JP2011192989A - 放射源装置、リソグラフィ装置、放射発生および送出方法、およびデバイス製造方法 - Google Patents
放射源装置、リソグラフィ装置、放射発生および送出方法、およびデバイス製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】汚染物質トラップがEUV放射源装置内で用いられる。EUV放射ビームが発生されて低圧ガス雰囲気を通り仮想放射源点に合焦される。EUV放射は、EUV放射が通過する低圧水素雰囲気中にプラズマを生成する。電極を含む汚染物質トラップは、放射ビームが仮想放射源点に近接する最中に放射ビーム内または周りに位置付けられる。DCバイアス源が電極に接続されて、プラズマによって負帯電された汚染物質粒子をビーム経路外に偏向させるように向けられた電界を発生させる。追加のRF電極および/またはイオナイザはプラズマを増強させて粒子の帯電を増加する。偏向電極は、短時間の間、RFバイアスで動作させられて、それにより増強されたプラズマを確実に消失させる。
【選択図】 図5
Description
ここで、λは用いられる放射の波長であり、NAはパターンのプリントに用いられる投影システムの開口数であり、k1は、レイリー定数とも呼ばれる、プロセス依存型調節係数であり、CDはプリントされたフィーチャのフィーチャサイズ(またはクリティカルディメンション)である。式(1)から、フィーチャの最小プリント可能サイズの縮小は、3つの方法、すなわち、露光波長λを短くすること、開口数NAを大きくすること、またはk1の値を小さくすることによって得られることが分かる。
1.ステップモードでは、パターニングデバイスサポート(例えばマスクテーブル)MTおよび基板テーブルWTを基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一静的露光)。その後、基板テーブルWTは、Xおよび/またはY方向に移動され、それにより別のターゲット部分Cを露光することができる。
2.スキャンモードでは、パターニングデバイスサポート(例えばマスクテーブル)MTおよび基板テーブルWTを同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一動的露光)。パターニングデバイスサポート(例えばマスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの(縮小)拡大率および像反転特性によって決めることができる。
3.別のモードでは、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、パターニングデバイスサポート(例えばマスクテーブル)MTを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルWTを動かす、またはスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分C上に投影する。このモードでは、通常、パルス放射源が採用され、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTの移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述の型のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
ステップ1:バイアスRF@100MHz、40V、2μs間
ステップ2:バイアスRF@0.25MHz、400V、6μs間
ステップ3:バイアスDC@400V、14μs間
Claims (15)
- EUV放射ビームが発生されて低圧ガス雰囲気を通り仮想放射源点に合焦され、前記EUV放射ビームは、動作時に、前記雰囲気中にプラズマを生成する、EUV放射源装置であって、前記放射ビームの経路内または周りに位置付けられる第1の電極および第2の電極を含む汚染物質トラップと、前記電極に接続されて、前記放射ビームが前記仮想放射源点に近接する最中に前記放射ビームの前記経路を横断する電界を生成するバイアス源と、を含み、前記電界は、前記プラズマによって帯電された汚染物質粒子を前記ビーム経路外に偏向させるように向けられる、EUV放射源装置。
- 前記第1および第2の電極は、それぞれ、前記ビーム経路を横断するのではなく前記ビーム経路に沿って延在し、前記ビームの軸について主に半径方向に向けられる、請求項1に記載の装置。
- 前記汚染物質トラップは、前記ビーム経路について前記第1および第2の電極の前に位置決めされる第3の電極および第4の電極と、前記プラズマによる前記汚染物質粒子の前記帯電を増強するために前記プラズマの密度および/または継続時間を増加する交流電界を生成するさらなるバイアス源と、をさらに含む、請求項1または2に記載の装置。
- 前記汚染物質トラップは、サイクルで動作するように構成され、前記バイアス源は、前記汚染物質トラップの各動作サイクル内の様々な時間において様々なバイアス信号を印加するように構成される、請求項1〜3のいずれかに記載の装置。
- 前記汚染物質トラップは、その動作サイクルを、EUV放射が動作サイクル毎に1以上のパルスで発生される、前記放射源装置の動作サイクルと同期させるように構成される、請求項4に記載の装置。
- 前記バイアス源は、各動作サイクルの少なくとも大部分の間、前記電極にDCバイアスを印加するように構成される、請求項4または5に記載の装置。
- 前記汚染物質トラップは、前記ビーム経路について前記第1および第2の電極の前に位置決めされるイオナイザをさらに含む、請求項1〜6のいずれかに記載の装置。
- パターニングデバイスからのパターンを基板上に投影するように構成されたリソグラフィ投影装置であって、前記投影装置は放射源装置から受け取った極端紫外線(EUV)ビームを用いて前記パターンを投影するように構成され、前記放射源装置はEUV源と、前記投影装置の光学システム内への送出のために前記EUV源からの放射を仮想放射源点に合焦させる光学コレクタとを含み、前記放射源装置は、請求項1〜7のいずれかに記載の装置を含み、かつ、前記汚染物質トラップは前記コレクタと前記仮想放射源点との間に位置決めされている、リソグラフィ投影装置。
- EUV光学システムにおいて使用するためのEUV放射ビームを発生させ、かつ送出する方法であって、
低圧ガス雰囲気内の放射源点においてEUV放射を発生させて前記EUV放射を光学コレクタを用いて仮想放射源点に向けてビームに集束する工程であって、前記EUV放射の発生には汚染物質粒子の発生が伴う、工程と、
空間におけるプラズマの存在下で前記粒子に負電荷を印加する工程であって、前記プラズマは略真空雰囲気への前記EUV放射の作用によって少なくとも部分的に形成される、工程と、
電気バイアスを印加することによって、前記コレクタと前記仮想放射源点との間の空間において前記放射ビームの経路内または周りに位置付けられる第1の電極と第2の電極との間の前記プラズマを消失させる工程と、
前記負電荷に作用する電界を発生させるように前記電極に電気バイアスを印加することによって前記電極間の前記粒子を偏向させる工程と、
を含む方法。 - 前記負電荷を印加する工程は前記プラズマを用いて行われる、請求項9に記載の方法。
- 前記負電荷を印加する工程は、前記EUV放射によって自然に誘起されるものを超えて前記プラズマの密度および/または継続時間を増加する工程を含む、請求項10に記載の方法。
- 前記プラズマの前記密度および/または継続時間を増加する工程は、前記ビーム経路について前記第1および第2の電極の前に、前記ビームの経路内に位置決めされる第3および第4の電極間に交流電気バイアスを印加する工程を含む、請求項11に記載の方法。
- 前記プラズマの前記密度および/または継続時間を増加する工程は、前記プラズマを消失させる工程および前記粒子を偏向させる工程において前記バイアスを印加することの前の時間に、前記第1および第2の電極間に交流電気バイアスを印加する工程を含み、前記プラズマの前記密度および/または継続時間を増加する工程、前記プラズマを消失させる工程、および前記粒子を偏向させる工程のうち少なくとも2つは、時間的に分けられ、かつ、EUV放射源の動作サイクルと同期して繰り返し行われる、請求項11または12に記載の方法。
- 前記プラズマの前記密度および/または継続時間を増加する工程は、前記プラズマを消失させる工程および前記粒子を偏向させる工程が行われる位置とは空間的に離れた位置において行われる、請求項13に記載の方法。
- 請求項9から14のいずれかに記載の方法によって発生されたEUV放射を用いてパターニングデバイスからデバイス基板にパターンが投影される、デバイス製造方法。
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