JP2011198982A - Pattern-forming device - Google Patents
Pattern-forming device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011198982A JP2011198982A JP2010063738A JP2010063738A JP2011198982A JP 2011198982 A JP2011198982 A JP 2011198982A JP 2010063738 A JP2010063738 A JP 2010063738A JP 2010063738 A JP2010063738 A JP 2010063738A JP 2011198982 A JP2011198982 A JP 2011198982A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- light
- coating liquid
- pattern
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Nozzles (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
Description
この発明は、基板上に電極などのパターンを形成する装置に関するものであり、例えば太陽電池基板などの光電変換素子の光電変換面に電極パターンを形成する装置に関する。 The present invention relates to an apparatus for forming a pattern such as an electrode on a substrate, for example, an apparatus for forming an electrode pattern on a photoelectric conversion surface of a photoelectric conversion element such as a solar cell substrate.
基板上に所定のパターンを形成する技術としては、パターン材料を含む塗布液をノズルから連続的に吐出させて基板にパターンを描画する方法がある。例えば、本願出願人が先に開示した特許文献1に記載の技術では、基板に対し一方向に相対移動するノズルから光硬化性樹脂を含むペースト状のパターン形成材料を吐出させて基板に塗布し、光照射部から紫外線を照射することによって樹脂を硬化させて基板上にパターン形成を行っている。このように、ノズルから吐出された直後の塗布液を光照射によって硬化させることで、幅が細く高さのあるパターンを形成することが可能である。
As a technique for forming a predetermined pattern on a substrate, there is a method of drawing a pattern on a substrate by continuously discharging a coating liquid containing a pattern material from a nozzle. For example, in the technique described in
上記した特許文献1に記載の技術を、例えば太陽電池などの光電変換素子の電極形成に応用することが考えられる。例えば特許文献2に記載の技術においては、太陽電池の光電変換面に、フィンガー電極とも称される多数の細い電極と、これらを横断するバス電極とも称される幅広の電極とが形成される。このような電極の形成に上記技術を適用することで、アスペクト比の高い電極を得ることが期待される。
It is conceivable to apply the technique described in
このような塗布によるパターン形成技術においては、処理のスループットを高めるために、基板の移動方向と交差する方向に多数のノズルを配列し、これらのノズルから一斉に塗布液を吐出させることで、1回の相対移動で多数本のパターンを形成することが考えられる。この場合、各ノズルからの塗布液の吐出量を均一にするためには、大きな液溜め空間に貯留した塗布液を加圧し、この液溜め空間に連通させた各ノズルから塗布液を押し出すように吐出させることが有効である。 In such a pattern formation technique by coating, in order to increase the throughput of processing, a large number of nozzles are arranged in a direction crossing the moving direction of the substrate, and the coating liquid is discharged from these nozzles all at once. It is conceivable to form a large number of patterns by the relative movement of times. In this case, in order to make the discharge amount of the coating liquid from each nozzle uniform, the coating liquid stored in a large liquid storage space is pressurized, and the coating liquid is pushed out from each nozzle communicated with the liquid storage space. It is effective to discharge.
しかしながら、このようにすると、液溜め空間を形成するタンク筐体のサイズが大きくなり、光照射部をノズルに近接配置することが難しくなり、結果的に塗布から光照射までの時間差が大きくなってアスペクト比の高いパターンを得られなくなってしまう。 However, this increases the size of the tank housing that forms the liquid storage space, making it difficult to place the light irradiation unit close to the nozzle, resulting in a large time difference from application to light irradiation. A pattern with a high aspect ratio cannot be obtained.
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、基板上に塗布した塗布液を光により硬化させて電極などのパターンを形成するパターン形成装置において、塗布から光照射までの時間を短くしてアスペクト比の高いパターンを形成することのできる技術を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and in a pattern forming apparatus for forming a pattern such as an electrode by curing a coating solution applied on a substrate with light, the aspect from the coating to the light irradiation is shortened. An object is to provide a technique capable of forming a pattern having a high ratio.
この発明にかかるパターン形成装置は、上記目的を達成するため、基板を保持する基板保持部と、ペースト状の塗布液を貯留するための連続した液溜め空間を内部に有するとともに、それぞれが該液溜め空間と連通する複数の吐出口を下面に設けられた筐体部と、前記液溜め空間に貯留された前記塗布液を加圧して前記複数の吐出口から前記塗布液を前記基板保持部に保持された前記基板に向けて連続的に吐出させる加圧部と、前記筐体部の側面または上面に設けられた光入射部に光を入射させる光源と、前記筐体部の壁体内を貫通して設けられ、前記光入射部に入射した光を前記吐出口に隣接する前記筐体部下面の吐出口隣接位置まで案内して前記基板に塗布された前記塗布液に光を照射する導光部材と、前記筐体部と前記基板保持部に保持された前記基板とを相対移動させる移動部とを備えることを特徴としている。 In order to achieve the above object, a pattern forming apparatus according to the present invention has a substrate holding portion for holding a substrate and a continuous liquid reservoir space for storing a paste-like coating liquid inside, A housing part provided on the lower surface with a plurality of discharge ports communicating with the reservoir space, and pressurizing the coating liquid stored in the liquid reservoir space to supply the coating liquid from the plurality of discharge ports to the substrate holding unit A pressurizing part that continuously discharges toward the held substrate, a light source that makes light incident on a light incident part provided on a side surface or an upper surface of the casing part, and a wall body of the casing part. A light guide that guides the light incident on the light incident portion to a position adjacent to the discharge port on the lower surface of the casing adjacent to the discharge port and irradiates the coating liquid applied to the substrate with light. Member, the housing part and the substrate holding part. It is characterized in that it comprises a moving unit for relatively moving the substrate that has been.
このように構成された発明では、筐体部側面または上面の光入射部に入射された光が、筐体部の壁体内に設けられた導光部材を通って下面の吐出口隣接位置から基板に塗布された塗布液に照射される。このように、入射光が筐体部の壁体内に設けた導光部材によって吐出口隣接位置まで案内されることで、吐出口から吐出され基板に塗布された塗布液に対し、短い時間差で光を照射することができ、アスペクト比の高いパターンを形成することができる。 In the invention configured as described above, the light incident on the light incident portion on the side surface or the upper surface of the housing portion passes through the light guide member provided in the wall of the housing portion, and the substrate from the position adjacent to the discharge port on the lower surface. Irradiated to the coating solution applied to. In this way, the incident light is guided to the position adjacent to the discharge port by the light guide member provided in the wall of the housing unit, so that the light with a short time difference is applied to the coating liquid discharged from the discharge port and applied to the substrate. And a pattern having a high aspect ratio can be formed.
ここで、複数の吐出口は、移動部による筐体部と基板との相対移動方向に交差する方向に列状に配置されていてもよい。このようにすると、筐体部と基板との1回の相対移動で互いに平行な多数の線状のパターンを形成することができる。 Here, the plurality of discharge ports may be arranged in a row in a direction intersecting the relative movement direction of the housing unit and the substrate by the moving unit. In this way, a large number of linear patterns parallel to each other can be formed by a single relative movement of the casing and the substrate.
また、例えば、導光部材は、筐体部の壁体内部を通って光入射部から吐出口隣接位置まで延設された複数の光ファイバーを有し、吐出口隣接位置で光ファイバーの端面から下向きに光を出射する構成としてもよい。このような構成では、光入射部から入射された光が光ファイバーによって吐出口隣接位置まで案内されるので、光の損失が少なく、また必要に応じて光の経路を曲げることが可能である。 In addition, for example, the light guide member includes a plurality of optical fibers that extend from the light incident portion to the position adjacent to the discharge port through the inside of the wall of the housing unit, and faces downward from the end surface of the optical fiber at the position adjacent to the discharge port. It is good also as a structure which radiate | emits light. In such a configuration, since the light incident from the light incident portion is guided to the position adjacent to the discharge port by the optical fiber, the loss of light is small, and the light path can be bent as necessary.
この場合において、例えば、吐出口隣接位置では、複数の光ファイバーの端面が複数の吐出口の配設方向に沿って列状に配置されていてもよい。このようにすると、複数の吐出口からそれぞれ吐出される塗布液の全体に対して光を照射することができる。 In this case, for example, the end faces of the plurality of optical fibers may be arranged in a line along the arrangement direction of the plurality of discharge ports at the position adjacent to the discharge ports. If it does in this way, light can be irradiated with respect to the whole coating liquid each discharged from a some discharge outlet.
また、例えば、筐体部は、基板保持部に保持された基板に向かう方向を軸方向とし底面に複数の吐出口が穿設されたシリンジであってもよい。このような構成では、シリンジ内の塗布液を加圧することによって各吐出口でほぼ均一な吐出圧を得ることができ、各吐出口から吐出される塗布液の量を均一化することができる。 Further, for example, the casing may be a syringe having a direction toward the substrate held by the substrate holding unit as an axial direction and a plurality of discharge ports formed in the bottom surface. In such a configuration, a substantially uniform discharge pressure can be obtained at each discharge port by pressurizing the coating solution in the syringe, and the amount of the coating solution discharged from each discharge port can be made uniform.
この発明にかかるパターン形成装置によれば、下面に複数の吐出口が設けられ内部に塗布液を貯留する筐体部の壁体内を通って光が案内されるため、吐出口の近くで塗布液に光を照射することができ、塗布液の塗布から光照射までを短時間で行うことが可能となり、アスペクト比の高いパターンを形成することができる。 According to the pattern forming apparatus of the present invention, since the light is guided through the wall of the housing portion in which a plurality of discharge ports are provided on the lower surface and stores the coating liquid, the coating liquid is close to the discharging port. It is possible to irradiate light, and it is possible to perform from application of the coating liquid to light irradiation in a short time, and a pattern with a high aspect ratio can be formed.
図1はこの発明にかかるパターン形成装置の一実施形態を示す図である。このパターン形成装置1は、例えば表面に光電変換層を形成された単結晶シリコンウエハなどの基板W上に導電性を有する電極配線のパターンを形成し、例えば太陽電池として利用される光電変換デバイスを製造する装置である。この装置1は、例えば光電変換デバイスの光入射面に集電電極を形成するという用途に好適に使用することができる。
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of a pattern forming apparatus according to the present invention. The
このパターン形成装置1では、基台11上にステージ移動機構2が設けられ、基板Wを保持するステージ3がステージ移動機構2により図1に示すX−Y平面(水平面)内で移動可能となっている。基台11にはステージ3を跨ぐようにしてフレーム121が固定され、フレーム121には塗布ヘッド部5が取り付けられる。塗布ヘッド部5の構造については後で詳しく説明する。
In this
ステージ移動機構2は、下段からステージ3をX方向に移動させるX方向移動機構21、Y方向に移動させるY方向移動機構22、および、Z方向(鉛直方向)を向く軸を中心に回転させるθ回転機構23を有する。X方向移動機構21は、モータ211にボールねじ212が接続され、さらに、Y方向移動機構22に固定されたナット213がボールねじ212に取り付けられた構造となっている。ボールねじ212の上方にはガイドレール214が固定され、モータ211が回転すると、ナット213とともにY方向移動機構22がガイドレール214に沿ってX方向に滑らかに移動する。
The stage moving mechanism 2 is rotated around an X
Y方向移動機構22もモータ221、ボールねじ機構およびガイドレール224を有し、モータ221が回転するとボールねじ機構によりθ回転機構23がガイドレール224に沿ってY方向に移動する。θ回転機構23はモータ231によりステージ3をZ方向を向く軸を中心に回転させる。以上の構成により、塗布ヘッド部5の基板Wに対する相対的な移動方向および向きが変更可能とされる。ステージ移動機構2の各モータは制御部6により制御される。
The Y-
図2は塗布ヘッド部の外観を示す図である。また、図3は塗布ヘッド部の内部構造を示す断面図である。より詳しくは、図2(a)は塗布ヘッド部5をX方向から見た図であり、図2(b)は塗布ヘッド部5の底面を下方から見た図である。また、図3(a)はY方向から見た塗布ヘッド部5の断面図であり、図3(b)はX方向から見た塗布ヘッド部5の断面図である。
FIG. 2 is a view showing the appearance of the coating head section. FIG. 3 is a cross-sectional view showing the internal structure of the coating head. More specifically, FIG. 2A is a view of the
塗布ヘッド部5は、光を透過しない材料、例えばステンレスやアルミニウムにより、底面を有する筒状に形成されており、内部が塗布液を貯留するための液溜め空間SPとなったタンク51を有している。タンク51の下面51aには、液溜め空間SPと連通する吐出口521を有する吐出ノズル52がY方向に複数並べて設けられている。この例では10個の吐出ノズル52がY方向に一列に配列されているが、吐出ノズルの個数はこれに限定されず任意であり、また複数列やいわゆる千鳥配置の吐出ノズルを有してもよい。またその配列方向も、Y軸方向とは異なる方向であってもよい。
The
タンク51の内部にはピストン53が挿入されており、ピストン53は制御部6により駆動制御されるアクチュエータ54によってZ方向に昇降自在となっている。すなわち、タンク51とピストン53とは制御部6によって制御されるシリンジを構成している。タンク51の内壁とピストン53とで囲まれた液溜め空間SPは塗布液によって満たされている。制御部6からの制御指令によりアクチュエータ54が作動しピストン53が押し下げられると、液溜め空間SPに貯留された塗布液が加圧されて各吐出ノズル52の吐出口521から押し出される。図3(a)に示すように、タンク51の底部内壁511は吐出口521に向かって傾斜するテーパー状に仕上げられており、タンク内の塗布液が最後まで無駄なく吐出口521に送り込まれるようになっている。
A
塗布液としては、導電性および光硬化性を有し、例えば導電性粒子、有機ビヒクル(溶剤、樹脂、増粘剤等の混合物)および光重合開始剤を含むペースト状の混合液を用いることができる。導電性粒子は電極の材料たる例えば銀粉末であり、有機ビヒクルは樹脂材料としてのエチルセルロースと有機溶剤を含む。また、塗布液の粘度は、光照射による硬化処理を実行する前において例えば50Pa・s(パスカル秒)以下で、硬化処理を実行した後は350Pa・s以上になることが好ましい。 As the coating solution, a paste-like mixed solution having conductivity and photocurability, for example, containing conductive particles, an organic vehicle (a mixture of solvent, resin, thickener, etc.) and a photopolymerization initiator is used. it can. The conductive particles are, for example, silver powder as a material of the electrode, and the organic vehicle contains ethyl cellulose as a resin material and an organic solvent. Further, the viscosity of the coating solution is preferably, for example, 50 Pa · s (pascal second) or less before performing the curing process by light irradiation, and is preferably 350 Pa · s or more after performing the curing process.
このようなペースト状の塗布液においては、せん断応力が加わることによって一時的にその粘度が変化する性質があり、各吐出口521近傍における塗布液の粘度のばらつきが吐出量の差になって現れやすい。本実施形態の塗布ヘッド部5では、単純な円筒形状のシリンジの底面、特にその側壁から離隔した中央部に複数の吐出口521を設けることにより、各吐出口521近傍での塗布液の粘度のばらつきを抑えて、各吐出口521から均等に塗布液を吐出することが可能となる。
Such a paste-like coating liquid has a property that its viscosity temporarily changes when shearing stress is applied, and variation in the viscosity of the coating liquid in the vicinity of each
この装置1では、ステージ移動機構2により基板Wを図1の矢印方向Dsに移動させながら、上記した塗布液を塗布ヘッド部5の各吐出口521から吐出させることで、基板Wに塗布液を塗布することができる。この例では、基板Wの移動方向DsはX方向である。
In this
また、図1に示すように、この実施形態では、制御部6からの制御指令に応じて光(例えばUV光)を発生する光源ユニット7が設けられている。そして、図1および図3(a)に示すように、タンク51の外壁側面のうち基板Wの移動方向Dsにおいて下流側(これらの図において右方)の下部に、光源ユニット7から延びる光ファイバーケーブル71を接続するための接続部512が設けられている。光源ユニット7から発生された光は光ファイバーケーブル71を介して接続部512へ案内される。
Moreover, as shown in FIG. 1, in this embodiment, the
タンク51の底部壁体内には、別の光ファイバーケーブル55が予め埋め込まれており、接続部512では、光ファイバーケーブル55の一方端面55aが露出している。したがって、光源ユニット7からの光は、接続部512において光ファイバーケーブル71から光ファイバーケーブル55の一方端面55aに入射される。こうして光が塗布ヘッド部5に導入される。
Another
図4はタンク壁体内での光ファイバーケーブルの配設状態を示す図である。光ファイバーケーブル55は極細の光ファイバー551を多数束ねたものであり、接続部512側では、これらの光ファイバー551が束ねられた状態となっている。一方、接続部512とは反対側ではこの結束が解かれており、各光ファイバー551がY方向に略一様に分散された状態でタンク51下面の吐出口521に隣接する位置Rにまで延びている。このため、図2(b)に示すように、タンク51を下から見ると、1本1本の光ファイバー551の端面551bが吐出ノズル52に隣接する位置Rで露出している。
FIG. 4 is a view showing an arrangement state of the optical fiber cable in the tank wall. The
このため、光源ユニット7から発せられる光は、光ファイバーケーブル71および55を経由して最終的に各光ファイバー551の端面551bから下向きに出射される。この光は基板Wに塗布された塗布液に照射されることで塗布液を硬化させる機能を果たす。各光ファイバー551はY方向に分散されることで光の照射範囲はY方向に細長く広げられているので、Y方向に配列された各吐出口521のそれぞれから吐出される塗布液に均等に光を照射することができる。
For this reason, the light emitted from the
図5はこの装置による電極パターン形成の様子を模式的に示す図である。図5(a)に示すように、この装置1では、ステージ移動機構2により、ステージ3に載置された基板Wを矢印方向Dsに移動させる。そして、アクチュエータ54でピストン53を下方に押し込むことで液溜め空間SP内に貯留された塗布液を加圧し、タンク51下面の吐出ノズル52の吐出口521から塗布液を吐出させる。これにより、塗布液Pが基板W上でX方向に延びるストライプ状に塗布される。
FIG. 5 is a diagram schematically showing how an electrode pattern is formed by this apparatus. As shown in FIG. 5A, in the
そして、基板Wに塗布された塗布液Pに対しては、光源ユニット7から光ファイバーケーブル71および55を介して案内される光Lが照射される。その結果、光重合開始剤を含む塗布液Pが硬化し、図5(b)に示すように、基板W上にはY方向に互いに離隔し、X方向に沿って延びる互いに平行なストライプ状の電極パターンEが形成される。このとき、タンク51の底部壁体内に埋め込んだ光ファイバーケーブル55によって光源ユニット7からの光をタンク51下面の吐出口521の近傍位置Rまで導いて、タンク51下面から塗布液Pに光照射している。そのため、塗布から光照射までの時間を短くすることができ、断面形状において幅が狭くて高さのある、すなわちアスペクト比の高い電極パターンを形成することができる。
The coating liquid P applied to the substrate W is irradiated with light L guided from the
また、タンク51壁体内に光ファイバーケーブル55を通すことで、吐出ノズル52と基板Wとを近接させて塗布を行うことができるので、微細なパターンの電極を精度よく形成することができる。また、1本1本の光ファイバー551は極細であるので曲げることができ、任意の形状に整形して所望の方向に光を導くことが可能であり、しかも光の損失を少なくすることができる。
Further, by passing the
以上説明したように、この実施形態では、ステージ3が本発明の「基板保持部」として機能する一方、ステージ移動機構2が本発明の「移動部」として機能している。また、この実施形態では、塗布ヘッド5のタンク51およびピストン53がそれぞれ本発明の「筐体部」および「加圧部」として機能している。また、この実施形態では、光源ユニット7および光ファイバーケーブル55がそれぞれ本発明の「光源」および「導光部材」として機能している。また、接続部512が本発明の「光入射部」に相当している。
As described above, in this embodiment, the
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態は、内部形状が略円筒であるタンク51を有しているが、本発明の「筐体部」の内部形状はこれに限定されるものではない。例えば、筐体部内部の断面形状が正方形であったり、Y方向を長手方向とする長方形あるいは長円形であっても構わない。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications other than those described above can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, although the above embodiment has the
また、上記実施形態では、光源ユニット7からの光をタンク51の側面から塗布ヘッド部5に導入しているが、これに代えて、タンクの上面から光を入射させ、タンクの側壁内を通って埋め込まれた光ファイバーケーブルによって、光を塗布ヘッド部底面まで導くようにしてもよい。
In the above embodiment, the light from the
また、上記実施形態では、固定された塗布ヘッド5に対して基板Wを移動させることで塗布ヘッド5と基板Wとの相対移動を実現しているが、逆に基板Wを固定して塗布ヘッド5を移動させるようにしてもよい。また、X方向への相対移動とY方向への相対移動とを適宜組み合わせてもよい。
In the above embodiment, the relative movement between the
また、上記実施形態では、塗布液を吐出するシリンジを構成する筐体部51の底面51aが基板Wの上面に対し平行に配置されており、シリンジの軸が略鉛直方向に向いている。しかしながら、このような態様に限定されるものではなく、例えばシリンジの軸を基板に対する相対移動方向に傾けるようにしてもよい。
Moreover, in the said embodiment, the
また、上記実施形態ではシリコン基板上に電極配線を形成して太陽電池としての光電変換デバイスを製造しているが、基板はシリコンに限定されるものではない。例えば、ガラス基板上に形成された薄膜太陽電池や、例えばリチウムイオン全固体電池のような太陽電池以外のデバイスに電極を形成する際にも、本発明を適用することが可能である。さらに、プラズマディスプレイパネルやタッチパネルなどの隔壁(リブ)パターンや電極以外の配線パターンを形成する場合や、ペースト接着剤を所定のパターンに塗布する場合にも、本発明を好適に適用することが可能である。 Moreover, in the said embodiment, although the photoelectric wiring device as a solar cell is manufactured by forming electrode wiring on a silicon substrate, a board | substrate is not limited to silicon. For example, the present invention can also be applied when an electrode is formed on a device other than a solar cell such as a thin film solar cell formed on a glass substrate or a lithium ion all-solid battery. Furthermore, the present invention can be suitably applied to the case where a partition pattern (rib) pattern such as a plasma display panel or a touch panel or a wiring pattern other than an electrode is formed, or when a paste adhesive is applied to a predetermined pattern. It is.
この発明は、基板上にパターンを形成する装置に適用可能であり、特にアスペクト比の高いパターンを必要とされる分野、例えば太陽電池基板上に電極パターンを形成する装置に好適に適用することができる。 The present invention can be applied to an apparatus for forming a pattern on a substrate, and can be suitably applied to a field that requires a pattern having a high aspect ratio, for example, an apparatus for forming an electrode pattern on a solar cell substrate. it can.
2 ステージ移動機構(移動部)
3 ステージ(基板保持部)
5 塗布ヘッド部
6 制御部
7 光源ユニット(光源)
51 タンク(筐体部)
52 吐出ノズル
55 光ファイバーケーブル(導光部材)
71 光ファイバーケーブル
512 接続部(光入射部)
521 吐出口
551 光ファイバー
W 基板
2 Stage moving mechanism (moving part)
3 Stage (substrate holder)
5
51 Tank (casing)
52
71
521
Claims (5)
ペースト状の塗布液を貯留するための連続した液溜め空間を内部に有するとともに、それぞれが該液溜め空間と連通する複数の吐出口を下面に設けられた筐体部と、
前記液溜め空間に貯留された前記塗布液を加圧して前記複数の吐出口から前記塗布液を前記基板保持部に保持された前記基板に向けて連続的に吐出させる加圧部と、
前記筐体部の側面または上面に設けられた光入射部に光を入射させる光源と、
前記筐体部の壁体内を貫通して設けられ、前記光入射部に入射した光を前記吐出口に隣接する前記筐体部下面の吐出口隣接位置まで案内して、前記基板に塗布された前記塗布液に光を照射する導光部材と、
前記筐体部と前記基板保持部に保持された前記基板とを相対移動させる移動部と
を備えることを特徴とするパターン形成装置。 A substrate holder for holding the substrate;
A housing part having a continuous liquid reservoir space for storing a paste-like coating liquid therein, and a plurality of discharge ports each communicating with the liquid reservoir space provided on the lower surface,
A pressurizing unit that pressurizes the coating liquid stored in the liquid storage space and continuously discharges the coating liquid from the plurality of ejection ports toward the substrate held by the substrate holding unit;
A light source that makes light incident on a light incident portion provided on a side surface or an upper surface of the housing portion;
Provided penetrating through the wall of the casing, and guided to the position adjacent to the discharge port on the bottom surface of the casing adjacent to the discharge port, and applied to the substrate. A light guide member for irradiating the coating liquid with light;
A pattern forming apparatus comprising: a moving unit configured to relatively move the housing unit and the substrate held by the substrate holding unit.
5. The pattern according to claim 1, wherein the casing is a syringe in which a direction toward the substrate held by the substrate holding unit is an axial direction and the plurality of discharge ports are formed in a bottom surface. 6. Forming equipment.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010063738A JP5432786B2 (en) | 2010-03-19 | 2010-03-19 | Pattern forming device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010063738A JP5432786B2 (en) | 2010-03-19 | 2010-03-19 | Pattern forming device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011198982A true JP2011198982A (en) | 2011-10-06 |
JP5432786B2 JP5432786B2 (en) | 2014-03-05 |
Family
ID=44876831
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010063738A Expired - Fee Related JP5432786B2 (en) | 2010-03-19 | 2010-03-19 | Pattern forming device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5432786B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017098460A (en) * | 2015-11-26 | 2017-06-01 | 信越化学工業株式会社 | Electrode forming method and electrode forming apparatus of back electrode type solar cell |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4819842A (en) * | 1987-09-03 | 1989-04-11 | Dymax Corporation | Radiation supply and adhesive dispensing system |
JP2002184303A (en) * | 2000-10-04 | 2002-06-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Barrier rib forming method and device for plane display device |
JP2004230692A (en) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Shaping apparatus |
JP2005205361A (en) * | 2004-01-26 | 2005-08-04 | Nec Access Technica Ltd | Method of applying/curing ultraviolet setting resin, printer and coating apparatus |
JP2007083234A (en) * | 2006-11-08 | 2007-04-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Pattern forming apparatus |
JP2009000636A (en) * | 2007-06-22 | 2009-01-08 | Panasonic Corp | Pattern forming apparatus and pattern forming method, device fablicated by using the same, and electronic apparatus with the device |
JP2010012391A (en) * | 2008-07-02 | 2010-01-21 | Canon Inc | Liquid discharge apparatus and method for forming liquid pattern |
-
2010
- 2010-03-19 JP JP2010063738A patent/JP5432786B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4819842A (en) * | 1987-09-03 | 1989-04-11 | Dymax Corporation | Radiation supply and adhesive dispensing system |
JP2002184303A (en) * | 2000-10-04 | 2002-06-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Barrier rib forming method and device for plane display device |
JP2004230692A (en) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Shaping apparatus |
JP2005205361A (en) * | 2004-01-26 | 2005-08-04 | Nec Access Technica Ltd | Method of applying/curing ultraviolet setting resin, printer and coating apparatus |
JP2007083234A (en) * | 2006-11-08 | 2007-04-05 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Pattern forming apparatus |
JP2009000636A (en) * | 2007-06-22 | 2009-01-08 | Panasonic Corp | Pattern forming apparatus and pattern forming method, device fablicated by using the same, and electronic apparatus with the device |
JP2010012391A (en) * | 2008-07-02 | 2010-01-21 | Canon Inc | Liquid discharge apparatus and method for forming liquid pattern |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017098460A (en) * | 2015-11-26 | 2017-06-01 | 信越化学工業株式会社 | Electrode forming method and electrode forming apparatus of back electrode type solar cell |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5432786B2 (en) | 2014-03-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5465962B2 (en) | Electrode forming method and electrode forming apparatus | |
JP2012143691A (en) | Pattern forming method and pattern forming device | |
DE112010005248B4 (en) | MODULAR LED ARRAY LIGHT SOURCES OF HIGH DENSITY | |
US20120244284A1 (en) | Pattern forming apparatus and pattern forming method | |
US20040166760A1 (en) | Apparatus, mold and method for producing substrate for plasma display panel | |
JP5819621B2 (en) | Pattern forming method and pattern forming apparatus | |
KR20120032397A (en) | Pattern forming method and pattern forming apparatus | |
JP5432786B2 (en) | Pattern forming device | |
JP2011071157A (en) | Device and method for forming electrode | |
JP2011204989A (en) | Pattern forming apparatus | |
JP4519120B2 (en) | Pattern forming device | |
JP2008098001A (en) | Rib pattern formation system, and rib pattern formation method | |
KR101155727B1 (en) | Electrode forming method and electrode forming apparatus | |
JP2012129227A (en) | Pattern forming method and pattern forming apparatus | |
JP2012071245A (en) | Pattern forming method, pattern forming apparatus | |
JP3907491B2 (en) | Pattern forming device | |
JP2012043876A (en) | Pattern formation method, pattern formation device, photoelectric conversion device manufacturing method, and photoelectric conversion device | |
JP5182754B2 (en) | Pattern forming method and pattern forming apparatus | |
JP3868298B2 (en) | Wiring forming method, wiring forming apparatus, and wiring board | |
JP5676863B2 (en) | Pattern forming method and pattern forming apparatus | |
JP2014038951A (en) | Emission device and emission method | |
KR20090080324A (en) | System and Method for printing and hardening | |
JP2011009022A (en) | Application device and application method | |
JP2022019121A (en) | Capping device and three-dimensional molded object manufacturing apparatus having the same | |
JP2014013868A (en) | Micro contact printing apparatus and micro contact printing method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120315 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130213 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130820 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131017 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131126 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131206 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |