JP2011189298A - 純水製造システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】純水製造システム10は、軟水装置11と、給水ラインを流れる水をアルカリ化するアルカリ添加装置12と、シリカ除去率が90%以下の低シリカ除去率逆浸透膜を用いる、逆浸透膜装置の中で最前段に設置される低シリカ除去率逆浸透膜装置15と、シリカ除去率が90%超過の高シリカ除去率逆浸透膜を用いる、低シリカ除去率逆浸透膜15の後段に設置される高シリカ除去率逆浸透膜装置16と、を備える。
【選択図】図1
Description
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態に係る純水製造システムについて説明する。図1は、第一実施形態に係る純水製造システムの構成を概略的に示す模式図である。同図に示すように、純水製造システム10は、給水ライン2上に順に設置された軟水装置11、給水ライン2にアルカリを添加するためのアルカリ添加装置12、第一逆浸透膜装置15(以下、「逆浸透膜装置」を「RO装置」とする)、及び第二RO装置16を備えている。
続いて、本発明の第二実施形態について説明する。図3は、第二実施形態に係る純水製造システムの構成を概略的に示す模式図である。同図に示すように、純水製造システム20は、給水ライン2上に順に設置された軟水装置11、アルカリ添加装置12、第一RO装置15、第二RO装置16、陽イオン交換装置29を備えている。軟水装置11、アルカリ添加装置12、第一RO装置15、第二RO装置16の構成は、上記第一実施形態と同じであるため同じ番号を付し、詳細な説明は省略する。
10,20 純水製造システム
11 軟水装置
12 アルカリ添加装置
15 第一RO装置
16 第二RO装置
29 陽イオン交換装置
Claims (5)
- 二段以上の逆浸透膜装置を有し、前段で製造された処理水を次段の供給水とする純水製造システムにおいて、
シリカ除去率が90%以下の低シリカ除去率逆浸透膜を用いる、前記二段以上の逆浸透膜装置の中で最前段に設置される低シリカ除去率逆浸透膜装置と、
シリカ除去率が90%超過の高シリカ除去率逆浸透膜を用いる高シリカ除去率逆浸透膜装置と、を備えることを特徴とする純水製造システム。 - 前記低シリカ除去率逆浸透膜装置の前段に設置される、原水にアルカリを添加するアルカリ添加装置をさらに備えることを特徴とする請求項1記載の純水製造システム。
- 前記アルカリ添加装置は、前記低シリカ除去率逆浸透膜装置の濃縮水のpHが8〜9となるように調整することを特徴とする請求項2記載の純水製造システム。
- 前記低シリカ除去率逆浸透膜及び前記高シリカ除去率逆浸透膜のシリカ除去率は、シリカ濃度30mgSiO2/Lの水溶液を操作圧力1MPa、回収率15%、温度25℃及びpH7の条件で処理した場合の除去率であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項記載の純水製造システム。
- 二段以上の逆浸透膜装置を有し、前段で製造された処理水を次段の供給水としながら純水を製造する純水製造方法において、
最初に、シリカ除去率が90%以下の低シリカ除去率逆浸透膜を用いて膜分離を行う第一膜分離工程と、
前記第一膜分離工程の後に、シリカ除去率が90%超過の高シリカ除去率逆浸透膜を用いて膜分離を行う第二膜分離工程と、を含むことを特徴とする純水製造方法。
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