JP2011168894A

JP2011168894A - Mask for film-deposition and method for cleaning the same

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Publication number: JP2011168894A
Application number: JP2011094054A
Authority: JP
Inventors: Akira Oba; 彰大場; Yoichi Yoshitome; 洋一吉留; Tsuyoshi Shibamoto; 毅柴本; Yasuteru Ueda; 泰照上田
Original assignee: Ulvac Singapore Pte Ltd
Current assignee: Ulvac Singapore Pte Ltd
Priority date: 2011-04-20
Filing date: 2011-04-20
Publication date: 2011-09-01

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mask for film-deposition capable of cleaning and removing a deposition film without giving a damage to a mask base material and having excellent cleaning workability. SOLUTION: The mask 11 for film-deposition includes a mask body 2 wherein one aperture part 20 disposed opposite to a film-deposition surface of a substrate W and limiting a film-deposition region is formed and a cover member covering an outer side of the aperture part of the surface of the mask body. The cover member 3 is constituted of an assembly of a plurality of cover division pieces 3A, 3B, 3C and 3D freely detachably attached to the mask body. Adhesion of the deposition film to the mask body is suppressed and damage of the mask base material during mask cleaning is prevented by covering a prescribed region of the surface of the mask body by the cover member. The deposition film adhering to the cover member is removed in a divided state into individual cover division piece and thus cleaning operation is made simple and easily made compatible with a large-sized mask. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、スパッタ装置等の成膜装置に用いられ、基板の成膜面に対向配置されることにより成膜領域を制限する成膜用マスクに関し、更に詳しくは、品質及び耐久性に優れ、マスクの大型化にも対応できる成膜用マスク及びその洗浄方法に関する。 The present invention relates to a film formation mask that is used in a film formation apparatus such as a sputtering apparatus and restricts a film formation region by being opposed to a film formation surface of a substrate, and more specifically, has excellent quality and durability, The present invention relates to a film forming mask that can cope with an increase in size of the mask and a cleaning method thereof.

従来より、半導体基板やガラス基板等の成膜工程においては、図９Ａ，Ｂに示されるように、基板Ｗ上の成膜領域を制限する開口部Ｐが形成された成膜用マスクＭが広く用いられている。この成膜用マスクＭとしては、例えばアルミニウムやチタン、ステンレス等の金属製単層マスクが用いられている。 Conventionally, in a film forming process of a semiconductor substrate, a glass substrate, or the like, as shown in FIGS. 9A and 9B, a film forming mask M in which an opening P for limiting a film forming region on the substrate W is formed has been widely used. It is used. As the film formation mask M, for example, a metal single layer mask such as aluminum, titanium, stainless steel or the like is used.

この種のマスクは、基板表面の一部が成膜されないように基板成膜面に対向配置して使用されるので、成膜時、マスク表面に成膜材料が付着する。使用済のマスクは、従来、付着した成膜材料（デポジション膜）を化学エッチングにより洗浄除去した後、再使用していた。 Since this type of mask is used so as to face the substrate film formation surface so that a part of the substrate surface is not formed, the film forming material adheres to the mask surface during film formation. Conventionally, used masks have been reused after the deposited film-forming material (deposition film) has been removed by chemical etching.

なお、下記特許文献１には、複数個のマスク素体を環状に配置することにより枠状のマスク体を形成するとともに、個々のマスク素体を基板に対して独立して位置変更可能とした構成が開示されている。 In Patent Document 1 below, a frame-shaped mask body is formed by arranging a plurality of mask bodies in a ring shape, and the position of each mask body can be independently changed with respect to the substrate. A configuration is disclosed.

特開平１０−６０６２４号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-60624

上述のように、従来では、成膜用マスクに付着したデポジション膜を化学エッチングによって除去していたので、マスク自体に対するダメージが大きく、マスク品質（精度）の劣化、あるいは耐久性の低下が問題となっていた。 As described above, in the past, the deposition film attached to the deposition mask was removed by chemical etching, so the damage to the mask itself was great, and the mask quality (accuracy) was deteriorated or the durability was degraded. It was.

また、デポジション膜がアルミニウム合金の場合、例えばアルカリ系のエッチング液でマスクを洗浄するが、マスクがアルミニウム製だとマスク母材の損傷が避けられなくなるので、アルカリ液には不溶解の金属マスクを用意する必要があり、不経済であった。 In addition, when the deposition film is an aluminum alloy, the mask is washed with, for example, an alkaline etching solution. However, if the mask is made of aluminum, the mask base material is inevitably damaged. It was uneconomical.

一方、例えばディスプレイ基板成膜用のマスクなど、マスクが大型化するに伴って洗浄作業が困難になるという問題もあった。特に、成膜材料との関係でアルミニウム製マスクが使用できない場合、チタンやステンレス等の他の金属マスクで大型マスクを構成することになるが、この場合、マスクの高重量化によりハンドリング性が悪化し、また高価になるという問題点もあった。 On the other hand, there has been a problem that the cleaning operation becomes difficult as the mask becomes larger, such as a mask for forming a display substrate. In particular, when an aluminum mask cannot be used due to the film-forming material, a large-scale mask will be composed of another metal mask such as titanium or stainless steel. In this case, handling becomes worse due to the increased weight of the mask. In addition, there is a problem that it becomes expensive.

なお、上記特許文献１の構成では、マスクが複数のマスク素体で分割構成されているので、一体構造のマスクに比べて洗浄作業性等に優れる。しかしながら、これら個片化されたマスク素体にも直にデポジション膜が付着することから、繰り返し洗浄によりマスクがダメージを受け、また、成膜材料との関係でマスク構成材料に制限があるという点では、上述と同様の問題を有している。 In the configuration disclosed in Patent Document 1, since the mask is divided into a plurality of mask bodies, the cleaning workability and the like are superior to those of a single-structured mask. However, since the deposition film adheres directly to these individual mask bodies, the mask is damaged by repeated cleaning, and there is a limitation on the mask constituent material in relation to the film forming material. In this respect, it has the same problem as described above.

本発明は上述の問題に鑑みてなされ、マスク母材にダメージを与えることなくデポジション膜の洗浄除去が可能であり、洗浄作業性にも優れた成膜用マスクを提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a film-formation mask capable of cleaning and removing a deposition film without damaging the mask base material and having excellent cleaning workability. .

以上の課題を解決するに当たり、本発明の成膜用マスクは、基板の成膜面に対向配置され成膜領域を制限する一つの開口部が形成されたマスク本体と、このマスク本体の表面の開口部の外側を被覆するカバー部材とを備え、このカバー部材は、マスク本体に対して着脱自在に取り付けられた複数のカバー分割片の集合体で構成されている。 In solving the above-described problems, the film-forming mask of the present invention includes a mask body that is disposed to face the film-forming surface of the substrate and has one opening that restricts the film-forming region, and a surface of the mask body. And a cover member that covers the outside of the opening. The cover member is formed of an assembly of a plurality of cover division pieces that are detachably attached to the mask body.

マスク本体の表面の所定領域をカバー部材で被覆することにより、マスク本体へのデポジション膜の付着を抑える。これにより、マスク洗浄時におけるマスク母材のダメージを防ぎ、マスク精度の劣化及び耐久性の向上が図れるようになる。カバー部材を構成する個々のカバー分割片には、例えば打ち抜き材等が使用でき、低廉かつ簡素に製作できる。 By covering a predetermined area on the surface of the mask body with a cover member, adhesion of the deposition film to the mask body is suppressed. As a result, damage to the mask base material during mask cleaning can be prevented, and mask accuracy can be degraded and durability can be improved. For each cover split piece constituting the cover member, for example, a punched material or the like can be used, and it can be manufactured inexpensively and simply.

カバー部材に付着したデポジション膜の除去は、カバー部材を個々のカバー分割片に個片化した状態で行うことができるので、洗浄作業が簡単になり、マスクの大型化にも容易に対応できるようになる。 Removal of the deposition film adhering to the cover member can be performed in a state where the cover member is divided into individual cover division pieces, so that the cleaning operation is simplified and the mask can be easily increased in size. It becomes like this.

マスク本体に対するカバー分割片の取付けは、例えばネジ、あるいはボルト及びナット等の部材を用いることができる。この場合、カバー分割片の表面側はデポジション膜が付着するので、カバー分割片の装着状態を保持する保持部材（例えばナット）をマスク本体の裏面側に配置することにより、離脱作業が容易となる。 For example, a screw or a member such as a bolt and a nut can be used to attach the cover split piece to the mask body. In this case, since the deposition film adheres to the front surface side of the cover split piece, the holding work (for example, a nut) that holds the mounting state of the cover split piece is arranged on the back side of the mask body, so that the detachment work is easy. Become.

カバー部材は、成膜材料が比較的付着しやすい領域に取り付けられるようにし、具体的には、少なくともマスク本体の開口部周縁領域に取り付けられる。この場合、開口部の周縁領域に取り付けられているカバー分割片の各々を基板の成膜面に向かって傾斜して取り付けたり、開口部に臨む側の端部の厚さが漸次小さくなるように形成することによって、マスク精度の向上を図ることができる。 The cover member is attached to a region where the film forming material is relatively easily attached, and specifically, is attached to at least the peripheral region of the opening of the mask body. In this case, each of the cover divided pieces attached to the peripheral area of the opening is attached to be inclined toward the film formation surface of the substrate, or the thickness of the end facing the opening is gradually reduced. By forming the mask, the mask accuracy can be improved.

また、マスク精度の観点から、開口部周縁領域におけるカバー分割片の取付精度、位置合わせ精度を高める必要があるが、これらカバー分割片の取付作業性と組付精度を確保するために、カバー分割片の各々を開口部の辺単位で一体化してもよい。 In addition, from the viewpoint of mask accuracy, it is necessary to improve the mounting accuracy and alignment accuracy of the cover split pieces in the peripheral area of the opening, but in order to ensure the mounting workability and assembly accuracy of these cover split pieces, Each of the pieces may be integrated in units of sides of the opening.

以上の構成の成膜用マスクにおいて、マスク本体に対するカバー部材の取付けには、マスク本体が設置されるマスク設置部と、マスク本体の開口部を貫通するとともに、開口部の周縁領域に取り付けられるカバー分割片の端部と当接し、当該カバー分割片の開口部に対する位置決めをなす位置決め凸部とを備えたマスク取付治具を用いることができ、これにより容易かつ高精度にマスクを組み立てることができる。 In the film-formation mask having the above-described configuration, the cover member is attached to the mask main body through a mask installation portion in which the mask main body is installed, and a cover that passes through the opening of the mask main body and is attached to the peripheral region of the opening. It is possible to use a mask mounting jig that includes a positioning convex portion that abuts the end portion of the split piece and positions the cover split piece with respect to the opening, thereby enabling easy and high-precision mask assembly. .

以上述べたように、本発明の成膜用マスクによれば、マスク本体と、このマスク本体の表面所定領域を被覆する複数のカバー分割片の集合体でなるカバー部材とを備えた構成としているので、デポジション膜の洗浄除去は主としてカバー部材に対してのみ行えば足りるようになり、これによりマスク本体を保護でき、マスク精度の維持と耐久性の向上とを図ることができる。 As described above, according to the film forming mask of the present invention, the mask main body and the cover member formed of an aggregate of a plurality of cover division pieces covering a predetermined surface area of the mask main body are provided. Therefore, it is only necessary to clean and remove the deposition film only on the cover member, whereby the mask body can be protected, and the mask accuracy can be maintained and the durability can be improved.

また、カバー部材を複数個のカバー分割片の集合体として構成したので、デポジション膜の洗浄除去はカバー分割片単位で行えるようになり、大型マスク用の洗浄設備を不要として洗浄工程の簡素化を図ることができる。 In addition, since the cover member is configured as an assembly of a plurality of cover division pieces, the cleaning and removal of the deposition film can be performed in units of the cover division pieces, eliminating the need for cleaning equipment for large masks and simplifying the cleaning process. Can be achieved.

本発明の第１の実施の形態による成膜用マスクの構成を示す図であり、Ａは平面図、ＢはＡにおける［Ｂ］−［Ｂ］線方向断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows the structure of the film-forming mask by the 1st Embodiment of this invention, A is a top view, B is the [B]-[B] line direction sectional drawing in A. マスク本体に対するカバー部材の取付形態を示す要部断面図であるとともに、開口部の周縁領域の各種構成例を示している。It is principal part sectional drawing which shows the attachment form of the cover member with respect to a mask main body, and the various structural examples of the peripheral area | region of an opening part are shown. 本発明の第２の実施の形態による成膜用マスクの構成を示す図であり、Ａは平面図、ＢはＡにおける［Ｂ］−［Ｂ］線方向断面図である。It is a figure which shows the structure of the film-forming mask by the 2nd Embodiment of this invention, A is a top view, B is the [B]-[B] line direction sectional drawing in A. FIG. 本発明の第３の実施の形態による成膜用マスクの構成を示す図であり、Ａは平面図、ＢはＡにおける［Ｂ］−［Ｂ］線方向断面図である。It is a figure which shows the structure of the film-forming mask by the 3rd Embodiment of this invention, A is a top view, B is the [B]-[B] line direction sectional drawing in A. FIG. 本発明の第５の実施の形態を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the 5th Embodiment of this invention. 図５の構成の変形例を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the modification of the structure of FIG. マスク組立治具の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of a mask assembly jig. マスク組立治具を用いたマスク組立工程を説明する側断面図である。It is a sectional side view explaining the mask assembly process using a mask assembly jig. 従来の成膜用マスクの構成を示す図であり、Ａは平面図、ＢはＡにおける［Ｂ］−［Ｂ］線方向断面図である。It is a figure which shows the structure of the conventional film-forming mask, A is a top view, B is the [B]-[B] line direction sectional drawing in A.

以下、本発明の各実施の形態について図面を参照して説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

（第１の実施の形態）
図１は本発明の第１の実施の形態による成膜用マスク１１の概略構成図であり、Ａは平面図、Ｂは断面図である。成膜用マスク１１は、マスク本体２と、このマスク本体２の表面全域を被覆するカバー部材３の二層構造となっている。 (First embodiment)
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a film forming mask 11 according to a first embodiment of the present invention, in which A is a plan view and B is a cross-sectional view. The film formation mask 11 has a two-layer structure of a mask body 2 and a cover member 3 that covers the entire surface of the mask body 2.

マスク本体２は、例えばアルミニウムやチタン、ステンレス等の金属材料で構成されており、その略中央部には長方形状の開口部２０が形成されている。マスク本体２は基板Ｗの上面（成膜面）に対向配置され、開口部２０は、基板Ｗの成膜領域を制限する。 The mask body 2 is made of, for example, a metal material such as aluminum, titanium, or stainless steel, and a rectangular opening 20 is formed at a substantially central portion thereof. The mask body 2 is disposed to face the upper surface (film formation surface) of the substrate W, and the opening 20 limits the film formation region of the substrate W.

ここで、マスク本体２の開口部２０の周縁部２１は、テーパー面とされており、厚さ（高さ）が漸次小さくなるように形成されている。これにより、開口部２０の周縁部の成膜に与える影響を小さくでき、高い成膜精度を確保できる。
なお、周縁部２１の形状はテーパー状に限らず、後述する図５又は図６に示すように、階段状としてもよい。 Here, the peripheral portion 21 of the opening 20 of the mask body 2 is a tapered surface, and is formed so that the thickness (height) gradually decreases. Thereby, the influence which it has on the film-forming of the peripheral part of the opening part 20 can be made small, and high film-forming precision can be ensured.
In addition, the shape of the peripheral part 21 is not restricted to a taper shape, It is good also as a step shape as shown in FIG. 5 or FIG. 6 mentioned later.

カバー部材３は、複数のカバー分割片３Ａ・・・，３Ｂ・・・，３Ｃ・・・の集合体で構成されている。これらカバー分割片のうち、３Ａはマスク本体２の開口部２０の周縁部２１に取り付けられる四角形状の分割片であり、３Ｂはマスク本体２の表面の平面部に取り付けられる四角形状の分割片である。そして、３Ｃはマスク本体２の開口部２０の四隅位置に取り付けられ、一対の直角二等辺三角形状の分割片、あるいは四角形状の分割片を対角位置で所定角度折り曲げて形成されている。
なお、この開口部周縁部２１に取り付けられているカバー分割片３Ａは、図中、網掛けして示している。 The cover member 3 is composed of an assembly of a plurality of cover division pieces 3A, 3B, 3C,. Among these cover divided pieces, 3A is a square-shaped divided piece attached to the peripheral portion 21 of the opening 20 of the mask main body 2, and 3B is a square-shaped divided piece attached to the flat portion of the surface of the mask main body 2. is there. 3C is attached to the four corner positions of the opening 20 of the mask body 2, and is formed by bending a pair of right-angled isosceles triangular division pieces or quadrangular division pieces by a predetermined angle at diagonal positions.
In addition, the cover division | segmentation piece 3A attached to this opening part peripheral part 21 is shaded in the figure.

カバー分割片３Ａの各々は、マスク本体２の開口部２０のテーパー状の周縁部２１に取り付けられることによって、基板Ｗの成膜面に向かって傾斜して取り付けられている。更に、これらカバー分割片３Ａの開口部２０に臨む側の端部３１は、その厚さが漸次小さくなるように例えばテーパー状に形成されている。 Each of the cover division pieces 3 A is attached to the tapered peripheral edge 21 of the opening 20 of the mask body 2, so that the cover division pieces 3 A are inclined toward the film formation surface of the substrate W. Further, the end portion 31 on the side facing the opening 20 of the cover split piece 3A is formed in a tapered shape, for example, so that the thickness thereof gradually decreases.

カバー部材３を構成する各カバー分割片３Ａ，３Ｂ，３Ｃは、アルミニウム、チタン、ステンレス、ニッケル等の金属板のプレス加工品のほか、セラミック板やプラスチック板等が適用可能であり、成膜材料その他の成膜条件に応じて適宜選定される。
例えば、アルミニウム合金を成膜する場合には、アルミニウム製のカバー部材（カバー分割片）が用いられ、同様に、クロム成膜の場合にはチタン製のカバー部材、モリブデンやタングステンを成膜する場合にはニッケル合金製のカバー部材が適用できる。
なお、カバー部材３を構成する各カバー分割片は、同一材質のものが用いられる場合は勿論、異種材質のものが組み合わされていてもよい。 Each of the cover division pieces 3A, 3B, 3C constituting the cover member 3 can be applied to a metal plate such as aluminum, titanium, stainless steel, nickel, as well as a ceramic plate, a plastic plate, etc. It is appropriately selected according to other film forming conditions.
For example, when an aluminum alloy film is formed, an aluminum cover member (cover divided piece) is used. Similarly, when a chromium film is formed, a titanium cover member, molybdenum or tungsten is formed. A cover member made of a nickel alloy can be applied to.
In addition, as for each cover division | segmentation piece which comprises the cover member 3, the thing of a different material may be combined as well as the thing of the same material is used.

ここで、カバー部材３の材質は、マスク本体２よりも、成膜材料と熱膨張係数が近い材料で形成することが好ましい。デポジション膜がカバー部材３から剥離し難くなり、成膜時のパーティクル発生を抑えると同時に、メンテナンスサイクルの長期化を図ることができるからである。
同様な理由で、カバー部材３は、マスク本体２よりも、成膜材料との密着性がよい材料で形成されるのが好ましい。密着性を高めるため、カバー部材３の表面を例えばブラスト処理して粗面化したり、後述する図５に示すように、***部３４を設けた凹凸形状とするのも有効である。 Here, the cover member 3 is preferably formed of a material having a thermal expansion coefficient closer to that of the film forming material than the mask body 2. This is because the deposition film is difficult to peel off from the cover member 3, and the generation of particles during film formation can be suppressed, and at the same time, the maintenance cycle can be prolonged.
For the same reason, the cover member 3 is preferably formed of a material having better adhesion to the film forming material than the mask body 2. In order to improve adhesion, it is also effective to roughen the surface of the cover member 3 by, for example, blasting, or to form a concavo-convex shape provided with raised portions 34 as shown in FIG.

カバー分割片３Ａ〜３Ｃの大きさは、カバー部材３の分割数によって異なるが、例えば一辺５ｃｍ〜５０ｃｍの大きさに分割されている。また、カバー分割片３Ａ〜３Ｃの厚さも特に限定されず、例えば０．３ｍｍ程度とされている。
なお、これらカバー分割片３Ａ〜３Ｃの形状、大きさ及び厚さは均一とする場合に限らず、形状や大きさの異なるカバー分割片の集合体としてカバー部材３を形成してもよい。 The size of the cover division pieces 3A to 3C varies depending on the number of divisions of the cover member 3, but is divided into, for example, a size of 5 cm to 50 cm on a side. Further, the thickness of the cover division pieces 3A to 3C is not particularly limited, and is, for example, about 0.3 mm.
The shape, size, and thickness of the cover divided pieces 3A to 3C are not limited to being uniform, and the cover member 3 may be formed as an aggregate of cover divided pieces having different shapes and sizes.

カバー部材３は、マスク本体２に対して着脱自在に取り付けられている。図２Ａは、マスク本体２とカバー部材３（カバー分割片３Ａ〜３Ｃ）の取付形態を説明する要部断面図である。 The cover member 3 is detachably attached to the mask body 2. FIG. 2A is a cross-sectional view of a main part for explaining the attachment form of the mask main body 2 and the cover member 3 (cover divided pieces 3A to 3C).

カバー分割片３Ａ〜３Ｃ（図では３Ａ，３Ｂのみ図示）は、取付具５で各々マスク本体２の表面に装着されており、これにより、マスク本体２の表面にカバー部材３が形成されている。
取付具５は、カバー分割片３Ａ〜３Ｃ及びマスク本体２を貫通し軸部にネジ山が形成されたボルト状の軸部材６と、この軸部材６の軸部に螺合しマスク本体２に対するカバー分割片３Ａ〜３Ｃの装着状態を保持するナット状の保持部材７とで構成されている。これら取付具５は、カバー分割片一枚当たり、１カ所〜４カ所、あるいはそれ以上取り付けられるが、カバー分割片の大きさによって取付具５の取付個数が決定される。 The cover division pieces 3 A to 3 C (only 3 A and 3 B are shown in the drawing) are respectively attached to the surface of the mask main body 2 with the fixture 5, whereby the cover member 3 is formed on the surface of the mask main body 2. .
The fixture 5 is a bolt-shaped shaft member 6 that penetrates the cover divided pieces 3 A to 3 C and the mask main body 2 and has a screw thread formed in the shaft portion, and is screwed into the shaft portion of the shaft member 6 to the mask body 2. It is comprised with the nut-shaped holding member 7 which hold | maintains the mounting state of cover division | segmentation piece 3A-3C. These attachments 5 are attached at one place to four places or more per cover division piece, and the number of attachment parts 5 is determined by the size of the cover division piece.

なお、ワッシャ、スプリングワッシャ等のネジ弛み止め部品を適宜介装させるようにしてもよい。また、マスク本体２及びカバー分割片３Ａ〜３Ｂの何れか一方について、軸部材６が貫通する孔を長孔状に形成することにより、カバー分割片の加工精度に起因する取付精度のバラツキを低減したり、マスク本体に対するカバー分割片の相対位置の変更が可能となる。 It should be noted that screw loosening prevention parts such as washers and spring washers may be appropriately interposed. Further, by forming a hole through which the shaft member 6 penetrates in either one of the mask body 2 and the cover split pieces 3A to 3B, the variation in the mounting accuracy due to the processing accuracy of the cover split pieces is reduced. Or the relative position of the cover split piece with respect to the mask main body can be changed.

ここで、取付具５の保持部材７は、マスク本体２の裏面側に適宜形成された凹所１０内に配置されている。これにより、表面にデポジション膜が付着したカバー分割片３Ａ〜３Ｃをマスク本体２から容易に取り外せるようになり、作業性を確保することができる。 Here, the holding member 7 of the fixture 5 is disposed in a recess 10 that is appropriately formed on the back side of the mask body 2. Thereby, it becomes possible to easily remove the cover split pieces 3A to 3C having the deposition film attached to the surface from the mask body 2 and to ensure workability.

図２Ａに示したように、マスク本体２の開口部周縁部２１に取り付けられているカバー分割片３Ａの端部３１は、マスク本体２の開口部周縁部２１の端部と整列配置されている。そして、当該カバー分割片３Ａは、マスク本体２の開口部周縁部２１を被覆すると同時に、端部３１が基板Ｗの成膜面に接触あるいは近接して成膜領域と非成膜領域とを区画するマスク境界部２０Ｐを形成する。カバー分割片３Ａの端部３１は、上述したように漸次厚さが小となるテーパー形状に形成されているので、マスク境界部２０Ｐにおける高い成膜精度を維持できる。 As shown in FIG. 2A, the end portion 31 of the cover split piece 3 A attached to the opening peripheral portion 21 of the mask body 2 is aligned with the end portion of the opening peripheral portion 21 of the mask body 2. . The cover division piece 3A covers the peripheral edge 21 of the opening of the mask body 2 and at the same time, the end 31 is in contact with or close to the film formation surface of the substrate W to partition the film formation region and the non-film formation region. A mask boundary 20P to be formed is formed. Since the end portion 31 of the cover split piece 3A is formed in a tapered shape with a gradually decreasing thickness as described above, high film formation accuracy at the mask boundary portion 20P can be maintained.

上述のように、マスク本体２の開口部周縁部２１に取り付けられているカバー分割片３Ａは、マスク境界部２０Ｐを形成することから、マスク本体２の開口部周縁部２１を図２Ｂ，Ｃのように構成することもできる。
図２Ｂの構成例は、カバー分割片３Ａの開口部２０側端部を、マスク本体２の開口部周縁部２１よりも内方（開口部２０）側に突出させた例を示している。
また、図２Ｃの構成例は、マスク本体２の開口部周縁部２１を薄厚形状とせずに、これに取り付けられるカバー分割片３Ａの開口部２０側端部を基板Ｗの成膜面に向かって傾斜するように折り曲げてマスク開口部２０Ｐを形成した例を示している。 As described above, the cover split piece 3A attached to the opening peripheral portion 21 of the mask main body 2 forms the mask boundary portion 20P. Therefore, the opening peripheral portion 21 of the mask main body 2 is shown in FIGS. It can also be configured as follows.
The configuration example of FIG. 2B shows an example in which the opening 20 side end portion of the cover division piece 3A protrudes inward (opening 20) side from the opening peripheral edge portion 21 of the mask main body 2.
In the configuration example of FIG. 2C, the opening peripheral edge portion 21 of the mask body 2 is not made thin, and the end portion on the opening 20 side of the cover dividing piece 3A attached thereto is directed toward the film formation surface of the substrate W. In this example, the mask opening 20P is formed by being bent so as to be inclined.

以上のように構成される本実施の形態の成膜用マスク１１は、マスク本体２の表面全域に複数枚のカバー分割片３Ａ〜３Ｃを装着した状態で使用される。そして、スパッタ室等の成膜室に設置された基板Ｗの成膜面にマスク１１が対向配置され、このマスク１１を介して基板Ｗの成膜処理が行われる。これにより、マスク本体２の開口部２０を介して露出する基板Ｗの成膜領域に対して所定の成膜材料でなる薄膜が形成される。
なお、マスク１１は、基板Ｗの成膜面に直接載置されてもよいし、基板Ｗの周囲に別途設置されたマスク支持台（図示略）上に載置されてもよい。 The film formation mask 11 of the present embodiment configured as described above is used in a state where a plurality of cover division pieces 3 A to 3 C are attached to the entire surface of the mask body 2. Then, the mask 11 is disposed opposite to the film formation surface of the substrate W installed in the film formation chamber such as a sputtering chamber, and the film formation process of the substrate W is performed through the mask 11. Thereby, a thin film made of a predetermined film forming material is formed on the film forming region of the substrate W exposed through the opening 20 of the mask main body 2.
The mask 11 may be directly placed on the film formation surface of the substrate W, or may be placed on a mask support (not shown) separately provided around the substrate W.

さて、マスク１１の洗浄工程においては、成膜室からマスク１１を取り出した後、マスク本体２からカバー分割片３Ａ〜３Ｃが全て取り外される。ここで、取付具５の保持部材７がマスク本体２の裏面側に配置されているので、デポジション膜の付着量に関係なくカバー分割片３Ａ〜３Ｃをマスク本体２から容易に取り外すことができる。 In the cleaning process of the mask 11, the cover divided pieces 3 A to 3 C are all removed from the mask body 2 after the mask 11 is taken out from the film forming chamber. Here, since the holding member 7 of the fixture 5 is disposed on the back side of the mask main body 2, the cover split pieces 3 A to 3 C can be easily detached from the mask main body 2 regardless of the deposition amount of the deposition film. .

本実施の形態によれば、マスク本体２は、複数のカバー分割片３Ａ，３Ｂ，３Ｃの集合体でなるカバー部材３によって表面全域が被覆されているので、マスク本体２の表面に成膜材料のデポジション膜が直接付着することが防止され、マスク本体２の洗浄を不要あるは簡素化することが可能となる。これにより、マスク本体２のダメージを抑えて長寿命化が図られ、マスク精度（開口形状）の維持と耐久性向上が図れるようになる。 According to the present embodiment, the entire surface of the mask body 2 is covered with the cover member 3 that is an aggregate of a plurality of cover division pieces 3A, 3B, and 3C. It is possible to prevent the deposition film from adhering directly, and the mask body 2 can be cleaned or unnecessary. As a result, damage to the mask main body 2 can be suppressed and the life can be extended, and mask accuracy (opening shape) can be maintained and durability can be improved.

また、本実施の形態によれば、成膜材料に関係なくマスク本体２の構成材料を選定することができる。例えば、マスク本体２を軽量なアルミニウム系合金で構成した場合にも、カバー部材３を装着することによってアルミニウム金属の成膜処理にも使用することが可能となる。 Moreover, according to this Embodiment, the constituent material of the mask main body 2 can be selected irrespective of the film-forming material. For example, even when the mask body 2 is made of a lightweight aluminum-based alloy, the cover member 3 can be attached to be used for an aluminum metal film forming process.

この場合、カバー部材３としてアルミニウム板を用いた場合には、個々のカバー分割片３Ａ〜３Ｃに個片化した後、Ａｌスクラップとしてリサイクル材に供することができる。また、カバー部材３としてステンレス板を用いた場合には、個々のカバー分割片３Ａ〜３Ｃに個片化した後、アルカリ液等にてＡｌデポジション膜の洗浄除去を行った後、再使用することができる。 In this case, when an aluminum plate is used as the cover member 3, the cover member 3 is separated into individual cover divided pieces 3 A to 3 C and can be used as recycled material as Al scrap. Further, when a stainless steel plate is used as the cover member 3, it is separated into individual cover division pieces 3A to 3C, and the Al deposition film is washed and removed with an alkaline solution or the like and then reused. be able to.

更に、本実施の形態によれば、カバー部材３を複数のカバー分割片３Ａ〜３Ｃの集合体として構成したので、カバー部材３の洗浄処理を個々の分割片単位で行えるようになる。これにより洗浄槽の小型化、洗浄液の低減等、洗浄設備を簡素化して洗浄コストの低減を図ることができる。 Furthermore, according to the present embodiment, since the cover member 3 is configured as an assembly of the plurality of cover division pieces 3A to 3C, the cleaning process of the cover member 3 can be performed in units of individual division pieces. As a result, the cleaning equipment can be simplified and the cleaning cost can be reduced by reducing the size of the cleaning tank and reducing the cleaning liquid.

（第２の実施の形態）
図３Ａ，Ｂは、本発明の第２の実施の形態を示している。なお、図において上述の第１の実施の形態と対応する部分については同一の符号を付し、その詳細な説明は省略するものとする。 (Second Embodiment)
3A and 3B show a second embodiment of the present invention. In the figure, portions corresponding to those of the first embodiment described above are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

本実施の形態の成膜用マスク１２は、マスク本体２とカバー部材３とでなり、カバー部材３は、複数のカバー分割片３Ａ〜３Ｃの集合体で構成されている点で、上述の第１の実施の形態と同様な構成を有している。しかし本実施の形態では、カバー部材３で被覆するマスク本体２表面の領域が、上述の第１の実施の形態と異なっている。 The film-forming mask 12 of the present embodiment is composed of a mask body 2 and a cover member 3, and the cover member 3 is composed of an assembly of a plurality of cover division pieces 3 A to 3 C as described above. The configuration is the same as that of the first embodiment. However, in the present embodiment, the area of the surface of the mask main body 2 covered with the cover member 3 is different from that of the first embodiment.

即ち、本実施の形態の成膜用マスク１２は、デポジション膜の付着量が比較的多い部分にカバー部材３が設置されている。より具体的には、マスク本体２の外周部分と比較して開口部２０の周縁を含む内周部分の方がデポジション膜の付着量が多い場合には、この開口部２０の周縁を含むマスク本体２の内周部分にのみ、上述した構成のカバー部材３が設置されるようになっている。 That is, in the film forming mask 12 of the present embodiment, the cover member 3 is installed in a portion where the deposition amount of the deposition film is relatively large. More specifically, when the deposition amount of the deposition film is larger in the inner peripheral portion including the peripheral edge of the opening 20 than in the outer peripheral portion of the mask body 2, the mask including the peripheral edge of the opening 20. The cover member 3 having the above-described configuration is installed only on the inner peripheral portion of the main body 2.

本実施の形態によれば、カバー部材３による被覆領域が少ない分、カバー分割片３Ａ〜３Ｃの取付枚数を削減できるので、カバー部材３の取付け及び取り外し作業数の低減を図ることができ、生産性の向上を図ることができるようになる。 According to the present embodiment, since the number of cover dividing pieces 3A to 3C can be reduced by the amount of the covering area by the cover member 3, the number of attaching and removing operations of the cover member 3 can be reduced, and the production can be reduced. It becomes possible to improve the performance.

（第３の実施の形態）
図４Ａ，Ｂは、本発明の第３の実施の形態を示している。なお、図において上述の第１の実施の形態と対応する部分については同一の符号を付し、その詳細な説明は省略するものとする。 (Third embodiment)
4A and 4B show a third embodiment of the present invention. In the figure, portions corresponding to those of the first embodiment described above are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

本実施の形態の成膜用マスク１３は、マスク本体２とその表面全域を被覆するカバー部材３とでなり、カバー部材３は、複数のカバー分割片３Ａ〜３Ｃの集合体で構成されている点で、上述の第１の実施の形態と同様な構成を有している。しかし本実施の形態では、カバー部材３を形成するカバー分割片のうち、マスク本体２の開口部周縁部２１に取り付けられるカバー分割片３Ａの各々が、開口部２０の辺単位で一体化されている点で、上述の第１の実施の形態と異なっている。 The film formation mask 13 of the present embodiment includes a mask main body 2 and a cover member 3 that covers the entire surface thereof, and the cover member 3 is configured by an assembly of a plurality of cover division pieces 3A to 3C. In this respect, it has the same configuration as that of the first embodiment described above. However, in the present embodiment, among the cover divided pieces forming the cover member 3, each of the cover divided pieces 3 A attached to the peripheral edge 21 of the opening of the mask body 2 is integrated in units of sides of the opening 20. This is different from the first embodiment described above.

上述のように、カバー分割片３Ａの開口部側端部３１は、基板Ｗの成膜領域を区画するマスク境界部２０Ｐを形成する。しかし、これらカバー分割片３Ａの各々が個々に独立していると、マスク本体２への取付精度によって上記マスク境界部２０Ｐの位置精度にバラツキが生じ易くなる。 As described above, the opening-side end portion 31 of the cover split piece 3A forms the mask boundary portion 20P that partitions the film formation region of the substrate W. However, if each of the cover division pieces 3A is individually independent, the positional accuracy of the mask boundary portion 20P is likely to vary due to the accuracy of attachment to the mask body 2.

そこで本実施の形態では、開口部２０の開口形状に対応して、開口部２０の一辺単位でカバー分割片３Ａを一体化し、マスク本体２に対する取付精度をバラツキを低減するようにしている。 Therefore, in the present embodiment, the cover divided pieces 3A are integrated in units of one side of the opening 20 in accordance with the opening shape of the opening 20, so that the mounting accuracy with respect to the mask body 2 is reduced.

本実施の形態によれば、カバー部材３によるマスク境界部２０Ｐの位置精度の向上が図ることができ、マスク精度を高めることができる。また、開口部周縁部２１に対するカバー分割片３Ａの取付け及び取り外し工数の低減が図れるようになり、作業性を改善することができる。 According to the present embodiment, it is possible to improve the positional accuracy of the mask boundary portion 20P by the cover member 3, and it is possible to increase the mask accuracy. In addition, it is possible to reduce the man-hours for attaching and removing the cover split piece 3A to the peripheral edge portion 21 of the opening, thereby improving workability.

（第４の実施の形態）
上述の各実施の形態では、カバー部材３を形成する複数のカバー分割片３Ａ〜３Ｃをマスク本体２の表面上で隙間なく配置することによって、マスク本体２へのデポジション膜の付着を阻止していた。しかし、各カバー分割片の加工精度等の原因により、これらを隙間なく配置することが困難な場合がある。 (Fourth embodiment)
In each of the above-described embodiments, the plurality of cover division pieces 3 A to 3 C forming the cover member 3 are arranged on the surface of the mask body 2 without any gaps, thereby preventing deposition film from adhering to the mask body 2. It was. However, it may be difficult to arrange them without a gap due to the processing accuracy of the cover divided pieces.

そこで本実施の形態では、図５に示すように、各カバー分割片３Ａ，３Ｂの側端部に、隣接する分割片どうしが互いに係合する係合凸部３２及び係合凹部３３をそれぞれ設け、これら分割片どうしが部分的に重なり合ってマスク本体２を被覆するようにしている。これら係合凸部３２及び係合凹部３３は本発明の「オーバーラップ部」を構成し、その係合量は特に制限されず、比較的遊度を保ってマスク本体２上に取り付けられるようにしてもよい。 Therefore, in the present embodiment, as shown in FIG. 5, an engagement convex portion 32 and an engagement concave portion 33 in which adjacent divided pieces engage with each other are provided at the side end portions of the cover divided pieces 3A and 3B, respectively. These divided pieces are partially overlapped to cover the mask body 2. The engagement convex portion 32 and the engagement concave portion 33 constitute the “overlap portion” of the present invention, and the amount of engagement is not particularly limited, and the engagement convex portion 32 and the engagement concave portion 33 can be mounted on the mask main body 2 with a relatively high degree of play. May be.

これにより、本実施の形態によれば、カバー分割片３Ａ，３Ｂの加工精度あるいは寸法精度の影響を受けずに、マスク本体２の所定領域を隙間なく被覆することができるようになり、マスク本体２の保護を図れるとともに、各分割片の取付精度をも緩和でき、作業性の向上を図ることができる。 Thus, according to the present embodiment, it becomes possible to cover the predetermined area of the mask body 2 without any gap without being affected by the processing accuracy or dimensional accuracy of the cover split pieces 3A and 3B. 2 can be protected, the mounting accuracy of each divided piece can be relaxed, and workability can be improved.

また、カバー分割片の少なくとも一部の表面に***部３４を形成して、付着したデポジション膜を剥離し難くしパーティクルの発生要因を低減する実施形態において、上記オーバーラップ部によって形成される隙間Ｇ１，Ｇ２によって、***部３４と同様、カバー部材３の表面を凹凸化させる機能が得られることになる。これにより、本実施の形態によれば、***部３４の単独形成に比べて、デポジション膜の剥離を阻止できる膜厚量を大きくでき、メンテナンスサイクルの長期化を図れるようになる。 Further, in the embodiment in which the raised portion 34 is formed on at least a part of the surface of the cover split piece to make it difficult to peel off the deposited film and reduce the generation factor of the particles, the gap formed by the overlap portion The function of making the surface of the cover member 3 uneven is obtained by G1 and G2, like the raised portion. Thereby, according to this Embodiment, compared with single formation of the protruding part 34, the film thickness quantity which can prevent peeling of a deposition film can be enlarged, and a maintenance cycle can be lengthened now.

同様な考え方で、例えば図６に示すように、カバー分割片３Ａ，３Ｂのオーバーラップ部を傾斜部３５で構成しても、上述と同様な効果を得ることができる。カバー分割片３Ａ，３Ｂの重なり量は、傾斜部３５の形成角、カバー分割片の板厚、配置間隔等により適宜調整することができる。また、傾斜部３５は図示するテーパー状に限らず、階段状としてもよい。 With the same concept, for example, as shown in FIG. 6, the same effect as described above can be obtained even if the overlap portion of the cover split pieces 3 A and 3 B is configured by the inclined portion 35. The overlapping amount of the cover divided pieces 3A and 3B can be adjusted as appropriate depending on the forming angle of the inclined portion 35, the plate thickness of the cover divided pieces, the arrangement interval, and the like. Further, the inclined portion 35 is not limited to the tapered shape shown in the figure, and may be a stepped shape.

（第５の実施の形態）
上述のように、マスク本体２の開口部２０の周縁領域に取り付けられるカバー分割片３Ａは、基板Ｗの成膜領域を区画するマスク境界部２０Ｐを形成する。このマスク境界部２０Ｐは成膜用マスクのマスク精度に直結し、マスク本体２に対するカバー分割片３Ａの取付精度に大きく依存する。そこで本実施の形態では、図７及び図８に示すマスク組立治具４０を用いてカバー分割片３Ａをマスク本体２に高精度に組み付けるようにしている。 (Fifth embodiment)
As described above, the cover division piece 3 A attached to the peripheral region of the opening 20 of the mask body 2 forms the mask boundary 20 P that partitions the film formation region of the substrate W. The mask boundary portion 20P is directly connected to the mask accuracy of the film forming mask, and greatly depends on the mounting accuracy of the cover division piece 3A with respect to the mask main body 2. Therefore, in the present embodiment, the cover division piece 3A is assembled to the mask body 2 with high accuracy using the mask assembly jig 40 shown in FIGS.

マスク組立治具４０は、マスク本体２が設置されるマスク設置部４１と、このマスク設置部４１の内方側に形成された位置決め凸部４２と、これらマスク設置部４１と位置決め凸部４２との間に形成された環状凹所４３とを備えている。 The mask assembly jig 40 includes a mask installation portion 41 on which the mask main body 2 is installed, a positioning projection 42 formed on the inner side of the mask installation portion 41, the mask installation portion 41 and the positioning projection 42. And an annular recess 43 formed therebetween.

マスク設置部４１は、マスク本体２と略同一の外形形状を有している。このマスク設置部４１には、マスク本体２との相対的位置関係を保持する位置決め機構（図示略）が設けられていてもよい。 The mask installation part 41 has substantially the same outer shape as the mask main body 2. The mask installation portion 41 may be provided with a positioning mechanism (not shown) that maintains a relative positional relationship with the mask main body 2.

位置決め凸部４２は、マスク設置部４１にマスク本体２が設置された際、マスク本体２の開口部２０を貫通する高さとされ、その平面形状は、基板Ｗの成膜領域に対応する形状に一致している。そして、マスク設置部４１に設置されたマスク本体２の開口部周縁領域にカバー分割片３Ａを取り付ける際、位置決め凸部４２の側周部に当該カバー分割片３Ａの端部を当接させて、マスク本体２に対する位置決めをなすようにしている。 The positioning convex portion 42 has a height that penetrates the opening 20 of the mask main body 2 when the mask main body 2 is installed on the mask installation portion 41, and the planar shape thereof corresponds to the film formation region of the substrate W. Match. Then, when attaching the cover split piece 3A to the peripheral edge region of the opening of the mask main body 2 installed in the mask installation portion 41, the end of the cover split piece 3A is brought into contact with the side peripheral portion of the positioning convex portion 42, Positioning with respect to the mask body 2 is performed.

以上のように構成されるマスク組立治具４０を用いて本発明の成膜用マスクを組み立てるようにすれば、開口部周縁領域に取り付けられるカバー分割片３Ａの所望の取付精度を確保することができ、高品質のマスクを容易に作製することができるようになる。 By assembling the film forming mask of the present invention using the mask assembling jig 40 configured as described above, it is possible to ensure the desired mounting accuracy of the cover split piece 3A attached to the peripheral area of the opening. And a high-quality mask can be easily manufactured.

以上、本発明の各実施の形態について説明したが、勿論、本発明はこれらに限定されることなく、本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。 As mentioned above, although each embodiment of this invention was described, of course, this invention is not limited to these, A various deformation | transformation is possible based on the technical idea of this invention.

例えば以上の実施の形態では、マスク本体２の開口部２０の形状を四角形状としたが、勿論これに限られず、他の幾何学的形状を呈していてもよい。また、開口部２０は単一に限らず、複数形成されていてもよい。 For example, in the above embodiment, the shape of the opening 20 of the mask main body 2 is a square shape. However, the shape is not limited to this, and may have another geometric shape. Moreover, the opening part 20 is not restricted to single, and two or more may be formed.

また、成膜室はスパッタ室に限らず、ＣＶＤ装置等の他の成膜装置が適用可能である。また、マスクを要する成膜以外の他の用途、例えばイオン注入やドライエッチング等の真空処理にも、本発明は適用可能である。 Further, the film formation chamber is not limited to the sputtering chamber, and other film formation apparatuses such as a CVD apparatus can be applied. The present invention can also be applied to other uses other than film formation that requires a mask, for example, vacuum processing such as ion implantation and dry etching.

更に、以上の実施の形態では、マスク本体２に対するカバー分割片３Ａ〜３Ｃの装着に取付具５を用いたが、この取付具の構成は各種変更可能である。また、成膜等の真空処理に影響を及ぼさない限りにおいて、マスク本体とカバー分割片との一体化機構にマグネット等を用いることも可能である。 Furthermore, in the above embodiment, the fixture 5 is used for mounting the cover split pieces 3A to 3C to the mask body 2, but the configuration of this fixture can be variously changed. In addition, a magnet or the like can be used for an integrated mechanism of the mask body and the cover split piece as long as the vacuum processing such as film formation is not affected.

２マスク本体
３カバー部材
３Ａ，３Ｂ，３Ｃカバー分割片
５取付具
６軸部材
７保持部材
１０凹所
１１，１２，１３成膜用マスク
２０開口部
２１マスク本体の開口部周縁部
３１カバー分割片の開口部に臨む側の端部
３２係合凸部
３３係合凹所
３４ ***部
３５傾斜部
４０マスク組立治具
４１マスク設置部
４２位置決め凸部
４３環状凹所
Ｗ基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 2 Mask main body 3 Cover member 3A, 3B, 3C Cover division | segmentation piece 5 Attaching tool 6 Shaft member 7 Holding member 10 Recess 11, 12, 13 Film-forming mask 20 Opening part 21 Opening peripheral part of mask main body 31 Cover division | segmentation piece 32 on the side facing the opening part 32 engaging convex part 33 engaging concave part 34 raised part 35 inclined part 40 mask assembly jig 41 mask installation part 42 positioning convex part 43 annular concave part W substrate

Claims

基板の成膜面に対向配置され成膜領域を制限する一つの開口部が形成されたマスク本体と、
このマスク本体の表面の開口部の外側を被覆するカバー部材とを備え、
前記カバー部材は、前記マスク本体に対して着脱自在に取り付けられた複数のカバー分割片の集合体でなることを特徴とする成膜用マスク。 A mask body that is disposed opposite the film formation surface of the substrate and has a single opening that restricts the film formation region;
A cover member covering the outside of the opening on the surface of the mask body,
The film forming mask according to claim 1, wherein the cover member is an aggregate of a plurality of cover division pieces that are detachably attached to the mask main body.

前記マスク本体は、前記基板の周縁部への成膜を制限する
請求項１に記載の成膜用マスク。 The film formation mask according to claim 1, wherein the mask body restricts film formation on a peripheral portion of the substrate.

前記マスク本体に対して前記カバー分割片の装着状態を保持する保持部材が、前記マスク本体の前記基板側に配置されている請求項１に記載の成膜用マスク。 The film-forming mask according to claim 1, wherein a holding member that holds the mounting state of the cover split piece on the mask body is disposed on the substrate side of the mask body.

前記カバー部材は、少なくとも、前記マスク本体の開口部周縁領域に取り付けられている請求項１に記載の成膜用マスク。 The film-forming mask according to claim 1, wherein the cover member is attached at least to a peripheral region of the opening of the mask body.

前記開口部の周縁領域に取り付けられているカバー分割片の各々は、基板の成膜面に向かって傾斜して取り付けられている請求項１に記載の成膜用マスク。 2. The film formation mask according to claim 1, wherein each of the cover division pieces attached to the peripheral region of the opening is attached to be inclined toward the film formation surface of the substrate.

前記開口部の周縁領域に取り付けられているカバー分割片の各々は、前記開口部に臨む側の端部の厚さが漸次小さくなるように形成されている請求項１に記載の成膜用マスク。 2. The film-forming mask according to claim 1, wherein each of the cover division pieces attached to the peripheral region of the opening is formed such that the thickness of the end on the side facing the opening gradually decreases. .

前記マスク本体の開口部周縁領域は、厚さが漸次小さくなるように形成されている請求項１に記載の成膜用マスク。 The film formation mask according to claim 1, wherein the peripheral edge region of the opening of the mask body is formed so that the thickness gradually decreases.

前記開口部の周縁領域に取り付けられているカバー分割片の各々は、前記開口部に臨む側の端部が前記マスク本体の開口部周縁よりも内方側に突出している請求項１に記載の成膜用マスク。 2. Each of the cover split pieces attached to the peripheral area of the opening portion has an end portion facing the opening portion protruding inward from the opening peripheral edge of the mask body. Mask for film formation.

前記開口部の周縁領域に取り付けられているカバー分割片の各々は、前記開口部の辺単位で一体化されている請求項１に記載の成膜用マスク。 The film-forming mask according to claim 1, wherein each of the cover division pieces attached to the peripheral area of the opening is integrated in units of sides of the opening.

前記カバー分割片の各々には、隣接するカバー分割片どうしが互いに重なり合うオーバーラップ部を有している請求項１に記載の成膜用マスク。 The film-forming mask according to claim 1, wherein each of the cover divided pieces has an overlap portion where adjacent cover divided pieces overlap each other.

前記カバー部材は、前記マスク本体よりも、成膜材料と熱膨張係数が近い材料で形成されている請求項１に記載の成膜用マスク。 The film forming mask according to claim 1, wherein the cover member is formed of a material having a thermal expansion coefficient closer to that of the film forming material than the mask main body.

前記カバー部材は、表面に凹凸形状を有する請求項１に記載の成膜用マスク。 The film forming mask according to claim 1, wherein the cover member has an uneven shape on a surface thereof.

基板の成膜面に対向配置され成膜領域を制限する一つの開口部が形成されたマスク本体と、
このマスク本体の表面を被覆するカバー部材とを備え、
前記カバー部材は、前記マスク本体に対して着脱自在に取り付けられた複数のカバー分割片の集合体でなり、
前記カバー分割片を前記マスク本体から取り外して洗浄する
成膜用マスクの洗浄方法。 A mask body that is disposed opposite the film formation surface of the substrate and has a single opening that restricts the film formation region;
A cover member covering the surface of the mask body,
The cover member is an assembly of a plurality of cover division pieces that are detachably attached to the mask body,
A method of cleaning a film-forming mask, wherein the cover split piece is removed from the mask body and cleaned.