JP2011178110A - オフセット枚葉印刷機用圧胴・渡し胴ジャケット - Google Patents
オフセット枚葉印刷機用圧胴・渡し胴ジャケット Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011178110A JP2011178110A JP2010046430A JP2010046430A JP2011178110A JP 2011178110 A JP2011178110 A JP 2011178110A JP 2010046430 A JP2010046430 A JP 2010046430A JP 2010046430 A JP2010046430 A JP 2010046430A JP 2011178110 A JP2011178110 A JP 2011178110A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- jacket
- etching
- silicone resin
- average
- fed printing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims abstract description 125
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 107
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims abstract description 85
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 75
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 75
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 55
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 42
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 43
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 43
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 42
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 34
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 17
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 8
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 24
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 22
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 22
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 17
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 8
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 8
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 8
- 238000004439 roughness measurement Methods 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 7
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 7
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 4
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 4
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000011538 cleaning material Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 229920006268 silicone film Polymers 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000255969 Pieris brassicae Species 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- -1 silane compound Chemical class 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 2
- WBUSZOLVSDXDOC-UHFFFAOYSA-M (4-methoxyphenyl)-diphenylsulfanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC(OC)=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WBUSZOLVSDXDOC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JZDQKBZKFIWSNW-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)-phenyliodanium Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1[I+]C1=CC=CC=C1 JZDQKBZKFIWSNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- VGZKCAUAQHHGDK-UHFFFAOYSA-M bis(4-tert-butylphenyl)iodanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1[I+]C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 VGZKCAUAQHHGDK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 239000000412 dendrimer Substances 0.000 description 1
- 229920000736 dendritic polymer Polymers 0.000 description 1
- SBQIJPBUMNWUKN-UHFFFAOYSA-M diphenyliodanium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 SBQIJPBUMNWUKN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000002737 fuel gas Substances 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000013615 primer Substances 0.000 description 1
- 238000011158 quantitative evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000007592 spray painting technique Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M triphenylsulfonium triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/02—Engraving; Heads therefor
- B41C1/025—Engraving; Heads therefor characterised by means for the liquid etching of substrates for the manufacturing of relief or intaglio printing forms, already provided with resist pattern
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/003—Preparing for use and conserving printing surfaces of intaglio formes, e.g. application of a wear-resistant coating, such as chrome, on the already-engraved plate or cylinder; Preparing for reuse, e.g. removing of the Ballard shell; Correction of the engraving
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
【解決手段】金属製基板1をエッチング法により凹凸構造を形成し、その上にシリコーン樹脂4を凸部は薄く凹部は厚くかつ、凹凸構造を倣うようにコーティングしたオフセット枚葉両面印刷機用圧胴または渡し胴ジャケットおよびその製造方法。
【選択図】図1A
Description
厚さ0.2〜0.5mmの金属製基板の表面部に、エッチング法により、凸部の平均径10〜50μm、エッチング平均深さ30〜60μm、凸部の平均ピッチ0.1〜0.5mmの凹凸構造が形成された金属層と、
前記金属層の表面部の凹凸構造に倣ってコーティングされたシリコーン樹脂層と、
を有し、前記シリコーン樹脂層が硬化後の凹凸の平均深さが、15〜50μmであることを特徴とするオフセット枚葉印刷機用胴ジャケットおよびその製造方法により上記目的を達成するに到った。
本発明に係るオフセット枚葉印刷機用胴ジャケットの第1は、厚さ0.2〜0.5mmの金属製基板の表面部に、エッチング法により、凸部の平均径10〜50μm、エッチング平均深さ30〜60μm、凸部のピッチ0.1〜0.5mmの凹凸構造が形成された金属層と、前記表面部上の凹凸構造に倣ってコーティングされたシリコーン樹脂層と、を有し、シリコーン樹脂層が硬化後の凹凸の深さ15〜50μmである。
(i)圧胴ジャケットは、ブランケット胴と圧胴間で紙をプレスして印刷するが、圧胴ジャケットの凸部の径が大きいと先刷り面のベタ絵柄部の未乾燥インキが凸部の大きさに比例して取られて、大きい白抜けが発生する。この白抜けは、小さい程好ましいが、目視で識別できる限界は、径30μm以上である。また、凸部の平均径が小さすぎると(5μm未満だと)、紙との強い印圧及び微小なスリップにより、凸部の磨耗が早く、ジャケット寿命が短くなる。故に、凸部の平均径は10〜30μmであり、好ましくは凸部の平均径15〜25μmである。但し、凸部の径が5μm以下、及び40μm以上のものは除かれ、凸部の径が10〜30μmの集団群が好ましい。
(ii)一般に、渡し胴ジャケットは、圧胴部で印刷された紙を次の圧胴へ受け渡すための渡し胴に取り付けるジャケットである。渡し胴には印圧がかからず紙は渡し胴に軽くタッチするだけであるため、ジャケットの凹凸による凸部で紙面のインキが取られてベタ絵柄部の白抜けが発生する要因にはなりにくい。よって、凸部の径は圧胴ジャケットに比べて少々大きくても問題ない。また、渡し胴部では、印刷を行わないため、凸部のピッチを圧胴ジャケットより少々大きくしてもブランケット胴から紙へのインキトラッピング不良という問題は発生しない。渡し胴ジャケットの表面粗度プロフィールとして大切な要因は、紙からジャケットへのインキ汚れを極力抑えるために凹凸の高さを大きくすること、(凹凸高さが大きい程ジャケットのインキ汚れは少なく、かつ、凹部のシリコーン樹脂の磨耗も少なく、ジャケットの寿命が長くなる)、および凸部の高さを一定にすることである(渡し胴では紙がジャケット上を滑りやすいため、山頂点のレベルが一定でないと印刷物のベタ絵柄部にスクラッチ傷が発生し易い)。
(オフセット枚葉印刷機用胴ジャケットの製造方法)
本発明に係るオフセット枚葉印刷機用胴ジャケットの製造方法の第2は、金属製基板の表面上にフォトレジスト層を形成する段階(a)と、前記金属製基板を、エッチング法により多数の凸部を残すように表面部を形成する段階(b)と、エッチング後の凸部(ニードル突起)の傘状のバリを除去する段階(c)と、前記表面部の凹凸構造に倣ってプライマー処理およびシリコーン樹脂をコーティングしてシリコーン樹脂層を形成する段階(d)と、を有し、前記コーティング後の凹凸の平均深さが15〜50μmである。
(オフセット枚葉印刷機用胴ジャケットおよびその製造方法における各構成要素)
本発明に係る金属製基板は、ステンレス鋼、アルミニウム、銅、ニッケルなどの単独の金属およびそれらの合金等が選択される。すなわち、前記金属類は、圧胴および渡し胴にジャケットを装着する際に十分な密着性を確保できる金属であれば本発明の目的を達成することができるため、耐食性、耐磨耗性、強度およびコストなどを判断し、適宜選択されるものである。
尚、シリコーン樹脂層のコーティング後の深さは、圧胴ジャケットの場合は、15μm〜35μm、渡し胴ジャケットの場合は、20μm〜50μmである。
この指標を非粘着性樹脂の選定指標にすることにより、圧胴ジャケットの汚れ防止効果を
より適確に判断することができる。
厚さ0.37mmのステンレスプレート(SUS 304 2B)を脱脂後、フォトレジスト(ドライフィルム)を(ラミネート法)にてコーティングした。
一方、写真製版にて、ドット径100μm、ドットのピッチ0.14mm、ドットの配列は碁盤目(ランダム配列)で45度傾斜のフィルム原版を作製した。
バリ取りにより、ドット径は平均4μm、深さは平均2μm小さくなった。バリ取りなしのジャケットも比較のため、作成した)エッチング後の凸部の点配列のパターンを図2A、図2Bに示す。
写真製版時のピッチが、0.3mmである以外は、実施例1と同じ方法でエッチングによる凹凸プロフィールの形成・シリコーン樹脂コーティングを行って圧胴ジャケットを作製した。
写真製版時のピッチが、0.5mmである以外は、実施例1と同じ方法でエッチングによる凹凸プロフィールの形成・シリコーン樹脂コーティングを行って圧胴ジャケットを作製した。
厚さ0.3mmのSUSプレートを脱脂、ブラスト後、金属溶射材として10〜38μmの粒度範囲のNi−Crを膜厚30μm溶射し、更にセラミックス溶射材として10〜44μmのG−Al2O3を膜厚40μm溶射して、製品厚0.37mmとした。そのときの表面粗度はRz;32μmであった。更に、実施例1と同じシリコーン樹脂を同じ要領でコーティングした後の表面粗度がRz;28μmのセラミックス溶射圧胴ジャケットを作製した。ただし、シリコーン樹脂コーティング前のプライマー処理は行わなかった。
ここでの粗度測定法は、JIS0601−1982による粗度測定時の測定長さは、4.0mmである。
実施例1、実施例2、実施例3および比較例で作製した圧胴ジャケットを、AIC(アキヤマインターナショナル(株))製オフセット枚葉両面印刷機JP4P440の機械の圧胴に装着し、コート紙への両面印刷テストを行った。
それに対して、本発明の実施例1は、ジャケットのインキ汚れが更に少なく、比較例で問題のあったスクラッチ傷が大幅に減少し、また、白抜けの大きいもの(30μm以上で目視でも識別できるようなもの)が半減し、白抜け面積率は比較例よりやや減少した。後刷り面でのインキトラッピングも全く問題の無いものであった。
オフセット印刷機用圧胴に用いる非粘着性樹脂の評価尺度として、本発明者はガムテープ剥離力の測定法を考案した。
この方法で測定した様々なガムテープ剥離力のシリコーン樹脂を実施例1のエッチングによる凹凸構造形成後の表面にコーティングし、圧胴ジャケットを製造した。これ等の圧胴ジャケットをオフセット枚葉両面印刷機に装着して印刷操業を行った。
厚さ0.30mmのステンレスプレート(SUS 304 2B)を脱脂後、フォトレジスト(ドライフィルム)を(ラミネート法)にてコーティングした。一方、写真製版にてドット径140μm、ピッチ0.5mm、ドット配列は碁盤目で45度傾斜のフィルム原版を作製した。フォトレジストをコーティングしたSUSプレート上にドットを写真製版したフィルム原版を載せ、露光、現像(スプレー)、焼付け(硬化)して、SUSプレート上にはドット部のみにレジストが残るようにした。
2 金属粉溶射層
3 セラミックス溶射層
4 シリコーン樹脂
11 金属層の上面における凹凸部のピッチ
12 シリコーン樹脂層の上面における凹凸部のピッチ
13 凹凸の深さ
14 エッチング深さ
15 最隣接するシリコーン樹脂層の凸部間において、最上面の端と端とを結ぶ距離
16 最隣接する金属層の凸部間において、最上面の端と端とを結ぶ距離
19 シリコーン樹脂層の上面における凸部の径
20 金属層の上面における凸部の径
21 金属層の上面における凸部の径
22 シリコーン樹脂層の上面における凸部の径
Claims (12)
- 厚さ0.2〜0.5mmの金属製基板の表面部に、エッチング法により、凸部の平均径10〜50μm、エッチング平均深さ30〜60μm、凸部の平均ピッチ0.1〜0.5mmの凹凸構造が形成された金属層と、
前記金属層の表面部の凹凸構造に倣ってコーティングされたシリコーン樹脂層と、
を有し、前記シリコーン樹脂層が硬化後の凹凸の平均深さが、15〜50μmであることを特徴とするオフセット枚葉印刷機用胴ジャケット。 - 厚さ0.2〜0.5mmの金属製基板の表面部に、エッチング法により、凸部の平均径10〜30μm、エッチング平均深さ30〜40μm、凸部の平均ピッチ0.1〜0.3mmのランダム配列の凹凸構造が形成された金属層と、
前記金属層の表面部の凹凸構造に倣ってコーティングされたシリコーン樹脂層と、
を有し、
前記シリコーン樹脂層硬化後の凹凸の平均深さが、15〜35μmである、請求項1に記載のオフセット枚葉印刷機用胴ジャケット。 - 前記シリコーン樹脂は、乾燥硬化した後の非粘着性指標としてのガムテープ剥離力が20g以下の特性のものであることを特徴とする、請求項1または2に記載のオフセット枚葉印刷機用胴ジャケット。
- 請求項1または3に記載のオフセット枚葉印刷機用胴ジャケットは、前記シリコーン樹脂層が硬化後の凹凸の平均深さが、20〜50μmであり、かつオフセット枚葉印刷機用渡し胴ジャケットである。
- 請求項2または3に記載のオフセット枚葉印刷機用胴ジャケットは、オフセット枚葉印刷機用圧胴ジャケットである。
- 金属製基板の表面上にフォトレジスト層を形成する段階(a)と、
前記金属製基板を、エッチング法により多数の凸部を残すように表面部を形成する段階(b)と、
エッチング後の凸部(ニードル突起)の傘状のバリを除去する段階(c)と、
前記表面部の凹凸構造に倣ってプライマー処理およびシリコーン樹脂をコーティングしてシリコーン樹脂層を形成する段階(d)と、
を有し、
前記コーティング後の凹凸の平均深さ15〜50μmになることを特徴とするオフセット枚葉印刷機用胴ジャケットの製造方法。 - 金属製基板の表面上にフォトレジスト層を形成する段階(a)と、
前記金属製基板を、エッチング法により多数の凸部を残すように表面部を形成する段階(b)と、
エッチング後の凸部(ニードル突起)の傘状のバリを除去する段階(c)と
前記表面部の凹凸構造に倣ってプライマー処理およびシリコーン樹脂をコーティングしてシリコーン樹脂層を形成する段階(d)と、
を有し、
前記コーティング後の凹凸の平均深さが15〜35μmになることを特徴とする、請求項6に記載のオフセット枚葉印刷機用胴ジャケットの製造方法。 - 前記シリコーン樹脂は、乾燥硬化した後の非粘着性指標としてのガムテープ剥離力が20g以下の特性のものであることを特徴とする、請求項6または7のいずれかに記載のオフセット枚葉印刷機用胴ジャケットの製造方法。
- 請求項6または8に記載のオフセット枚葉印刷機用胴ジャケットの製造方法は、前記コーティング後の凹凸の平均深さが20〜50μmになるオフセット枚葉印刷機用渡し胴ジャケットの製造方法であって、
前記金属製基板は、厚さ0.2〜0.5mmの金属製基板であり、前記段階(e)が、前記金属製基板をエッチング法により、凸部の平均径が10〜50μm、エッチング平均深さ30〜60μm、凸部の平均ピッチ0.1〜0.5mmの表面部に形成することを特徴とする、請求項6および8のいずれか1項に記載のオフセット枚葉印刷機用渡し胴ジャケットの製造方法。 - 請求項6および請求項8〜9のいずれかの1項に記載のオフセット枚葉印刷機用胴ジャケットの製造方法は、前記コーティング後の凹凸の平均深さが20〜50μmになるオフセット枚葉印刷機用渡し胴ジャケットの製造方法であって、
前記段階(c)の後、前記シリコーン樹脂の厚みを金属層の凸部は1〜5μm、凹部は5〜30μmになるように、同時コーティングしたエッチングなしのダミープレートのシリコーン樹脂膜厚を測定し、エッチング深さとシリコーン樹脂膜厚の差でコーティング後の凹凸深さを管理することを特徴とする、請求項6ならびに請求項8〜9のいずれか1項に記載のオフセット枚葉印刷機用渡し胴ジャケットの製造方法。 - 請求項7または8に記載のオフセット枚葉印刷機用胴ジャケットの製造方法は、オフセット枚葉印刷機用圧胴ジャケットの製造方法であって、
前記金属製基板は、厚さ0.2〜0.5mmであり、前記段階(b)が前記金属製基板をエッチング法により、凸部の平均径が10〜30μm、エッチング平均深さ30〜40μm、凸部の平均ピッチ0.1〜0.3mmのランダム配列の凹凸構造の表面部に形成することを特徴とする、請求項7または8に記載のオフセット枚葉印刷機用圧胴ジャケットの製造方法。 - 請求項7および8ならびに11のいずれかの1項に記載のオフセット枚葉印刷機用胴ジャケットの製造方法は、オフセット枚葉印刷機用圧胴ジャケットの製造方法であって、
前記段階(c)の後、前記シリコーン樹脂の厚みを金属層の凸部は1〜5μm、凹部は5〜20μmになるように、同時コーティングしたエッチングなしのダミープレートのシリコーン樹脂膜厚を測定し、エッチング深さとシリコーン樹脂膜厚の差でコーティング後の凹凸深さを管理することを特徴とする、請求項7および8ならびに11のいずれかの1項に記載のオフセット枚葉印刷機用圧胴ジャケットの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010046430A JP5123965B2 (ja) | 2010-03-03 | 2010-03-03 | オフセット枚葉印刷機用圧胴・渡し胴ジャケット |
DE102011004994.0A DE102011004994B4 (de) | 2010-03-03 | 2011-03-02 | Mantel eines Druck- bzw. Transferzylinders für Bogenoffset-Druckmaschinen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010046430A JP5123965B2 (ja) | 2010-03-03 | 2010-03-03 | オフセット枚葉印刷機用圧胴・渡し胴ジャケット |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011173978A Division JP2012006401A (ja) | 2011-08-09 | 2011-08-09 | オフセット枚葉印刷機用圧胴・渡し胴ジャケット |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011178110A true JP2011178110A (ja) | 2011-09-15 |
JP5123965B2 JP5123965B2 (ja) | 2013-01-23 |
Family
ID=44690140
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010046430A Active JP5123965B2 (ja) | 2010-03-03 | 2010-03-03 | オフセット枚葉印刷機用圧胴・渡し胴ジャケット |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5123965B2 (ja) |
DE (1) | DE102011004994B4 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106739427A (zh) * | 2016-12-02 | 2017-05-31 | 成都印钞有限公司 | 一种用于银制品的腐蚀溶液及采用该腐蚀溶液蚀刻银版的工艺 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63142381A (ja) * | 1986-12-04 | 1988-06-14 | Showa Electric Wire & Cable Co Ltd | 熱定着ロ−ラ |
JPS6348904B2 (ja) * | 1983-11-28 | 1988-10-03 | Shinetsu Chem Ind Co | |
JPH03120048A (ja) * | 1989-09-21 | 1991-05-22 | Heidelberger Druckmas Ag | 両面印刷用の枚葉紙オフセット印刷機の枚葉紙引渡し胴および対応圧胴のための胴張りとしての枚葉紙を案内するシート |
JP2005047241A (ja) * | 2003-07-17 | 2005-02-24 | Tokyo Printing & Equipment Trading Co Ltd | 枚葉オフセット印刷機渡し胴用ジャケット |
JP2008213495A (ja) * | 2001-04-26 | 2008-09-18 | Man Roland Druckmas Ag | 加工処理装置内の枚葉紙案内胴のための被覆部材 |
JP2009056784A (ja) * | 2007-09-03 | 2009-03-19 | Yoshikawa Kogyo Co Ltd | シリコーン被膜修復方法 |
JP2009155515A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Dow Corning Toray Co Ltd | シリコーン系感圧接着剤組成物、感圧接着シートおよびシリコーンゴム積層体 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4230567C2 (de) | 1992-09-12 | 1994-06-30 | Heidelberger Druckmasch Ag | Folie als Aufzug für einen Gegendruckzylinder einer Offset-Bogen-Rotationsdruckmaschine zum Schön- und Widerdruck |
JPH0712151A (ja) | 1993-06-28 | 1995-01-17 | Mitsubishi Motors Corp | ブレーキディスク |
JP3439569B2 (ja) | 1994-04-25 | 2003-08-25 | 新日本製鐵株式会社 | 圧胴または中間胴 |
JP3477623B2 (ja) | 1994-06-13 | 2003-12-10 | いすゞ自動車株式会社 | コンクリート材を利用したプレス抜き型及びその製法 |
KR100186540B1 (ko) | 1996-04-25 | 1999-03-20 | 구자홍 | 피디피의 전극 및 그 형성방법 |
DE102005031164A1 (de) | 2005-07-04 | 2007-01-18 | Koenig & Bauer Ag | Oberfläche für bedruckstoffführende Teile einer Druckmaschine und Verfahren zur Herstellung einer solchen Oberfläche |
JP4927363B2 (ja) | 2005-08-16 | 2012-05-09 | 株式会社アドマテックス | 微小粒子含有組成物 |
DE102009009460A1 (de) | 2009-02-18 | 2010-08-19 | Manroland Ag | Bogenführungszylinder mit Aufzug in einer Verarbeitungsmaschine |
-
2010
- 2010-03-03 JP JP2010046430A patent/JP5123965B2/ja active Active
-
2011
- 2011-03-02 DE DE102011004994.0A patent/DE102011004994B4/de active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6348904B2 (ja) * | 1983-11-28 | 1988-10-03 | Shinetsu Chem Ind Co | |
JPS63142381A (ja) * | 1986-12-04 | 1988-06-14 | Showa Electric Wire & Cable Co Ltd | 熱定着ロ−ラ |
JPH03120048A (ja) * | 1989-09-21 | 1991-05-22 | Heidelberger Druckmas Ag | 両面印刷用の枚葉紙オフセット印刷機の枚葉紙引渡し胴および対応圧胴のための胴張りとしての枚葉紙を案内するシート |
JP2008213495A (ja) * | 2001-04-26 | 2008-09-18 | Man Roland Druckmas Ag | 加工処理装置内の枚葉紙案内胴のための被覆部材 |
JP2005047241A (ja) * | 2003-07-17 | 2005-02-24 | Tokyo Printing & Equipment Trading Co Ltd | 枚葉オフセット印刷機渡し胴用ジャケット |
JP2009056784A (ja) * | 2007-09-03 | 2009-03-19 | Yoshikawa Kogyo Co Ltd | シリコーン被膜修復方法 |
JP2009155515A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Dow Corning Toray Co Ltd | シリコーン系感圧接着剤組成物、感圧接着シートおよびシリコーンゴム積層体 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106739427A (zh) * | 2016-12-02 | 2017-05-31 | 成都印钞有限公司 | 一种用于银制品的腐蚀溶液及采用该腐蚀溶液蚀刻银版的工艺 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5123965B2 (ja) | 2013-01-23 |
DE102011004994B4 (de) | 2024-05-29 |
DE102011004994A1 (de) | 2012-04-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6766738B2 (en) | Cylinder jacket profile, method of producing an easy-clean layer on a cylinder jacket profile and printing press | |
JP5736192B2 (ja) | フューザ部材 | |
JP3439569B2 (ja) | 圧胴または中間胴 | |
JP5123965B2 (ja) | オフセット枚葉印刷機用圧胴・渡し胴ジャケット | |
US4420549A (en) | Lithographic substrate and its process of manufacture | |
JP6581925B2 (ja) | 反射防止部材及びその製造方法 | |
JP2012006401A (ja) | オフセット枚葉印刷機用圧胴・渡し胴ジャケット | |
EP2832554B1 (en) | Ultra-fine textured digital lithographic imaging plate and method of manufacture | |
JP6683208B2 (ja) | 感光性樹脂組成物および感光性樹脂版原版 | |
JP3788943B2 (ja) | 平版印刷版用支持体とその製造方法、および平版印刷版 | |
CN102615932A (zh) | 一种金属印刷模板及其制造方法以及其使用的涂层溶液 | |
KR20110003084A (ko) | 오프셋 인쇄용 요판 및 그 제조 방법 | |
JP4135964B1 (ja) | シリコーン被膜修復方法 | |
JPH07104497A (ja) | 電子写真感光体用導電性基体および基体表面形状評価方法 | |
JP4837767B2 (ja) | 印刷版の製造方法及び印刷版 | |
CN101590730B (zh) | 金属喷墨片的二元电沉积加工方法 | |
US9250516B2 (en) | Method of making a molded textured imaging blanket surface | |
Pavlović et al. | Wear analysis of the offset printing plate’s non-printing areas depending on exploitation | |
JP3478304B2 (ja) | 電着転写用原版の製造方法 | |
JP2000079770A (ja) | 印刷用転写ロール及び基板へのダイレクト印刷方法 | |
JP2007246219A (ja) | 軽量非粘着性ガイドローラ | |
Pavlović et al. | Changes in the surface roughness of aluminium oxide (non-printing) areas on offset printing plate depending on number of imprints | |
JP2011121194A (ja) | 印刷機用のジャケット、およびその製造方法 | |
JP2004009631A (ja) | 平版印刷版用支持体 | |
JP2004017403A (ja) | 平版印刷版用支持体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110614 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110809 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110811 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20111101 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120201 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20120227 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20120413 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121026 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151102 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5123965 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |