JP2011500754A - 安定な相乗混合物 - Google Patents
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Abstract
Description
−塗料、着色剤、下塗り剤(render)および他のコーティング材料
−デンプン溶液およびデンプンスラリー、または、例えば印刷用ガムなどのデンプンをベースとする他の製品
−着色顔料などの他の原料(例えば、酸化鉄顔料、カーボンブラック顔料、酸化チタン顔料)のスラリー、または、カオリン、炭酸カルシウム、石膏、ベントナイト、ケイ酸マグネシウム、スメクタイトもしくはタルクなどの無機フィラーおよび顔料のスラリー
−例えば糖蜜、リグノスルフォネートもしくはポリアクリレートをベースとするコンクリート添加剤、ビチューメンエマルジョンまたは目地材などの建設用化学製品
−公知の動物性、植物性または合成原料をベースとする接着剤または粘着剤
−例えば、ポリアクリレート、ポリスチレンアクリレート、スチレンブタジエン、ポリビニルアセテートなどをベースとするポリマー分散物
−工業用および家庭用の洗剤およびクリーナ
−鉱物油および鉱物油製品(例えば、ディーゼル燃料など)
−鉱物油含有の半合成または合成濃縮物をベースとする金属加工用冷却潤滑剤
−皮革、織物または光化学工業用アジュバント
−例えば染料の製造および貯蔵などの化学工業の前駆体および中間体
−インクまたは各種タイプの墨
−ワックスおよびクレーエマルジョン
−デンプン溶液およびデンプンスラリー、または、例えば印刷用ガムなどのデンプンをベースとする他の製品
−着色顔料などの他の原料(例えば、酸化鉄顔料、カーボンブラック顔料、酸化チタン顔料)のスラリー、または、カオリン、炭酸カルシウム、石膏、ベントナイト、ケイ酸マグネシウム、スメクタイトもしくはタルクなどの無機フィラーおよび顔料のスラリー
である。
−カオリン、炭酸カルシウム、石膏、ベントナイト、ケイ酸マグネシウム、スメクタイトもしくはタルクなどの無機フィラーおよび顔料のスラリー
である。
アルテルナリア・テヌイス(Alternaria tenuis)などのアルテルナリア属菌(Alternaria)、アスペルギルス・ニガー(Aspergillus niger)などのアスペルギルス属菌(Aspergillus)、ケトミウム・グロボスム(Chaetomium globosum)などのケトミウム属菌(Chaetomium)、フサリウム・ソラニ(Fusarium solani)などのフサリウム属菌(Fusarium)、レンチヌス・チグリヌス(Lentinus tigrinus)などのレンチヌス属菌(Lentinus)、ペニシリウム・グラウクム(Penicillium glaucum)などのペニシリウム属菌(Penicillium);
アルカリゲネス・フェカリス(Alcaligenes faecalis)などのアルカリゲネス属菌(Alcaligenes)、バチルス・スブチリス(Bacillus subtilis)などのバチルス属菌(Bacillus)、エシェリキア・コリ(Escherichia coli)などのエシェリキア属菌(Escherichia)、シュードモナス・アエルギノサ(Pseudomonas aeruginosa)またはシュードモナス・フルオレセンス(Pseudomonas fluorescens)などのシュードモナス属菌(Pseudomonas)、スタフィロコックス・アウレウス(Staphylococcus aureus)などのスタフィロコックス属菌(Staphylococcus);
カンジダ・アルビカンス(Candida albicans)などのカンジダ属菌(Candida)、ゲオトリクム・カンジドゥム(Geotrichum candidum)などのゲオトリクム属菌(Geotrichum)、ロドトルラ・ルブラ(Rhodotorula rubra)などのロドトルラ属菌(Rhodotorula)。
ブロノポール、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、ベンジルヘミホルマール、テトラメチロールアセチレンジウレア(TMAD)、1,3−ビス(ヒドロキシメチル)−5,5−ジメチルイミダゾリジン−2,4−ジオン(DMDMH)、p−クロロ−m−クレゾール、ジメチロールウレア−1,2−ジブロモ−2,4−ジシアノブタン、2,2−ジブロモ−3−ニトリロプロピオンアミド、エチレングリコールヘミホルマール、エチレングリコールビスヘミホルマール、N−メチロールウレア、2−フェノキシエタノール、フェノキシプロパノール、o−フェニルフェノール、クロロフェン、例えばN−アルキル−N,N−ジメチルベンジルアンモニウムクロライドなどの第四級アンモニア塩、およびトリメチレン−2−メチルイソチアゾリノン−3−オン
から選択される1種もしくはそれ以上の活性物質をさらに含むことができる。
4,5−ジクロロ−2−n−オクチルイソチアゾリン−3−オン、ヨードプロパルギルブチルカルバメート、2−n−オクチルイソチアゾリン−3−オン、チアベンダゾール、カルベンダジム、ピリチオン亜鉛、およびピリチオンナトリウム。
から選択される。
相乗効果は、Kullら(F.C.Kull、P.C.Eismann、H.D.Sylvestrowicz、R.L.Mayer、Applied Microbiology 9、538−541、1961)が記載した方法により求めた。次の関連式を適用する。
Qb=物質Bの量
MIC(A)=微生物の成長を防止する物質Aの濃度
MIC(B)=微生物の成長を防止する物質Bの濃度
MIC(A+B)=微生物の成長を防止する物質A+Bの濃度
SI=相乗指数、ここで、SI=1は相加作用を意味する
SI>1は拮抗作用を意味する
SI<1は相乗作用を意味する
各種濃度のGDAおよびMITと上記2種の活性物質の混合物を、細菌シュードモナス・フルオレセンス(Pseudomonas fluorescens)に対して試験した。pH7、26℃で、Landy最小培地によりインキュベーションを行った。活性物質の各種濃度におけるシュードモナス・フルオレセンス(Pseudomonas fluorescens)の成長を、活性物質を使用しない場合の成長と比較した。成長が検出されない最小濃度を最小阻止濃度(MIC)として示す。
各種濃度のGDAおよびMITと上記2種の活性物質の混合物を、細菌シュードモナス・フルオレセンス(Pseudomonas fluorescens)に対して試験した。pH9、26℃で、Landy最小培地によりインキュベーションを行った。活性物質の各種濃度におけるシュードモナス・フルオレセンス(Pseudomonas fluorescens)の成長を、活性物質を使用しない場合の成長と比較した。成長が検出されない最小濃度を最小阻止濃度(MIC)として示す。
各種濃度のGDAならびにMITと上記2種の活性物質の混合物を、コリネバクテリウム属(Corynebacterium)の細菌に対して試験した。pH9、26℃で、Landy最小培地によりインキュベーションを行った。活性物質の各種濃度におけるコリネバクテリウム属菌(Corynebacterium)の成長を、活性物質を使用しない場合の成長と比較した。成長が検出されない最小濃度を最小阻止濃度(MIC)として示す。
各種濃度のGDAおよびMITと上記2種の活性物質の混合物を、酵母ロドトルラ・ルブラ(Rhodotorula rubra)に対して試験した。26℃で麦芽エキス培地によりインキュベーションを行った。活性物質の各種濃度におけるロドトルラ・ルブラ(Rhodotorula rubra)の成長を、活性物質を使用しない場合の成長と比較した。成長が検出されない最小濃度を最小阻止濃度(MIC)として示す。
実施例5:
78gの蒸留水、4.77gのKordek 573F(メチルイソチアゾリノンを50%含む)、および76.9gのPreventol GDA 50(グルタルジアルデヒドを50%含む)を互いに混合し、40℃で保存して、1および2ヵ月後に分析を行った。
76.9gの蒸留水、3.58gのKordek 573F(メチルイソチアゾリノンを50%含む)、および81.50gのPreventol GDA 50(グルタルジアルデヒドを50%含む)と、18.0gのブロノポールを互いに混合し、40℃で保存して、1および2ヵ月後に分析を行った。
76.9gの蒸留水、5.37gのKordek 573F(メチルイソチアゾリノンを50%含む)、および79.72gのPreventol GDA 50(グルタルジアルデヒドを50%含む)と、18.0gのブロノポールを互いに混合し、40℃で保存して、1および2ヵ月後に分析を行った。
76.9gの蒸留水、7.16gのKordek 573F(メチルイソチアゾリノンを50%含む)、および78.0gのPreventol GDA 50(グルタルジアルデヒドを50%含む)と、18.0gのブロノポールを互いに混合し、40℃で保存して、1および2ヵ月後に分析を行った。
76.9gのPreventol GDA 50(グルタルジアルデヒドを50%含む)、10.8gのKathon 39FG(クロロメチルイソチアゾリノンおよびメチルイソチアゾリノンの塩を含まない混合物を24.3%含む)、および72.3gの水を互いに混合し、40℃で保存して、記載の1および2ヵ月後に分析を行った。
Claims (12)
- グルタルジアルデヒド(GDA)、2−メチル−2H−イソチアゾール−3−オン(MIT)、および、適切ならば5−クロロ−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン(CMIT)を含む組成物であって、CMIT含有量が、MITに対するCMITの重量比で0〜4%であり、かつMITに対するGDAの重量比が少なくとも1.1:1である組成物。
- 次の群:
ブロノポール、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、ベンジルヘミホルマール、テトラメチロールアセチレンジウレア(TMAD)、1,3−ビス(ヒドロキシメチル)−5,5−ジメチルイミダゾリジン−2,4−ジオン(DMDMH)、p−クロロ−m−クレゾール、ジメチロールウレア−1,2−ジブロモ−2,4−ジシアノブタン、2,2−ジブロモ−3−ニトリロプロピオンアミド、エチレングリコールヘミホルマール、エチレングリコールビスヘミホルマール、N−メチロールウレア、2−フェノキシエタノール、フェノキシプロパノール、o−フェニルフェノール、クロロフェン、例えばN−アルキル−N,N−ジメチルベンジルアンモニウムクロライドなどの第四級アンモニア塩、およびトリメチレン−2−メチルイソチアゾリノン−3−オン
から選択される1種もしくはそれ以上の活性物質をさらなる成分として含むことを特徴とする請求項1に記載の組成物。 - 1種もしくはそれ以上の防かび剤をさらなる成分として含むことを特徴とする請求項1または2に記載の組成物。
- GDAとMITの合計量に基づいて1〜80重量%含まれることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の組成物。
- 多価アルコールをさらなる成分として含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の組成物。
- 工業材料の保護方法であって、請求項1〜5のいずれか一項に記載の組成物により工業材料を処理することを特徴とする方法。
- 工業材料が、
−塗料、着色剤、下塗り剤および他のコーティング材料
−デンプン溶液およびデンプンスラリー、またはデンプンをベースとする他の製品
−顔料、または無機フィラーおよび顔料のスラリー
−コンクリート添加剤などの建設用化学製品
−公知の動物性、植物性または合成原料をベースとする接着剤または粘着剤
−ポリアクリレート、ポリスチレンアクリレート、スチレンブタジエン、ポリビニルアセテートをベースとするポリマー分散物
−工業用および家庭用の洗剤およびクリーナ
−鉱物油および鉱物油製品
−鉱物油含有の半合成または合成濃縮物をベースとする金属加工用冷却潤滑剤
−皮革、織物または光化学工業用アジュバント
−化学工業の前駆体および中間体
−インクまたは各種タイプの墨
−ワックスおよびクレーエマルジョン
であることを特徴とする請求項6に記載の方法。 - 請求項1〜5のいずれか一項に記載の組成物により処理された工業材料。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載の組成物を調製するためのGDAおよびMITの使用。
- 工業材料の保存剤としての請求項1〜5のいずれか一項に記載の組成物の使用。
- 細菌、酵母、粘液生物およびかびを抑制する方法であって、細菌、酵母、粘液生物およびかびを請求項1〜5のいずれか一項に記載の組成物と接触させることを特徴とする方法。
- 細菌、酵母、粘液生物および菌類が、アルテルナリア属菌(Alternaria)、アスペルギルス属菌(Aspergillus)、ケトミウム属菌(Chaetomium)、フサリウム属菌(Fusarium)、レンチヌス属菌(Lentinus)、ペニシリウム属菌(Penicillium)、アルカリゲネス属菌(Alcaligenes)、バチルス属菌(Bacillus)、エシェリキア属菌(Escherichia)、シュードモナス属菌(Pseudomonas)、スタフィロコックス属菌(Staphylococcus)、カンジダ属菌(Candida)、ゲオトリクム属菌(Geotrichum)、またはロドトルラ属菌(Rhodotorula)であることを特徴とする請求項11に記載の方法。
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