JP2011210704A - 極端紫外光生成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ドライバレーザから出力されたレーザ光をもとに極端紫外光をバースト出力する極端紫外光生成装置であって、過去にバースト出力された極端紫外光のパラメータログをもとに、バースト出力される極端紫外光の少なくとも1パルス目を含む1パルス以上の先頭側パルスエネルギーのエネルギー制御を行うエネルギー制御部を備えてもよい。
【選択図】図1
Description
まず、この開示の実施の形態1による極端紫外(EUV)光生成装置について説明する。図1は、この開示の実施の形態1によるEUV光生成装置の構成を示す模式図である。このEUV光生成装置は、大きくはドライバレーザ1と、このドライバレーザ1からのCO2パルスレーザ光L1をもとにEUV光L2を生成するEUV光生成装置2と、ドライバレーザ1およびEUV光生成装置2を制御するEUV光源コントローラCとを備える。
W=(ΣE)/Tw …(1)
Cnew=C+ΔE*dC/dE*Gain …(2)
また、バースト先頭制御パルス数mを1としてもよい。これは、バースト先頭のEUVパルスは、パラメータログによって所望のEUVパルスエネルギーの値よりも大きく変動するからである。図12は、この場合における制御量記憶部23内に記憶される関係テーブルTbの内容を示している。この関係テーブルTbは、バースト先頭のEUVパルスに対してのみ、平均出力Wの範囲に対応した制御量が記憶され、更新される。したがって、バースト先頭から2番目以降のEUVパルスに対しては、すべてステップS117のフィードバック制御処理がなされる。
上述した実施の形態1では、制御量記憶部23に記憶されている関係テーブルを用いて制御量を読み出し、更新するようにしていたが、この実施の形態3では、平均出力Wに対応する制御量を示す関係式を用いて、制御量を読み出し、制御量を更新することによってバースト先頭制御処理を行うよう構成されている。
C=(dC/dW)*(A/exp(B×W)+D) …(3)
Dnew=D+ΔE*dC/dE*Gain …(4)
また、上述した実施の形態1では、所定時間Tw内の平均出力Wをパラメータログとして制御量を読み出し、制御量を更新することによってバースト先頭制御処理を行うようにしているが、この実施の形態4では、図8に示した直前のバースト長時間TBをパラメータログとして制御量を読み出し、制御量を更新するようにしている。すなわち、この実施の形態4では、次の対象バースト発光を行う際、対象バースト発光に影響を及ぼす直前のバースト発光に対するバースト長時間TBをパラメータログとしている。
また、上述した実施の形態1では、所定時間Tw内の平均出力Wをパラメータログとして制御量を読み出し、制御量を更新することによってバースト先頭制御処理を行うようにしていた。この実施の形態5では、図8に示した直前のバースト休止時間Trをパラメータログとして制御量を読み出し、制御量を更新するようにしている。すなわち、この実施の形態5では、次の対象バースト発光を行う際、対象バースト発光に影響を及ぼす直前のバースト発光終了からの発光休止時間であるバースト休止時間Trをパラメータログとしている。
また、上述した実施の形態4では、直前のバースト長時間TBをパラメータログとして関係テーブルTcから制御量を読み出し、制御量を更新するようにしていた。この実施の形態6では、この関係テーブルTcに替えて、実施の形態3と同様に、直前のバースト長時間TBに対応する制御量を示す関係式を用いて、制御量を読み出し、制御量を更新するようにしている。
C=(dC/dT)*(A/exp(B×TB)+D) …(5)
この実施の形態7では、所定時間Tw内の平均出力Wおよびバースト長時間TBをパラメータログとし、この平均出力Wとバースト長時間TBとのマトリックスによって設定される制御量の関係テーブルTeから制御量を読み出し、制御量を更新することによってバースト先頭制御処理を行うようにしている。なお、バースト先頭制御パルス数mが複数の場合、複数の関係テーブルを用いることになる。
この変形例1では、上述した実施の形態1〜7のEUV光源コントローラCによって制御されるドライバレーザ1の詳細な制御構成について説明する。図25に示すように、このドライバレーザ1は、プリアンプPAおよびメインアンプMAの増幅波長領域の縦モードパルスレーザ光を発振する半導体レーザなどのマスタオシレータMOを備える発振装置25、発振装置25から出力されたパルスレーザ光を順次増幅するプリアンプPA、およびメインアンプMAを備える。また、ドライバレーザ1は、ドライバレーザコントローラC1を備える。ドライバレーザコントローラC1は、EUV光源コントローラCから出力されたトリガ信号S1およびEUVパルスエネルギー制御信号S3をもとに、発振装置25によるCO2パルスレーザ光L1の発振を制御するトリガ信号S11およびレーザパルスエネルギー制御信号S13を発振装置25に出力する。
上述した変形例1では、発振装置25を制御してプリアンプPAに入力されるレーザパルスエネルギーを制御するようにしていた。これに対し、この変形例2では、発振装置25とプリアンプPAとの間に再生増幅器50を設ける。ドライバレーザコントローラC1が再生増幅器50を制御することによって、プリアンプPAへのレーザパルスエネルギーを制御するようにしている。なお、再生増幅器50を用いると、半導体レーザなどから出力されるレーザ光のような光出力が小さいパルスレーザ光を、パルス波形が維持された状態で、効率よく再生増幅してプリアンプPA側に出力することができる。この再生増幅器50から出力されたパルスレーザ光を、プリアンプPAおよびメインアンプMAによって効率良くパルス増幅することができる。
上述した変形例1では、発振装置25を制御していた。また変形例2では、再生増幅器50を制御して、レーザパルスエネルギー制御を行っていた。これに対し、この変形例3では、プリアンプPAおよびメインアンプMAの少なくともいすれか一方を制御してレーザパルスエネルギー制御を行うようにしている。
2 EUV光生成装置
10 EUVチャンバ
11 ドロップレットコントローラ
12 ターゲット生成器
13 ターゲット
14 ターゲット回収筒
15 ウィンド
16 EUV光検出器
20 エネルギー制御処理部
21 パルス履歴部
22 タイマ
23 制御量記憶部
24 レーザ光検出器
25 発振装置
31,32,51,52 共振器ミラー
33 CO2増幅媒体
34,53,54 ポッケルスセル
35,58 ポーラライザ
36,55,56 ポッケルスセル制御電源
37 レーザ電源
41 半導体デバイス
42 出力結合ミラー
43 リア光学モジュール
44 縦モードコントローラ
45 縦モード制御アクチュエータ
46 電流制御アクチュエータ
50 再生増幅器
57 λ/4板
60 アンプ電源コントローラ
61 プリアンプ電源
62 メインアンプ電源
100 露光装置
C EUV光源コントローラ
C1 ドライバレーザコントローラ
C2 半導体レーザコントローラ
C3 再生増幅器コントローラ
PA プリアンプ
MA メインアンプ
MO マスタオシレータ
EA CO2レーザ増幅部
S1,S11 トリガ信号
S2 EUVパルスエネルギー検出信号
S3 EUVパルスエネルギー制御信号
S4 ドロップレット制御信号
S5 レーザパルスエネルギー検出信号
S13,S14 レーザパルスエネルギー制御信号
S30,S30,S31 発振制御信号
S31 制御信号
S42 発振パルス波形信号
M1,M11,M12 HRミラー
M2 軸外放物面ミラー
M3 EUV集光ミラー
M21,M121 光学素子
M31,M32 ミラー
R2,R3 リレー光学系
PL プラズマ生成サイト
IF 中間集光点
L1 CO2パルスレーザ光
L2 EUV光
T バースト長時間
Tr バースト休止時間
Tw 所定時間
B 対象バースト発光
B11〜B15 バースト発光
SA シードパルス光
SB 増幅パルス光
Claims (16)
- ドライバレーザから出力されたレーザ光をもとに極端紫外光をバースト出力する極端紫外光生成装置であって、
過去にバースト出力された極端紫外光のパラメータログをもとに、バースト出力される極端紫外光の少なくとも1パルス目を含む1パルス以上の先頭側パルスエネルギーのエネルギー制御を行うエネルギー制御部を備える極端紫外光生成装置。 - 前記過去のパラメータログは、次にバースト出力されるまでの所定時間内における極端紫外光の平均出力である請求項1に記載の極端紫外光生成装置。
- 前記過去のパラメータログは、直前にバースト出力されたバースト長時間および直前のバースト出力の直前のバースト休止時間の少なくとも1つである請求項1に記載の極端紫外光生成装置。
- 前記過去のパラメータログは、次にバースト出力するまでの所定時間内における極端紫外光の平均出力と、直前にバースト出力されたバースト長時間および直前のバースト出力の直前のバースト休止時間の少なくとも1つとの組合せである請求項1に記載の極端紫外光生成装置。
- 前記過去のパラメータログと前記1パルス以上の先頭側パルスエネルギーの制御値との関係を記憶する記憶部を備え、
前記エネルギー制御部は、前記記憶部から前記過去のパラメータログに対応する前記1パルス以上の先頭側パルスエネルギーの制御値を取得してエネルギー制御を行うとともに、該エネルギー制御によって出力されたパルスエネルギーをもとに前記記憶部に記憶されている前記過去のパラメータログと前記1パルス以上の先頭側パルスエネルギーの制御値との関係を更新する学習処理を行う請求項1に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記記憶部は、前記過去のパラメータログと前記1パルス以上の先頭側パルスエネルギーの制御値との関係を記憶するテーブルである請求項5に記載の極端紫外光生成装置。
- 前記記憶部は、前記過去のパラメータログと前記1パルス以上の先頭側パルスエネルギーの制御値との関係を示す関係式を記憶し、
前記エネルギー制御部は、前記関係式内のパラメータを更新する学習処理を行う請求項5に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記エネルギー制御部は、前記ドライバレーザのレーザパルスエネルギーを制御することによって前記1パルス以上の先頭側パルスエネルギーを制御する請求項1に記載の極端紫外光生成装置。
- 前記ドライバレーザは、マスタオシレータ、プリアンプ、およびメインアンプを備え、
前記エネルギー制御部は、前記プリアンプに入力されるレーザパルスエネルギーを制御する請求項1に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記ドライバレーザは、マスタオシレータ、プリアンプ、およびメインアンプを備え、
前記エネルギー制御部は、前記マスタオシレータにおいて発生するレーザパルスエネルギーを制御する請求項1に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記ドライバレーザは、マスタオシレータ、プリアンプ、およびメインアンプを備えるとともに、前記マスタオシレータとプリアンプとの間に、再生増幅器を備え、
前記エネルギー制御部は、前記再生増幅器のレーザパルスエネルギーを制御する請求項1に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記ドライバレーザは、マスタオシレータ、プリアンプ、およびメインアンプを備え、
前記エネルギー制御部は、前記プリアンプおよび/またはメインアンプによってレーザパルスエネルギーを制御する請求項1に記載の極端紫外光生成装置。 - 前記エネルギー制御部は、前記ドライバレーザの励起タイミングを制御する請求項1に記載の極端紫外光生成装置。
- 前記エネルギー制御部は、前記ドライバレーザの発振パルス波形を制御する請求項1に記載の極端紫外光生成装置。
- トリガ信号によって発振するドライバレーザから出力されたレーザ光をもとに極端紫外光をバースト出力する極端紫外光生成装置であって、
過去にバースト出力された極端紫外光のパラメータログを記憶する第1の記憶装置と、
バースト出力時のトリガ信号の時間間隔を計時するタイマと、
前記タイマの前記計時した時間間隔と前記記憶装置の前記パラメータログをもとにEUVパルスエネルギー制御量を演算する演算装置と、
前記EUVパルスエネルギー制御量にもとづいてドライバレーザのレーザエネルギーを制御するエネルギー制御装置と、
を備える極端紫外光生成装置。 - 出力されたEUVパルスエネルギー値を計測するエネルギー計測装置と、
前記演算装置による演算結果を更新可能に記憶する第2の記憶装置とを備え、
前記演算装置は、所望のEUVエネルギー値と、直前に計測した前記EUVエネルギー値との差に基づいて、次にバースト出力される前記EUVパルスエネルギー制御量をさらに演算する、
請求項15に記載の極端紫外光生成装置。
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013207004A (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Gigaphoton Inc | レーザ装置 |
JP2013207003A (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Gigaphoton Inc | レーザ装置 |
WO2013180007A1 (ja) * | 2012-05-29 | 2013-12-05 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置および極端紫外光生成システム |
WO2014030645A1 (ja) * | 2012-08-23 | 2014-02-27 | ギガフォトン株式会社 | 光源装置及びデータ処理方法 |
JP2015518657A (ja) * | 2012-04-13 | 2015-07-02 | コヒレント, インコーポレイテッド | パルス状co2出力−パルス成形および電力制御 |
JP2016504740A (ja) * | 2013-01-10 | 2016-02-12 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | レーザビームパルスのタイミングを調整して極端紫外線光注入を調節する方法 |
WO2017056324A1 (ja) * | 2015-10-02 | 2017-04-06 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成システム |
US10225918B2 (en) | 2016-03-08 | 2019-03-05 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light generating apparatus |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5368261B2 (ja) | 2008-11-06 | 2013-12-18 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置、極端紫外光源装置の制御方法 |
JP5612579B2 (ja) | 2009-07-29 | 2014-10-22 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源装置、極端紫外光源装置の制御方法、およびそのプログラムを記録した記録媒体 |
US9265136B2 (en) | 2010-02-19 | 2016-02-16 | Gigaphoton Inc. | System and method for generating extreme ultraviolet light |
JP5864949B2 (ja) | 2010-11-29 | 2016-02-17 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成システム |
JP5641958B2 (ja) | 2011-01-31 | 2014-12-17 | ギガフォトン株式会社 | チャンバ装置およびそれを備える極端紫外光生成装置 |
JP6054028B2 (ja) | 2011-02-09 | 2016-12-27 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置および極端紫外光生成システム |
JP5816440B2 (ja) | 2011-02-23 | 2015-11-18 | ギガフォトン株式会社 | 光学装置、レーザ装置および極端紫外光生成装置 |
JP2012199512A (ja) | 2011-03-10 | 2012-10-18 | Gigaphoton Inc | 極端紫外光生成装置及び極端紫外光生成方法 |
JP2012216768A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-11-08 | Gigaphoton Inc | レーザシステム、極端紫外光生成システム、およびレーザ光生成方法 |
US8872123B2 (en) | 2013-01-10 | 2014-10-28 | Asml Netherlands B.V. | Method of timing laser beam pulses to regulate extreme ultraviolet light dosing |
US8872122B2 (en) | 2013-01-10 | 2014-10-28 | Asml Netherlands B.V. | Method of timing laser beam pulses to regulate extreme ultraviolet light dosing |
JP6364002B2 (ja) * | 2013-05-31 | 2018-07-25 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成システム |
WO2014203804A1 (ja) * | 2013-06-20 | 2014-12-24 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成システム |
US9612245B2 (en) * | 2013-07-03 | 2017-04-04 | University Of North Texas Health Science Center At Fort Worth | Multiple-pulse pumping for enhanced fluorescence detection and molecular imaging in cells and tissue |
US9374882B2 (en) * | 2013-12-12 | 2016-06-21 | Asml Netherlands B.V. | Final focus assembly for extreme ultraviolet light source |
US9357625B2 (en) | 2014-07-07 | 2016-05-31 | Asml Netherlands B.V. | Extreme ultraviolet light source |
US9591734B1 (en) * | 2015-09-29 | 2017-03-07 | Asml Netherlands B.V. | Reduction of periodic oscillations in a source plasma chamber |
US9693440B1 (en) * | 2015-12-18 | 2017-06-27 | Asml Netherlands B.V. | EUV LPP source with improved dose control by tracking dose over specified window |
US9832852B1 (en) | 2016-11-04 | 2017-11-28 | Asml Netherlands B.V. | EUV LPP source with dose control and laser stabilization using variable width laser pulses |
EP3422109B1 (en) * | 2017-06-16 | 2020-03-04 | Konica Minolta, Inc. | Image forming apparatus and lifetime judgment system |
US10925142B2 (en) * | 2018-07-31 | 2021-02-16 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | EUV radiation source for lithography exposure process |
JP7306888B2 (ja) | 2019-06-13 | 2023-07-11 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成システム、レーザビームサイズ制御方法及び電子デバイスの製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005015699A1 (ja) * | 2003-08-11 | 2005-02-17 | Gigaphoton Inc. | 2ステージレーザのパルスエネルギー制御装置及び2ステージレーザシステム |
JP2005045211A (ja) * | 2003-05-16 | 2005-02-17 | Metal Improvement Co Inc | セルフシード単一周波数固体リングレーザ、単一周波数レーザピーニング法、及び、そのシステム |
JP2010021543A (ja) * | 2008-06-12 | 2010-01-28 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3775840B2 (ja) | 1995-12-28 | 2006-05-17 | 株式会社ニコン | パルスx線照射装置、x線縮小露光装置 |
US7928416B2 (en) * | 2006-12-22 | 2011-04-19 | Cymer, Inc. | Laser produced plasma EUV light source |
US7671349B2 (en) * | 2003-04-08 | 2010-03-02 | Cymer, Inc. | Laser produced plasma EUV light source |
US20040057475A1 (en) * | 2002-09-24 | 2004-03-25 | Robert Frankel | High-power pulsed laser device |
US7655925B2 (en) * | 2007-08-31 | 2010-02-02 | Cymer, Inc. | Gas management system for a laser-produced-plasma EUV light source |
JP5536401B2 (ja) * | 2008-10-16 | 2014-07-02 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置および極端紫外光光源装置 |
US8445876B2 (en) * | 2008-10-24 | 2013-05-21 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light source apparatus |
US8283643B2 (en) * | 2008-11-24 | 2012-10-09 | Cymer, Inc. | Systems and methods for drive laser beam delivery in an EUV light source |
US20100192973A1 (en) * | 2009-01-19 | 2010-08-05 | Yoshifumi Ueno | Extreme ultraviolet light source apparatus and cleaning method |
US8138487B2 (en) * | 2009-04-09 | 2012-03-20 | Cymer, Inc. | System, method and apparatus for droplet catcher for prevention of backsplash in a EUV generation chamber |
JP5701618B2 (ja) * | 2010-03-04 | 2015-04-15 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置 |
US8263953B2 (en) * | 2010-04-09 | 2012-09-11 | Cymer, Inc. | Systems and methods for target material delivery protection in a laser produced plasma EUV light source |
-
2011
- 2011-01-31 JP JP2011018748A patent/JP5765730B2/ja active Active
- 2011-03-08 US US13/042,755 patent/US8569722B2/en active Active
-
2013
- 2013-10-08 US US14/048,654 patent/US20140034852A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005045211A (ja) * | 2003-05-16 | 2005-02-17 | Metal Improvement Co Inc | セルフシード単一周波数固体リングレーザ、単一周波数レーザピーニング法、及び、そのシステム |
WO2005015699A1 (ja) * | 2003-08-11 | 2005-02-17 | Gigaphoton Inc. | 2ステージレーザのパルスエネルギー制御装置及び2ステージレーザシステム |
JP2010021543A (ja) * | 2008-06-12 | 2010-01-28 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013207003A (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Gigaphoton Inc | レーザ装置 |
JP2013207004A (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Gigaphoton Inc | レーザ装置 |
JP2015518657A (ja) * | 2012-04-13 | 2015-07-02 | コヒレント, インコーポレイテッド | パルス状co2出力−パルス成形および電力制御 |
WO2013180007A1 (ja) * | 2012-05-29 | 2013-12-05 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置および極端紫外光生成システム |
JPWO2014030645A1 (ja) * | 2012-08-23 | 2016-07-28 | ギガフォトン株式会社 | 光源装置及びデータ処理方法 |
WO2014030645A1 (ja) * | 2012-08-23 | 2014-02-27 | ギガフォトン株式会社 | 光源装置及びデータ処理方法 |
US9841684B2 (en) | 2012-08-23 | 2017-12-12 | Gigaphoton Inc. | Light source apparatus and data processing method |
JP2016504740A (ja) * | 2013-01-10 | 2016-02-12 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | レーザビームパルスのタイミングを調整して極端紫外線光注入を調節する方法 |
KR102061078B1 (ko) | 2013-01-10 | 2019-12-31 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 극 자외선 광 도싱을 조절하기 위해 레이저 빔 펄스의 타이밍을 맞추는 방법 |
WO2017056324A1 (ja) * | 2015-10-02 | 2017-04-06 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成システム |
JPWO2017056324A1 (ja) * | 2015-10-02 | 2018-07-19 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成システム |
US10085334B2 (en) | 2015-10-02 | 2018-09-25 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light generating system |
US10225918B2 (en) | 2016-03-08 | 2019-03-05 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light generating apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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US8569722B2 (en) | 2013-10-29 |
JP5765730B2 (ja) | 2015-08-19 |
US20140034852A1 (en) | 2014-02-06 |
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