JP2011238774A - 圧電素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シリコン基板101上に、酸化膜104を形成する工程と、酸化膜104上に、チタンと白金を順次積層して下部電極層130を形成する工程と、下部電極層130の表面に、上記白金からなるヒロック135を形成する工程と、下部電極層130上に、ヒロック135を成長核として、(100)面配向のチタン酸鉛からなるシード層140を形成する工程と、シード層140上に、(001)面又は(100)面配向のチタン酸ジルコン酸鉛からなる圧電薄膜層150を形成する工程と、圧電薄膜層150上に、上部電極層160を形成する工程と、を有して構成した。
【選択図】図1
Description
図1は、圧電素子の製造工程(a)〜(d)を示すものであり、図2は、図1に続く製造工程(e)〜(g)を示すものである。尚、図1(a)は、圧電素子を形成するベースとなる基板の断面図であり、以降図1(b)〜図1(d)及び図2(e)〜図2(g)の図は、図1(a)に示す基板上に各工程の成膜物が積層等されている状態を示す。以下の説明において、圧電素子100とは、後述する下部電極層、シード層、圧電薄膜層及び上部電極層で構成されたものを示す。
以下に本実施形態における上記各工程について説明する。
図4において、光走査装置1は、光ビームを反射するミラー部2と、このミラー部の周囲に配置した4つの可動支持体3A〜3Dと、この4つの可動支持体3A〜3Dの周囲を囲む固定枠部4とを備え、可動支持体3A〜3Dの内側に、トーションバー5、6を介してミラー部2を回動可能に軸支し、固定枠部4の内側に、トーションバー5、6と軸方向が直交する連結部7A〜7Dにより可動支持体3A〜3Dを回動可能に軸支する構成である。これらミラー部2、可動支持体3A〜3D、固定枠部4、トーションバー5、6及び連結部7A〜7Dは、半導体基板として、例えば、酸化膜(SiO2)層12をシリコン層11で挟んだサンドイッチ構造のSOI(Silicon-on-insulator)基板(図5に示す)を用いて一体に形成される。
101 SOI基板(シリコン基板)
104 酸化膜
110 チタン層
120 白金層
130 下部電極層
135 ヒロック
140 シード層
150 圧電薄膜層(PZT圧電薄膜層)
160 上部電極層
Claims (5)
- シリコン基板上に、酸化膜を形成する工程と、
上記酸化膜上に、チタンと白金を順次積層して下部電極層を形成する工程と、
上記下部電極層の表面に、上記白金からなるヒロックを形成する工程と、
上記下部電極層上に、上記ヒロックを成長核として、(100)面配向のチタン酸鉛からなるシード層を形成する工程と、
上記シード層上に、(001)面又は(100)面配向のチタン酸ジルコン酸鉛からなる圧電薄膜層を形成する工程と、
上記圧電薄膜層上に、上部電極層を形成する工程と、
を有して構成することを特徴とする圧電素子の製造方法。 - 上記ヒロックを形成する工程は、酸素雰囲気中で、上記酸化膜及び下部電極層が形成されたシリコン基板を、熱処理を行って、ヒロックを形成することを特徴とする請求項1に記載の圧電素子の製造方法。
- 前記熱処理は、約700℃で約20分間行うことを特徴とする請求項2に記載の圧電素子の製造方法。
- 上記シード層は、上記ヒロック形成後の下部電極層の表面の十点平均粗さの値の略半分の厚みで形成することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の圧電素子の製造方法。
- 上記シード層及び上記圧電薄膜層は、有機金属化学気相蒸着法を用いて形成することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の圧電素子の製造方法。
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