JP2011516910A - 光学シート - Google Patents
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Abstract
【選択図】図2
Description
全体組成100重量部に対して、
9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン50重量部、フェノキシエチルアクリレート32重量部、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレート10重量部、1,6−ヘキサジオールジアクリレート2重量部、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド2.5重量部、2(2’−ヒドロキシ−5−t−オクトキシベンゾトリアゾール2重量部、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバシン酸塩1重量部、およびシリコンアクリレート0.5重量部を添加した後、約1時間40℃で加熱して完全に溶解することにより、組成物を完成させた。その後、基材層としてのポリエチレンテレフタレート(KOLON社、188μm)の一面に塗布して35℃のプリズム状ローラーのフレーム上に置き、紫外線照射装置(Fusion社、600ワット/inch2(約93ワット/cm2))にtype−D bulbを取り付けて基材層の方向から900mJ/cm2を照射することにより、プリズム頂角が90°、ピッチが50μm、高さが27μmの線形三角プリズムを形成させて光学シートを製造した。
実施例1において9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン50.495重量部、シリコンアクリレート0.005重量部を添加した組成物から光学シートを製造した。
実施例1において9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレン45重量部、およびシリコンアクリレート5.5重量部を添加した組成物から光学シートを製造した。
実施例1において半円形の縦断面、50μmのピッチおよび27μmの高さを有するレンチキュラーレンズを形成させて光学シートを製造した。
実施例1において流線型のピーク部分を有し且つ50μmのピッチ(プリズムの縦断面において流線型部分の最も長い幅は3μm)および27μmの高さを有する線形プリズムを形成させて光学シートを製造した。
実施例1において五角形の縦断面、95°の頂角、50μmのピッチおよび27μmの高さを有する線形プリズムを形成させて光学シートを製造した。
実施例1において半円形の縦断面、50μmのピッチおよび27μmの高さを有する曲線型プリズムを形成させて光学シートを製造した。
実施例1において半球形の縦断面、60μmのピッチおよび30μmの高さを有するドット型光学シートを製造した。
実施例1においてシリコンアクリレートを除いて、
9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレンを50.5重量部含む組成物から光学シートを製造した後、スプレー方式でシリコンアクリレートおよび光開始剤としてのジフェニル(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−ホスフィンオキシドを含む硬化性組成物(シリコンアクリレート含量が100重量部のとき、光開始剤の含量は1.5重量部)を光学シートの全面に塗布した後、紫外線照射装置(Fusion社、600ワット/inch2(約93ワット/cm2))にtype−D bulbを装着して構造層の方向から300mJ/cm2を照射することにより製造した。
実施例1においてシリコンアクリレートを除いて、
9,9−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレンを50.5重量部にして光学シートを製造した後、スプレー方式でシリコンアクリレートおよび光開始剤としてのジフェニル(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−ホスフィンオキシドを含む硬化性組成物(シリコンアクリレートの含量が100重量部のとき、光開始剤の含量は1.5重量部)を光学シートの全面および基材層に塗布した後、紫外線照射装置(Fusion社、600ワット/inch2(約93ワット/cm2))にtype−D bulbを装着して基材層の方向から900mJ/cm2を照射することにより製造した。
シリコンアクリレートを使用していない組成物を用いた以外は実施例1と同一の方法で光学シートを製造した。
シリコンアクリレートを使用していない組成物を用いた以外は実施例4と同一の方法で光学シートを製造した。
シリコンアクリレートを使用していない組成物を用いた以外は実施例5と同一の方法で光学シートを製造した。
シリコンアクリレートを使用していない組成物を用いた以外は実施例8と同一の方法で光学シートを製造した。
実施例および比較例の光学シートにIMOTO社のBig Heartテスト装置による基本重量を用いて最小限の圧力を加えたとき、構造層のスクラッチ発生の有無を測定した。その測定結果は下記表1のとおりである。損傷の度合いは肉眼で判断した。その基準は次のとおりである。
耐スクラッチ性に劣る×<△<○<◎耐スクラッチ性に優れる
実施例および比較例の光学シートに対してToyoseiki社の摩擦力テスト装置によって標準重量200gのSLEDを用いて摩擦力を測定した。その測定結果は下記表1のとおりである。
実施例および比較例の光学シートを17インチの液晶ディスプレイ用バックライトユニットに装着し、TOPCON社のBM−7輝度計を用いて、指定された13point輝度を測定して平均した値で輝度を表した。その結果は下記表1のとおりである。
(合成例1)
油浴、温度計、還流冷却器および滴加漏斗が付いた1000mLの4口フラスコにエーテル系のポリオール(PPG、BASF社のLupranol 1100)0.195モル、1,6−ヘキサンジオール0.243モル、および反応触媒としてのジブチル錫ジラウレート0.03gを投入し、約70〜80℃で30分間攪拌して混合させた後、ジフェニルメタンジイソシアネート0.730モルを約1時間間隔で2〜3段階に分けて添加し、計5時間反応を行うことにより、末端がイソシアネートからなるウレタンプリポリマーを製造した。この際、末端がイソシアネートからなるプリポリマーのR(N=C=O/OH、イソシアネートとヒドロキシ基との比率)値は約1.66であり、ウレタンプリポリマーのHS(Hard Segment)/SS(Soft Segment)の比は1/1.32程度である。
HS/SSの比が1/1.51程度となるようにポリオール、鎖延長剤およびジフェニルメタンジイソシアネートの比率を調節して得られたウレタンプリポリマーを使用した以外は、合成例1と同一の方法でウレタンアクリレートオリゴマーを製造した。
HS/SSの比が1/2.65程度となるようにポリオール、鎖延長剤およびジフェニルメタンジイソシアネートの比率を調節して得られたウレタンプリポリマーを使用した以外は、合成例1と同一の方法でウレタンアクリレートオリゴマーを製造した。
HS/SSの比が1/3.9程度となるようにポリオール、鎖延長剤およびジフェニルメタンジイソシアネートの比率を調節して得られたウレタンプリポリマーを使用した以外は、合成例1と同一の方法でウレタンアクリレートオリゴマーを製造した。
全体組成100重量部に対して、合成例1で製造して得たウレタンアクリレート75重量部、フェノキシエチルメタクリレート(Sartomer、SR340)9重量部、フェノキシエチルアクリレート(Sartomer、SR339)10重量部、光開始剤としての2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド1.5重量部、光開始剤としてのメチルベンゾイルホルメート1.5重量部、添加剤としてのビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバシン酸塩2.5重量部、およびシリコンアクリレート0.5重量部を混合して60℃で1時間混合して組成物を製造した。その後、基材層としてのポリエチレンテレフタレート(KOLON社、188)の一面に塗布して35℃のプリズム状ローラーのフレーム上に置き、紫外線照射装置(Fusion社、600ワット/inch2(約93ワット/cm2))にtype−D bulbを装着して基材層の方向から900mJ/cm2を照射することにより、90°のプリズム頂角、50μmのピッチおよび27μmの高さを有する線形三角プリズムを形成させて光学シートを製造した(D=215μm)。
実施例11において半円形の縦断面、50μmのピッチおよび27μmの高さを有するレンチキュラーレンズを形成させて光学シートを製造した。
実施例11において流線型のピーク部分を有し且つ50μmのピッチ(プリズムの縦断面における流線型部分の最も長い幅は3μm)および27μmの高さを有する線形プリズムを形成させて光学シートを製造した。
実施例11において五角形の縦断面、95°の頂角、50μmのピッチおよび27μmの高さを有する線形プリズムを形成させて光学シートを製造した。
実施例11において半円形の縦断面、50μmのピッチおよび27μmの高さを有する曲線型プリズムを形成させて光学シートを製造した。
合成例2で得たウレタンアクリレートを使用した以外は、実施例11と同一の方法で光学シートを製造した。
合成例3で得たウレタンアクリレートを使用した以外は、実施例11と同一の方法で光学シートを製造した。
合成例4で得たウレタンアクリレートを使用した以外は、実施例11と同一の方法で光学シートを製造した。
合成例1で得たウレタンアクリレートを使用し、基材層としてポリエチレンテレフタレート(KOLON社、厚さ125μm)を使用した以外は、実施例11と同一の方法で光学シートを製造した(D=152μm)。
合成例1で得たウレタンアクリレートを使用し、基材層としてポリエチレンテレフタレート(KOLON社、厚さ250μm)を使用した以外は、実施例11と同一の方法で光学シートを製造した(D=277μm)。
光学シートとして3M社のBEFプリズムフィルムを使用した。
光学シートとしてDOOSAN社のBrtie−200プリズムフィルムを使用した。
光学シートとしてLG社のLES−T2プリズムフィルムを使用した。
シリコンアクリレートを使用していない組成を用いた以外は、実施例11と同一の方法で光学シートを製造した。
実施例および比較例で製造された光学シートに対して日本Shimadzu社の微小圧縮硬度計(Shimadzu DUH−W201S)を用いて「Load−Unload test」項目を用いてD1および弾性回復率を測定した。直径50の平面圧子の中央部分に光学シート構造層における山形状の尖った部分がくるように位置させた後、次の条件でD1および弾性回復率を5回繰返し測定し、平均値を求めて下記表2に示した。
a.加えられる最大圧縮力:1gf(=9.807mN)
b.時間当たり加えられる圧縮力:0.2031mN/秒
c.最大圧縮力における停止時間:5秒
実施例および比較例の光学シートをIMOTO社のBig Heartテスト装置による基本重量を用いて最小限の圧力を加えたとき、構造層のスクラッチ発生の有無を測定した。その測定結果は下記表2のとおりである。損傷の度合いは肉眼で判断した。判断基準は次のとおりである。
耐スクラッチ性に劣る×<△<○<◎耐スクラッチ性に優れる
BLU上に100gの錘を5秒間のせた後、錘を除去したとき、シート間の密着発生の有無で判断する。密着の度合いは肉眼で判断した。判断基準は次のとおりである。
密着性に劣る(シート間の密着が発生する)×<△<○<◎密着性に優れる(シート間の密着が発生しない)
20 構造層
30 樹脂硬化層
40 樹脂硬化層
Claims (15)
- 分子鎖にスリップ性の元素を含有する樹脂硬化層を含む光学シート。
- 表面が構造化され、
分子鎖にスリップ性の元素を含有する樹脂硬化層を含む光学シート。 - 基材層と、
前記基材層上に形成され、表面が構造化された構造層とを含み、
前記構造層は分子鎖にスリップ性の元素を含有する樹脂硬化層であることを特徴とする、請求項2または3に記載の光学シート。 - 基材層と、
前記基材層上に形成され、表面が構造化された構造層と、
前記構造層上に形成され、分子鎖にスリップ性の元素を含有する樹脂硬化層とを含むことを特徴とする、請求項2または3に記載の光学シート。 - 基材層の構造層が形成されていない他の一面に、分子鎖にスリップ性の元素を含有する樹脂硬化層をさらに含むことを特徴とする、請求項5に記載の光学シート。
- 表面が構造化された構造層は、分子鎖にスリップ性の元素を含有する樹脂硬化層であることを特徴とする、請求項5に記載の光学シート。
- スリップ性の元素はFまたはSiであることを特徴とする、請求項1または2に記載の光学シート。
- 樹脂硬化層はFまたはSiを含む硬化性樹脂から形成されたものであることを特徴とする、請求項1または2に記載の光学シート。
- 硬化性樹脂は有機珪素化合物およびフッ素系アクリレートの中から選ばれたいずれか一つ以上を含むことを特徴とする、請求項9に記載の光学シート。
- 構造層は、縦断面が多角形、流線型のピークを有する多角形、半円形または半楕円形をしている多面体形状、縦断面が多角形、流線型のピークを有する多角形、半円形または半楕円形をしている柱形状、および縦断面が多角形、流線型のピークを有する多角形、半円形または半楕円形をしている曲線柱形状の中から選ばれた一つ以上のパターンが多数形成されたものであることを特徴とする、請求項3または4に記載の光学シート。
- 数式1で表される弾性回復率が90%以上であることを特徴とする、請求項2に記載の光学シート。
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