JP2011241421A - ガスバリア性積層体の製造方法およびガスバリア性積層体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラスチックフィルム基材11の少なくとも一方の面に、物理成膜法もしくは化学気相成長法のいずれか、またはその両方を用いて下地層12を形成する工程と、下地層12の表面に、原子層堆積法を用いてガスバリア層13を形成する工程とを具備する。
【選択図】図1
Description
厚さ12μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(以下PETフィルムという。)にSiOx膜を電子ビーム蒸着法で成膜した。この際、成膜条件は、成膜前圧力=5×10−4Pa、成膜圧力=1×10−2Pa、膜厚は25nmとした。次に、ALD法でAl2O3膜を成膜した。この際、原料ガスはトリメチルアルミニウム(以下TMAという。)、パージガスとしてAr、反応ガスとしてH2Oを用いた。成膜サイクルとして150サイクルとし膜厚15nmの成膜を行った。この際、各ガスの供給時間は2secずつとし、1サイクルは8secであり、合計時間は、20minであった。
厚さ12μmのPETフィルムにSiOxCyHz膜をプラズマCVD法で成膜した。この際、成膜条件は、成膜前圧力=1×10−3Pa、成膜圧力=5Pa、膜厚は25nmとした。次にALD法でAl2O3膜を成膜した。この際、原料ガスはTMA、パージガスとしてAr、反応ガスとしてH2Oを用いた。成膜サイクルとして150サイクルとし膜厚15nmの成膜を行った。この際、各ガスの供給時間は2secずつとし、1サイクルは8secであり、合計時間は、20minであった。
厚さ12μmのPETフィルムにSiOx膜を電子ビーム蒸着法で成膜した。この際、成膜条件は、成膜前圧力=5×10−4Pa、成膜圧力=1×10−2Pa、膜厚は25nmとした。
<比較例2>
<比較例3>
<比較例4>
<比較例5>
<比較例6>
水蒸気透過度をMOCON法により測定した。用いた測定器はMOCON AQUATRAN model1により、40℃、90%Rhにて測定し、酸素透過度はMOCON OX−TRAN 2/20により、23℃、0%Rhにて測定した。
11・・・プラスチックフィルム基材
12・・・下地層
13・・・ガスバリア層
Claims (6)
- プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、ガスバリア層を有するガスバリア性積層体の製造方法であって、
前記プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、物理成膜法もしくは化学気相成長法のいずれか、またはその両方を用いて下地層を形成する工程と、
前記下地層の表面に、原子層堆積法を用いてガスバリア層を形成する工程と
を具備することを特徴とするガスバリア性積層体の製造方法。 - 前記下地が、金属薄膜層、セラミック薄膜層または有機無機ハイブリット薄膜層であることを特徴とする請求項1に記載のガスバリア性積層体の製造方法。
- プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、ガスバリア層を有するガスバリア性積層体であって、
前記ガスバリア層が、前記プラスチックフィルム基材側から順に下地層と、ガスバリア層とからなり、前記下地層の密度が、前記プラスチックフィルム基材の密度よりも大きいことを特徴とするガスバリア性積層体。 - 前記下地層が、金属薄膜層、セラミック薄膜層または有機無機ハイブリット薄膜層であることを特徴とする請求項3に記載のガスバリア性積層体。
- 水蒸気透過度が、0.1g/m2/day以下であることを特徴とする請求項3又は4に記載のガスバリア性積層体。
- 酸素透過度が、0.1cc/m2/day以下であることを特徴とする請求項3から5のいずれか一項に記載のガスバリア性積層体。
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