し、得られるエポキシ樹脂組成物が液状であることが必要であり、かつ本発明の効果を損なうものであってはならない。
・その他の任意成分:
例えば、得られる硬化物の応力を緩和させるために、シリコーンゴム、シリコーンオイル、液状のポリブタジエンゴム等を配合してもよい。これらも硬化物の耐熱衝撃性の向上に寄与する。また、表面処理剤、接着性向上用のシランカップリング剤、カーボンブラック等の顔料、染料、酸化防止剤、その他の添加剤等を配合することができる。前記表面処理剤としては、例えば、ヘキサメチルジシラザン、テトラエトキシシラン等が挙げられ、これは無機充填剤成分の表面を疎水化処理し、樹脂成分との濡れ性向上に効果を発揮する。また、前記シランカップリング剤としては、公知のものを使用することができ、例えば、KBM403(商品名、信越化学工業社製)等が挙げられる。(D)成分以外の低粘度化用反応性希釈剤を用いる場合、その配合量は(D)成分の量と合計の10質量%以下であることが好ましい。
本発明の液状エポキシ樹脂組成物は、上記各成分を同時に、又は逐次的に、装置内へ投入し、必要により15〜25℃の範囲の冷却処理を行いながら、撹拌、溶解、混合、分散等の操作を行うことによって調製することができる。これらの撹拌、溶解、混合、分散等の操作に用いられる装置は特に限定されない。例えば、撹拌及び加熱装置を備えたライカイ機、3本ロールミル、ボールミル、プラネタリーミキサー等を用いることができる。また、前記装置の複数を適宜組み合わせてもよい。
本発明の液状エポキシ樹脂組成物は、基板と該基板上に実装された半導体チップとの間
隙を、半導体チップ下全面において封止するアンダーフィル材として適している。このアンダーフィル材の適用方法、封止方法、硬化条件等については、公知の方法、条件等を
採用することができる。
制限されるものではない。なお、表1、2中の「部」は質量部を意味する。
(A)液状エポキシ樹脂
・ビスフェノールA型エポキシ樹脂:RE-310S(商品名、日本化薬社製) エポキシ当量:184
・ビスフェノールF型エポキシ樹脂:YDF8170(商品名、東都化成社製)エポキシ当量:160
・三官能エポキシ樹脂(一分子中にエポキシ基を3個有する):EP−630LSD(商品名、ジャパンエポキシレジン(株)製) エポキシ当量:101
・下記のエポキシ変性シリコーン樹脂
Si含有量:14質量%
・アリル基含有フェノール樹脂:MEH−8000H(商品名、明和化成社製)
粘度:1500〜3500mPa・s、水酸基当量:141g/eq
・マイクロカプセル化イミダゾール触媒:
HX−3088(商品名、旭化成社製)エポキシ当量:276、コア材である硬化促進剤の平均粒径2μm、(A)成分に相当するエポキシ樹脂に分散されている。エポキシ樹脂/硬化促進剤(質量比)=60〜70/30〜40
・パラターシャルブチルフェノルグリシジルエーテル(商品名:EX−146、ナガセケムテックス社製) エポキシ当量:226
・溶剤
エチルジグリコールアセテート (以下、EDGACと略す)
・シランカップリング剤
KBM403(商品名、信越化学工業社製)
・顔料
アデカブラック(商品名、アデカ)
・無機充填材
球状シリカ (平均粒径 2μm)
・液状ポリアミン樹脂
カヤハードA−A(PT)(商品名、日本化薬製)
・硬化促進剤:TPP(トリフェニルホスフィン)
上記成分を下記表1に示す組成及び配合量で配合し、均一に混練することによりエポキシ樹脂組成物を得た。これらの組成物のおのおのについて下記に示す各種性能評価を行った。評価結果を表1に示す。
・ガラス転移温度
エポキシ樹脂組成物を、150℃、1時間加熱の条件で棒状の成型片に成型し、動的粘弾性測定(DMA)を行い、tanδの最大値から、Tgを求めた。
エポキシ樹脂組成物をアルミパンに10mg計り取り、DSC821e Module (METTLER TOLEDO社製)を用いて示差走査型熱量測定(DSC)を行い、反応性の検討を行った。
上記成分を下記表2に示す組成及び配合量で配合し、均一に混練することによりエポキシ樹脂組成物を得た。これらのおのおのの組成物について下記に示す各種性能評価を行った。評価結果を表2に示す。
・ガラス転移温度
エポキシ樹脂組成物を150℃、1時間の条件で成型片に成型し、動的粘弾性測定(DMA)を行った。
エポキシ樹脂組成物を適量レジストに滴下し、その組成物の上に2mm×2mmのシリコンチップを載せ、150℃で1時間の加熱条件で硬化させた。その後、260℃の熱板の上に載せ、ダイシェア試験を行い、接着強度を求めた。
Claims (9)
- (A)1分子中にエポキシ基を2個以上有し、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂を20質量%以上含有する、液状エポキシ樹脂 100質量部、
(B)アルケニル基含有液状フェノール樹脂、
(C)マイクロカプセル化硬化促進剤 有効成分として1.5〜50質量部、
(D)1分子中にエポキシ基を1個有するエポキシ化合物からなる反応性希釈剤、及び
(E)無機充填材 100〜250質量部
を含有してなり、
[本組成物中に全エポキシ基/(B)成分中のフェノール性水酸基]のモル比が1.3〜3.0である、
組成物からなる、基板と該基板上に搭載された素子とを有する半導体装置の実装用封止材。 - (A)成分が1分子中にエポキシ基を2個以上有する液状エポキシ変性シリコーン樹脂を
含む、請求項1に係る導体装置の実装用封止材。 - (C)成分が、反応温度が60℃以上である触媒からなるコア材と、融点が60〜90℃であるシェル材とを有してなる請求項1〜3のいずれか1項に係る実装用封止材。
- (C)成分が(A)成分100質量部当り、有効成分として15〜40質量部含まれる請求項1〜4のいずれか1項に係る実装用封止材。
- (C)成分のマイクロカプセル化硬化促進剤が、(A)成分のエポキシ樹脂の少なくとも一部に予め分散された後に、他の成分と配合される、請求項1〜5のいずれか1項に係る実装用封止材。
- (D)成分が(A)成分100質量部当り5〜40質量部含まれる、請求項1〜6のいずれか1項に係る実装用封止材。
- 基板と該基板上に実装された半導体チップとの間隙を封止するアンダーフィル材として使用される請求項1〜7のいずれか1項に係る実装用封止材。
- 半導体チップと基板とを備え、前記のチップが該チップ上に形成されたバンプにより前記基板に接続されてなる半導体装置であって、前記チップと前記基板との間の間隙に請求項1〜8のいずれか1項に記載の実装用封止材が充填、硬化されている半導体装置。
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