JP2011506240A - フルオロアルキルシランでの無機粒子疎水化 - Google Patents

フルオロアルキルシランでの無機粒子疎水化 Download PDF

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Abstract

無機粒子(例えば、シリカ)表面上にフルオロシランを共有結合(すなわち、グラフト)することによる、かかる疎水化粒子の製造が教示されている、Olesらによる出願の米国特許出願公開第2006/0222815号明細書に例示されるように、疎水性ならびに疎油性を付与するために、フルオロシランでの無機粒子の疎水化が用いられている。Olesらにより用いられているフルオロシランは、4つの結合を有するケイ素原子からなり、そのうちの3つは、加水分解性基への直接結合であり、その加水分解性基は、無機粒子の表面と反応し、それによってフルオロシランが粒子に共有結合される。残りの結合は、ケイ素原子からパーフルオロアルキル基への直接結合である。それと異なり、本発明の疎水化無機粒子は、そのケイ素原子が最初に二価有機結合性基に結合し、その基が次にパーフルオロアルキル基に結合する、フルオロシランからの残基を含む。前述の二価有機結合性基の組み込みによって、得られた疎水化無機粒子の、疎水性ならびに疎油性を付与する能力が向上することが発見されている。

Description

Olesらにより出願された米国特許出願公開第2006/0222815号明細書により例示されるように、疎水性ならびに疎油性を付与するために、フルオロシランでの無機粒子疎水化が用いられており、その特許出願では、無機粒子(例えば、シリカ)表面でのフルオロシランの共有結合(すなわち、グラフト化)による、かかる疎水化粒子の製造が教示されている。Olesらにより用いられたフルオロシランは、4つの結合を有するケイ素原子からなり、そのうちの3つは、加水分解性基への直接結合であり、その加水分解性基は、無機粒子の表面と反応し、それによってフルオロシランが粒子に共有結合される。残りの結合は、ケイ素原子からパーフルオロアルキル基への直接結合である。
Olesらの利点にもかかわらず、疎水性ならびに疎油性を付与する向上した能力を有する疎水化無機粒子を発見することが望まれる。
本発明に従って得られるシリカ粒子(AEROSIL 200)から製造された疎水化粒子の略図である。 1)本発明に従って得られるシリカ粒子(AEROSIL 200)から製造された疎水化粒子;2)未処理シリカ粒子(AEROSIL 200);の固体29Si NMR交差分極マジック角回転分析(CPMAS)によって得られたスペクトルである。
従来から知られている疎水化無機粒子は、そのケイ素原子がパーフルオロアルキル基に直接結合する、フルオロシランからの残基を含むのに対して、本発明の疎水化無機粒子は、そのケイ素原子が最初に二価有機結合性基に結合し、その基が次にパーフルオロアルキル基に結合する、フルオロシランからの残基を含む。前述の二価有機結合性基の組み込みによって、得られた疎水化無機粒子の、疎水性ならびに疎油性を付与する能力が向上することが発見されている。
本発明は、その表面にフルオロシランを共有結合でグラフトし、それによって粒子に疎水性および/または疎油性を付与する方法によって製造される表面改質無機粒子(疎水化無機粒子としても知られる)に関する。本発明で使用されるフルオロシランは、パーフルオロアルキル基などのフッ素豊富な基にそのケイ素原子を結合させる、二価有機結合性基を有する。共有結合グラフトする前述の方法で有用なフルオロシランは、参照により本明細書に組み込まれる、2008年11月26日出願の米国特許出願第12/323,593号明細書に記載されている。
具体的には、表面改質無機酸化物粒子は、Mの酸化物(Mは、Si、Ti、Zn、Zr、Mn、Al、およびその組み合わせからなる群から独立して選択される)を含み;前記粒子のうちの少なくとも1種類が、式(1):
(L1d(L2cSi−(CH2n−(Z1a−[C(X1)]x−(Z2l−Q1−Rf
(式中、L1は、Mに共有結合する酸素を表し;L2はそれぞれ独立して、H、C1−C2アルキル、およびOHからなる群から選択され;dおよびcは、d≧1、c≧0、d+c=3であるような整数であり;nはそれぞれ独立して、1〜12の整数であり;
a、x、およびlは、−(Z1a−[C(X1)]x−(Z2l−により表される式1の部位がさらに、以下の部位:
i)第1部位(a=1、x=1、およびl=1);および
ii)第2部位(a=1、x=0、およびl=0);
のうちの少なくとも1つを表すように選択される整数であり;
fは、i)パーフルオロアルキルの1つのフッ素原子が、水素によって任意選択的に置換されることができ、かつ/またはii)パーフルオロアルキルが、少なくとも1つの酸素、メチレン、またはエチレンによって任意選択的に中断されていることを条件として、C2−C12パーフルオロアルキルから選択され;Qは、少なくとも1つの二価有機基によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から選択され;
1は、少なくとも1つの二価有機基によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から選択され;
1は、OまたはSから選択され;
第1部位がさらに定義され、ここで、Z1およびZ2は:
a)Z1が−NH−であり、かつZ2が、−NH−、−O−、−S−、−NH−S(O)2−、−N[C(O)H]−、−[HC(COOH)(R1)]CH−S−、および−(R1)CH−[HC(COOH)]−S−からなる群からであり;
b)あるいはまた、Z2が−NH−であり、かつZ1が、−O−および−S−からなる群からであり;
c)R1はそれぞれ独立して、水素、フェニル、または−C65、好ましくはHもしくはCH3を任意選択的に末端とする一価C1−C8アルキルから選択される;ように選択され;
第2部位がさらに定義され、ここで、
a)Z1は−N[−Q3−(Rf)]−であり;
b)Q1およびQ3は、−C(O)−O−または−O−C(O)−のうちの少なくとも1つによって中断されており、任意選択的に少なくとも1つの二価有機基によってさらに中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される)
によって表される少なくとも1つのフルオロシラン基に共有結合した表面を有する。
別段の指定がない限り、本明細書で使用される、L1、L2、d、c、n、Z1、X1、Z2、Q1、Q3、R1、およびRfの定義は、式1に関する上記の定義と同じである。
好ましい一実施形態において、表面改質無機酸化物粒子は、式(1)において、
a=1、x=1、およびl=1であり;
1が−NH−であり、かつZ2が−NH−である;
ような、尿素またはチオ尿素フルオロシラン基に共有結合した表面を有する少なくとも1種類の粒子を含み、
前記尿素またはチオ尿素フルオロシラン基は、次式:
(L1d(L2cSi−(CH2n−NH−C(X1)−NH−Q1−Rf
(式中、X1は、尿素フルオロシラン基を形成するOであり、またはX1は、チオ尿素フルオロシラン基を形成するSであり;
1は、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、および−O−C(O)−NH−からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される)によって表される。
他の好ましい実施形態において、表面改質無機酸化物粒子は、Rfが、C2−C12パーフルオロアルキルから選択され、Q1が、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、および−O−C(O)−NH−からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択されるような、尿素またはチオ尿素フルオロシラン基に共有結合した表面を有する少なくとも1種類の粒子を含む。
他の好ましい実施形態において、表面改質無機酸化物粒子は、i)パーフルオロアルキルの1つのフッ素原子が水素で置換されており、かつ/またはii)パーフルオロアルキルが、少なくとも1つの酸素、メチレン、またはエチレンによって中断されているという条件で、RfがC2−C12パーフルオロアルキルから選択され;Qが、少なくとも1つの二価有機基によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から選択されるような、尿素またはチオ尿素フルオロシラン基に共有結合した表面を有する少なくとも1種類の粒子を含む。
他の好ましい実施形態において、表面改質無機酸化物粒子は、式(1)において:
1が−NH−であり、かつZ2が−O−であるか、またはZ1が−O−であり、かつZ2が−NH−であり;かつ
1がOである;
ような、カルバメートフルオロシランに共有結合した表面を有する少なくとも1種類の粒子を含み、
前記粒子は、次式:
(L1d(L2cSi−(CH2n−NH−C(O)−O−Q1−Rf、または
(L1d(L2cSi−(CH2n−O−C(O)−NH−Q1−Rf
(式中、Q1は、−NH−C(O)−NH−、−NH−C(S)−NH−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−(R1)N−S(O)2−、
Figure 2011506240
からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって中断されているC2−C12ヒドロカルビレンである)
によって表される、イソシアネートから誘導されたカルバメートフルオロシラン基に共有結合した表面を有する。
他の好ましい実施形態において、表面改質無機酸化物粒子は、Rfが、C2−C12パーフルオロアルキルから選択され、Q1が、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、および−O−C(O)−NH−からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択されるような、カルバメートフルオロシラン基に共有結合した表面を有する少なくとも1種類の粒子を含む。
他の好ましい実施形態において、表面改質無機酸化物粒子は、i)パーフルオロアルキルの1つのフッ素原子が水素で置換されており、かつ/またはii)パーフルオロアルキルが、少なくとも1つの酸素、メチレン、またはエチレンによって中断されているという条件で、RfがC2−C12パーフルオロアルキルから選択され;Qが、少なくとも1つの二価有機基によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から選択されるような、カルバメートフルオロシラン基に共有結合した表面を有する少なくとも1種類の粒子を含む。
他の好ましい実施形態において、表面改質無機酸化物粒子は、式(1)において:
1が−NH−であり、かつZ2が−S−であるか、またはZ1が−S−であり、かつZ2が−NH−であり;かつ
1がOである;
ような、チオールカルバメートフルオロシラン基に共有結合した表面を有する少なくとも1種類の粒子を含み、
前記チオールカルバメートフルオロシラン基は、次式;
(L1d(L2cSi−(CH2n−NH−C(O)−S−Q1−Rfまたは
(L1d(L2cSi−(CH2n−S−C(O)−NH−Q1−Rf
(式中、Q1は、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R1)−C(O)−、−C(O)−N(R1)−、−(R1)N−S(O)2−、および
Figure 2011506240
からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される)によって表される。
他の好ましい実施形態において、表面改質無機酸化物粒子は、Rfが、C2−C12パーフルオロアルキルから選択され、Q1が、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、および−O−C(O)−NH−からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択されるような、チオールカルバメートフルオロシラン基に共有結合した表面を有する少なくとも1種類の粒子を含む。
他の好ましい実施形態において、表面改質無機酸化物粒子は、i)パーフルオロアルキルの1つのフッ素原子が水素で置換されており、かつ/またはii)パーフルオロアルキルが、少なくとも1つの酸素、メチレン、またはエチレンによって中断されているという条件で、RfがC2−C12パーフルオロアルキルから選択され;Qが、少なくとも1つの二価有機基によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から選択されるような、チオールカルバメートフルオロシラン基に共有結合した表面を有する少なくとも1種類の粒子を含む。
他の好ましい実施形態において、表面改質無機酸化物粒子は、式(1)において:
1が−NH−であり、かつZ2が−NH−S(O)2−であり;
1がOである;
ような、N−スルホン尿素フルオロシラン基に共有結合した表面を有する少なくとも1種類の粒子を含み、
前記N−スルホン尿素フルオロシラン基は、次式:
(L1d(L2cSi−(CH2n−NH−C(O)−NH−S(O)2−Q1−Rf
(式中、Q1は、中断されてないC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される)によって表される。
他の好ましい実施形態において、表面改質無機酸化物粒子は、式(1)において:
a=1、x=1、およびl=1であり;
1が−NH−であり、かつZ2が−N[C(O)H]−である;
ような、N−ホルミル尿素フルオロシラン基に共有結合した表面を有する少なくとも1種類の粒子を含み、
前記N−ホルミル尿素フルオロシラン基は、次式:
(L1d(L2cSi−(CH2n−NH−C(X1)−N[C(O)H]−Q1−Rf
(式中、Q1は、−S−および−NH−からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位で中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される)によって表される。
他の好ましい実施形態において、表面改質無機酸化物粒子は、式(1)において:
a=1、x=1、およびl=1であり;
1が−NH−であり、かつZ2が−[HC(COOH)(R1)]CH−S−または−(R1)CH−[HC(COOH)]−S−であり;
1がOであり;かつQ1が−(CH22−であるような、チオエーテルスクシンアミド酸フルオロシラン基に共有結合した表面を有する少なくとも1種類の粒子を含み、
前記チオエーテルスクシンアミド酸フルオロシラン基は、次式:
(L)3Si−(CH2n−NH−C(O)−[HC(COOH)(R1)]CR1−(CH2m−S−(CH22−Rf、または
(L)3Si−(CH2n−NH−C(O)−(R1)CH−[CR1(COOH)]−(CH2m−S−(CH22−Rf
(式中、mは1または0であり;R1はそれぞれ独立して、メチルまたは水素、好ましくはHから選択される)によって表される。
他の好ましい実施形態において、表面改質無機酸化物粒子は、式(1)において:
a=1、x=0、およびl=0であり;かつ
1が−N[−Q3−(Rf)]−である;
ような、第3級アミンフルオロシラン基に共有結合した表面を有する少なくとも1種類の粒子を含み、
前記第3級アミンフルオロシラン基は、次式:
Figure 2011506240
(式中、Q1およびQ3は、少なくとも1つの−C(O)−O−によって中断されており、かつ−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R1)−C(O)−、−C(O)−N(R1)−、−(R1)N−S(O)2−、および
Figure 2011506240
からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって任意選択的にさらに中断されている、C2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される)によって表される。
疎水性と疎油性の両方を付与するために、その表面にフルオロシランを共有結合でグラフトすることによって、本発明の疎水化無機粒子を製造することができる。本発明で使用されるフルオロシランは、パーフルオロアルキル基などのフッ素豊富な基にケイ素原子を結び付ける二価有機結合性基を有する。本発明に有用なフルオロシランは、無機粒子の表面と反応する少なくとも1つの加水分解性基を有し、それによって、フルオロシランと無機粒子との間に共有結合が形成される。本発明において有用なフルオロシランは、フルオロアルキルシランとしても知られており、参照により本明細書に組み込まれる、2008年11月26日出願の米国特許出願第12/323,593号明細書にさらに記載されている。
非極性溶媒(例えば、トルエン)に無機粒子を分散し、この分散液に所望のフルオロシランを添加することによって、本発明の疎水化無機粒子を製造することができる。次いで、この分散液を高温(例えば、80〜100℃)に約8〜10時間加熱する。次いで、この分散液を周囲温度(約20℃)に冷却する。次いで、分散液を遠心機にかけ、溶媒をデカントし、得られた無機粒子を新しい溶媒で洗浄する。洗浄は、少なくとも2回行うことが好ましい。次いで、洗浄された無機粒子を高温(約100〜110℃)にてオーブン内で乾燥させる。得られた乾燥無機粒子が本発明の最終生成物である。しかしながら、このパラグラフに記載の全手順を繰り返すことによって、得られた乾燥無機粒子を非極性溶媒(例えば、トルエン)に再び分散し、追加のフルオロシランをこの分散液に添加することができる。
先のパラグラフにおける疎水化無機粒子を製造するための手順が好ましく、「集中的(convergent)」アプローチとして知られる。代替方法としては、本発明の疎水化無機粒子の一部は、「拡散的(divergent)」アプローチによって製造することもでき、そのアプローチでは、「官能基化無機粒子」が、未処理無機粒子を第1前駆物質と反応させることによって製造され、その第1前駆物質は、無機粒子の表面と反応し、それによって第1前駆物質と無機粒子との間に共有結合を形成する、少なくとも1つの加水分解性末端基に結合するケイ素原子を含む。第1前駆物質はさらに、反応性基末端基(例えば、アミンまたはアミンから誘導されるイソシアネートまたはアミンから誘導されるイソチオシアネート)を含み、それによって、反応性末端基を含む「アンカー」を有する官能基化無機粒子が形成される。次いで、官能基化無機粒子を第2前駆物質と反応させる。第2前駆物質は、「アンカー」の反応性末端基と反応することができる、相当する反応性基(例えば、末端アミン、イソシアネート、イソチオシアネート、ビニル、塩化スルホニル、またはスルホンアミド)を含む。第2前駆物質は、本明細書において「キャッピング剤」という用語によっても知られている。第1前駆物質と第2前駆物質の組み合わせの一例は、第1前駆物質が末端アミン基を含み、第2前駆物質が末端イソシアネート、イソチオシアネート、ビニル、塩化スルホニル、またはスルホンアミドを含む、組み合わせである。
本発明に有用な無機粒子としては、その表面に反応性基を有する無機粒子であって、かかる基が、本発明のフルオロシラン(またはその前駆物質)の加水分解性基と反応し、それによって無機粒子とフルオロシラン(またはその前駆物質)との間に共有結合を形成することができる、無機粒子が挙げられる。特に有用な無機粒子は、ケイ素、チタン、亜鉛、ジルコニウム、マンガン、およびアルミニウムの酸化物などの酸化物である。
前述のように、「集中的」アプローチが、本発明の疎水化無機粒子の製造に好ましい。この集中的アプローチにおいて有用なフルオロシランは、
(L)3−Si−(CH2n−(Z1a−[C(X1)]x−(Z2l−Q1−Rf 式2
(式中、nはそれぞれ独立して、1〜12の整数であり;
a、x、およびlは、−(Z1a−[C(X1)]x−(Z2l−によって表される式2の部位がさらに、以下の部位:
i)第1部位(a=1、x=1、およびl=1);および
ii)第2部位(a=1、x=0、およびl=0);
のうちの少なくとも1つを表すように選択される整数であり;
Lは、加水分解性または非加水分解性一価基から独立して選択され;
fは、i)パーフルオロアルキルの1つのフッ素原子が、水素で任意選択的に置換されることができ、かつ/またはii)パーフルオロアルキルが、少なくとも1つの酸素、メチレン、またはエチレンによって任意選択的に中断されることができることを条件として、C2−C12パーフルオロアルキルから選択され;Qが、少なくとも1つの二価有機基によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から選択され;
1が、少なくとも1つの二価有機基によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から選択され;
1が、OまたはSから選択される)によって表され、
第1部位がさらに定義され、ここで
a)Z1が−NH−であり、かつZ2が、−NH−、−O−、−S−、−NH−S(O)2−、−N[C(O)H]−、−[HC(COOH)(R1)]CH−S−、および−(R1)CH−[HC(COOH)]−S−からなる群から選択され;
b)代わりに、Z2が−NH−であり、かつZ1が、−O−、および−S−からなる群からであり;
c)Z1またはZ2がOである場合に、Q1が、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−NR1−S(O)2−、−N(CH)3S(O)2−、および
Figure 2011506240
からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって中断されており;
d)R1がそれぞれ独立して、水素、フェニル、または−C65、好ましくはHもしくはCH3を任意選択的に末端とする一価C1−C8アルキルから選択される;ようにZ1およびZ2が選択され、
第2部位がさらに定義され、ここで
a)Z1が−N(−Q3−Rfであり;
b)Q1およびQ3が、−C(O)−O−または−O−C(O)−のうちの少なくとも1つによって中断されており、かつ少なくとも1つの二価有機基によって任意選択的にさらに中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される。
式2の好ましいフルオロシランは、イソシアネートから誘導される、尿素またはチオ尿素フルオロシランであるフルオロシランであり:
ここで、Z1およびZ2はどちらも−NH−であり;
前記尿素またはチオ尿素は、次式:
(L)3Si−(CH2n−NH−C(X1)−NH−Q1−Rf
(式中、X1は、尿素フルオロシランを形成するOであり、またはX1は、チオ尿素フルオロシランを形成するSであり;かつ
1が、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、および−O−C(O)−NH−からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される)によって表される。
好ましい尿素またはチオ尿素フルオロシランは、Rfが、C2−C12パーフルオロアルキルから選択され、Q1が、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、および−O−C(O)−NH−からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される、フルオロシランである。
好ましい尿素またはチオ尿素フルオロシランは、i)パーフルオロアルキルの1つのフッ素原子が、水素で置換されており、かつ/またはii)パーフルオロアルキルが、少なくとも1つの酸素、メチレン、またはエチレンによって中断されているという条件で、Rfが、C2−C12パーフルオロアルキルから選択され;Qが、少なくとも1つの二価有機基によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から選択される、フルオロシランである。
式2の他の好ましいイソシアネート誘導フルオロシランは、
式中、Z1が−NH−であり、かつZ2が−O−であるか、またはZ1が−O−であり、Z2が−NH−であり;かつ
1がOである、カルバメートフルオロシランであり、
前記カルバメートは、次式:
(L)3Si−(CH2n−NH−C(O)−O−Q1−Rf、または
(L)3Si−(CH2n−O−C(O)−NH−Q1−Rf
(式中、Q1が、−NH−C(O)−NH−、−NH−C(S)−NH−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−(R1)N−S(O)2−、
Figure 2011506240
からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって中断されているC2−C12ヒドロカルビレンである)によって表される。
好ましいカルバメートフルオロシランは、Rfが、C2−C12パーフルオロアルキルから選択され、Q1が、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、および−O−C(O)−NH−からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される、フルオロシランである。
好ましいカルバメートフルオロシランは、i)パーフルオロアルキルの1つのフッ素原子が、水素によって置換されており、かつ/またはii)パーフルオロアルキルが、少なくとも1つの酸素、メチレンまたはエチレンによって中断されていることを条件として、RfがC2−C12パーフルオロアルキルから選択され;Qが、少なくとも1つの二価有機基によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から選択される、フルオロシランである。
式2の他の好ましいイソシアネート誘導フルオロシランは、
式中、Z1が−NH−であり、かつZ2が−S−であるか、またはZ1が−S−であり、かつZ2が−NH−であり;かつ
1がOである;チオールカルバメートフルオロシランであり、
前記カルバメートは、次式:
(L)3Si−(CH2n−NH−C(O)−S−Q1−Rfまたは
(L)3Si−(CH2n−S−C(O)−NH−Q1−Rf
(式中、Q1が、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R1)−C(O)−、−C(O)−N(R1)−、−(R1)N−S(O)2−、および
Figure 2011506240
からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される)によって表される。
好ましいチオールカルバメートフルオロシランは、Rfが、C2−C12パーフルオロアルキルから選択され、Q1が、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、および−O−C(O)−NH−からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される、フルオロシランである。
好ましいチオールカルバメートフルオロシランは、i)パーフルオロアルキルの1つのフッ素原子が、水素によって置換されており、かつ/またはii)パーフルオロアルキルが、少なくとも1つの酸素、メチレンまたはエチレンによって中断されていることを条件として、RfがC2−C12パーフルオロアルキルから選択され;Qが、少なくとも1つの二価有機基によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から選択される、フルオロシランである。
式2の他の好ましいイソシアネート誘導フルオロシランは、
式中、Z1が−NH−であり、Z2が−NH−S(O)2−であり;かつ
1がOである;N−スルホン尿素フルオロシランであり、
前記N−スルホン尿素は、次式:
(L)3Si−(CH2n−NH−C(O)−NH−S(O)2−Q1−Rf
(式中、Q1が、中断されていないC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される)によって表される。
式2の他の好ましいイソシアネート誘導フルオロシランは、
式中、a=1、x=1、およびl=1であり;
1が−NH−であり、かつZ2が−N[C(O)H]−である;N−ホルミル尿素フルオロシランであり、
前記N−ホルミル尿素は、次式:
(L)3Si−(CH2n−NH−C(X1)−N[C(O)H]−Q1−Rf
(式中、Q1が、−S−および−NH−からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される)によって表される。
式2の他の好ましいフルオロシランは、
式中、a=1、x=1、およびl=1であり;
1が−NH−であり、かつZ2が−[HC(COOH)(R1)]CH−S−または(R1)CH−[HC(COOH)]−S−であり;
1がOであり;かつQ1が−(CH22−である、チオエーテルスクシンアミド酸フルオロシランであり、
前記チオエーテルスクシンアミド酸フルオロシランは、次式:
(L)3Si−(CH2n−NH−C(O)−[HC(COOH)(R1)]CR1−(CH2m−S−(CH22−Rf、または
(L)3Si−(CH2n−NH−C(O)−(R1)CH−[CR1(COOH)]−(CH2m−S−(CH22−Rf
(式中、mは1または0、好ましくは0であり、R1はそれぞれ独立して、メチルまたは水素、好ましくはHから選択される)によって表される。
式2の他の好ましいフルオロシランは、
式中、a=1、x=0、およびl=0であり;かつ
1が−N[−Q3−(Rf)]−である;第3級アミンフルオロシランであり、
前記第3級アミンは、次式:
Figure 2011506240
によって表される。
1およびQ3は、少なくとも1つの−C(O)−O−によって中断されており、かつ−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R1)−C(O)−、−C(O)−N(R1)−、−(R1)N−S(O)2−、および
Figure 2011506240
からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって任意選択的にさらに中断されている、C2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される。
以下の実施例に示されるように、以下の無機粒子を使用した。
Figure 2011506240
以下の実施例に示されるように、以下のフルオロシランを使用した。
Figure 2011506240
集中的フルオロシラン単一グラフト化
実施例全体を通して使用される、「集中的フルオロシラン単一グラフト化」という用語は、以下の手順を意味する。機械攪拌機を備えた3リットル丸底フラスコに、窒素雰囲気下にて、選択された無機酸化物約125gを入れた。均一な分散を達成するために、攪拌混合物を約50℃に約2時間加熱した。次いで、選択されたフッ素化シラン25gを攪拌混合物に迅速に添加し、続いて30分間窒素でスパージした。次いで、反応混合物温度を75℃に上げ、窒素雰囲気下で約15時間攪拌した。この割り当てられた反応時間の後、反応混合物を冷却し、3000rpmで約2分間、割り当て分を遠心分離した。余分な炭化水素溶媒をデカントし、残りのフッ素グラフト化ヒュームド無機酸化物生成物をエタノールで3回洗浄し、遠心分離し、続いて真空オーブン内で110℃にて約12時間乾燥させた。
集中的フルオロシラン二重グラフト化
実施例全体を通して使用される、「集中的フルオロシラン二重グラフト化」という用語は、以下の追加の段階を有する「集中的フルオロシラン単一グラフト化」と同じ手順を意味する。機械攪拌機を備えた3リットル丸底フラスコに、窒素雰囲気下にて、集中的フルオロシラン二重グラフト化後に得られた無機酸化物生成物約125gを入れた。均一な分散を達成するために、攪拌混合物を約50℃に約2時間加熱した。次いで、集中的フルオロシラン単一グラフト化で使用された同じフッ素化シラン25gを攪拌混合物に迅速に添加し、続いて30分間窒素でスパージした。次いで、反応混合物温度を75℃に上げ、窒素雰囲気下で約15時間攪拌した。この割り当てられた反応時間の後、反応混合物を冷却し、3000rpmで約2分間、割り当て分を遠心分離した。余分な炭化水素溶媒をデカントし、残りのフッ素二重グラフト化ヒュームド無機酸化物生成物をエタノールで3回洗浄し、遠心分離し、続いて真空オーブン内で110℃にて約12時間乾燥させた。
薄膜流延
実施例全体を通して使用される、「薄膜流延」という用語は、以下の手順を意味する。選択された疎水化無機粒子または未処理無機粒子約5重量%をイソプロパノールに分散させた。清潔なガラススライド上にこの溶液3層を流延することによって、薄膜を製造した。このスライドを各流延後に60℃で約10分間乾燥させ、それによって、ガラススライド上に粒子の均一なコーティングが形成された。
前進水接触角の測定(「H2O前進」)
「前進水接触角」または「H2O前進」という用語は、DROP image standard softwareを利用し、かつ250μlシリンジを有する自動分配システムを備え、照明式試料台アセンブリを有するRame−Hart Standard Automated Goniometer Model 200を使用して行われた測定の結果を意味する。試料は、両面テープを用いてガラススライドに貼り付けた。コンピュータースクリーンを有するコンピューターにインターフェースを介して連結されたゴニオメーターは、どちらも個々のバーニヤによって独立して調節可能な水平軸ライン指示器および調節可能な回転クロスラインおよび角度計を両方とも有するカメラに連結された内蔵接眼レンズを有する。使用されるシリンジはアルコールで念入りに洗浄し、使用前に完全に乾燥させた。
接触角測定の前に、ガラススライド上の試料を所定の位置に固定し、試料の水平面に一致する接眼レンズの水平ライン(軸)を揃えるように垂直バーニヤを調節し、試料界面での試験液滴界面領域の一方の面が見えるように、接眼レンズに対する台の水平位置を位置付ける。
試料上の試験液の接触角を決定するために、ステンレス鋼針およびマイクロメーター打込みねじを備えた小さなシリンジを用いて、およそ1滴の試験液を試料上に分配し、脱イオン水である較正量の試験液と置き換えた。
台の調節により試料を水平にした後、Model 200のソフトウェアによって、水平および交差ラインを調節し、コンピューターによって、液滴外観(drop appearance)のモデリングに基づいて接触角を計算した。代替方法としては、試験液を分配すると直ぐに、回転バーニヤを調節し、交差ラインおよび交差位置、すなわち、試験液滴および試料の端と一致する回転可能な交差ラインと固定水平ラインの交点を合わせ、次いで、接眼レンズにより映されるように、試験液滴面の端の接線と一致するように、交差ライン角(回転)を位置付ける。次いで、接線角度に等しい接触角を角度計から読取った。
液滴が表面に添加された後に、接触角を測定した。
後退水接触角測定(「H2O後退」)
「後退水接触角」または「H2O後退」という用語は、液滴が表面から一部引かれた後に接触角が測定されたことを除いては、上述の前進水接触角測定と同じ測定の結果を意味する。
前進油接触角測定(「C1612前進」)
「前進油接触角」または「C1612前進」という用語は、試験液として水の代わりにヘキサデカンを使用したことを除いては、上述の前進水接触角測定と同じ測定の結果を意味する。
後退油接触角測定(「C1612後退」)
「後退油接触角」または「C1612後退」という用語は、液滴が表面から一部引かれた後に接触角が測定されたことを除いては、上述の前進油接触角測定と同じ測定の結果を意味する。
接触角の評価
前進および/または後退水接触角が高い測定値は、撥水性が高いことを示し、水接触角が低い測定値は、撥水性が低いことを示す。水接触角を測定することができない場合は、湿潤および非常に乏しい撥水性を意味する。前進および/または後退油接触角が高い測定値は、撥油性が高いことを示し、油接触角が低い測定値は、撥油性が低いことを示す。油接触角を測定することができない場合は、湿潤および非常に乏しい撥油性を意味する。前進水接触角および後退水接触角が約150度を超え、ヒステリシス(前進水接触角と後退水接触角の差)が約10度未満である場合に、表面を「超疎水性」と言う。前進油接触角および後退油接触角が約150度を超え、ヒステリシス(前進油接触角と後退油接触角の差)が約10度未満である場合には、表面を「超疎油性」と言う。超疎水性かつ超疎油性である表面を「超両疎媒性」と言う。
フッ素重量%の測定
Wickboldトーチ法によって、所定の疎水化粒子におけるフッ素%を決定し、以下の表で「F%」と表示される欄の下に示す。
未処理対照例
薄膜流延を用いて、SiO2#1、ZnO#1、TiSiO4#1、SiO2#2、SiO2#3、SiO2#4、SiO2#5、SiO2#6それぞれから、8種類のフィルムを製造した。これらの8種類のフィルムそれぞれに関して、水および油接触角(前進および後退)を測定した。8種類すべての場合において水接触角または油接触角を測定することができたわけではなく、これは、湿潤および非常に乏しい撥水性および撥油性を意味する。
比較例A
選択された無機酸化物がSiO2#1であり、選択されたフルオロシランがFS#Aである、集中的フルオロシラン単一グラフト化を行い、疎水化粒子を得た。これらの疎水化粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。接触角測定をこの膜試料上で行い、表3に示す。
比較例B
選択された無機酸化物がSiO2#1であり、選択されたフルオロシランがFS#Bである、集中的フルオロシラン単一グラフト化を行った。これらの疎水化粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。接触角測定をこの膜試料上で行い、表3に示す。
比較例C
選択された無機酸化物がSiO2#1であり、選択されたフルオロシランがFS#Cである、集中的フルオロシラン単一グラフト化を行った。これらの疎水化粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。接触角測定をこの膜試料上で行い、表3に示す。
実施例1
選択された無機酸化物がSiO2#1であり、選択されたフルオロシランがFS#1である、集中的フルオロシラン単一グラフト化を行った。これらの疎水化粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。接触角測定をこの膜試料上で行い、表3に示す。
実施例2
選択された無機酸化物がZnO#1であり、選択されたフルオロシランがFS#1である、集中的フルオロシラン単一グラフト化を行った。これらの疎水化粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。接触角測定をこの膜試料上で行い、表3に示す。
実施例3
選択された無機酸化物がTiSiO4#1であり、選択されたフルオロシランがFS#1である、集中的フルオロシラン単一グラフト化を行った。これらの疎水化粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。接触角測定をこの膜試料上で行い、表3に示す。
比較例D
選択された無機酸化物がSiO2#1であり、選択されたフルオロシランがFS#Aである、集中的フルオロシラン二重グラフト化を行い、疎水化粒子を得た。これらの疎水化粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。接触角測定をこの膜試料上で行い、表3に示す。
比較例E
選択された無機酸化物がSiO2#1であり、選択されたフルオロシランがFS#Bである、集中的フルオロシラン二重グラフト化を行った。これらの疎水化粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。接触角測定をこの膜試料上で行い、表3に示す。
比較例F
選択された無機酸化物がSiO2#1であり、選択されたフルオロシランがFS#Cである、集中的フルオロシラン二重グラフト化を行った。これらの疎水化粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。接触角測定をこの膜試料上で行い、表3に示す。
実施例4
選択された無機酸化物がSiO2#1であり、選択されたフルオロシランがFS#1である、集中的フルオロシラン二重グラフト化を行った。これらの疎水化粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。接触角測定をこの膜試料上で行い、表3に示す。
実施例5
選択された無機酸化物がZnO#1であり、選択されたフルオロシランがFS#1である、集中的フルオロシラン二重グラフト化を行った。これらの疎水化粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。接触角測定をこの膜試料上で行い、表3に示す。
実施例6
選択された無機酸化物はTiSiO4#1であり、選択されたフルオロシランがFS#1である、集中的フルオロシラン二重グラフト化を行った。これらの疎水化粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。接触角測定をこの膜試料上で行い、表3に示す。
Figure 2011506240
上記の表3を参照すると、比較例A〜Eで使用されたフルオロシランは、そのケイ素原子がパーフルオロアルキル基に直接結合しているフルオロシランである。それと対照的に、実施例1〜6で使用されたフルオロシランは、そのケイ素原子が最初に、−NH−C(O)−NH−(CH22−S−(CH22−で示される二価有機結合性基に結合し、次にパーフルオロアルキル基に結合しているフルオロシランである。実施例1と比較例A〜Cの接触角測定値を比較することによって示されるように、二価有機結合性基を組み込むことなく、単に適切な撥水性を達成することは可能であるが、さらに適切な撥油性も達成することは不可能であった。実施例1において二価有機結合性基を組み込んだ結果、適切な撥水性ならびに撥油性が得られる。比較例D〜Eのように二重グラフト化を行った場合でさえ、二価有機結合性基を組み込むことなく、単に適切な撥水性を達成することは可能であるが、適切な撥油性も達成することは不可能であった。実施例1と実施例4;実施例2と実施例5;実施例3と実施例6を比較することによって証明されるように、二重グラフト化は、単一グラフト化よりも撥油性を向上させることも、表3から示されている。
拡散的合成−単一官能基化
実施例全体を通して使用される「単一官能基化」という用語は、以下の手順を意味する。機械攪拌機を備えた3リットル丸底フラスコに、窒素雰囲気下にて、選択された無機酸化物約125gを入れた。均一な分散を達成するために、攪拌混合物を約50℃に約2時間加熱した。次いで、第1前駆物質、(CH3O)3Si−(CH23−NH2(Degussa AGから市販のAMMO)25gを攪拌混合物に迅速に添加し、続いて30分間窒素でスパージした。次いで、反応混合物温度を75℃に上げ、約15時間攪拌した。この割り当てられた反応時間の後、反応混合物を冷却し、3000rpmで約2分間、割当て分を遠心分離した。余分な炭化水素溶媒をデカントし、残りのフッ素グラフト化ヒュームド無機酸化物生成物をエタノールで3回洗浄し、遠心分離し、続いて真空オーブン内で110℃にて約12時間乾燥させた。上記の段階すべてを窒素雰囲気において行った。
拡散的合成−二重官能基化
実施例全体を通して使用される「二重官能基化」という用語は、以下の追加の段階を伴って、「単一官能基化」」と同じ手順を意味する。機械攪拌機を備えた3リットル丸底フラスコに、窒素雰囲気下にて、単一官能基化後に得られた無機酸化物生成物約125gを入れた。均一な分散を達成するために、攪拌混合物を約50℃に約2時間加熱した。次いで、第1前駆物質、(CH3O)3Si−(CH23−NH2(Degussa AGから市販のAMMO)25gを攪拌混合物に迅速に添加し、続いて30分間窒素でスパージした。次いで、反応混合物温度を75℃に上げ、約15時間攪拌した。この割り当てられた反応時間の後、反応混合物を冷却し、3000rpmで約2分間、割当て分を遠心分離した。余分な炭化水素溶媒をデカントし、残りのフッ素二重グラフト化ヒュームド無機酸化物生成物をエタノールで3回洗浄し、遠心分離し、続いて真空オーブン内で110℃にて約12時間乾燥させた。上記の段階すべてを窒素雰囲気において行った。
比較例F
選択された無機酸化物がSiO2#2である、単一官能基化を行い、処理粒子を得た。これらの処理粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。このフィルムで接触角測定を行い、表4に示す。
比較例G
選択された無機酸化物がSiO2#1である、単一官能基化を行い、処理粒子を得た。これらの処理粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。このフィルムで接触角測定を行い、表4に示す。
比較例H
選択された無機酸化物がSiO2#3である、単一官能基化を行い、処理粒子を得た。これらの処理粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。このフィルムで接触角測定を行い、表4に示す。
比較例I
選択された無機酸化物がSiO2#4である、単一官能基化を行い、処理粒子を得た。これらの処理粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。このフィルムで接触角測定を行い、表4に示す。
比較例J
選択された無機酸化物がSiO2#5である、単一官能基化を行い、処理粒子を得た。これらの処理粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。このフィルムで接触角測定を行い、表4に示す。
比較例K
選択された無機酸化物がSiO2#6である、二重官能基化を行い、処理粒子を得た。これらの処理粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。このフィルムで接触角測定を行い、表4に示す。
比較例L
選択された無機酸化物がSiO2#1である、二重官能基化を行い、処理粒子を得た。これらの処理粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。このフィルムで接触角測定を行い、表4に示す。
Figure 2011506240
上記の表4を参照すると、単一官能基化によっても二重官能基化によっても、適切な撥水性または撥油性は得られないことが示された。
キャッピング段階
実施例全体を通して使用される「キャッピング段階」という用語は、以下の手順を意味する。単一官能基化後または二重官能基化後に得られた無機粒子を選択される「キャッピング剤」とともに不活性雰囲気においてトルエン溶媒中で反応させる。キャッピング剤が無水コハク酸
Figure 2011506240
である場合、キャッピング剤をトルエン中で合成し、単一官能基化後または二重官能基化後に得られた無機粒子と直ぐに反応させた。参照により本明細書に組み込まれる米国特許第4171282号明細書に教示されるように、無水コハク酸の合成を行った。
実施例7
選択された無機酸化物がSiO2#2である、単一官能基化を行い、処理粒子を得た。選択されたキャッピング剤が
Figure 2011506240
であるキャッピング段階に、これらの処理粒子をかけ、それによって疎水化粒子が製造された。これらの処理粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。このフィルム試料で接触角測定を行い、表5に示す。これらの疎水化粒子上に生じたフルオロシラン残基は
Figure 2011506240
であった。
Figure 2011506240
の記号は、ケイ素からの3つの共有結合を表し、そのうちの少なくとも1つが粒子表面に結合している。
実施例8
選択された無機酸化物がSiO2#1であることを除いては、実施例7を繰り返した。
実施例9
選択された無機酸化物がSiO2#3であることを除いては、実施例7を繰り返した。
実施例10
選択された無機酸化物がSiO2#4であることを除いては、実施例7を繰り返した。
実施例11
選択された無機酸化物がSiO2#5であることを除いては、実施例7を繰り返した。
実施例12
選択された無機酸化物がSiO2#6であることを除いては、実施例7を繰り返した。
実施例13
選択された無機酸化物がSiO2#2である、二重官能基化を行い、処理粒子を得た。選択されたキャッピング剤が
Figure 2011506240
であるキャッピング段階に、これらの処理粒子をかけ、それによって疎水化粒子が製造された。これらの処理粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。このフィルム試料で接触角測定を行い、表5に示す。これらの疎水化粒子上に生じたフルオロシラン残基は
Figure 2011506240
であった。
Figure 2011506240
の記号は、ケイ素からの3つの共有結合を表し、そのうちの少なくとも1つが粒子表面に結合している。
実施例14
選択された無機酸化物がSiO2#1であることを除いては、実施例13を繰り返した。
Figure 2011506240
実施例15
選択された無機酸化物がSiO2#2である、単一官能基化を行い、処理粒子を得た。選択されたキャッピング剤がCl−S(O)2−(CH22−(CF25−CF3であるキャッピング段階に、これらの処理粒子をかけ、それによって、≡Si−(CH23−NH−S(O)2−(CH22−(CF25−CF3のフルオロシラン残基を有する疎水化粒子が製造された。記号「≡」は、ケイ素からの3つの共有結合を表し、そのうちの少なくとも1つが粒子表面に結合している。これらの処理粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。このフィルム試料で接触角測定を行い、表6に示す。
実施例16
選択された無機酸化物がSiO2#1であることを除いては、実施例15を繰り返した。
実施例17
選択された無機酸化物がSiO2#2である、二重官能基化を行い、処理粒子を得た。選択されたキャッピング剤がCl−S(O)2−(CH22−(CF25−CF3であるキャッピング段階に、これらの処理粒子をかけ、それによって、≡Si−(CH23−NH−S(O)2−(CH22−(CF25−CF3のフルオロシラン残基を有する疎水化粒子が製造された。記号「≡」は、ケイ素からの3つの共有結合を表し、少なくともそのうちの1つが粒子表面に結合している。これらの処理粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。このフィルム試料で接触角測定を行い、表6に示す。
実施例18
選択された無機酸化物がSiO2#1であることを除いては、実施例17を繰り返した。
Figure 2011506240
実施例19
選択された無機酸化物がSiO2#1である、二重官能基化を行い、処理粒子を得た。選択されたキャッピング剤がCH2=CH2−C(O)−O−(CH22−(CF25−CF3であるキャッピング段階に、これらの処理粒子をかけ、それによって、≡Si−(CH23−N[(CH22−C(O)−O−(CH22−(CF25−CF32のフルオロシラン残基を有する疎水化粒子が製造された。記号「≡」は、ケイ素からの3つの共有結合を表し、そのうちの少なくとも1つが粒子表面に結合している。第2前駆物質二重グラフト化後に得られた疎水化粒子を使用して、薄膜流延によって膜試料を作製した。このフィルム試料で接触角測定を行い、表7に示す。
Figure 2011506240
実施例14のNMR分析
実施例14で得られたSiO2#1(AEROSIL 200)シリカ粒子から製造された疎水化粒子を固体29Si NMR交差分極マジック角回転分析(CPMAS)にかけ、図2に示すスペクトルが得られた。同じ29Si NMR CPMAS分析を用いた、未処理SiO2#1(AEROSIL 200)シリカ粒子のスペクトルもまた、図2に示す。
図1は、実施例14で得られたSiO2#1(AEROSIL 200)シリカ粒子から製造された疎水化粒子の略図である。図1を参照すると、フルオロシラン残基のケイ素原子は、A1、A2、B1、B2、C1、およびC2によって示される。図1に示されるフルオロシラン残基の式において、L2は−OCH3または−OHを表す。A1およびA2は、1つの酸素原子を介してシリカ粒子表面に結合するフルオロシラン残基のケイ素原子を示す。B1およびB2は、2つの酸素原子を介してシリカ粒子表面に結合するフルオロシラン残基のケイ素原子を示す。C1およびC2は、3つの酸素原子を介してシリカ粒子表面に結合するフルオロシラン残基のケイ素原子を示す。D1、D2、D3、およびD4は、フルオロシラン残基に結合していない、シリカ粒子表面上のケイ素原子を表す。
図2および疎水化粒子のスペクトルを参照すると、1は、図1においてC1およびC2と示されるフルオロシラン残基のケイ素原子と一致するシグナルを表す。図2および疎水化粒子のスペクトルを参照すると、2は、図1においてB1およびB2と示されるフルオロシラン残基のケイ素原子と一致するシグナルを表す。図2および疎水化粒子のスペクトルを参照すると、3は、図1においてA1およびA2と示されるフルオロシラン残基のケイ素原子と一致するシグナルを表す。図2および疎水化粒子のスペクトルを参照すると、6は、図1においてD1、D2、D3、およびD4と示されるフルオロシラン残基に結合していないシリカ粒子表面上のケイ素原子に一致するシグナルを表す。
図2および未処理粒子のスペクトルを参照すると、5は、図1においてD1、D2、D3、およびD4と示されるフルオロシラン残基に結合していないシリカ粒子表面上のケイ素原子に一致するシグナルを表す。図2および未処理粒子のスペクトルを参照すると、注目すべきことには、疎水化粒子のスペクトルにおいて1、2、および3によって示されるシグナルに相当するシグナルは存在しない。

Claims (14)

  1. Mの酸化物(Mは、Si、Ti、Zn、Zr、Mn、Alおよびその組み合わせから独立して選択される)を含む表面改質無機酸化物粒子であって、前記粒子のうちの少なくとも1種類が、式(1)
    (L1d(L2cSi−(CH2n−(Z1a−[C(X1)]x−(Z2l−Q1−Rf
    (式中、L1は、Mに共有結合する酸素を表し;L2はそれぞれ独立して、H、C1−C2アルキル、およびOHからなる群から選択され;dおよびcは、d≧1、c≧0、d+c=3であるような整数であり;
    nはそれぞれ独立して、1〜12の整数であり;
    a、x、およびlは、−(Z1a−[C(X1)]x−(Z2l−により表される式1の部位がさらに、以下の部位:
    i)第1部位(a=1、x=1、およびl=1);および
    ii)第2部位(a=1、x=0、およびl=0);
    のうちの少なくとも1つを表すように選択される整数であり;
    fは、i)パーフルオロアルキルの1つのフッ素原子が、水素によって任意選択的に置換されることができ、かつ/またはii)パーフルオロアルキルが、少なくとも1つの酸素、メチレン、またはエチレンによって任意選択的に中断されていることを条件として、C2−C12パーフルオロアルキルから選択され;Qは、少なくとも1つの二価有機基によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から選択され;
    1は、少なくとも1つの二価有機基によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から選択され;
    1は、OまたはSから選択され;
    前記第1部位がさらに定義され、ここで:
    a)Z1が−NH−であり、かつZ2が、−NH−、−O−、−S−、−NH−S(O)2−、−N[C(O)H]−、−[HC(COOH)(R1)]CH−S−、および−(R1)CH−[HC(COOH)]−S−からなる群からであり;
    b)あるいはまた、Z2が−NH−であり、かつZ1が、−O−、および−S−からなる群からであり;
    c)R1はそれぞれ独立して、水素、フェニル、または−C65、好ましくはHもしくはCH3を任意選択的に末端とする一価C1−C8アルキルから選択される;ようにZ1およびZ2が選択され;
    前記第2部位がさらに定義され、ここで、
    a)Z1は−N[−Q3−(Rf)]−であり;かつ
    b)Q1およびQ3は、−C(O)−O−または−O−C(O)−のうちの少なくとも1つによって中断されており、かつ任意選択的に少なくとも1つの二価有機基によってさらに中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される)
    によって表される少なくとも1つのフルオロシラン基に共有結合した表面を有する、表面改質無機酸化物粒子。
  2. 式(1)によって表される前記フルオロシラン基が、式(1)において:
    a=1、x=1、およびl=1であり;
    1が−NH−であり、かつZ2が−NH−である;
    ような尿素またはチオ尿素フルオロシラン基であって、次式:
    (L1d(L2cSi−(CH2n−NH−C(X1)−NH−Q1−Rf
    (式中、X1は、尿素フルオロシラン基を形成するOであり、またはX1は、チオ尿素フルオロシラン基を形成するSであり;
    1は、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、および−O−C(O)−NH−からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される)によってさらに表される、尿素またはチオ尿素フルオロシラン基である、請求項1に記載の粒子。
  3. fがC2−C12パーフルオロアルキルから選択され、かつQ1が、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、および−O−C(O)−NH−からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される、請求項2に記載の粒子。
  4. fは、i)パーフルオロアルキルの1つのフッ素原子が、水素によって置換されており、かつ/またはii)パーフルオロアルキルが、少なくとも1つの酸素、メチレン、またはエチレンによって中断されていることを条件として、C2−C12パーフルオロアルキルから選択され;Qが、少なくとも1つの二価有機基によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から選択される、請求項2に記載の粒子。
  5. 式(1)によって表される前記フルオロシラン基が、式(1)において:
    1が−NH−であり、かつZ2が−O−であるか、またはZ1が−O−であり、かつZ2が−NH−であり;かつ
    1がOである;
    ようなカルバメートフルオロシラン基であって、次式:
    (L1d(L2cSi−(CH2n−NH−C(O)−O−Q1−Rf、または
    (L1d(L2cSi−(CH2n−O−C(O)−NH−Q1−Rf
    (式中、Q1は、−NH−C(O)−NH−、−NH−C(S)−NH−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−(R1)N−S(O)2−、
    Figure 2011506240
    からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンである)
    によってさらに表されるカルバメートフルオロシラン基である、請求項1に記載の粒子。
  6. fがC2−C12パーフルオロアルキルから選択され、Q1が、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、および−O−C(O)−NH−からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される、請求項5に記載の粒子。
  7. fは、i)パーフルオロアルキルの1つのフッ素原子が、水素によって置換されており、かつ/またはii)パーフルオロアルキルが、少なくとも1つの酸素、メチレン、またはエチレンによって中断されていることを条件として、C2−C12パーフルオロアルキルから選択され;Qが、少なくとも1つの二価有機基によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から選択される、請求項5に記載の粒子。
  8. 式(1)によって表される前記フルオロシラン基が、式(1)において:
    1が−NH−であり、かつZ2が−S−であるか、またはZ1が−S−であり、かつZ2が−NH−であり;かつ
    1がOである;
    ようなチオールカルバメートフルオロシラン基であって、次式:
    (L1d(L2cSi−(CH2n−NH−C(O)−S−Q1−Rfまたは
    (L1d(L2cSi−(CH2n−S−C(O)−NH−Q1−Rf
    (式中、Q1は、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R1)−C(O)−、−C(O)−N(R1)−、−(R1)N−S(O)2−、および
    Figure 2011506240
    からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される)
    によってさらに表されるチオールカルバメートフルオロシラン基である、請求項1に記載の粒子。
  9. fがC2−C12パーフルオロアルキルから選択され、かつQ1が、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、および−O−C(O)−NH−からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される、請求項8に記載の粒子。
  10. fは、i)パーフルオロアルキルの1つのフッ素原子が、水素によって置換されており、かつ/またはii)パーフルオロアルキルが、少なくとも1つの酸素、メチレン、またはエチレンによって中断されていることを条件として、C2−C12パーフルオロアルキルから選択され;Qは、少なくとも1つの二価有機基によって任意選択的に中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から選択される、請求項8に記載の粒子。
  11. 式(1)において:
    1が−NH−であり、かつZ2が−NH−S(O)2−であり;かつ
    1がOである;
    ような、N−スルホン尿素フルオロシラン基であって、次式:
    (L1d(L2cSi−(CH2n−NH−C(O)−NH−S(O)2−Q1−Rf
    (式中、Q1は、中断されていないC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される)によってさらに表されるN−スルホン尿素フルオロシラン基に共有結合した表面を有する少なくとも1種類の粒子をさらに含む、請求項1に記載の粒子。
  12. 式(1)において:
    a=1、x=1、およびl=1であり;
    1が−NH−であり、かつZ2が−N[C(O)H]−である;
    ような、N−ホルミル尿素フルオロシラン基であって、次式:
    (L1d(L2cSi−(CH2n−NH−C(X1)−N[C(O)H]−Q1−Rf
    (式中、Q1は、−S−および−NH−からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される)によってさらに表されるN−ホルミル尿素フルオロシラン基に共有結合した表面を有する少なくとも1種類の粒子をさらに含む、請求項1に記載の粒子。
  13. 式(1)において:
    a=1、x=1、およびl=1であり;
    1が−NH−であり、かつZ2が−[HC(COOH)(R1)]CH−S−または−(R1)CH−[HC(COOH)]−S−であり;
    1がOであり;かつQ1が−(CH22−である;
    ようなチオエーテルスクシンアミド酸フルオロシラン基であって、次式:
    (L)3Si−(CH2n−NH−C(O)−[HC(COOH)(R1)]CR1−(CH2m−S−(CH22−Rf、または
    (L)3Si−(CH2n−NH−C(O)−(R1)CH−[CR1(COOH)]−(CH2m−S−(CH22−Rf
    (式中、mは1または0であり;R1はそれぞれ独立して、メチルまたは水素、好ましくはHから選択される)によってさらに表されるチオエーテルスクシンアミド酸フルオロシラン基に共有結合した表面を有する少なくとも1種類の粒子をさらに含む、請求項1に記載の粒子。
  14. 式(1)において:
    a=1、x=0、およびl=0であり;かつ
    1が−N[−Q3−(Rf)]−である;
    ような第3級アミンフルオロシラン基であって、次式
    Figure 2011506240
    (式中、Q1およびQ3は、少なくとも1つの−C(O)−O−によって中断されており、かつ−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R1)−C(O)−、−C(O)−N(R1)−、−(R1)N−S(O)2−、および
    Figure 2011506240
    からなる群から選択される少なくとも1つの二価部位によって任意選択的にさらに中断されているC2−C12ヒドロカルビレンからなる群から独立して選択される)
    によってさらに表される第3級アミンフルオロシラン基に共有結合した表面を有する少なくとも1種類の粒子をさらに含む、請求項1に記載の粒子。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110095321A (ko) * 2008-11-14 2011-08-24 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 플루오로폴리머 조성물 및 처리된 기재

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8324314B2 (en) 2009-10-12 2012-12-04 E.I. Du Pont De Nemours And Company Fluoropolymer compositions and treated substrates
US8258341B2 (en) * 2009-07-10 2012-09-04 E.I. Du Pont De Nemours And Company Polyfluorosulfonamido amine and intermediate
US9777161B1 (en) 2010-08-16 2017-10-03 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Fluoroalkylsilanated mesoporous metal oxide particles and methods of preparation thereof
US8741432B1 (en) * 2010-08-16 2014-06-03 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Fluoroalkylsilanated mesoporous metal oxide particles and methods of preparation thereof
US8981140B1 (en) 2010-08-18 2015-03-17 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Peripherally aromatic silsesquioxanes featuring reactive functionality: synthesis and applications thereof
JPWO2012032868A1 (ja) * 2010-09-09 2014-01-20 Hoya株式会社 表面修飾チタニア粒子の製造方法、チタニア粒子分散液およびチタニア粒子分散樹脂
CN102432742B (zh) * 2011-09-09 2013-08-07 中科院广州化学有限公司 一种超双疏性聚合物及由其构筑的超双疏性表面
US9249313B2 (en) 2011-09-21 2016-02-02 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Synthesis of functional fluorinated polyhedral oligomeric silsesquioxane (F-POSS)
KR101369381B1 (ko) * 2011-11-04 2014-03-06 에스케이이노베이션 주식회사 함불소 화합물을 포함하는 저굴절 코팅 조성물, 이를 이용한 반사방지 필름, 이를 포함하는 편광판 및 표시장치
CN102604467B (zh) * 2012-01-13 2013-12-25 中科院广州化学有限公司 一种高分散型含氟纳米微球和环氧树脂超双疏性表面
US9217064B2 (en) 2013-01-24 2015-12-22 The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Air Force Thermosetting resins with enhanced cure characteristics containing organofunctional silane moieties
US9394408B2 (en) 2013-08-29 2016-07-19 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Controlled polymerization of functional fluorinated polyhedral oligomeric silsesquioxane monomers
WO2016176388A1 (en) * 2015-04-30 2016-11-03 The Chemours Company Tt, Llc Crosslinkable fluorinated inorganic oxide particle for architectural coatings
CN106390764B (zh) * 2015-07-28 2018-10-12 北京工业大学 一种多孔膜的超疏水疏油改性方法
EP3589695A4 (en) 2017-03-03 2021-01-20 The Government of the United States of America, as represented by the Secretary of the Navy MOISTURE-CURING OMNIPHOBIC COATINGS
CN109868652A (zh) * 2019-03-07 2019-06-11 扬州金泉旅游用品有限公司 一种制备疏水和防污的织物和布料的方法
KR102531723B1 (ko) * 2020-11-06 2023-05-11 도레이첨단소재 주식회사 이형필름 및 이의 제조방법

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1267224A (ja) * 1969-08-06 1972-03-15
JPH08127733A (ja) * 1994-11-01 1996-05-21 Shiseido Co Ltd 撥水性撥油性固体およびその製造方法
JPH08157643A (ja) * 1994-12-07 1996-06-18 Asahi Glass Co Ltd 撥水撥油性多孔性シリカ粒子および撥水撥油性塗膜
JP2000191668A (ja) * 1998-12-10 2000-07-11 Toray Ind Inc 含フッ素化合物、防汚性組成物及び防汚性物品
WO2004027889A1 (ja) * 2002-09-19 2004-04-01 Daikin Industries, Ltd. パターン表面をテンプレートとして用いる材料とその製法
JP2004537601A (ja) * 2001-08-02 2004-12-16 クラリアント・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング フルオロアルキルで変性されたオルガノシラン及びそれをコーティング組成物中に使用する方法
JP2011505422A (ja) * 2007-12-04 2011-02-24 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー フルオロアルキルシラン

Family Cites Families (63)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3719698A (en) * 1967-11-27 1973-03-06 Stevens & Co Inc J P Polyfluorinated esters of acids containing silicon and amino groups
US4171282A (en) 1977-12-07 1979-10-16 Ciba-Geigy Corporation Fluorinated nonionic surfactants
JPS60190727A (ja) * 1984-03-09 1985-09-28 Daikin Ind Ltd 含フツ素有機シラン化合物およびその製法と用途
JPH0393605A (ja) * 1989-09-01 1991-04-18 Asahi Glass Co Ltd 金属酸化物微粉末の流動性の改善の方法
JPH03109482A (ja) * 1989-09-22 1991-05-09 Mitsubishi Materials Corp 宝飾品表面処理剤
US5084653A (en) 1990-07-18 1992-01-28 Nilssen Ole K Power-line-isolated dimmable electronic ballast
JP2673763B2 (ja) * 1992-07-03 1997-11-05 信越化学工業株式会社 表面処理された無機酸化物粒子
JP3196621B2 (ja) * 1995-04-20 2001-08-06 信越化学工業株式会社 水溶性表面処理剤
US5726247A (en) 1996-06-14 1998-03-10 E. I. Du Pont De Nemours And Company Fluoropolymer nanocomposites
JPH09309745A (ja) 1996-05-24 1997-12-02 Central Glass Co Ltd 撥水撥油性物品及びその製法
JPH10139930A (ja) 1996-11-07 1998-05-26 Kansai Shin Gijutsu Kenkyusho:Kk 反応性粒子
US6495624B1 (en) 1997-02-03 2002-12-17 Cytonix Corporation Hydrophobic coating compositions, articles coated with said compositions, and processes for manufacturing same
JP3109482B2 (ja) * 1998-06-29 2000-11-13 タイガー魔法瓶株式会社 電気貯湯容器
JP4411668B2 (ja) * 1998-08-13 2010-02-10 凸版印刷株式会社 防汚剤
TW591097B (en) * 1998-12-10 2004-06-11 Toray Industries Optical articles and the preparation of optical articles
DE19938551A1 (de) 1999-08-18 2001-02-22 Penth Bernd Hydrophobe Beschichtung
CH695946A5 (de) 2000-04-04 2006-10-31 Schoeller Technologies Ag Ausrüstung von textilen Fasern, Geweben und Flächengebilden.
JP4126521B2 (ja) 2000-08-04 2008-07-30 信越化学工業株式会社 被膜形成用組成物用フロロオルガノポリシロキサン樹脂の製造方法
DE10051182A1 (de) 2000-10-16 2002-05-02 Nano X Gmbh Nanopartikel mit hydrophoben und oleophoben Eigenschaften, deren Verarbeitung und Verwendung
DE10106213A1 (de) 2001-02-10 2002-08-22 Dmc2 Degussa Metals Catalysts Cerdec Ag Selbstreinigende Lackbeschichtungen und Verfahren und Mittel zur Herstellung derselben
DE10118351A1 (de) 2001-04-12 2002-10-17 Creavis Tech & Innovation Gmbh Selbstreinigende Oberflächen durch hydrophobe Strukturen und Verfahren zu deren Herstellung
DE10118346A1 (de) 2001-04-12 2002-10-17 Creavis Tech & Innovation Gmbh Textile Flächengebilde mit selbstreinigender und wasserabweisender Oberfläche
DE10118352A1 (de) 2001-04-12 2002-10-17 Creavis Tech & Innovation Gmbh Selbstreinigende Oberflächen durch hydrophobe Strukturen und Verfahren zu deren Herstellung
DE10118349A1 (de) 2001-04-12 2002-10-17 Creavis Tech & Innovation Gmbh Selbstreinigende Oberflächen durch hydrophobe Strukturen und Verfahren zu deren Herstellung
DE10134477A1 (de) 2001-07-16 2003-02-06 Creavis Tech & Innovation Gmbh Selbstreinigende Oberflächen durch hydrophobe Strukturen und Verfahren zu deren Herstellung
DE10139574A1 (de) 2001-08-10 2003-02-20 Creavis Tech & Innovation Gmbh Erhalt des Lotus-Effektes durch Verhinderung des Mikrobenwachstums auf selbstreinigenden Oberflächen
DE10205007A1 (de) 2002-02-07 2003-08-21 Creavis Tech & Innovation Gmbh Verfahren zur Herstellung von Schutzschichten mit schmutz- und wasserabweisenden Eigenschaften
CN1454921A (zh) 2002-03-01 2003-11-12 刘铁林 纳米氟碳双疏膜的制备及生成方法
DE10209297A1 (de) 2002-03-01 2003-09-18 Koenig & Bauer Ag Oberfläche für Maschinenteile einer Druckmaschine
DE10210667A1 (de) 2002-03-12 2003-09-25 Creavis Tech & Innovation Gmbh Herstellung von Bahnenwaren mit selbstreinigenden Oberflächen mittels eines Kalandrierprozesses, Bahnenwaren selbst und die Verwendung dieser
DE10210666A1 (de) 2002-03-12 2003-10-02 Creavis Tech & Innovation Gmbh Formgebungsverfahren zur Herstellung von Formkörpern mit zumindest einer Oberfläche, die selbstreinigende Eigenschaften aufweist sowie mit diesem Verfahren hergestellte Formkörper
DE10210673A1 (de) 2002-03-12 2003-09-25 Creavis Tech & Innovation Gmbh Spritzgusskörper mit selbstreinigenden Eigenschaften und Verfahren zur Herstellung solcher Spritzgusskörper
DE10210671A1 (de) 2002-03-12 2003-09-25 Creavis Tech & Innovation Gmbh Entformungsmittel, welches hydrophobe, nanoskalige Partikel aufweist sowie Verwendung dieser Entformungsmittel
US7141618B2 (en) 2002-06-03 2006-11-28 Ppg Industries Ohio, Inc. Coating compositions with modified particles and methods of using the same
US6790904B2 (en) 2002-06-03 2004-09-14 Ppg Industries Ohio, Inc. Liquid coating of film-forming resin and particles chemically modified to lower surface tension
DE10231757A1 (de) 2002-07-13 2004-01-22 Creavis Gesellschaft Für Technologie Und Innovation Mbh Verfahren zur Herstellung einer tensidfreien Suspension auf wässriger basis von nanostrukturierten, hydrophoben Partikeln und deren Verwendung
DE10242560A1 (de) 2002-09-13 2004-03-25 Creavis Gesellschaft Für Technologie Und Innovation Mbh Herstellung von selbstreinigenden Oberflächen auf textilen Beschichtungen
DE10250328A1 (de) 2002-10-29 2004-05-13 Creavis Gesellschaft Für Technologie Und Innovation Mbh Herstellung von Suspensionen hydrophober Oxidpartikel
US7407899B2 (en) 2003-01-10 2008-08-05 Milliken & Company Textile substrates having layered finish structure for improving liquid repellency and stain release
DE10308379A1 (de) 2003-02-27 2004-09-09 Creavis Gesellschaft Für Technologie Und Innovation Mbh Dispersion von Wasser in hydrophoben Oxiden zur Herstellung von hydrophoben nanostrukturierten Oberflächen
CN1441147A (zh) 2003-03-14 2003-09-10 国玉江 具有疏油疏水和三防功能金属管、杆的制造方法及所用涂料
WO2004082644A1 (ja) * 2003-03-19 2004-09-30 Kanebo Cosmetics Inc. 化粧料
CN1469021A (zh) 2003-04-25 2004-01-21 河 冯 超双疏纳米界面材料在厕具上的应用
DE10321851A1 (de) 2003-05-15 2004-12-02 Creavis Gesellschaft Für Technologie Und Innovation Mbh Verwendung von mit Fluorsilanen hydrophobierten Partikeln zur Herstellung von selbstreinigenden Oberflächen mit lipophoben, oleophoben, laktophoben und hydrophoben Eigenschaften
EP1479738A1 (en) 2003-05-20 2004-11-24 DSM IP Assets B.V. Hydrophobic coatings comprising reactive nano-particles
AU2003298231A1 (en) 2003-05-28 2005-01-21 Nanogate Coating Systems Gmbh Hydrophobic and/or oleophobic coating for glass surfaces with adhesion sites for sealants
AU2003269794A1 (en) 2003-09-02 2005-03-16 Sabanci Universitesi Process for preparing superhydrophobic surface compositions, surfaces obtained by said process and use of them
CN100463931C (zh) 2003-11-03 2009-02-25 长春赛纳纳米服饰有限公司 一种纳米材料改性的织物整理剂及其制备方法
CN1614129A (zh) 2003-11-05 2005-05-11 北京中科安康医疗用品有限公司 超双疏性杀菌防病毒织物及其制法和用于医用病员服
CN1614128A (zh) 2003-11-05 2005-05-11 北京中科安康医疗用品有限公司 超双疏阻隔性杀菌防病毒织物及其制法和用于医务工作服
US20080107864A1 (en) 2004-01-15 2008-05-08 Newsouth Innovations Pty Limited Rupert Myers Building Method of Making a Surface Hydrophobic
US7435450B2 (en) 2004-01-30 2008-10-14 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Surface modification of silica in an aqueous environment
KR100607716B1 (ko) 2004-04-22 2006-08-01 한국화학연구원 불소계 지문방지제와 이의 제조방법
TW200615424A (en) 2004-07-20 2006-05-16 Schoeller Textil Ag Finishings for textile fibres and babrics to give hydrophobic oleophobic and self-cleaning surfaces
CN1727566A (zh) 2004-07-29 2006-02-01 只金芳 纳米拒水拒油剂及其在防寒服面料、领带中的应用
DE102004037752A1 (de) 2004-08-04 2006-03-16 Cognis Deutschland Gmbh & Co. Kg Ausgerüstete Fasern und textile Flächengebilde
DE102004046568A1 (de) 2004-09-24 2006-04-06 Construction Research & Technology Gmbh Fluormodifizierte Reaktivharzsysteme, Verfahren zu ihrer Herstellung und deren Verwendung
EP1802721A4 (en) 2004-10-05 2007-12-26 Newsouth Innovations Pty Ltd HYDROPHOBIC AND LYOPHOBIC COATING
CN100500778C (zh) 2004-11-23 2009-06-17 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 表面抗指纹化涂层
DE102004062742A1 (de) 2004-12-27 2006-07-06 Degussa Ag Textile Substrate mit selbstreinigenden Eigenschaften (Lotuseffekt)
DE102004062739A1 (de) 2004-12-27 2006-07-06 Degussa Ag Selbstreinigende Oberflächen mit durch hydrophobe Partikel gebildeten Erhebungen, mit verbesserter mechanischer Festigkeit
DE102004062743A1 (de) 2004-12-27 2006-07-06 Degussa Ag Verfahren zur Erhöhung der Wasserdichtigkeit von textilen Flächengebilden, so ausgerüstete textile Flächengebilde sowie deren Verwendung
DE102004062740A1 (de) 2004-12-27 2006-07-13 Degussa Ag Verfahren zur Erhöhung der Wasserdichtigkeit von textilen Flächengebilden, so ausgerüstete textile Flächengebilde sowie deren Verwendung

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1267224A (ja) * 1969-08-06 1972-03-15
JPH08127733A (ja) * 1994-11-01 1996-05-21 Shiseido Co Ltd 撥水性撥油性固体およびその製造方法
JPH08157643A (ja) * 1994-12-07 1996-06-18 Asahi Glass Co Ltd 撥水撥油性多孔性シリカ粒子および撥水撥油性塗膜
JP2000191668A (ja) * 1998-12-10 2000-07-11 Toray Ind Inc 含フッ素化合物、防汚性組成物及び防汚性物品
JP2004537601A (ja) * 2001-08-02 2004-12-16 クラリアント・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング フルオロアルキルで変性されたオルガノシラン及びそれをコーティング組成物中に使用する方法
WO2004027889A1 (ja) * 2002-09-19 2004-04-01 Daikin Industries, Ltd. パターン表面をテンプレートとして用いる材料とその製法
US20060159849A1 (en) * 2002-09-19 2006-07-20 Daikin Industries Ltd. Material with pattern surface for use as template and process for producing the same
JP2011505422A (ja) * 2007-12-04 2011-02-24 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー フルオロアルキルシラン

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110095321A (ko) * 2008-11-14 2011-08-24 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 플루오로폴리머 조성물 및 처리된 기재
JP2012508811A (ja) * 2008-11-14 2012-04-12 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー フルオロポリマー組成物および処理基材
KR101651307B1 (ko) 2008-11-14 2016-08-25 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 플루오로폴리머 조성물 및 처리된 기재

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