JP2011155086A - Conductor pattern precursor, conductor pattern, substrate with the conductor pattern precursor, wiring board, and method for manufacturing the wiring board - Google Patents

Conductor pattern precursor, conductor pattern, substrate with the conductor pattern precursor, wiring board, and method for manufacturing the wiring board Download PDF

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Toshiyuki Kobayashi
敏之 小林
Naoyuki Toyoda
直之 豊田
佳和 ▲濱▼
Yoshikazu Hama
Kentaro Tanabe
健太郎 田邉
Masaya Shibatani
正也 柴谷
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductor pattern precursor, capable of forming a highly reliable conductor pattern the disconnection of which is prevented, a substrate with a conductor pattern precursor including the conductor pattern, a high-reliability conductor pattern formed of the conductor pattern precursor, a highly reliable wiring board including the conductor pattern, and a method for manufacturing a wiring board capable of manufacturing a high-reliability wiring board. <P>SOLUTION: The conductor pattern forming ink is a conductor pattern precursor formed by ejecting a conductor pattern forming ink using a liquid droplet ejection method, wherein the conductor pattern forming ink contains metal particles and a dispersion medium containing the metal particles dispersed therein, and the conductor pattern precursor has a pad film serving as a pad, when the conductor pattern precursor is formed into a conductor pattern, wherein the thickness of the center part of the pad film is smaller than that of the peripheral part. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、導体パターン前駆体、導体パターン、導体パターン前駆体付基板、配線基板および配線基板の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a conductor pattern precursor, a conductor pattern, a substrate with a conductor pattern precursor, a wiring board, and a method for manufacturing the wiring board.

電子回路または集積回路などに使われる配線の製造には、例えばフォトリソグラフィ法が用いられている。このフォトリソグラフィ法は、予め導電膜を塗布した基板上にレジストと呼ばれる感光材を塗布し、回路パターンを照射して現像し、レジストパターンに応じて導電膜をエッチングすることで導体パターンからなる配線を形成するものである。このフォトリソグラフィ法は真空装置などの大掛かりな設備と複雑な工程を必要とし、また材料使用効率も数%程度でそのほとんどを廃棄せざるを得ず、製造コストが高い。   For example, a photolithography method is used for manufacturing a wiring used for an electronic circuit or an integrated circuit. In this photolithography method, a photosensitive material called a resist is coated on a substrate coated with a conductive film in advance, a circuit pattern is irradiated and developed, and the conductive film is etched according to the resist pattern, thereby forming a wiring made of a conductor pattern. Is formed. This photolithography method requires large-scale equipment such as a vacuum apparatus and a complicated process, and the material use efficiency is about several percent, and most of it must be discarded, and the manufacturing cost is high.

これに対して、液体吐出ヘッドから液体材料を液滴状に吐出する液滴吐出法、いわゆるインクジェット法を用いて導体パターン(配線)を形成する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。この方法では、導電性微粒子を分散させた導体パターン形成用インクを基板に直接パターン塗布し、その後、溶媒を除去して導体パターン前駆体を得、焼結させることにより導体パターンに変換する。この方法によれば、フォトリソグラフィが不要となり、プロセスが大幅に簡単なものになるとともに、原材料の使用量も少なくてすむというメリットがある。また、この方法によれば、従来の方法と比較して、微細な導体パターンを形成することが可能であり、製造される回路の回路密度の向上に有利である。
しかしながら、このような導体パターン前駆体においては、液滴吐出法で形成されるため、導体パターン前駆体の膜の部位毎における厚さにむらが生じやすく、この結果、導体パターン前駆体を備える基材同士を積層して積層体を得た際に、積層体内で応力ひずみが生じ、この結果、得られる回路、配線で断線等が生じやすくなる問題があった。
On the other hand, a method of forming a conductor pattern (wiring) by using a droplet discharge method in which a liquid material is discharged from a liquid discharge head in the form of droplets, a so-called inkjet method has been proposed (for example, see Patent Document 1). ). In this method, a conductive pattern forming ink in which conductive fine particles are dispersed is directly applied to a substrate, and then the solvent is removed to obtain a conductive pattern precursor, which is then converted into a conductive pattern by sintering. According to this method, there is an advantage that photolithography is not required, the process is greatly simplified, and the amount of raw materials used is reduced. In addition, according to this method, it is possible to form a fine conductor pattern as compared with the conventional method, which is advantageous in improving the circuit density of the manufactured circuit.
However, since such a conductor pattern precursor is formed by a droplet discharge method, the thickness of each conductor pattern precursor film tends to be uneven. When a laminate is obtained by laminating materials, stress strain occurs in the laminate, and as a result, there is a problem that disconnection or the like is likely to occur in the obtained circuit and wiring.

特開2007−84387号公報JP 2007-84387 A

本発明の目的は、断線が防止された信頼性の高い導体パターンを形成することのできる導体パターン前駆体、該導体パターンを備えた導体パターン前駆体付基板、該導体パターン前駆体によって形成される信頼性の高い導体パターン、該導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板および、信頼性の高い配線基板を製造することのできる配線基板の製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is formed by a conductor pattern precursor capable of forming a highly reliable conductor pattern in which disconnection is prevented, a substrate with a conductor pattern precursor provided with the conductor pattern, and the conductor pattern precursor. An object is to provide a highly reliable conductor pattern, a highly reliable wiring board provided with the conductor pattern, and a method of manufacturing a wiring board capable of manufacturing a highly reliable wiring board.

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の導体パターン前駆体は、金属粒子と前記金属粒子が分散する分散媒とを含む導体パターン形成用インクを液滴吐出法により吐出して形成される導体パターン前駆体であって、
導体パターンとしたときにパッドとなるパッド膜を有し、
前記パッド膜は、その中央部の厚さがその周縁部の厚さより小さいものであることを特徴とする。
これにより、断線が防止された、信頼性の高い導体パターン前駆体を提供することができる。
Such an object is achieved by the present invention described below.
The conductor pattern precursor of the present invention is a conductor pattern precursor formed by discharging a conductive pattern forming ink containing metal particles and a dispersion medium in which the metal particles are dispersed by a droplet discharge method,
It has a pad film that becomes a pad when it is a conductor pattern,
The pad film is characterized in that the thickness of the central part is smaller than the thickness of the peripheral part.
Thereby, a highly reliable conductor pattern precursor in which disconnection is prevented can be provided.

本発明の導体パターン前駆体では、前記パッド膜は、その中央部が厚さの最小値となる凹状をなすことが好ましい。
このような形状は、周縁部が中央部よりも厚くなることができるものである。
本発明の導体パターン前駆体では、前記パッド膜の厚さの最大値をdMAX[μm]、前記パッド膜の平均厚さをd[μm]としたとき、1.00≦dMAX/d≦1.43の関係を満足することが好ましい。
これにより、パッド膜をより平坦とすることができ、このような導体パターン前駆体を用いて形成される導体パターンは、断線がより好適に防止され、信頼性のより高いものとなる。
In the conductor pattern precursor of the present invention, it is preferable that the pad film has a concave shape with a central portion having a minimum thickness.
Such a shape allows the peripheral edge portion to be thicker than the central portion.
In the conductor pattern precursor of the present invention, when the maximum thickness of the pad film is d MAX [μm] and the average thickness of the pad film is d P [μm], 1.00 ≦ d MAX / d It is preferable to satisfy the relationship of P ≦ 1.43.
Thereby, the pad film can be made flatter, and the conductor pattern formed using such a conductor pattern precursor is more preferably prevented from disconnection and more reliable.

本発明の導体パターン前駆体では、さらに、前記パッド膜と接するようにして形成され、前記導体パターンとしたときに配線となる配線膜を有し、
前記配線膜の平均厚さよりも、前記パッド膜の平均厚さが小さいものであることが好ましい。
これにより、形成される導体パターンにおいて、断線がより確実に防止される。
In the conductor pattern precursor of the present invention, the conductor pattern precursor is further formed so as to be in contact with the pad film, and has a wiring film that becomes wiring when the conductor pattern is formed,
The average thickness of the pad film is preferably smaller than the average thickness of the wiring film.
Thereby, disconnection is more reliably prevented in the formed conductor pattern.

本発明の導体パターン前駆体では、前記配線膜の平均厚さをd[μm]、前記パッド膜の平均厚さをd[μm]としたとき、0.8≦d/d≦1.3の関係を満足することが好ましい。
これにより、形成される配線とパッドとの間での断線をより確実に防止でき、この結果、形成される導体パターンはより信頼性の高いものとなる。
In the conductor pattern precursor of the present invention, when the average thickness of the wiring film is d W [μm] and the average thickness of the pad film is d P [μm], 0.8 ≦ d P / d W ≦ It is preferable to satisfy the relationship of 1.3.
Thereby, the disconnection between the formed wiring and the pad can be prevented more reliably, and as a result, the formed conductor pattern becomes more reliable.

本発明の導体パターン前駆体付基板は、本発明の導体パターン前駆体を備えることを特徴とする。
これにより、断線が防止された信頼性の高い導体パターンを形成することのできる導体パターン前駆体を備えた、導体パターン前駆体付基板を提供することができる。
本発明の導体パターンは、本発明の導体パターン前駆体を用いて形成されたことを特徴とする。
これにより、断線が防止された、信頼性の高い導体パターンを提供することができる。
本発明の配線基板は、本発明の導体パターンを有すること特徴とする。
これにより、信頼性の高い配線基板を提供することができる。
The board | substrate with a conductor pattern precursor of this invention is equipped with the conductor pattern precursor of this invention, It is characterized by the above-mentioned.
Thereby, the board | substrate with a conductor pattern precursor provided with the conductor pattern precursor which can form the reliable conductor pattern by which disconnection was prevented can be provided.
The conductor pattern of the present invention is formed using the conductor pattern precursor of the present invention.
Thereby, a highly reliable conductor pattern in which disconnection is prevented can be provided.
The wiring board of the present invention has the conductor pattern of the present invention.
Thereby, a highly reliable wiring board can be provided.

本発明の配線基板の製造方法は、シート状の基板を複数準備する工程と、
前記基板のうち少なくとも1つの表面上に、金属粒子と前記金属粒子が分散する分散媒とを含む導体パターン形成用インクを液滴吐出法により吐出して、導体パターン前駆体を形成する工程と、
複数の前記基板を積層して積層体を得る工程と、
前記積層体を焼結して、導体パターンおよび基板とを有する配線基板を得る工程とを有し、
前記導体パターン前駆体は、導体パターンとしたときにパッドとなるパッド膜を有し、
前記パッド膜は、その中央部の厚さがその周縁部の厚さより小さいものであり、
前記基板のうち少なくとも1つには、少なくとも1つの貫通孔が設けられており、かつ、前記貫通孔は、導電性を有し、その表面が凸状をなすコンタクトまたはその前駆体が充填されており、
前記基板の積層時において、前記コンタクトまたはその前駆体は、凸状をなす部位が前記パッド膜と接触するように配置されることを特徴とする。
これにより、導体パターンの接続不良および断線が防止された、信頼性の高い配線基板を製造することのできる配線基板の製造方法を提供することができる。
The method for manufacturing a wiring board of the present invention includes a step of preparing a plurality of sheet-like substrates,
Discharging a conductive pattern forming ink containing metal particles and a dispersion medium in which the metal particles are dispersed on at least one surface of the substrate by a droplet discharge method to form a conductive pattern precursor;
Laminating a plurality of the substrates to obtain a laminate;
Sintering the laminate and obtaining a wiring substrate having a conductor pattern and a substrate,
The conductor pattern precursor has a pad film that becomes a pad when a conductor pattern is formed;
The pad film has a thickness at the center part smaller than the thickness at the peripheral part,
At least one through-hole is provided in at least one of the substrates, and the through-hole is filled with a conductive contact or a precursor having a convex surface. And
When the substrate is stacked, the contact or its precursor is disposed such that a convex portion is in contact with the pad film.
Thereby, the manufacturing method of the wiring board which can manufacture the wiring board with high reliability in which the connection defect and disconnection of the conductor pattern were prevented can be provided.

本発明の導体パターン前駆体の好適な実施形態の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of suitable embodiment of the conductor pattern precursor of this invention. 図1に示す導体パターン前駆体のA−A線断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA of the conductor pattern precursor shown in FIG. 1. 本発明の配線基板(セラミックス回路基板)の好適な実施形態の一例を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows an example of suitable embodiment of the wiring board (ceramics circuit board) of this invention. 図3に示す配線基板(セラミックス回路基板)の製造方法の概略の工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the outline process of the manufacturing method of the wiring board (ceramics circuit board) shown in FIG. 図3の配線基板(セラミックス回路基板)の製造工程説明図である。It is manufacturing process explanatory drawing of the wiring board (ceramics circuit board) of FIG. インクジェット装置の概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows schematic structure of an inkjet apparatus. インクジェットヘッドの概略構成を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating schematic structure of an inkjet head.

以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
図1は、本発明の導体パターン前駆体の好適な実施形態の一例を示す平面図、図2は、図1に示す導体パターン前駆体のA−A線断面図、図3は、本発明の配線基板(セラミックス回路基板)の好適な実施形態の一例を示す縦断面図、図4は、図3に示す配線基板(セラミックス回路基板)の製造方法の概略の工程を示す説明図、図5は、図3の配線基板(セラミックス回路基板)の製造工程説明図、図6は、インクジェット装置(液滴吐出装置)の概略構成を示す斜視図、図7は、インクジェットヘッド(液滴吐出ヘッド)の概略構成を説明するための模式図である。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.
FIG. 1 is a plan view showing an example of a preferred embodiment of a conductor pattern precursor of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of the conductor pattern precursor shown in FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing an example of a preferred embodiment of a wiring board (ceramic circuit board), FIG. 4 is an explanatory view showing a schematic process of the method for manufacturing the wiring board (ceramic circuit board) shown in FIG. 3, and FIG. FIG. 6 is an explanatory diagram of a manufacturing process of the wiring board (ceramic circuit board) in FIG. 3, FIG. 6 is a perspective view showing a schematic configuration of the ink jet apparatus (droplet discharge apparatus), and FIG. It is a schematic diagram for demonstrating schematic structure.

《導体パターン形成用インク》
まず、本発明の説明に先立ち、本発明の導体パターン前駆体の形成に用いられる導体パターン形成用インク(インク)について説明する。
導体パターン形成用インクは、液滴吐出法によって基板上に導体パターン前駆体を形成するのに用いるインクである。
<Conductor pattern forming ink>
First, prior to the description of the present invention, the conductive pattern forming ink (ink) used for forming the conductive pattern precursor of the present invention will be described.
The conductor pattern forming ink is ink used to form a conductor pattern precursor on a substrate by a droplet discharge method.

なお、本実施形態では、金属粒子を水系分散媒に分散してなる分散液として、銀粒子が分散した分散液を用いた場合について代表的に説明する。また、基板としては、セラミックス材料とバインダーとを含んで構成されたシート状のセラミックス成形体(セラミックスグリーンシート)を用いることとして説明する。   In this embodiment, a case where a dispersion liquid in which silver particles are dispersed is used as a dispersion liquid in which metal particles are dispersed in an aqueous dispersion medium. Moreover, as a board | substrate, it demonstrates as using the sheet-like ceramic molded object (ceramic green sheet) comprised including the ceramic material and the binder.

以下、導体パターン形成用インクの各構成成分について詳細に説明する。
[水系分散媒]
まず、水系分散媒について説明する。
本発明において、「水系分散媒」とは、水および/または水との相溶性に優れる液体(例えば、25℃における水100gに対する溶解度が30g以上の液体)で構成されたもののことを指す。このように、水系分散媒は、水および/または水との相溶性に優れる液体で構成されたものであるが、主として水で構成されたものであるのが好ましく、特に、水の含有率が70wt%以上のものであるのが好ましく、90wt%以上のものであるのがより好ましい。
Hereinafter, each component of the conductor pattern forming ink will be described in detail.
[Aqueous dispersion medium]
First, the aqueous dispersion medium will be described.
In the present invention, the “aqueous dispersion medium” refers to a liquid composed of water and / or a liquid having excellent compatibility with water (for example, a liquid having a solubility in 100 g of water at 25 ° C. of 30 g or more). As described above, the aqueous dispersion medium is composed of water and / or a liquid having excellent compatibility with water, but is preferably composed mainly of water. It is preferably 70 wt% or more, more preferably 90 wt% or more.

水系分散媒の具体例としては、例えば、水、メタノール、エタノール、ブタノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)等のエーテル系溶媒、ピリジン、ピラジン、ピロール等の芳香族複素環化合物系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMA)等のアミド系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、アセトアルデヒド等のアルデヒド系溶媒等が挙げられ、これらのうち、1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
また、導体パターン形成用インク中における水系分散媒の含有量は、25wt%以上60wt%以下であることが好ましく、30wt%以上50wt%以下であることがより好ましい。これにより、インクの粘度を好適なものとしつつ、分散媒の揮発による粘度の変化を少ないものとすることができる。
Specific examples of the aqueous dispersion medium include, for example, water, methanol, ethanol, butanol, propanol, isopropanol and other alcohol solvents, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran (THF) and other ether solvents, pyridine, pyrazine, pyrrole and the like. Aromatic heterocyclic compound solvents, amide solvents such as N, N-dimethylformamide (DMF) and N, N-dimethylacetamide (DMA), nitrile solvents such as acetonitrile, and aldehyde solvents such as acetaldehyde. Of these, one or a combination of two or more can be used.
Further, the content of the aqueous dispersion medium in the conductor pattern forming ink is preferably 25 wt% or more and 60 wt% or less, and more preferably 30 wt% or more and 50 wt% or less. Thereby, while making the viscosity of an ink suitable, the change of the viscosity by volatilization of a dispersion medium can be made small.

[銀粒子]
次に、銀粒子(金属粒子)について説明する。
銀粒子は、形成される導体パターンの主成分であり、導体パターンに導電性を付与する成分である。
また、銀粒子は、インク中において分散している。
[Silver particles]
Next, silver particles (metal particles) will be described.
Silver particles are the main component of the conductor pattern to be formed, and are components that impart conductivity to the conductor pattern.
The silver particles are dispersed in the ink.

銀粒子の平均粒径は、1nm以上100nm以下であるのが好ましく、10nm以上30nm以下であるのがより好ましい。これにより、インクの吐出安定性をより高いものとすることができるとともに、微細な導体パターンを容易に形成することができる。なお、本明細書では、「平均粒径」とは、特に断りのない限り、体積基準の平均粒径のことを指すものとする。   The average particle diameter of the silver particles is preferably 1 nm or more and 100 nm or less, and more preferably 10 nm or more and 30 nm or less. As a result, the ink ejection stability can be further improved, and a fine conductor pattern can be easily formed. In the present specification, the “average particle size” means a volume-based average particle size unless otherwise specified.

また、インク中において、銀粒子の平均粒子間距離は、1.7nm以上380nm以下であるのが好ましく、1.75nm以上300nm以下であるのがより好ましい。これにより、導体パターン形成用インクの粘度をより適度なものとすることができ、吐出安定性に特に優れたものとなる。
また、インク中に含まれる銀粒子(分散剤が表面に吸着していない銀粒子(金属粒子))の含有量は、0.5wt%以上60wt%以下であるのが好ましく、10wt%以上45wt%以下であるのがより好ましい。これにより、導体パターンの断線をより効果的に防止することができ、より信頼性の高い導体パターンを提供することができる。
また、銀粒子(金属粒子)は、その表面に分散剤が付着した銀コロイド粒子(金属コロイド粒子)として、水系分散媒中に分散していることが好ましい。これにより、銀粒子の水系分散媒への分散性が特に優れたものとなり、インクの吐出安定性が特に優れたものとなる。
In the ink, the average distance between silver particles is preferably 1.7 nm or more and 380 nm or less, and more preferably 1.75 nm or more and 300 nm or less. Thereby, the viscosity of the conductor pattern forming ink can be made more appropriate, and the discharge stability is particularly excellent.
Further, the content of silver particles (silver particles (metal particles) in which the dispersant is not adsorbed on the surface) contained in the ink is preferably 0.5 wt% or more and 60 wt% or less, and is preferably 10 wt% or more and 45 wt%. The following is more preferable. Thereby, disconnection of a conductor pattern can be prevented more effectively, and a more reliable conductor pattern can be provided.
The silver particles (metal particles) are preferably dispersed in an aqueous dispersion medium as silver colloid particles (metal colloid particles) having a dispersant attached to the surface thereof. Thereby, the dispersibility of the silver particles in the aqueous dispersion medium is particularly excellent, and the ink ejection stability is particularly excellent.

分散剤としては、特に限定されないが、COOH基とOH基とを合わせて3個以上有し、かつ、COOH基の数がOH基と同じか、それよりも多いヒドロキシ酸またはその塩を含むことが好ましい。これらの分散剤は、銀粒子の表面に吸着してコロイド粒子を形成し、分散剤中に存在するCOOH基の電気的反発力によって銀コロイド粒子を水溶液中に均一に分散させてコロイド液を安定化する働きを有する。このように、銀コロイド粒子が安定してインク中に存在することにより、より容易に微細な導体パターンを形成することができる。また、インクによって形成されたパターン(導体パターン前駆体)において銀粒子が均一に分布し、クラック、断線等が発生しにくいものとなる。これに対して、分散剤中のCOOH基とOH基の数が3個未満であったり、COOH基の数がOH基の数よりも少ないと、銀コロイド粒子の分散性が十分に得られない場合がある。
このような分散剤としては、例えば、クエン酸、りんご酸、クエン酸三ナトリウム、クエン酸三カリウム、クエン酸三リチウム、クエン酸三アンモニウム、りんご酸二ナトリウム、タンニン酸、ガロタンニン酸、五倍子タンニン等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
Although it does not specifically limit as a dispersing agent, it has 3 or more of COOH groups and OH groups, and the number of COOH groups is the same as that of OH groups, or contains hydroxy acid or its salt more than it. Is preferred. These dispersants adsorb on the surface of silver particles to form colloidal particles, and the colloidal liquid is stabilized by uniformly dispersing silver colloidal particles in an aqueous solution by the electric repulsive force of COOH groups present in the dispersant. Has the function of As described above, since the silver colloid particles are stably present in the ink, a fine conductor pattern can be more easily formed. Further, silver particles are uniformly distributed in a pattern (conductor pattern precursor) formed with ink, and cracks, disconnections, and the like are less likely to occur. On the other hand, if the number of COOH groups and OH groups in the dispersant is less than 3 or the number of COOH groups is less than the number of OH groups, the dispersibility of the silver colloid particles cannot be sufficiently obtained. There is a case.
Examples of such a dispersing agent include citric acid, malic acid, trisodium citrate, tripotassium citrate, trilithium citrate, triammonium citrate, disodium malate, tannic acid, gallotannic acid, and pentaploid tannin. Of these, one or a combination of two or more can be used.

また、分散剤は、COOH基とSH基とを合わせて2個以上有するメルカプト酸またはその塩を含んでいてもよい。これらの分散剤は、メルカプト基が銀微粒子の表面に吸着してコロイド粒子を形成し、分散剤中に存在するCOOH基の電気的反発力によってコロイド粒子を水溶液中に均一に分散させてコロイド液を安定化する働きを有する。このように、銀コロイド粒子が安定してインク中に存在することにより、より容易に微細な導体パターンを形成することができる。また、インクによって形成されたパターン(導体パターン前駆体)において銀粒子が均一に分布し、クラック、断線等が発生しにくいものとなる。これに対して、分散剤中のCOOH基とSH基の数が2個未満すなわち片方のみであると、銀コロイド粒子の分散性が十分に得られない場合がある。   Further, the dispersant may contain mercapto acid or a salt thereof having two or more COOH groups and SH groups. In these dispersants, mercapto groups are adsorbed on the surface of silver fine particles to form colloidal particles, and colloidal particles are uniformly dispersed in an aqueous solution by the electric repulsive force of COOH groups present in the dispersant. Has the function of stabilizing As described above, since the silver colloid particles are stably present in the ink, a fine conductor pattern can be more easily formed. Further, silver particles are uniformly distributed in a pattern (conductor pattern precursor) formed with ink, and cracks, disconnections, and the like are less likely to occur. On the other hand, when the number of COOH groups and SH groups in the dispersant is less than 2, that is, only one, the dispersibility of the silver colloidal particles may not be sufficiently obtained.

このような分散剤としては、例えば、メルカプト酢酸、メルカプトプロピオン酸、チオジプロピオン酸、メルカプトコハク酸、チオ酢酸、メルカプト酢酸ナトリウム、メルカプトプロピオン酸ナトリウム、チオジプロピオン酸ナトリウム、メルカプトコハク酸二ナトリウム、メルカプト酢酸カリウム、メルカプトプロピオン酸カリウム、チオジプロピオン酸カリウム、メルカプトコハク酸二カリウム等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of such dispersants include mercaptoacetic acid, mercaptopropionic acid, thiodipropionic acid, mercaptosuccinic acid, thioacetic acid, sodium mercaptoacetate, sodium mercaptopropionate, sodium thiodipropionate, disodium mercaptosuccinate, Examples include potassium mercaptoacetate, potassium mercaptopropionate, potassium thiodipropionate, dipotassium mercaptosuccinate, and the like, and one or more of these can be used in combination.

インク中における銀コロイド粒子の含有量は、1wt%以上60wt%以下であるのが好ましく、10wt%以上50wt%以下であるのがより好ましい。銀コロイド粒子の含有量が前記下限値未満であると、銀の含有量が少なく、導体パターンを形成した際、比較的厚い膜を形成する場合に、複数回重ね塗りする必要が生じる。一方、銀コロイド粒子の含有量が前記上限値を超えると、銀の含有量が多くなり、分散性が低下し、これを防ぐためには攪拌の頻度が高くなる。   The content of the silver colloid particles in the ink is preferably 1 wt% or more and 60 wt% or less, and more preferably 10 wt% or more and 50 wt% or less. When the content of the silver colloidal particles is less than the lower limit, the silver content is small, and when a conductive pattern is formed, it is necessary to apply a plurality of times when a relatively thick film is formed. On the other hand, when the content of the silver colloidal particles exceeds the upper limit, the silver content increases and the dispersibility decreases. To prevent this, the frequency of stirring increases.

また、銀コロイド粒子の熱重量分析における500℃までの加熱減量は、1wt%以上25wt%以下であるのが好ましい。コロイド粒子(固形分)を500℃まで加熱すると、表面に付着した分散剤等が酸化分解され、大部分のものはガス化されて消失する。500℃までの加熱による減量は、銀コロイド粒子中の分散剤の量にほぼ相当すると考えられる。加熱減量が1wt%未満であると、銀粒子に対する分散剤の量が少なく、銀粒子の充分な分散性が低下する。一方、25wt%を超えると、銀粒子に対する残留分散剤の量が多なり、導体パターンの比抵抗が高くなる。但し、比抵抗は、導体パターンの形成後に加熱焼結して有機分を分解消失させることである程度改善することができる。そのため、基板として、より高温で焼結されるセラミックス成形体等を用いた場合このような効果をように得ることができる。   Further, the heat loss to 500 ° C. in the thermogravimetric analysis of the silver colloidal particles is preferably 1 wt% or more and 25 wt% or less. When the colloidal particles (solid content) are heated to 500 ° C., the dispersant or the like attached to the surface is oxidized and decomposed, and most of them are gasified and disappear. The weight loss due to heating up to 500 ° C. is considered to substantially correspond to the amount of the dispersant in the silver colloid particles. When the loss on heating is less than 1 wt%, the amount of the dispersant with respect to the silver particles is small, and the sufficient dispersibility of the silver particles is lowered. On the other hand, when it exceeds 25 wt%, the amount of the residual dispersant with respect to the silver particles increases, and the specific resistance of the conductor pattern increases. However, the specific resistance can be improved to some extent by heating and sintering after formation of the conductor pattern to decompose and disappear organic components. Therefore, such an effect can be obtained when a ceramic molded body that is sintered at a higher temperature is used as the substrate.

[有機バインダー]
また、導体パターン形成用インクは、有機バインダーを含んでいてもよい。有機バインダーは、導体パターン形成用インクによって形成された導体パターン前駆体において、銀粒子の凝集を防止するものである。すなわち、形成された導体パターン前駆体において、有機バインダーは、銀粒子同士の間に存在することで銀粒子同士が凝集して、パターンの一部に亀裂(クラック)が生じることを防止できる。また、焼結時においては、有機バインダーは、分解されて除去されることができ、導体パターン前駆体中の銀粒子同士は、結合して導体パターンを形成する。
[Organic binder]
The conductive pattern forming ink may contain an organic binder. The organic binder prevents aggregation of silver particles in the conductor pattern precursor formed by the conductor pattern forming ink. That is, in the formed conductor pattern precursor, the organic binder is present between the silver particles, whereby the silver particles can be prevented from aggregating and cracking in a part of the pattern can be prevented. Further, at the time of sintering, the organic binder can be decomposed and removed, and the silver particles in the conductor pattern precursor are bonded to form a conductor pattern.

有機バインダーとしては、特には限定されないが、例えば、ポリエチレングリコール#200(重量平均分子量200)、ポリエチレングリコール#300(重量平均分子量300)、ポリエチレングリコール#400(平均分子量400)、ポリエチレングリコール#600(重量平均分子量600)、ポリエチレングリコール#1000(重量平均分子量1000)、ポリエチレングリコール#1500(重量平均分子量1500)、ポリエチレングリコール#1540(重量平均分子量1540)、ポリエチレングリコール#2000(重量平均分子量2000)等のポリエチレングリコール、ポリビニルアルコール#200(重量平均分子量:200)、ポリビニルアルコール#300(重量平均分子量:300)、ポリビニルアルコール#400(平均分子量:400)、ポリビニルアルコール#600(重量平均分子量:600)、ポリビニルアルコール#1000(重量平均分子量:1000)、ポリビニルアルコール#1500(重量平均分子量:1500)、ポリビニルアルコール#1540(重量平均分子量:1540)、ポリビニルアルコール#2000(重量平均分子量:2000)等のポリビニルアルコール、ポリグリセリン、ポリグリセリンエステル等のポリグリセリン骨格を有するポリグリセリン化合物が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。また、ポリグリセリンエステルとしては、例えば、ポリグリセリンのモノステアレート、トリステアレート、テトラステアレート、モノオレエート、ペンタオレエート、モノラウレート、モノカプリレート、ポリシノレート、セスキステアレート、デカオレエート、セスキオレエート等が挙げられる。
この中でも、有機バインダーとして、ポリグリセリン化合物を用いた場合、以下のような効果が得られる。
Although it does not specifically limit as an organic binder, For example, polyethyleneglycol # 200 (weight average molecular weight 200), polyethyleneglycol # 300 (weight average molecular weight 300), polyethyleneglycol # 400 (average molecular weight 400), polyethyleneglycol # 600 ( Weight average molecular weight 600), polyethylene glycol # 1000 (weight average molecular weight 1000), polyethylene glycol # 1500 (weight average molecular weight 1500), polyethylene glycol # 1540 (weight average molecular weight 1540), polyethylene glycol # 2000 (weight average molecular weight 2000), etc. Polyethylene glycol, polyvinyl alcohol # 200 (weight average molecular weight: 200), polyvinyl alcohol # 300 (weight average molecular weight: 300), polyvinyl alcohol # 400 (average molecular weight: 400), polyvinyl alcohol # 600 (weight average molecular weight: 600), polyvinyl alcohol # 1000 (weight average molecular weight: 1000), polyvinyl alcohol # 1500 (weight average molecular weight: 1500), polyvinyl alcohol # Polyglycerin compounds having a polyglycerin skeleton such as polyvinyl alcohol such as 1540 (weight average molecular weight: 1540), polyvinyl alcohol # 2000 (weight average molecular weight: 2000), polyglycerin, polyglycerin ester, etc. Alternatively, two or more kinds can be used in combination. Examples of the polyglycerol ester include polyglycerol monostearate, tristearate, tetrastearate, monooleate, pentaoleate, monolaurate, monocaprylate, polycinnolate, sesquistearate, decaoleate, and sesquioleate. Etc.
Among these, when a polyglycerin compound is used as the organic binder, the following effects can be obtained.

ポリグリセリン化合物は、導体パターン形成用インクによって形成された導体パターン前駆体を乾燥(脱分散媒)した際に、導体パターン前駆体にクラックが発生するのを特に好適に防止することができる。これは、以下のように考えられる。導体パターン形成用インク中にポリグリセリン化合物が含まれることにより、銀粒子(金属粒子)の間に高分子鎖が存在することとなり、ポリグリセリン化合物が銀粒子同士の距離を適度なものとすることができる。さらに、ポリグリセリン化合物は比較的沸点が高いため、水系分散媒の除去時においては除去されず、銀粒子の周囲に付着する。以上により、水系分散媒除去時において、ポリグリセリン化合物が銀粒子を包み込んだ状態が長く続き、水系分散媒の揮発による急激な体積収縮が避けられるとともに銀の粒成長(凝集)が妨げられる結果、導体パターン前駆体中のクラックの発生が抑制されると考えられる。   The polyglycerin compound can particularly suitably prevent the conductor pattern precursor from cracking when the conductor pattern precursor formed by the conductor pattern forming ink is dried (dedispersing medium). This is considered as follows. When the polyglycerin compound is contained in the conductive pattern forming ink, polymer chains exist between the silver particles (metal particles), and the polyglycerin compound makes the distance between the silver particles moderate. Can do. Furthermore, since the polyglycerin compound has a relatively high boiling point, it is not removed when the aqueous dispersion medium is removed, and adheres around the silver particles. As described above, at the time of removing the aqueous dispersion medium, the polyglycerin compound continuously encapsulates the silver particles, and as a result, rapid volume shrinkage due to volatilization of the aqueous dispersion medium is avoided and silver grain growth (aggregation) is hindered. It is considered that generation of cracks in the conductor pattern precursor is suppressed.

また、ポリグリセリン化合物は、導体パターンを形成する際の焼結時において、断線が発生するのをより確実に防止することができる。これは、以下のように考えられる。ポリグリセリン化合物は、比較的沸点あるいは分解温度が高い。このため、導体パターン形成用インクから導体パターンを形成する過程において、水系分散媒が蒸発した後、比較的高い温度まで、ポリグリセリン化合物を、蒸発或いは熱(酸化)分解せずに、導体パターン前駆体中に存在させることができる。したがって、ポリグリセリン化合物が蒸発或いは熱(酸化)分解するまでは、銀粒子の周囲にポリグリセリン化合物が存在し、銀粒子同士の接近と凝集とを抑制することができ、ポリグリセリン化合物が分解した後には、より均一に銀粒子同士を接合させることができる。さらに、焼結時においてパターン中の銀粒子(金属粒子)の間に高分子鎖(ポリグリセリン化合物)が存在することとなり、ポリグリセリン化合物が銀粒子同士の距離を保つことができる。また、このポリグリセリン化合物は、適度な流動性を有している。このため、ポリグリセリン化合物を含むことにより、導体パターン前駆体は、セラミックス成形体の温度変化による膨張・収縮への追従性が優れたものとなる。   Further, the polyglycerin compound can more reliably prevent disconnection from occurring during sintering when forming the conductor pattern. This is considered as follows. Polyglycerin compounds have a relatively high boiling point or decomposition temperature. Therefore, in the process of forming the conductor pattern from the conductor pattern forming ink, the polyglycerol compound is not evaporated or thermally (oxidized) decomposed to a relatively high temperature after the aqueous dispersion medium evaporates. Can exist in the body. Therefore, until the polyglycerin compound evaporates or is thermally (oxidized) decomposed, the polyglycerin compound exists around the silver particles, and the approach and aggregation of the silver particles can be suppressed, and the polyglycerin compound is decomposed. Later, the silver particles can be joined more uniformly. Furthermore, a polymer chain (polyglycerin compound) exists between silver particles (metal particles) in the pattern during sintering, and the polyglycerin compound can keep the distance between the silver particles. Moreover, this polyglycerin compound has moderate fluidity | liquidity. For this reason, by including a polyglycerin compound, the conductor pattern precursor has excellent followability to expansion / contraction due to temperature change of the ceramic molded body.

以上より、形成された導体パターンに断線が生じることをより確実に防止することができると考えられる。
また、このようなポリグリセリン化合物を含むことにより、インクの粘度をより適度なものとすることができ、インクジェットヘッドからの吐出安定性をより効果的に向上させることができる。また、成膜性も向上させることができる。
From the above, it is considered that disconnection of the formed conductor pattern can be more reliably prevented.
Moreover, by including such a polyglycerin compound, the viscosity of the ink can be made more appropriate, and the ejection stability from the ink jet head can be improved more effectively. In addition, film formability can be improved.

ポリグリセリン化合物としては、上述した中でも、ポリグリセリンを用いるのが好ましい。ポリグリセリンは、セラミックス成形体の温度変化による膨張・収縮への追従性が特に優れるとともに、セラミックス成形体の焼結後には、導体パターン中からより確実に除去することができる成分である。その結果、導体パターンの電気的特性をより高いものとすることができる。さらに、ポリグリセリンは、水系分散媒への溶解度も高いので、好適に用いることができる。   Among the above-mentioned polyglycerin compounds, polyglycerin is preferably used. Polyglycerin is a component that is particularly excellent in the ability to follow expansion and contraction due to temperature changes of the ceramic molded body, and can be more reliably removed from the conductor pattern after the ceramic molded body is sintered. As a result, the electrical characteristics of the conductor pattern can be made higher. Furthermore, since polyglycerin has high solubility in an aqueous dispersion medium, it can be suitably used.

有機バインダーは、その重量平均分子量が300以上3000以下であるのが好ましく、400以上1000以下であるのがより好ましく、400以上600以下であるのがさらに好ましい。これにより、導体パターン形成用インクによって形成されたパターンを乾燥した際に、クラックの発生をより確実に防止することができる。これに対し、有機バインダーの重量平均分子量が前記下限値未満であると、有機バインダーの組成によっては、水系分散媒を除去する際に有機バインダーが分解しやすい傾向があり、クラックの発生を防止する効果が小さくなる。また、有機バインダーの重量平均分子量が前記上限値を超えると、有機バインダーの組成によっては、排除体積効果等によりインク中への溶解性、分散性が低下する場合がある。   The organic binder preferably has a weight average molecular weight of 300 or more and 3000 or less, more preferably 400 or more and 1000 or less, and still more preferably 400 or more and 600 or less. Thereby, when the pattern formed with the conductor pattern forming ink is dried, the occurrence of cracks can be more reliably prevented. On the other hand, when the weight average molecular weight of the organic binder is less than the lower limit, depending on the composition of the organic binder, the organic binder tends to be decomposed when removing the aqueous dispersion medium, thereby preventing the occurrence of cracks. The effect is reduced. When the weight average molecular weight of the organic binder exceeds the upper limit, the solubility and dispersibility in the ink may be reduced depending on the composition of the organic binder due to the excluded volume effect or the like.

また、インク中における有機バインダーの含有量は、1wt%以上30wt%以下であるのが好ましく、5wt%以上20wt%以下であるのがより好ましい。これにより、インクの吐出安定性を特に優れたものとしつつ、クラック、断線の発生をより効果的に防止することができる。これに対して、有機バインダーの含有量が前記下限値未満であると、有機バインダーの組成によっては、クラックの発生を防止する効果が小さくなる場合がある。また、有機バインダーの含有量が前記上限値を超えると、有機バインダーの組成によっては、インクの粘度を十分に低いものとすることが困難な場合がある。   Further, the content of the organic binder in the ink is preferably 1 wt% or more and 30 wt% or less, and more preferably 5 wt% or more and 20 wt% or less. This makes it possible to more effectively prevent the occurrence of cracks and disconnections while making the ink ejection stability particularly excellent. On the other hand, when the content of the organic binder is less than the lower limit, the effect of preventing the occurrence of cracks may be reduced depending on the composition of the organic binder. If the content of the organic binder exceeds the upper limit, it may be difficult to make the viscosity of the ink sufficiently low depending on the composition of the organic binder.

[乾燥抑制剤]
また、導体パターン形成用インクは、乾燥抑制剤を含んでいてもよい。乾燥抑制剤は、インク中の水系分散媒の不本意な揮発を防止するものである。その結果、インクジェット装置の吐出部付近において水系分散媒が揮発することを防止でき、インクの粘度の上昇、乾燥が抑えられる。導体パターン形成用インクは、このような乾燥抑制剤を含む結果、インクの液滴の吐出安定性が特に優れたものとなる。すなわち、インクの液滴の重量のばらつきが小さいものとなり、目詰まり、飛行曲がり等が少ないものとなる。また、特に、インクジェット装置に導体パターン形成用インクを充填した後に、長期間(例えば、5日間)運転を行わずにインクジェット装置を待機状態とした場合であっても、導体パターン形成用インクは、均一な量で、目的とする位置に精度よく吐出させることができる。
このような乾燥抑制剤としては、下記式(I)で示される化合物、糖アルコール、アルカノールアミン等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
[Drying inhibitor]
Further, the conductor pattern forming ink may contain a drying inhibitor. The drying inhibitor prevents unintended volatilization of the aqueous dispersion medium in the ink. As a result, the aqueous dispersion medium can be prevented from volatilizing in the vicinity of the ejection portion of the ink jet apparatus, and the increase in the viscosity and drying of the ink can be suppressed. As a result of including such a drying inhibitor, the conductive pattern forming ink has particularly excellent ink droplet ejection stability. That is, variation in the weight of ink droplets is small, and clogging, flight bending, and the like are small. In particular, even when the ink jet device is in a standby state without being operated for a long time (for example, 5 days) after filling the ink jet device with the conductor pattern forming ink, A uniform amount can be accurately discharged to a target position.
Examples of such a drying inhibitor include compounds represented by the following formula (I), sugar alcohols, alkanolamines, and the like, and one or more of them can be used in combination.

Figure 2011155086
(ただし、R、R’は、それぞれ、Hまたはアルキル基である。)
Figure 2011155086
(However, R and R ′ are each H or an alkyl group.)

上記式(I)で表される化合物は、水素結合性の高い成分である。このため、水との親和性が高く、適度な水分を保持することができ、導体パターン形成用インクの水系分散媒の不本意な揮発を防止することができる。
また、上記化合物は、比較的燃焼しやすく、導体パターンを形成する際には導体パターン内からより容易に除去(酸化分解)することができる。
The compound represented by the above formula (I) is a component having a high hydrogen bonding property. For this reason, it has a high affinity with water, can retain an appropriate amount of water, and can prevent unintentional volatilization of the aqueous dispersion medium of the conductive pattern forming ink.
Moreover, the said compound is comparatively easy to burn, and when forming a conductor pattern, it can remove (oxidative decomposition) more easily from the inside of a conductor pattern.

また、導体パターン形成用インクによって形成されたパターンを乾燥(脱分散媒)する際には、水系分散媒が揮発とともに、上記化合物の濃度が上昇する。これにより、導体パターンの前駆体の粘度が上昇するため、導体パターン前駆体を構成するインクの不本意な部位への流れ出しがより確実に防止される。その結果、形成される導体パターンをより高い精度で所望の形状とすることができる。
また、上述したような化合物は、金属粒子(銀粒子)が前述したように表面に分散剤が付着したコロイド粒子である場合、表面の分散剤と水素結合により結合し、金属粒子の分散安定性を向上させる効果を有している。これにより、導体パターン形成用インクの吐出安定性に優れるとともに、保存安定性にも優れたものとなる。
Further, when the pattern formed by the conductor pattern forming ink is dried (dedispersion medium), the concentration of the compound increases as the aqueous dispersion medium volatilizes. As a result, the viscosity of the conductor pattern precursor is increased, so that the ink constituting the conductor pattern precursor can be more reliably prevented from flowing out to an unintentional portion. As a result, the formed conductor pattern can be formed into a desired shape with higher accuracy.
In addition, when the metal particles (silver particles) are colloidal particles having a dispersant attached to the surface as described above, the compound as described above is bonded to the surface dispersant by hydrogen bonding, and the dispersion stability of the metal particles. Has the effect of improving. Accordingly, the ejection stability of the conductor pattern forming ink is excellent, and the storage stability is also excellent.

上述したように、本発明で用いる上記式(I)で表される化合物中における、R、R’は、それぞれ、水素またはアルキル基であるが、R、R’は、ともに水素であるのが好ましい。すなわち、尿素であるのが好ましい。これにより、上述したような保湿性を特に高いものとすることができ、特に優れた吐出安定性を得ることができる。また、金属粒子が上述したようなコロイド粒子として存在する場合に、特に優れた分散安定性を示すものとなる。   As described above, R and R ′ in the compound represented by the above formula (I) used in the present invention are each hydrogen or an alkyl group, but R and R ′ are both hydrogen. preferable. That is, urea is preferable. As a result, the moisture retention as described above can be made particularly high, and particularly excellent ejection stability can be obtained. Further, when the metal particles are present as colloidal particles as described above, particularly excellent dispersion stability is exhibited.

このような上記式(I)で表される化合物のインク中における含有量は、5wt%以上25wt%以下であるのが好ましく、8wt%以上20wt%以下であるのがより好ましく、10wt%以上18wt%以下であるのがさらに好ましい。これにより、導体パターン形成用インクの不本意な乾燥をより効率よく防止することができる。その結果、インクの吐出安定性を特に優れたものとすることができる。   The content of the compound represented by the above formula (I) in the ink is preferably 5 wt% or more and 25 wt% or less, more preferably 8 wt% or more and 20 wt% or less, and 10 wt% or more and 18 wt% or less. % Or less is more preferable. Thereby, unintentional drying of the conductor pattern forming ink can be prevented more efficiently. As a result, the ink ejection stability can be made particularly excellent.

アルカノールアミンは、保湿性の高い成分であるとともに、金属粒子が前述したようなコロイド粒子である場合に、コロイド粒子表面の分散剤の官能基を活性化させることができ、金属粒子の分散安定性をより高いものとすることができる。
アルカノールアミンとしては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノプロパノールアミン、ジプロパノールアミン、トリプロパノールアミン等各種のものを挙げることができる。
Alkanolamine is a highly moisturizing component, and when the metal particles are colloidal particles as described above, the functional group of the dispersant on the surface of the colloidal particles can be activated, and the dispersion stability of the metal particles Can be higher.
Examples of the alkanolamine include monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monopropanolamine, dipropanolamine, and tripropanolamine.

また、アルカノールアミンは、第3級アミンであるのが好ましい。第3級アミンは、アルカノールアミンの中でも、特に保湿性が高く、上記効果をより顕著なものとすることができる。
また、第3級アミンの中でも、取り扱いやすさや、保湿性の高さ等の観点から、特に、トリエタノールアミンを用いるのが好ましい。
導体パターン形成用インク中におけるアルカノールアミンの含有量は、1wt%以上10wt%以下であるのが好ましく、3wt%以上7wt%以下であるのがより好ましい。これにより、導体パターン形成用インクの吐出安定性をより優れたものとすることができる。
The alkanolamine is preferably a tertiary amine. Tertiary amines have particularly high moisture retention among alkanolamines, and can make the above effects more remarkable.
Among tertiary amines, it is particularly preferable to use triethanolamine from the viewpoints of ease of handling, high moisture retention, and the like.
The content of alkanolamine in the conductor pattern forming ink is preferably 1 wt% or more and 10 wt% or less, and more preferably 3 wt% or more and 7 wt% or less. Thereby, the discharge stability of the conductor pattern forming ink can be further improved.

糖アルコールは、糖類のアルデヒド基およびケトン基を還元して得られるものである。
また、糖アルコールは、高い保湿性を有する化合物である。また、糖アルコールは、分子量あたりの酸素数が多いため、雰囲気が糖アルコールの分解温度に達すると、容易に分解して除去される。このため、導体パターンを形成する際には、導体パターンの温度を糖アルコールの分解温度よりも高くすることで、導体パターン内から糖アルコールを確実に除去(酸化分解)することができる。
Sugar alcohol is obtained by reducing aldehyde groups and ketone groups of sugars.
Sugar alcohol is a compound having high moisture retention. In addition, since sugar alcohol has a large number of oxygen per molecular weight, it is easily decomposed and removed when the atmosphere reaches the decomposition temperature of sugar alcohol. For this reason, when forming a conductor pattern, sugar alcohol can be reliably removed (oxidative decomposition) from the conductor pattern by making the temperature of the conductor pattern higher than the decomposition temperature of the sugar alcohol.

糖アルコールとしては、例えば、トレイトール、エリスリトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、アラビトール、リビトール、キシリトール、ソルビトール、マンニトール、スレイトール、グリトール、タリトール、ガラクチトール、アリトール、アルトリトール、ドルシトール、イディトール、グリセリン(グリセロール)、イノシトール、マルチトール、イソマルチトール、ラクチトール、ツラニトール等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of sugar alcohols include threitol, erythritol, pentaerythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, arabitol, ribitol, xylitol, sorbitol, mannitol, threitol, glycol, tallitol, galactitol, allitol, altritol, dolitol, iditol. Glycerin (glycerol), inositol, maltitol, isomaltitol, lactitol, tranitol and the like, and one or more of these can be used in combination.

上述したような糖アルコールの、導体パターン形成用インク中における含有量は、3wt%以上20wt%以下であるのが好ましく、5wt%以上15wt%以下であるのがより好ましい。これにより、導体パターン形成用インクの水系分散媒の揮発をより確実に抑制することができ、導体パターン形成用インクは、より長期にわたって液滴の吐出安定性が特に優れたものとなる。   The content of the sugar alcohol in the conductive pattern forming ink as described above is preferably 3 wt% or more and 20 wt% or less, and more preferably 5 wt% or more and 15 wt% or less. Thereby, volatilization of the aqueous dispersion medium of the conductor pattern forming ink can be more reliably suppressed, and the conductor pattern forming ink has particularly excellent droplet discharge stability over a longer period of time.

[表面張力調整剤]
また、導体パターン形成用インクには、表面張力調整剤を含んでいてもよい。
表面張力調整剤は、導体パターン形成用インクと基板(本実施形態では、セラミックス成形体)との接触角を所定の角度に調整するために用いられる。
表面張力調整剤としては、各種界面活性剤を用いることができ、1種または2種以上を組み合わせて用いることができるが、アセチレングリコール系化合物を含むことが好ましい。
[Surface tension modifier]
Further, the conductive pattern forming ink may contain a surface tension adjusting agent.
The surface tension adjusting agent is used to adjust the contact angle between the conductor pattern forming ink and the substrate (in this embodiment, a ceramic molded body) to a predetermined angle.
As the surface tension adjusting agent, various surfactants can be used, and one or a combination of two or more types can be used, but it is preferable to include an acetylene glycol compound.

アセチレングリコール系化合物は、少ない添加量で、導体パターン形成用インクとセラミックス成形体との接触角を所定の範囲に調整することができる。このように、導体パターン形成用インクとセラミックス成形体との接触角を所定の範囲に調整することにより、より微細な導体パターンを形成することができる。また、吐出した液滴内に気泡が混入した場合であっても、速やかに気泡を除去することができる。その結果、形成される導体パターンでのクラック、断線の発生をより効果的に防止することができる。   The contact angle between the conductive pattern forming ink and the ceramic molded body can be adjusted within a predetermined range with a small addition amount of the acetylene glycol compound. Thus, a finer conductor pattern can be formed by adjusting the contact angle between the conductor pattern forming ink and the ceramic molded body within a predetermined range. Further, even when bubbles are mixed in the discharged droplets, the bubbles can be quickly removed. As a result, generation of cracks and disconnections in the formed conductor pattern can be more effectively prevented.

アセチレングリコール系化合物としては、例えば、サーフィノール104シリーズ(104E、104H、104PG−50、104PA等)、サーフィノール400シリーズ(420、465、485等)、オルフィンシリーズ(EXP4036、EXP4001、E1010等)(「サーフィノール」および「オルフィン」は、日信化学工業株式会社の商品名)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of acetylene glycol compounds include Surfynol 104 series (104E, 104H, 104PG-50, 104PA, etc.), Surfynol 400 series (420, 465, 485, etc.), Olphine series (EXP4036, EXP4001, E1010, etc.). ("Surfinol" and "Orphine" are trade names of Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) and the like, and one or more of these can be used in combination.

また、インク中には、HLB値が異なる2種以上のアセチレングリコール系化合物を含んでいるのが好ましい。導体パターン形成用インクとセラミックス成形体との接触角を所定の範囲により容易に調整することができる。
特に、インク中に含まれる2種以上のアセチレングリコール系化合物のうち、最もHLB値が高いアセチレングリコール系化合物のHLB値と、最もHLB値が低いアセチレングリコール系化合物のHLB値との差が、4以上12以下であるのが好ましく、5以上10以下であるのがより好ましい。これにより、より少ないアセチレングリコール系化合物の添加量で、導体パターン形成用インクとセラミックス成形体との接触角を所定の範囲により容易に調整することができる。
The ink preferably contains two or more acetylene glycol compounds having different HLB values. The contact angle between the conductor pattern forming ink and the ceramic molded body can be easily adjusted within a predetermined range.
In particular, the difference between the HLB value of the acetylene glycol compound having the highest HLB value and the HLB value of the acetylene glycol compound having the lowest HLB value among two or more kinds of acetylene glycol compounds contained in the ink is 4 It is preferably 12 or more and more preferably 5 or more and 10 or less. Accordingly, the contact angle between the conductor pattern forming ink and the ceramic molded body can be easily adjusted within a predetermined range with a smaller amount of the acetylene glycol compound.

インク中に2種以上のアセチレングリコール系化合物を含むものを用いる場合、最もHLB値の高いアセチレングリコール系化合物のHLB値は、8以上16以下であるのが好ましく、9以上14以下であるのがより好ましい。
また、インク中に2種以上のアセチレングリコール系化合物を含むものを用いる場合、最もHLB値の低いアセチレングリコール系化合物のHLB値は、2以上7以下であるのが好ましく、3以上5以下であるのがより好ましい。
インク中に含まれる表面張力調整剤の含有量は、0.001wt%以上1wt%以下であるのが好ましく、0.01wt%以上0.5wt%以下であるのがより好ましい。これにより、導体パターン形成用インクとセラミックス成形体との接触角をより効果的に所定の範囲に調整することができる。
When an ink containing two or more acetylene glycol compounds is used, the HLB value of the acetylene glycol compound having the highest HLB value is preferably 8 or more and 16 or less, and preferably 9 or more and 14 or less. More preferred.
Moreover, when using what contains 2 or more types of acetylene glycol type compounds in an ink, it is preferable that the HLB value of the acetylene glycol type compound with the lowest HLB value is 2-7, and it is 3-5. Is more preferable.
The content of the surface tension adjusting agent contained in the ink is preferably 0.001 wt% or more and 1 wt% or less, and more preferably 0.01 wt% or more and 0.5 wt% or less. As a result, the contact angle between the conductor pattern forming ink and the ceramic molded body can be more effectively adjusted to a predetermined range.

[その他の成分]
なお、導体パターン形成用インクの構成成分は、上記成分に限定されず、上記以外の成分を含んでいてもよい。
例えば、導体パターン形成用インクには、上記成分の他、1,3−プロパンジオールが含まれていてもよい。これにより、インクジェットヘッドの吐出部付近における水系分散媒の揮発をより効果的に抑制することができるとともに、インクの粘度をより適度なものとすることができ、吐出安定性がさらに向上する。
[Other ingredients]
The constituent components of the conductor pattern forming ink are not limited to the above components, and may include components other than those described above.
For example, the conductor pattern forming ink may contain 1,3-propanediol in addition to the above components. As a result, volatilization of the aqueous dispersion medium in the vicinity of the ejection portion of the inkjet head can be more effectively suppressed, the viscosity of the ink can be made more appropriate, and ejection stability is further improved.

インク中に1,3−プロパンジオールを含む場合、その含有量は、0.5wt%以上20wt%以下であるのが好ましく、2wt%以上10wt%以下であるのがより好ましい。これにより、インクの吐出安定性をより効果的に向上させることができる。
また、例えば、導体パターン形成用インクは、エチレングリコール、1,3−ブチレングリコール、プロピレングリコール等の多価アルコールを含んでいてもよい。導体パターン形成用インクは、上述した尿素以外にも、チオ尿素を含んでいてもよい。
When 1,3-propanediol is contained in the ink, the content is preferably 0.5 wt% or more and 20 wt% or less, and more preferably 2 wt% or more and 10 wt% or less. Thereby, the ejection stability of ink can be improved more effectively.
In addition, for example, the conductor pattern forming ink may contain a polyhydric alcohol such as ethylene glycol, 1,3-butylene glycol, and propylene glycol. The conductor pattern forming ink may contain thiourea in addition to the urea described above.

導体パターン形成用インクと基板(セラミックス成形体)との接触角は、特に限定されないが、40°以上80°以下であることが好ましく、50°以上80°以下であることがより好ましい。接触角が小さすぎると、微細な線幅の導体パターンを形成するのが困難となる場合がある。一方、接触角が大きすぎると、吐出条件等によっては、均一な線幅の導体パターンを形成するのが困難となる場合がある。また、着弾した液滴とセラミックス成形体との接触面積が小さくなりすぎてしまい、着弾した液滴が着弾位置からずれてしまう場合がある。   The contact angle between the conductive pattern forming ink and the substrate (ceramic molded body) is not particularly limited, but is preferably 40 ° or more and 80 ° or less, and more preferably 50 ° or more and 80 ° or less. If the contact angle is too small, it may be difficult to form a conductor pattern with a fine line width. On the other hand, if the contact angle is too large, it may be difficult to form a conductor pattern with a uniform line width depending on the discharge conditions and the like. In addition, the contact area between the landed droplet and the ceramic molded body may be too small, and the landed droplet may be displaced from the landing position.

また、導体パターン形成インクの粘度は、特に限定されないが、1mPa・s以上30mPa・s以下であることが好ましく、3mPa・s以上15mPa・s以下であることがより好ましい。これにより、液滴の吐出安定性を優れたものとすることができるとともに、基板(セラミックス成形体)に着弾したインクの過度の濡れ広がりを防止することができ、微細な線幅の導体パターン前駆体を形成することができる。   The viscosity of the conductor pattern forming ink is not particularly limited, but is preferably 1 mPa · s or more and 30 mPa · s or less, and more preferably 3 mPa · s or more and 15 mPa · s or less. As a result, the discharge stability of the droplets can be improved, and the excessive landing of the ink that has landed on the substrate (ceramic molded body) can be prevented, and the conductor pattern precursor having a fine line width can be prevented. The body can be formed.

《導体パターン前駆体および導体パターン前駆体付基板》
次に、本発明の導体パターン前駆体および導体パターン前駆体付基板について説明する。
導体パターン前駆体(以下、単に前駆体ともいう。)10は、上述した導体パターン形成用インクを液滴吐出法により吐出を形成した後、当該導体パターン形成用インクを乾燥(脱水系分散媒)させることにより得られる。そして、導体パターン前駆体10は、焼結されることにより金属粒子同士が融着して、後述する導体パターン20を形成するものである。
<< Conductor pattern precursor and substrate with conductor pattern precursor >>
Next, the conductor pattern precursor and the substrate with the conductor pattern precursor of the present invention will be described.
A conductor pattern precursor (hereinafter also simply referred to as a precursor) 10 is formed by discharging the above-described conductor pattern forming ink by a droplet discharge method, and then drying the conductor pattern forming ink (dehydration-based dispersion medium). Is obtained. And the conductor pattern precursor 10 fuse | melts metal particles by sintering, and forms the conductor pattern 20 mentioned later.

図1、2に示すように、導体パターン前駆体付セラミックス成形体(本発明の導体パターン前駆体付基板)50は、セラミックス成形体15上に導体パターン前駆体10が形成されている。
導体パターン前駆体10は、パッド膜11と配線膜12とを有している。なお、導体パターン前駆体10は、複数のパッド膜11および配線膜12とを有しているが、図1、2では、説明の都合上、それぞれ1つのパッド膜11および配線膜12を除き、図面への記載を省略している。
パッド膜11は、略円盤状をなす膜であり、焼結されることにより、パッド21を形成するものである。パッド21は、トランジスタやコンタクト(ビア)33等の電子部品と接続されるために設けられている。
As shown in FIGS. 1 and 2, a ceramic pattern with conductor pattern precursor (substrate with conductor pattern precursor of the present invention) 50 has a conductor pattern precursor 10 formed on a ceramic mold 15.
The conductor pattern precursor 10 has a pad film 11 and a wiring film 12. The conductor pattern precursor 10 has a plurality of pad films 11 and wiring films 12. However, in FIG. 1 and FIG. 2, for convenience of explanation, except for one pad film 11 and wiring film 12, respectively. Description in the drawing is omitted.
The pad film 11 is a film having a substantially disc shape, and forms the pad 21 by being sintered. The pad 21 is provided to be connected to an electronic component such as a transistor or a contact (via) 33.

ところで、従来の液滴吐出法で形成される導体パターン前駆体においては、導体パターン前駆体の膜の部位毎における厚さにむらが生じやすく、この結果、導体パターン前駆体を備える基材同士を積層して積層体を得た際に、積層体内で応力ひずみが生じ、この結果、得られる回路、配線で断線等が生じやすくなる問題があった。
そこで、本発明者らは、鋭意検討した結果、導体パターン前駆体10においてパッド膜11の中央部13の厚さをその周縁部14の厚さよりも小さいものとすることにより、導体パターン前駆体10を備える基材同士を積層して積層体としたときでも、積層体におけるひずみ(応力ひずみ)を抑制することができ、この結果、得られる導体パターン20は、断線が防止された信頼性の高いものとなることを見出した。
By the way, in the conductor pattern precursor formed by the conventional droplet discharge method, the thickness of each portion of the conductor pattern precursor film tends to be uneven. When a laminated body is obtained by laminating, stress strain occurs in the laminated body, and as a result, there is a problem that disconnection or the like is likely to occur in the obtained circuit and wiring.
Therefore, as a result of intensive studies, the present inventors have determined that the thickness of the central portion 13 of the pad film 11 in the conductive pattern precursor 10 is smaller than the thickness of the peripheral edge portion 14, whereby the conductive pattern precursor 10. Even when the base materials provided with each other are laminated to form a laminated body, strain (stress strain) in the laminated body can be suppressed, and as a result, the obtained conductor pattern 20 has high reliability in which disconnection is prevented. I found out that it would be something.

すなわち、一般にパッド膜は、他の電子部品と接続するために比較的面積が広いものである。このため、ただ単純に、インクを吐出した場合、インクの表面張力により、パッド膜の中央付近にインクが集中して厚さが大きくなりやすい。このような従来のパッド膜を有する導体パターン前駆体は、上記の積層体において、パッド膜の中心付近の厚さが、応力ひずみを引き起こす主要因となる。   That is, the pad film generally has a relatively large area for connection with other electronic components. For this reason, when ink is simply ejected, the ink tends to concentrate near the center of the pad film due to the surface tension of the ink, and the thickness tends to increase. In the conductor pattern precursor having such a conventional pad film, the thickness in the vicinity of the center of the pad film is a main factor causing stress strain in the above-described laminated body.

これに対し、本発明では、パッド膜11の中央部13の厚さが周縁部14よりも小さいことにより、全体としてパッド膜11が平坦化される。この結果、導体パターン前駆体10を有する基材を積層した場合であっても得られる積層体にひずみが起きにくく、この結果、最終的に得られる導体パターン20において断線が防止され、導体パターン20の信頼性が高いものとなる。   On the other hand, in the present invention, the thickness of the central portion 13 of the pad film 11 is smaller than that of the peripheral edge portion 14, so that the pad film 11 is planarized as a whole. As a result, even when the base material having the conductor pattern precursor 10 is laminated, the resulting laminate is less likely to be distorted. As a result, the conductor pattern 20 finally obtained is prevented from being disconnected, and the conductor pattern 20 The reliability will be high.

中央部13と周縁部14の厚さは、例えば、中央部13の平均厚さd[μm]と、周縁部14の平均厚さd[μm]とを比較することにより、比較することができる。
本発明においては、d/d<1.0の関係を満足するものであればよいが、0.6<d/d<0.95の関係を満足することが好ましく、0.8<d/d<0.95の関係を満足することがより好ましい。これにより、上述したような効果をより顕著に得ることができる。
The thickness of the central portion 13 and the peripheral portion 14 is, for example, the average thickness of the central portion 13 d C [μm], by comparing the average of the peripheral edge 14 thickness d E [μm], the comparing Can do.
In the present invention, any material satisfying the relationship of d C / d E <1.0 may be used, but it is preferable that the relationship of 0.6 <d C / d E <0.95 is satisfied. It is more preferable to satisfy the relationship of 8 <d C / d E <0.95. Thereby, the effects as described above can be obtained more remarkably.

なお、中央部13としては、パッド膜11において、パッド膜11と相似比が0.5の略相似形をなし、重心がパッド膜11の重心(本実施形態では中心O)にあり、かつ、パッド膜11と同一の角度で配置されている部位とすることができる。また、周縁部14としては、パッド膜11における中央部13以外の部位とすることができる。
また、パッド膜11は、その中央部13が厚さの最小値となる凹状をなしている。このような形状は、周縁部14が中央部13よりも厚くなることができるものである。
As the central portion 13, the pad film 11 has a substantially similar shape with a similarity ratio of 0.5 to the pad film 11, the center of gravity is at the center of gravity of the pad film 11 (center O in this embodiment), and It can be a part arranged at the same angle as the pad film 11. Further, the peripheral edge portion 14 can be a portion other than the central portion 13 in the pad film 11.
Further, the pad film 11 has a concave shape in which the central portion 13 has a minimum thickness. Such a shape is such that the peripheral edge portion 14 can be thicker than the central portion 13.

また、パッド膜11の厚さの最大値をdMAX[μm]、パッド膜11の平均厚さをd[μm]としたとき、1.00≦dMAX/d≦1.43の関係を満足することが好ましく、1.00≦dMAX/d≦1.20の関係を満足することがより好ましい。これにより、パッド膜11をより平坦とすることができ、このような導体パターン前駆体10を用いて形成される導体パターン20は、断線がより好適に防止され、信頼性のより高いものとなる。また、パッド膜11の一部が極端に突出することにより、例えば配線基板の製造時において隣接するセラミックス成形体15に損傷を与えたり、配線基板30に応力ひずみが生じ、この結果導体パターン20が断線したりすることを防止することができる。 Further, when the maximum thickness of the pad film 11 is d MAX [μm] and the average thickness of the pad film 11 is d P [μm], a relationship of 1.00 ≦ d MAX / d P ≦ 1.43 Is preferable, and it is more preferable to satisfy the relationship of 1.00 ≦ d MAX / d P ≦ 1.20. Thereby, the pad film 11 can be made flatter, and the conductor pattern 20 formed using such a conductor pattern precursor 10 is more preferably prevented from disconnection and more reliable. . Further, when a part of the pad film 11 protrudes extremely, for example, the adjacent ceramic molded body 15 is damaged during the production of the wiring board, or the stress distortion occurs in the wiring board 30. As a result, the conductor pattern 20 is formed. It is possible to prevent disconnection.

また、パッド膜11の厚さの最大値をdMAX[μm]は、9μm以上18μm以下であることが好ましく、11μm以上15μm以下であることがより好ましい。これにより、焼結後のパッド21が厚くなりすぎて、製造される配線基板30がひずむことを防止しつつ、十分な量の導体をパッド21と電子部品との接続に用いることができる。この結果、導体パターン前駆体10を用いて形成される導体パターン20は、信頼性がより高いものとなる。 Further, the maximum value of the thickness of the pad film 11, d MAX [μm] is preferably 9 μm or more and 18 μm or less, and more preferably 11 μm or more and 15 μm or less. As a result, a sufficient amount of conductor can be used for connection between the pad 21 and the electronic component while preventing the sintered pad 21 from becoming too thick and distorting the manufactured wiring board 30. As a result, the conductor pattern 20 formed using the conductor pattern precursor 10 has higher reliability.

また、パッド膜11の平均厚さをd[μm]は、7μm以上12.6μm以下であることが好ましく、9μm以上11.5μm以下であることがより好ましい。これにより、焼結後のパッド21が厚くなりすぎて、製造される配線基板30がひずむことを防止しつつ、十分な量の導体をパッド21と電子部品との接続に用いることができる。
また、パッド膜11は、導体パターン前駆体10の少なくとも1つについて上述したような関係を満足すればよいが、導体パターン前駆体10にあるパッド膜11のうち、50%以上が上述したような関係を満足することが好ましく、80%以上が上述したような関係を満足することがより好ましい。これにより、形成される導体パターンは、より信頼性の高いものとなる。
The average thickness d P [μm] of the pad film 11 is preferably 7 μm or more and 12.6 μm or less, and more preferably 9 μm or more and 11.5 μm or less. As a result, a sufficient amount of conductor can be used for connection between the pad 21 and the electronic component while preventing the sintered pad 21 from becoming too thick and distorting the manufactured wiring board 30.
Further, the pad film 11 may satisfy the above-described relationship with respect to at least one of the conductor pattern precursors 10, but 50% or more of the pad film 11 in the conductor pattern precursor 10 is as described above. It is preferable to satisfy the relationship, and 80% or more preferably satisfies the relationship as described above. Thereby, the formed conductor pattern becomes more reliable.

配線膜12は、パッド膜11と接するようにして設けられており、導体パターン20としたときに配線22となるものである。
このようなパッド膜11と配線膜12とにおいて、配線膜12の平均厚さよりも、前記パッド膜11の平均厚さが小さいことが好ましい。これにより、形成される導体パターン20において、断線がより確実に防止される。これに対し、配線膜12の平均厚さよりもパッド膜11の平均厚さが大きい場合、焼結時において、溶融した金属がその表面張力で、パッド膜11に集まりやすくなり、このため、配線膜12のパッド膜11付近の金属がパッド膜11に流出する結果、形成される導体パターン20において、パッド21と配線22との間で断線が発生しやすくなる。
The wiring film 12 is provided so as to be in contact with the pad film 11, and becomes the wiring 22 when the conductor pattern 20 is formed.
In such pad film 11 and wiring film 12, it is preferable that the average thickness of the pad film 11 is smaller than the average thickness of the wiring film 12. Thereby, in the formed conductor pattern 20, disconnection is prevented more reliably. On the other hand, when the average thickness of the pad film 11 is larger than the average thickness of the wiring film 12, the melted metal tends to gather in the pad film 11 due to its surface tension during sintering. As a result of the metal in the vicinity of the 12 pad films 11 flowing out to the pad film 11, disconnection is likely to occur between the pads 21 and the wirings 22 in the formed conductor pattern 20.

具体的には、配線膜12の平均厚さをd[μm]、パッド膜11の平均厚さをd[μm]としたとき、0.8≦d/d≦1.3の関係を満足することが好ましく、0.8≦d/d≦1.0の関係を満足することがより好ましい。これにより、形成される配線22とパッド21との間での断線をより確実に防止でき、この結果、形成される導体パターン20はより信頼性の高いものとなる。 Specifically, when the average thickness of the wiring film 12 is d W [μm] and the average thickness of the pad film 11 is d P [μm], 0.8 ≦ d P / d W ≦ 1.3 It is preferable to satisfy the relationship, and it is more preferable to satisfy the relationship of 0.8 ≦ d P / d W ≦ 1.0. As a result, disconnection between the formed wiring 22 and the pad 21 can be prevented more reliably, and as a result, the formed conductive pattern 20 becomes more reliable.

また、上述したようなパッド膜11と配線膜12との関係は、導体パターン前駆体10の少なくとも1つのパッド膜11と接続された配線膜12について上述したような関係を満足すればよいが、導体パターン前駆体10にあるパッド膜11と接続された配線膜12のうち、50%以上が上述したような関係を満足することが好ましく、80%以上が上述したような関係を満足することがより好ましい。これにより、形成される導体パターンは、より信頼性の高いものとなる。   Further, the relationship between the pad film 11 and the wiring film 12 as described above may satisfy the relationship as described above for the wiring film 12 connected to at least one pad film 11 of the conductor pattern precursor 10. Of the wiring film 12 connected to the pad film 11 in the conductor pattern precursor 10, it is preferable that 50% or more satisfy the relationship as described above, and 80% or more satisfy the relationship as described above. More preferred. Thereby, the formed conductor pattern becomes more reliable.

また、配線膜12の平均厚さは、7μm以上20μm以下であることが好ましく、10μm以上15μm以下であることがより好ましい。
導体パターン前駆体10は、前述した導体パターン形成用インクによって形成されたものであり、主として金属粒子によって構成されている。金属粒子としては、本実施形態においては、銀粒子が用いられている。
Further, the average thickness of the wiring film 12 is preferably 7 μm or more and 20 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 15 μm or less.
The conductor pattern precursor 10 is formed with the above-described conductor pattern forming ink, and is mainly composed of metal particles. As the metal particles, silver particles are used in the present embodiment.

また、導体パターン前駆体10は、導体パターン形成用インクの組成に応じて、表面張力調整剤、有機バインダー、乾燥抑制剤等を含んでいる。
セラミックス成形体15は、シート状をなしており、上述した導体パターン前駆体10を支持するものである。
また、セラミックス成形体15は、後述するように焼結処理され、セラミックス基板31となるものである。
Moreover, the conductor pattern precursor 10 contains a surface tension adjusting agent, an organic binder, a drying inhibitor, and the like according to the composition of the conductor pattern forming ink.
The ceramic molded body 15 has a sheet shape and supports the conductor pattern precursor 10 described above.
The ceramic molded body 15 is sintered as described later to become a ceramic substrate 31.

また、セラミックス成形体15は、アルミナ等のセラミックスとバインダーとを含む材料で構成されている。
セラミックス成形体15には、適宜貫通孔が設けられており、貫通孔には、コンタクト前駆体16が充填されている。
コンタクト前駆体16は、通常、複数の導体パターン前駆体付セラミックス成形体50を積層する際には、その露出部分が隣接する導体パターン前駆体付セラミックス成形体50のパッド膜11と接触するように配されている。このようなコンタクト前駆体16は、セラミックス成形体15が焼結されてセラミックス基板31となった際に、セラミックス基板31の両面にある導体パターン等を接続するコンタクトとして機能する。
The ceramic molded body 15 is made of a material containing ceramics such as alumina and a binder.
The ceramic molded body 15 is appropriately provided with a through hole, and the through hole is filled with a contact precursor 16.
Usually, when the contact precursor 16 laminates a plurality of ceramic molded bodies 50 with conductor pattern precursors, the exposed portion is in contact with the pad film 11 of the adjacent ceramic molded body 50 with conductor pattern precursors. It is arranged. Such a contact precursor 16 functions as a contact for connecting conductor patterns and the like on both surfaces of the ceramic substrate 31 when the ceramic molded body 15 is sintered into the ceramic substrate 31.

また、コンタクト前駆体16は、その表面(セラミックス成形体15からのコンタクト前駆体16の露出面)が凸状をなし、セラミックス成形体15から突出している。これにより、コンタクト前駆体16と、パッド21との接続不良がより確実に防止される。すなわち、上述したようなパッド膜11は、その中央部13の厚さが小さいことから、パッド膜11と他の電子部品とを接続する際には、その接続に用いられる導体が比較的少ないものである。しかしながら、コンタクト前駆体16の表面が凸状をなし、セラミックス成形体15から突出していることにより、コンタクト前駆体16とパッド膜11とが十分に接触できかつ、十分な導体が当該接触部位に供給されることから、形成される導体パターン20において、パッド21とコンタクト33との間での接続不良が防止される。なお、コンタクト前駆体16は凸状をなしているが、コンタクト前駆体16の凸状をなす部位が、周縁部14と比較して厚さの小さい中央部13と接触する。このため、導体パターン前駆体付セラミックス成形体50を積層した際に、積層体17において、コンタクト前駆体16の形状によってひずみが生じることが防止されている。   Further, the surface of the contact precursor 16 (exposed surface of the contact precursor 16 from the ceramic molded body 15) is convex and protrudes from the ceramic molded body 15. Thereby, the connection failure of the contact precursor 16 and the pad 21 is prevented more reliably. That is, since the pad film 11 as described above has a small thickness at the central portion 13, when the pad film 11 is connected to another electronic component, the number of conductors used for the connection is relatively small. It is. However, since the surface of the contact precursor 16 is convex and protrudes from the ceramic molded body 15, the contact precursor 16 and the pad film 11 can sufficiently contact and a sufficient conductor is supplied to the contact site. Therefore, poor connection between the pad 21 and the contact 33 in the formed conductor pattern 20 is prevented. Although the contact precursor 16 has a convex shape, the convex portion of the contact precursor 16 is in contact with the central portion 13 having a smaller thickness than the peripheral portion 14. For this reason, when the ceramic molded body 50 with a conductor pattern precursor is laminated, the laminated body 17 is prevented from being distorted by the shape of the contact precursor 16.

また、コンタクト前駆体16のセラミックス成形体15から突出した距離をd[μm]、パッド膜11の厚さの最大値をdMAX[μm]としたとき、0.05≦d/dMAX≦0.7の関係を満足することが好ましく、0.06≦d/dMAX≦0.3の関係を満足することがより好ましい。これにより、上述したような効果をより顕著に得ることができ、パッド21における接続不良がより確実に防止されるとともに、導体パターン前駆体付セラミックス成形体50を複数積層した際に、得られる積層体17にひずみが生じることをより確実に防止することができる。
なお、コンタクト前駆体16の構成材料としては、特に限定されないが、例えば、導体パターン前駆体10と同様の材料を用いることができる。
When the distance of the contact precursor 16 protruding from the ceramic molded body 15 is d V [μm] and the maximum thickness of the pad film 11 is d MAX [μm], 0.05 ≦ d V / d MAX It is preferable to satisfy the relationship of ≦ 0.7, and it is more preferable to satisfy the relationship of 0.06 ≦ d V / d MAX ≦ 0.3. As a result, the effects as described above can be obtained more remarkably, the connection failure in the pad 21 can be prevented more reliably, and the obtained laminate when the plurality of ceramic molded bodies 50 with conductor pattern precursors are laminated. It is possible to more reliably prevent the body 17 from being distorted.
In addition, although it does not specifically limit as a constituent material of the contact precursor 16, For example, the material similar to the conductor pattern precursor 10 can be used.

《導体パターンおよび配線基板》
次に、本発明の導体パターンおよび配線基板について説明する。
図3に示すように、配線基板(セラミックス回路基板、本発明の配線基板)30は、セラミックス基板31が多数(例えば10枚から20枚程度)積層されてなる積層基板32と、この積層基板32の最外層、すなわち一方の側の表面に形成された、微細配線等からなる導体パターン(回路)20Aとを有して形成されたものである。
<< Conductor pattern and wiring board >>
Next, the conductor pattern and wiring board of the present invention will be described.
As shown in FIG. 3, a wiring board (ceramic circuit board, wiring board of the present invention) 30 includes a laminated board 32 in which a large number (for example, about 10 to 20) of ceramic boards 31 are laminated, and the laminated board 32. And a conductor pattern (circuit) 20A made of fine wiring or the like formed on the outermost layer, that is, the surface on one side.

積層基板32は、積層されたセラミックス基板31、31間に、導体パターン前駆体10により形成された導体パターン(回路、本発明の導体パターン)20を備えている。
導体パターン20は、上述したような導体パターン前駆体10を加熱する(焼結する)ことにより形成される薄膜状の導体パターンであって、銀粒子が相互に結合されてなり、少なくとも導体パターン表面において前記銀粒子同士が隙間なく結合している。
The laminated substrate 32 includes a conductor pattern (circuit, conductor pattern of the present invention) 20 formed by the conductor pattern precursor 10 between the laminated ceramic substrates 31 and 31.
The conductor pattern 20 is a thin-film conductor pattern formed by heating (sintering) the conductor pattern precursor 10 as described above, and silver particles are bonded to each other. The silver particles are bonded together without any gaps.

図3に示すように、導体パターン20は、パッド21と、配線22とを有しており、セラミックス基板31上に配置されている。
導体パターン20は、パッド21と配線22とを有している。パッド21および配線22は、それぞれ、焼結前のパッド膜11および配線膜12に対応する。
パッド21は、パッド膜11により形成されたものである。このため、導体パターン20およびこのような導体パターン20を備える配線基板30は、断線が抑制されており、信頼性が高いものである。
As shown in FIG. 3, the conductor pattern 20 has a pad 21 and a wiring 22 and is disposed on a ceramic substrate 31.
The conductor pattern 20 has a pad 21 and a wiring 22. The pad 21 and the wiring 22 correspond to the pad film 11 and the wiring film 12 before sintering, respectively.
The pad 21 is formed by the pad film 11. For this reason, the conductor pattern 20 and the wiring board 30 provided with such a conductor pattern 20 are suppressed in disconnection and have high reliability.

導体パターン20の比抵抗は、20μΩcm未満であることが好ましく、15μΩcm以下であることがより好ましい。このときの比抵抗は、インクの付与後、160℃で加熱、乾燥した後の比抵抗をいう。上記比抵抗が20μΩcm以上になると、導電性が要求される用途、すなわち回路基板上に形成する電極等に用いることが困難となる。
なお、上記のような導体パターン20は、携帯電話やPDA等の移動通話機器の高周波モジュール、インターポーザー、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)、加速度センサー、弾性表面波素子、アンテナや櫛歯電極等の異形電極、その他各種計測装置等の電子部品等に適用することができる。
The specific resistance of the conductor pattern 20 is preferably less than 20 μΩcm, and more preferably 15 μΩcm or less. The specific resistance at this time refers to the specific resistance after heating and drying at 160 ° C. after ink application. When the specific resistance is 20 μΩcm or more, it becomes difficult to use it for applications requiring electrical conductivity, that is, for electrodes formed on a circuit board.
The conductor pattern 20 as described above is used for high-frequency modules, interposers, MEMS (Micro Electro Mechanical Systems), acceleration sensors, surface acoustic wave elements, antennas, comb electrodes, and the like of mobile telephones such as mobile phones and PDAs. The present invention can be applied to deformed electrodes and other electronic parts such as various measuring devices.

なお、導体パターン前駆体10は、焼結処理として160℃以上で20分以上の条件で加熱することにより、導体パターン20となる。なお、この導体パターン前駆体10の焼結は、後述するようにセラミックス成形体15の脱脂、焼結とともに行うことができる。
なお、導体パターン20Aも、導体パターン20と同様に、本発明の導体パターン前駆体10により形成されたものとなっている。
In addition, the conductor pattern precursor 10 becomes the conductor pattern 20 by heating on the conditions of 160 degreeC or more and 20 minutes or more as a sintering process. The conductor pattern precursor 10 can be sintered together with degreasing and sintering of the ceramic molded body 15 as described later.
The conductor pattern 20 </ b> A is also formed by the conductor pattern precursor 10 of the present invention, like the conductor pattern 20.

また、セラミックス基板31には、導体パターン20に接続するコンタクト(ビア)33が形成されている。このような構成によって導体パターン20は、上下に配置された導体パターン20、20間が、コンタクト33によって導通したものとなっている。
また、コンタクト33は、上述したコンタクト前駆体16が焼成されて形成されたものである。コンタクト前駆体16は、その表面が凸状をなしているため、パッド膜11と接触しやすく、コンタクト33とパッド21との接続不良が好適に防止されている。このため、配線基板30は、接続不良がより確実に抑制された、信頼性が高いものとなっている。
また、上述したような配線基板30は、各種の電子機器に用いられる電子部品となるものであり、各種配線や電極等からなる回路パターン、積層セラミックスコンデンサ、積層インダクター、LCフィルタ、複合高周波部品等を基板に形成してなるものである。
In addition, a contact (via) 33 connected to the conductor pattern 20 is formed on the ceramic substrate 31. With such a configuration, the conductor pattern 20 is electrically connected by the contact 33 between the conductor patterns 20 and 20 disposed above and below.
The contact 33 is formed by firing the contact precursor 16 described above. Since the contact precursor 16 has a convex surface, it is easy to contact the pad film 11, and a connection failure between the contact 33 and the pad 21 is preferably prevented. For this reason, the wiring board 30 has high reliability in which connection failures are more reliably suppressed.
The wiring board 30 as described above is an electronic component used in various electronic devices, such as circuit patterns composed of various wirings, electrodes, etc., multilayer ceramic capacitors, multilayer inductors, LC filters, composite high-frequency components, and the like. Is formed on a substrate.

《配線基板の製造方法》
次に、本発明の配線基板の製造方法を、図4の概略工程図を参照して説明する。
本発明の配線基板の製造方法は、シート状の基板を複数準備する工程と、前記基板のうち少なくとも1つの表面上に、金属粒子と前記金属粒子が分散する分散媒とを含む導体パターン形成用インクを液滴吐出法により吐出して、導体パターン前駆体を形成する工程と、複数の前記基板を積層して積層体を得る工程と、前記積層体を加熱して、導体パターンおよび基板とを有する配線基板を得る工程とを有している。
<Method for manufacturing wiring board>
Next, the manufacturing method of the wiring board of this invention is demonstrated with reference to the schematic process drawing of FIG.
The method for manufacturing a wiring board according to the present invention is for forming a conductor pattern including a step of preparing a plurality of sheet-like substrates, and a metal particle and a dispersion medium in which the metal particles are dispersed on at least one surface of the substrate. A step of forming a conductor pattern precursor by discharging ink by a droplet discharge method; a step of obtaining a laminate by laminating a plurality of the substrates; and heating the laminate to obtain a conductor pattern and a substrate. And obtaining a wiring board having the same.

そして、本発明の配線基板の製造方法では、前記導体パターン前駆体は、導体パターンとしたときにパッドとなるパッド膜を有し、前記パッド膜は、その中央部の厚さがその周縁部の厚さより小さいものである。
さらに、本発明の配線基板の製造方法では、前記基板のうち少なくとも1つには、少なくとも1つの貫通孔が設けられており、かつ、前記貫通孔はその表面が凸状をなすコンタクトまたはその前駆体が充填されており、基板の積層時において、前記コンタクトまたはその前駆体は、凸状をなす部位が前記パッド膜と接触するように配置される。
And in the manufacturing method of the wiring board of this invention, the said conductor pattern precursor has a pad film used as a pad when it is set as a conductor pattern, and the said pad film has the thickness of the center part of the peripheral part. It is smaller than the thickness.
Furthermore, in the method for manufacturing a wiring board according to the present invention, at least one of the substrates is provided with at least one through hole, and the through hole has a convex surface or a precursor thereof. The contact or the precursor thereof is disposed such that the convex portion contacts the pad film when the substrates are stacked.

以下、各工程について詳細に説明する。
[グリーンシート形成工程(基板準備工程)]
まず、原料粉体として、平均粒径が1μm以上2μm以下のアルミナ(Al2O3)や酸化チタン(TiO2)等からなるセラミックス粉末(セラミックス材料)と、平均粒径が1μm以上2μm以下のホウ珪酸ガラス等からなるガラス粉末とを用意し、これらを適宜な混合比、例えば1:1の重量比で混合する。
Hereinafter, each step will be described in detail.
[Green sheet formation process (substrate preparation process)]
First, as a raw material powder, ceramic powder (ceramic material) made of alumina (Al 2 O 3) or titanium oxide (TiO 2) having an average particle diameter of 1 μm to 2 μm, borosilicate glass having an average particle diameter of 1 μm to 2 μm, and the like Are prepared and mixed at an appropriate mixing ratio, for example, a weight ratio of 1: 1.

次に、得られた混合粉末に適宜なバインダー(結合剤)や可塑剤、有機溶剤(分散剤)等を加え、混合・撹拌することにより、スラリーを得る。ここで、バインダーとしては、ポリビニルブチラールが好適に用いられるが、これは水に不溶であり、かつ、いわゆる油系の有機溶媒に溶解しあるいは膨潤し易いものである。
次に、得られたスラリーを、ドクターブレード、リバースコーター等を用いてPETフィルム上にシート状に形成し、製品の製造条件に応じて数μm以上数百μm以下の厚さのシートに成形し、その後、ロールに巻き取る。
Next, a suitable binder (binder), a plasticizer, an organic solvent (dispersant), etc. are added to the obtained mixed powder, and a slurry is obtained by mixing and stirring. Here, polyvinyl butyral is preferably used as the binder, but it is insoluble in water and easily dissolved or swelled in a so-called oil-based organic solvent.
Next, the resulting slurry is formed into a sheet on a PET film using a doctor blade, reverse coater, etc., and formed into a sheet having a thickness of several μm or more and several hundreds μm or less depending on the manufacturing conditions of the product. Then, it is wound on a roll.

続いて、製品の用途に合わせて切断し、さらに所定寸法のシートに裁断する。本実施形態では、例えば1辺の長さを200mmとする正方形状に裁断する。
次に、必要に応じて所定の位置に、COレーザー、YAGレーザー、機械式パンチ等によって孔開けを行うことでスルーホール(貫通孔)を形成する。
そして、このスルーホールに、金属粒子が分散した厚膜導電ペーストを充填することにより、コンタクトとなるべき部位(コンタクト前駆体16)を形成する。コンタクト前駆体16は、その表面が凸状をなすように形成する。なお、厚膜導電ペーストとしては、前述したような導体パターン形成用インクを用いることができる。
以上により、複数の基板(セラミックス成形体15)を準備する。
Subsequently, the sheet is cut according to the use of the product, and further cut into a sheet having a predetermined size. In this embodiment, for example, it is cut into a square shape having a side length of 200 mm.
Next, a through hole (through hole) is formed at a predetermined position by drilling with a CO 2 laser, a YAG laser, a mechanical punch or the like as necessary.
Then, by filling the through hole with a thick film conductive paste in which metal particles are dispersed, a portion to be a contact (contact precursor 16) is formed. The contact precursor 16 is formed so that the surface thereof is convex. As the thick film conductive paste, the above-described ink for forming a conductor pattern can be used.
Thus, a plurality of substrates (ceramic compact 15) are prepared.

[導体パターン前駆体形成工程]
以上のようにして得られたセラミックス成形体15の一方の側の表面に、導体パターン20となる導体パターン前駆体10を、コンタクト前駆体16に連続した状態に形成する。すなわち、図5(a)に示すようにセラミックス成形体15上に、前述したような導体パターン形成用インク(以下単にインクともいう)200を液滴吐出(インクジェット)法により付与し、前記導体パターン20となる前駆体10を形成する。これにより、前駆体10を備えた導体パターン前駆体付セラミックス成形体50が得られる。
[Conductor pattern precursor forming step]
On the surface of one side of the ceramic molded body 15 obtained as described above, the conductor pattern precursor 10 to be the conductor pattern 20 is formed in a state continuous with the contact precursor 16. That is, as shown in FIG. 5A, a conductive pattern forming ink (hereinafter also simply referred to as ink) 200 as described above is applied onto the ceramic molded body 15 by a droplet discharge (inkjet) method, and the conductive pattern is formed. A precursor 10 to be 20 is formed. Thereby, the ceramic molded body 50 with a conductor pattern precursor provided with the precursor 10 is obtained.

本実施形態において、導体パターン形成用インクの吐出は、例えば図6および図7に示すインクジェット装置(液滴吐出装置)100を用いることにより行うことができる。以下に、インクジェット装置100について説明する。
図6は、インクジェット装置100の斜視図である。図6において、X方向はベース130の左右方向であり、Y方向は前後方向であり、Z方向は上下方向である。
In the present embodiment, the conductive pattern forming ink can be discharged by using, for example, an ink jet apparatus (droplet discharge apparatus) 100 shown in FIGS. 6 and 7. Hereinafter, the inkjet apparatus 100 will be described.
FIG. 6 is a perspective view of the inkjet apparatus 100. In FIG. 6, the X direction is the left-right direction of the base 130, the Y direction is the front-rear direction, and the Z direction is the up-down direction.

インクジェット装置100は、図7に示すインクジェットヘッド(液滴吐出ヘッド。以下、単にヘッドと呼ぶ)110と、ベース130と、テーブル140と、制御装置190と、テーブル位置決め手段170と、ヘッド位置決め手段180とを有している。
ベース130は、テーブル140、テーブル位置決め手段170、およびヘッド位置決め手段180等の液滴吐出装置100の各構成部材を支持する台である。
The ink jet apparatus 100 includes an ink jet head (droplet discharge head; hereinafter simply referred to as a head) 110, a base 130, a table 140, a control device 190, a table positioning means 170, and a head positioning means 180 shown in FIG. And have.
The base 130 is a table that supports each component of the droplet discharge device 100 such as the table 140, the table positioning unit 170, and the head positioning unit 180.

テーブル140は、テーブル位置決め手段170を介してベース130に設置されている。また、テーブル140は、基材S(本実施形態ではセラミックス成形体15)を載置するものである。
また、テーブル140の裏面には、ラバーヒータ(図示せず)が配設されている。テーブル140上に載置されたセラミックス成形体15は、その上面全体がラバーヒータにて所定の温度に加熱されるようになっている。
The table 140 is installed on the base 130 via the table positioning means 170. The table 140 is used for placing the substrate S (the ceramic molded body 15 in this embodiment).
A rubber heater (not shown) is disposed on the back surface of the table 140. The ceramic molded body 15 placed on the table 140 is heated to a predetermined temperature by a rubber heater over the entire upper surface thereof.

セラミックス成形体15に着弾したインク200は、その表面側から水系分散媒の少なくとも一部が蒸発する。このとき、セラミックス成形体15は加熱されているので、水系分散媒の蒸発が促進される。そして、セラミックス成形体15に着弾したインク200は、乾燥とともにその表面の外縁から増粘し、つまり、中央部に比べて外周部における固形分(粒子)濃度が速く飽和濃度に達することから表面の外縁から増粘していく。外縁の増粘したインク200は、セラミックス成形体15の面方向に沿う自身の濡れ広がりを停止するため、着弾径しいては線幅の制御が容易になる。   At least a part of the aqueous dispersion medium evaporates from the surface side of the ink 200 landed on the ceramic molded body 15. At this time, since the ceramic molded body 15 is heated, evaporation of the aqueous dispersion medium is promoted. The ink 200 that has landed on the ceramic molded body 15 is thickened from the outer edge of the surface as it dries. That is, the solid content (particles) concentration in the outer peripheral portion reaches a saturation concentration faster than the central portion. Thicken from the outer edge. Since the ink 200 having a thickened outer edge stops its own wetting and spreading along the surface direction of the ceramic molded body 15, it is easy to control the line width with respect to the landing diameter.

セラミックス成形体15の加熱温度としては、例えば、40℃以上100℃以下で行うのが好ましく、50℃以上70℃以下で行うのがより好ましい。このような条件とすることにより、水系分散媒が蒸発した際に、クラックが発生するのをより効果的に防止することができる。
テーブル位置決め手段170は、第1移動手段171と、モータ172とを有している。テーブル位置決め手段170は、ベース130におけるテーブル140の位置を決定し、これにより、ベース130におけるセラミックス成形体15の位置を決定する。
The heating temperature of the ceramic molded body 15 is preferably 40 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, and more preferably 50 ° C. or higher and 70 ° C. or lower. By setting it as such conditions, when an aqueous dispersion medium evaporates, it can prevent more effectively that a crack generate | occur | produces.
The table positioning unit 170 includes a first moving unit 171 and a motor 172. The table positioning means 170 determines the position of the table 140 on the base 130, and thereby determines the position of the ceramic molded body 15 on the base 130.

第1移動手段171は、Y方向と略平行に設けられた2本のレールと、当該レール上を移動する支持台とを有している。第1移動手段171の支持台は、モータ172を介してテーブル140を支持している。そして、支持台がレール上を移動することにより、基材Sを載置するテーブル140は、Y方向に移動および位置決めされる。
モータ172は、テーブル140を支持しており、θz方向にテーブル140を揺動および位置決めする。
The first moving means 171 has two rails provided substantially parallel to the Y direction and a support base that moves on the rails. The support base of the first moving means 171 supports the table 140 via the motor 172. Then, as the support base moves on the rail, the table 140 on which the base material S is placed is moved and positioned in the Y direction.
The motor 172 supports the table 140 and swings and positions the table 140 in the θz direction.

ヘッド位置決め手段180は、第2移動手段181と、リニアモータ182と、モータ183、184、185とを有している。ヘッド位置決め手段180は、ヘッド110の位置を決定する。
第2移動手段181は、ベース130から立設する2本の支持柱と、当該支持柱同士の間に当該支持柱に支持されて設けられ、2本のレールを有するレール台と、レールに沿って移動可能でヘッド110を支持する支持部材(図示せず)とを有している。そして、支持部材がレールに沿って移動することにより、ヘッド110は、X方向に移動および位置決めされる。
The head positioning unit 180 includes a second moving unit 181, a linear motor 182, and motors 183, 184 and 185. The head positioning unit 180 determines the position of the head 110.
The second moving means 181 is provided with two support pillars standing from the base 130, a support base provided between the support pillars, the rail support having two rails, and the rails. And a support member (not shown) for supporting the head 110. Then, as the support member moves along the rail, the head 110 is moved and positioned in the X direction.

リニアモータ182は、支持部材付近に設けられており、ヘッド110のZ方向の移動および位置決めをすることができる。
モータ183、184、185は、ヘッド110を、それぞれα,β,γ方向に揺動および位置決めする。
以上のようなテーブル位置決め手段170およびヘッド位置決め手段180とにより、インクジェット装置100は、ヘッド110のインク吐出面115Pと、テーブル140上の基材Sとの相対的な位置および姿勢を、正確にコントロールできるようになっている。
The linear motor 182 is provided in the vicinity of the support member, and can move and position the head 110 in the Z direction.
Motors 183, 184, and 185 swing and position the head 110 in the α, β, and γ directions, respectively.
By the table positioning unit 170 and the head positioning unit 180 as described above, the ink jet apparatus 100 accurately controls the relative position and posture of the ink ejection surface 115P of the head 110 and the base material S on the table 140. It can be done.

図7に示すように、ヘッド110は、インクジェット方式(液滴吐出方式)によってインク200をノズル(突出部)118から吐出するものである。本実施形態では、ヘッド110は、圧電体素子としてのピエゾ素子113を用いてインクを吐出させるピエゾ方式を用いている。ピエゾ方式は、インク200に熱を加えないため、材料の組成に影響を与えないなどの利点を有する。   As shown in FIG. 7, the head 110 ejects the ink 200 from the nozzles (protruding portions) 118 by an inkjet method (droplet ejection method). In the present embodiment, the head 110 uses a piezo method in which ink is ejected using a piezo element 113 as a piezoelectric element. The piezo method has an advantage that the composition of the material is not affected because heat is not applied to the ink 200.

ヘッド110は、ヘッド本体111と、振動板112と、ピエゾ素子113とを有している。
ヘッド本体111は、本体114と、その下端面にノズルプレート115とを有している。そして、本体114を板状のノズルプレート115と振動板112とが挟み込むことにより、空間としてのリザーバ116およびリザーバ116から分岐した複数のインク室117が形成されている。
The head 110 has a head body 111, a diaphragm 112, and a piezo element 113.
The head main body 111 has a main body 114 and a nozzle plate 115 on the lower end surface thereof. Then, the main body 114 is sandwiched between the plate-like nozzle plate 115 and the vibration plate 112, whereby a reservoir 116 as a space and a plurality of ink chambers 117 branched from the reservoir 116 are formed.

リザーバ116には、図示せぬインクタンクよりインク200が供給される。リザーバ116は、各インク室117にインク200を供給するための流路を形成している。
また、ノズルプレート115は、本体114の下端面に装着されており、インク吐出面115Pを構成している。このノズルプレート115には、インク200を吐出する複数のノズル118が、各インク室117に対応して開口されている。そして、各インク室117から対応するノズル118に向かって、インク流路が形成されている。
Ink 200 is supplied to the reservoir 116 from an ink tank (not shown). The reservoir 116 forms a flow path for supplying the ink 200 to each ink chamber 117.
The nozzle plate 115 is attached to the lower end surface of the main body 114 and constitutes an ink ejection surface 115P. In the nozzle plate 115, a plurality of nozzles 118 that discharge the ink 200 are opened corresponding to the ink chambers 117. An ink flow path is formed from each ink chamber 117 toward the corresponding nozzle 118.

振動板112は、ヘッド本体111の上端面に装着されており、各インク室117の壁面を構成している。振動板112は、ピエゾ素子113の振動に応じて振動可能となっている。
ピエゾ素子113は、その振動板112のヘッド本体111と反対側に、各インク室117に対応して設けられている。ピエゾ素子113は、水晶等の圧電材料を一対の電極(不図示)で挟持したものである。その一対の電極は、駆動回路191に接続されている。
The diaphragm 112 is attached to the upper end surface of the head body 111 and constitutes the wall surface of each ink chamber 117. The diaphragm 112 can vibrate according to the vibration of the piezo element 113.
The piezo element 113 is provided corresponding to each ink chamber 117 on the opposite side of the vibration plate 112 from the head body 111. The piezoelectric element 113 is obtained by sandwiching a piezoelectric material such as quartz with a pair of electrodes (not shown). The pair of electrodes is connected to the drive circuit 191.

そして、駆動回路191からピエゾ素子113に電気信号を入力すると、ピエゾ素子113が膨張変形または収縮変形する。ピエゾ素子113が収縮変形すると、インク室117の圧力が低下して、リザーバ116からインク室117にインク200が流入する。また、ピエゾ素子113が膨張変形すると、インク室117の圧力が増加して、ノズル118からインク200が吐出される。なお、印加電圧を変化させることにより、ピエゾ素子113の変形量を制御することができる。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子113の変形速度を制御することができる。すなわち、ピエゾ素子113への印加電圧を制御することにより、インク200の吐出条件を制御し得るようになっている。   When an electric signal is input from the drive circuit 191 to the piezo element 113, the piezo element 113 is expanded or contracted. When the piezo element 113 contracts and deforms, the pressure in the ink chamber 117 decreases, and the ink 200 flows from the reservoir 116 into the ink chamber 117. When the piezo element 113 expands and deforms, the pressure in the ink chamber 117 increases and the ink 200 is ejected from the nozzle 118. Note that the amount of deformation of the piezo element 113 can be controlled by changing the applied voltage. Further, the deformation speed of the piezo element 113 can be controlled by changing the frequency of the applied voltage. That is, by controlling the voltage applied to the piezo element 113, the ejection conditions of the ink 200 can be controlled.

制御装置190は、インクジェット装置100の各部位を制御する。例えば、駆動回路191で生成する印加電圧の波形を調節してインク200の吐出条件を制御したり、ヘッド位置決め手段180およびテーブル位置決め手段170を制御することにより基板Sへのインク200の吐出位置を制御したりする。
以上のようなインクジェット装置100を用いることにより、インク200を、セラミックス成形体15(基材S)上の所望する場所に所望の量、精度良く吐出し、配することができる。さらに、インク200は、導体パターン形成用インクであるので、図5(a)に示したように導体パターン前駆体10を、精度良くしかも容易に形成することができる。
The control device 190 controls each part of the inkjet device 100. For example, the discharge position of the ink 200 on the substrate S is controlled by adjusting the waveform of the applied voltage generated by the drive circuit 191 to control the discharge condition of the ink 200 or by controlling the head positioning unit 180 and the table positioning unit 170. Or control.
By using the ink jet apparatus 100 as described above, the ink 200 can be discharged and arranged with a desired amount and accuracy in a desired place on the ceramic molded body 15 (base material S). Furthermore, since the ink 200 is a conductor pattern forming ink, the conductor pattern precursor 10 can be accurately and easily formed as shown in FIG.

なお、形成した導体パターン前駆体10について、さらに乾燥処理を行ってもよい。乾燥処理は、上記の液滴吐出時におけるセラミックス成形体15の加熱温度と同様の条件で行うことができる。
導体パターン前駆体10の厚さの調整は、インク200の吐出条件を設定することにより行うことができる。すなわち、導体パターン前駆体10の厚さが大きい部位を形成する場合には、当該部位の面積当たりのインク200の吐出量(または液滴数)を大きいものとし、一方で、導体パターン前駆体10の厚さが小さい部位を形成する場合には、当該部位の面積当たりのインク200の吐出量(または液滴数)を小さいものとすることで行うことができる。
In addition, you may perform a drying process about the formed conductor pattern precursor 10. FIG. The drying process can be performed under the same conditions as the heating temperature of the ceramic molded body 15 at the time of droplet discharge.
Adjustment of the thickness of the conductor pattern precursor 10 can be performed by setting the discharge conditions of the ink 200. That is, when forming a portion where the thickness of the conductor pattern precursor 10 is large, the ejection amount (or the number of droplets) of the ink 200 per area of the portion is made large, while the conductor pattern precursor 10 In the case where a portion having a small thickness is formed, the discharge amount (or the number of droplets) of the ink 200 per area of the portion can be reduced.

また、液滴吐出方法によりインク200を付与してから、セラミックス成形体15を加熱して水等の分散媒を蒸発させ、当該加熱後の導体パターン前駆体10の上に再度インク200を付与する、といった工程を繰り返し行うことで、厚膜の導体パターン前駆体10を形成してもよい。このような場合、セラミックス成形体15に一旦付与されたインク200の粘度が上昇することから、インク200がセラミックス成形体15上に過度に濡れ広がることを防止し、導体パターン前駆体10の厚さ、線幅等をより精度よく目的のものとすることができる。   Further, after applying the ink 200 by the droplet discharge method, the ceramic molded body 15 is heated to evaporate the dispersion medium such as water, and the ink 200 is applied again onto the heated conductor pattern precursor 10. The thick film conductor pattern precursor 10 may be formed by repeatedly performing the above-described processes. In such a case, since the viscosity of the ink 200 once applied to the ceramic molded body 15 is increased, the ink 200 is prevented from excessively spreading on the ceramic molded body 15, and the thickness of the conductor pattern precursor 10 is increased. In addition, the line width and the like can be made more accurate.

また、分散媒を蒸発させた後のインク200に乾燥抑制剤が含まれる場合、形成された導体パターン前駆体10が完全に乾燥しない状態でもパターンが流失してしまうおそれがない。従って、一旦、インク200を付与して乾燥してから長時間放置し、その後、再度インク200を付与することが可能になる。
また、上述したような有機バインダーをインク200が含む場合、有機バインダー(特に、ポリグリセリン化合物)は、化学的、物理的に安定な化合物であるので、インクを付与して乾燥してから長時間放置してもインクが変質するおそれがなく、再度インクを付与することが可能になり、均質なパターンを形成できる。これにより、導体パターン前駆体10自体が多層構造になるおそれがなく、この結果、層間同士の間の比抵抗が上昇して導体パターン20全体の比抵抗が増大するおそれがない。
Further, when the drying inhibitor is included in the ink 200 after the dispersion medium is evaporated, there is no possibility that the pattern is washed away even when the formed conductor pattern precursor 10 is not completely dried. Accordingly, it is possible to apply the ink 200 once, dry it, leave it for a long time, and then apply the ink 200 again.
Further, when the ink 200 includes the organic binder as described above, the organic binder (particularly, the polyglycerin compound) is a chemically and physically stable compound. Therefore, the ink 200 is applied and dried for a long time. Even if it is left as it is, there is no possibility that the ink is denatured, it becomes possible to apply ink again, and a uniform pattern can be formed. Thereby, there is no possibility that the conductor pattern precursor 10 itself has a multilayer structure, and as a result, there is no possibility that the specific resistance between the layers increases and the specific resistance of the entire conductor pattern 20 increases.

上記の工程を経ることによって、本実施形態の導体パターン(回路)20は、従来のインクによって形成された導体パターンに比べて厚く形成することができる。より具体的には5μm以上の厚みのものを形成することができる。
また、インク200の吐出前において、セラミックス成形体15のインク200の塗布部分に適宜親液化処理等を行ってもよい。これにより、インク200が目的とする部位以外に濡れ広がることを防止することができ、微細なパターンを形成することが可能となるとともに、導体パターン前駆体10の各部位の厚さの調節を容易に行うことができる。
Through the above steps, the conductor pattern (circuit) 20 of the present embodiment can be formed thicker than a conductor pattern formed by conventional ink. More specifically, a film having a thickness of 5 μm or more can be formed.
In addition, before the ink 200 is discharged, a lyophilic treatment or the like may be appropriately performed on the portion of the ceramic molded body 15 to which the ink 200 is applied. Accordingly, it is possible to prevent the ink 200 from spreading out other than the target portion, and it is possible to form a fine pattern and to easily adjust the thickness of each portion of the conductor pattern precursor 10. Can be done.

また、セラミックス成形体15のインク200が付着しない場所に対し、撥液化処理を行うものであってもよい。これにより、初液処理が行なわれた部位にインク200が付着することを防止し、最終的に得られる導体パターン20において、不本意な短絡等を防止することができる。
このようにして導体パターン前駆体10を形成したら、同様の工程により、導体パターン前駆体10を形成したセラミックス成形体15を必要枚数、例えば10枚から20枚程度作製する。
In addition, a liquid repellent treatment may be performed on the ceramic molded body 15 where the ink 200 does not adhere. Thereby, it is possible to prevent the ink 200 from adhering to the site where the initial liquid treatment has been performed, and to prevent an unintentional short circuit or the like in the finally obtained conductor pattern 20.
After the conductor pattern precursor 10 is formed in this way, the required number of ceramic molded bodies 15 on which the conductor pattern precursor 10 is formed, for example, about 10 to 20 are produced by the same process.

[積層工程]
次いで、これらセラミックス成形体15からPETフィルムを剥がし、図5(b)に示すようにこれらを積層することにより、積層体17を得る。
この際に、積層するセラミックス成形体15については、上下に重ねられるセラミックス成形体15間で、それぞれの導体パターン前駆体10が必要に応じてコンタクト前駆体16を介して接続するように配置する。
[Lamination process]
Next, the PET film is peeled off from these ceramic molded bodies 15, and these are laminated as shown in FIG.
At this time, the ceramic molded bodies 15 to be laminated are arranged so that the conductor pattern precursors 10 are connected via the contact precursors 16 as necessary between the ceramic molded bodies 15 stacked one above the other.

また、この際に、セラミックス成形体15の積層時において、前記コンタクト前駆体16は、凹状をなす部位が隣接するセラミックス成形体15に設けられたパッド膜11と接触するように配置される。これにより、比較的厚いパッド膜11によって、積層体17にひずみが生じることが防止され、ひずみに起因した導体パターン20の接続不良や、断線が防止される。
その後、セラミックス成形体15を構成するバインダーのガラス転移点以上に加熱しつつ、各セラミックス成形体15同士を圧着する。これにより、積層体17を得る。
At this time, when the ceramic molded body 15 is laminated, the contact precursor 16 is disposed so that the concave portion is in contact with the pad film 11 provided on the adjacent ceramic molded body 15. As a result, the relatively thick pad film 11 prevents the multilayer body 17 from being distorted, thereby preventing connection failure and disconnection of the conductor pattern 20 due to the distortion.
Thereafter, the ceramic compacts 15 are pressure-bonded to each other while being heated to a glass transition point or higher of the binder constituting the ceramic compact 15. Thereby, the laminated body 17 is obtained.

[加熱工程]
このようにして積層体17を形成したら、例えば、ベルト炉などによって加熱処理する。これにより、各セラミックス成形体15は焼結されることで、図3に示すようにセラミックス基板31となり、また、導体パターン前駆体10は、これを構成する銀コロイド粒子が焼結して配線パターンや電極パターンからなる導体パターン(回路)20となる。そして、このように積層体17が加熱処理されることで、この積層体17は図3に示した積層基板32となる。
[Heating process]
When the laminate 17 is formed in this way, for example, heat treatment is performed by a belt furnace or the like. As a result, each ceramic molded body 15 is sintered to become a ceramic substrate 31 as shown in FIG. 3, and the conductor pattern precursor 10 has a wiring pattern formed by sintering silver colloidal particles constituting it. Or a conductor pattern (circuit) 20 composed of an electrode pattern. And the laminated body 17 becomes the laminated substrate 32 shown in FIG. 3 by heat-processing the laminated body 17 in this way.

ここで、積層体17の加熱温度としては、セラミックス成形体15中に含まれるガラスの軟化点以上とするのが好ましく、具体的には、600℃以上900℃以下とするのが好ましい。また、加熱条件としては、適宜な速度で温度を上昇させ、かつ下降させるようにし、さらに、最大加熱温度、すなわち前記の600℃以上900℃以下の温度では、その温度に応じて適宜な時間保持するようにする。   Here, the heating temperature of the laminated body 17 is preferably not less than the softening point of the glass contained in the ceramic molded body 15, and specifically not less than 600 ° C. and not more than 900 ° C. As heating conditions, the temperature is raised and lowered at an appropriate rate, and the maximum heating temperature, that is, the temperature of 600 ° C. to 900 ° C. is maintained for an appropriate time according to the temperature. To do.

このようにガラスの軟化点以上の温度、すなわち前記温度範囲にまで加熱温度を上げることにより、得られるセラミックス基板31のガラス成分を軟化させることができる。したがって、その後常温にまで冷却し、ガラス成分を硬化させることにより、積層基板32を構成する各セラミックス基板31と導体パターン(回路)20との間がより強固に固着するようになる。また、このような温度範囲で加熱することにより、得られるセラミックス基板31は、900°以下の温度で焼結されて形成された、低温焼結セラミックス(LTCC)となる。   Thus, the glass component of the ceramic substrate 31 obtained can be softened by raising the heating temperature to a temperature equal to or higher than the softening point of the glass, that is, the temperature range. Therefore, after cooling to room temperature and curing the glass component, the ceramic substrate 31 constituting the laminated substrate 32 and the conductor pattern (circuit) 20 are more firmly fixed. Further, by heating in such a temperature range, the obtained ceramic substrate 31 becomes a low-temperature sintered ceramic (LTCC) formed by sintering at a temperature of 900 ° C. or less.

ここで、セラミックス成形体15上に配されたインク200中の金属は、加熱処理によって互いに融着し、連続することによって導電性を示すようになる。
このような加熱処理によって導体パターン20は、セラミックス基板31中のコンタクト33に直接接続させられ、導通させられて形成されたものとなる。ここで、この導体パターン20が単にセラミックス基板31上に載っているだけでは、セラミックス基板31に対する機械的な接続強度が確保されず、したがって衝撃等によって破損してしまうおそれがある。しかしながら、本実施形態では、前述したようにセラミックス成形体15中のガラスを一旦軟化させ、その後硬化させることにより、導体パターン20をセラミックス基板31に対し強固に固着させている。したがって、形成された導体パターン20は、機械的にも高い強度を有するものとなる。
Here, the metals in the ink 200 disposed on the ceramic molded body 15 are fused to each other by heat treatment and become conductive by being continuous.
By such heat treatment, the conductor pattern 20 is formed by being directly connected to the contact 33 in the ceramic substrate 31 and conducting. Here, if the conductor pattern 20 is merely placed on the ceramic substrate 31, the mechanical connection strength to the ceramic substrate 31 is not ensured, and therefore there is a possibility that the conductor pattern 20 may be damaged by an impact or the like. However, in the present embodiment, as described above, the conductor pattern 20 is firmly fixed to the ceramic substrate 31 by once softening the glass in the ceramic molded body 15 and then curing it. Therefore, the formed conductor pattern 20 has a high mechanical strength.

ここで、セラミックス成形体15の焼成温度は、銀粒子の温度よりも高いものである。特に、微細な導体パターン前駆体10を形成するための銀粒子は、粒径が小さいため、粒径の大きな銀よりも融点が低い傾向がある。このため、導体パターン前駆体10は、加熱処理の早い段階から液状となり、流動する問題がある。しかしながら、このような場合であっても、コンタクト前駆体16がセラミックス成形体15から突出していることにより、導体パターン20のパッド21とコンタクト33との接続不良が防止される。
なお、このような加熱処理により、導体パターン20Aについても前記導体パターン20と同時に形成することができ、これによってセラミックス回路基板(配線基板)30を得ることができる。
Here, the firing temperature of the ceramic molded body 15 is higher than the temperature of the silver particles. In particular, since silver particles for forming the fine conductor pattern precursor 10 have a small particle size, the melting point tends to be lower than that of silver having a large particle size. For this reason, there is a problem that the conductor pattern precursor 10 becomes liquid from the early stage of the heat treatment and flows. However, even in such a case, since the contact precursor 16 protrudes from the ceramic molded body 15, poor connection between the pads 21 of the conductor pattern 20 and the contacts 33 is prevented.
By such heat treatment, the conductor pattern 20A can be formed at the same time as the conductor pattern 20, whereby a ceramic circuit board (wiring board) 30 can be obtained.

以上のようなセラミックス回路基板30の製造方法では、積層基板32を構成する各セラミックス基板31の製造に際して前述したような導体パターン前駆体10をセラミックス成形体15に形成しているので、各導体パターン20の断線が防止されている。また、パッド膜11を、表面が凸状をなしたコンタクト前駆体16と接触するように配することにより、導体パターン20のパッド21とコンタクト33との間での接続不良が防止される。この結果、製造されるセラミックス回路基板30は、信頼性の高いものとなる。   In the manufacturing method of the ceramic circuit board 30 as described above, the conductor pattern precursor 10 as described above is formed in the ceramic molded body 15 when manufacturing the ceramic substrates 31 constituting the laminated substrate 32. 20 disconnection is prevented. Further, by disposing the pad film 11 in contact with the contact precursor 16 having a convex surface, connection failure between the pad 21 of the conductor pattern 20 and the contact 33 is prevented. As a result, the manufactured ceramic circuit board 30 is highly reliable.

以上、本発明について、好適な実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
例えば、前述した実施形態では、金属粒子を溶媒に分散してなる分散液として、コロイド液を用いる場合について説明したが、コロイド液でなくてもよい。
また、前述した実施形態では、導体パターン形成用インクは、銀粒子が分散したものとして説明したが、銀以外のものであってもよい。金属粒子に含まれる金属としては、例えば、銀、銅、パラジウム、白金、金、または、これらの合金等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。金属粒子が合金である場合、前記金属が主とするもので、他の金属を含む合金であってもよい。また、上記金属同士が任意の割合で混ざった合金であってもよい。また、混合粒子(例えば、銀粒子と銅粒子とパラジウム粒子とが任意の比率で存在するもの)が液中に分散したものであってもよい。これら金属は、抵抗率が小さく、かつ、加熱処理によって酸化されない安定なものであるから、これらの金属を用いることにより、低抵抗で安定な導体パターンを形成することが可能になる。
As mentioned above, although this invention was demonstrated based on suitable embodiment, this invention is not limited to these.
For example, in the above-described embodiment, the case where the colloidal liquid is used as the dispersion liquid in which the metal particles are dispersed in the solvent has been described.
In the above-described embodiment, the conductor pattern forming ink is described as having silver particles dispersed therein, but may be other than silver. Examples of the metal contained in the metal particles include silver, copper, palladium, platinum, gold, and alloys thereof. One or more of these can be used in combination. When the metal particles are an alloy, the metal is mainly used, and an alloy containing another metal may be used. Moreover, the alloy which the said metals mixed with arbitrary ratios may be sufficient. Further, mixed particles (for example, particles in which silver particles, copper particles, and palladium particles are present in an arbitrary ratio) may be dispersed in a liquid. Since these metals have a low resistivity and are stable and are not oxidized by heat treatment, it is possible to form a stable conductor pattern with a low resistance by using these metals.

また、例えば、前述した実施形態では、液滴吐出方式としてピエゾ方式を用いたが、これに限定されず、例えば、インクを加熱して発生した泡(バブル)によりインクを吐出させる方式など、公知の種々の技術を適用することができる。
また、例えば、前述した実施形態では、導体パターン前駆体を形成する基板として、セラミックス成形体を用いることして説明したが、これに限定されない。導体パターン前駆体の形成に用いられる基板としては、特に限定されず、例えば、セラミックス焼結体、アルミナ焼結体、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、ガラスエポキシ樹脂、ガラス等からなる基板等が挙げられる。
Further, for example, in the above-described embodiment, the piezo method is used as the droplet discharge method. However, the present invention is not limited to this, and for example, a method of discharging ink by bubbles generated by heating the ink is known. Various techniques can be applied.
For example, in the above-described embodiment, the ceramic molded body is used as the substrate on which the conductor pattern precursor is formed. However, the present invention is not limited to this. The substrate used for forming the conductor pattern precursor is not particularly limited, and examples thereof include a ceramic sintered body, an alumina sintered body, a substrate made of polyimide resin, phenol resin, glass epoxy resin, glass, and the like.

10…導体パターン前駆体(前駆体) 11…パッド膜 12…配線膜 13…中央部 14…周縁部 15…セラミックス成形体(セラミックスグリーンシート) 16…コンタクト前駆体 17…積層体 20、20A…導体パターン(回路) 21…パッド 22…配線 30…セラミックス回路基板(配線基板) 31…セラミックス基板 32…積層基板 33…コンタクト 50…導体パターン前駆体付セラミックス成形体 100…インクジェット装置(液滴吐出装置) 110…インクジェットヘッド(液滴吐出ヘッド、ヘッド) 111…ヘッド本体 112…振動板 113…ピエゾ素子 114…本体 115…ノズルプレート 115P…インク吐出面 116…リザーバ 117…インク室 118…ノズル(突出部) 130…ベース 140…テーブル 170…テーブル位置決め手段 171…第1移動手段 172…モータ 180…ヘッド位置決め手段 181…第2移動手段 182…リニアモータ 183、184、185…モータ 190…制御装置 191…駆動回路 200…導体パターン形成用インク(インク) S…基材   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Conductor pattern precursor (precursor) 11 ... Pad film 12 ... Wiring film 13 ... Center part 14 ... Peripheral part 15 ... Ceramic molding (ceramics green sheet) 16 ... Contact precursor 17 ... Laminated body 20, 20A ... Conductor Pattern (circuit) 21 ... Pad 22 ... Wiring 30 ... Ceramic circuit board (wiring board) 31 ... Ceramic board 32 ... Laminated board 33 ... Contact 50 ... Ceramic molded body with conductor pattern precursor 100 ... Inkjet apparatus (droplet discharge apparatus) DESCRIPTION OF SYMBOLS 110 ... Inkjet head (droplet discharge head, head) 111 ... Head main body 112 ... Vibrating plate 113 ... Piezo element 114 ... Main body 115 ... Nozzle plate 115P ... Ink discharge surface 116 ... Reservoir 117 ... Ink chamber 118 ... Nozzle (protrusion part) 130 ... 140 ... Table 170 ... Table positioning means 171 ... First moving means 172 ... Motor 180 ... Head positioning means 181 ... Second moving means 182 ... Linear motors 183, 184, 185 ... Motor 190 ... Control device 191 ... Drive circuit 200 ... Conductor pattern forming ink (ink) S ... Base material

Claims (9)

金属粒子と前記金属粒子が分散する分散媒とを含む導体パターン形成用インクを液滴吐出法により吐出して形成される導体パターン前駆体であって、
導体パターンとしたときにパッドとなるパッド膜を有し、
前記パッド膜は、その中央部の厚さがその周縁部の厚さより小さいものであることを特徴とする導体パターン前駆体。
A conductor pattern precursor formed by discharging a conductive pattern forming ink containing metal particles and a dispersion medium in which the metal particles are dispersed by a droplet discharge method,
It has a pad film that becomes a pad when it is a conductor pattern,
The pad pattern precursor is characterized in that the thickness of the central portion thereof is smaller than the thickness of the peripheral portion thereof.
前記パッド膜は、その中央部が厚さの最小値となる凹状をなす請求項1に記載の導体パターン前駆体。   The conductor pattern precursor according to claim 1, wherein the pad film has a concave shape with a central portion having a minimum thickness. 前記パッド膜の厚さの最大値をdMAX[μm]、前記パッド膜の平均厚さをd[μm]としたとき、1.00≦dMAX/d≦1.43の関係を満足する請求項1または2に記載の導体パターン前駆体。 When the maximum value of the pad film thickness is d MAX [μm] and the average thickness of the pad film is d P [μm], the relationship of 1.00 ≦ d MAX / d P ≦ 1.43 is satisfied. The conductor pattern precursor according to claim 1 or 2. さらに、前記パッド膜と接するようにして形成され、前記導体パターンとしたときに配線となる配線膜を有し、
前記配線膜の平均厚さよりも、前記パッド膜の平均厚さが小さいものである請求項1ないし3のいずれかに記載の導体パターン前駆体。
Further, the wiring film is formed so as to be in contact with the pad film and becomes a wiring when the conductive pattern is formed,
The conductor pattern precursor according to claim 1, wherein an average thickness of the pad film is smaller than an average thickness of the wiring film.
前記配線膜の平均厚さをd[μm]、前記パッド膜の平均厚さをd[μm]としたとき、0.8≦d/d≦1.3の関係を満足する請求項4に記載の導体パターン前駆体。 The relation of 0.8 ≦ d P / d W ≦ 1.3 is satisfied, where d W [μm] is the average thickness of the wiring film and d P [μm] is the average thickness of the pad film. Item 5. The conductor pattern precursor according to Item 4. 請求項1ないし5のいずれかの導体パターン前駆体を備えることを特徴とする導体パターン前駆体付基板。   A substrate with a conductor pattern precursor, comprising the conductor pattern precursor according to claim 1. 請求項1ないし5のいずれかの導体パターン前駆体を用いて形成されたことを特徴とする導体パターン。   A conductor pattern formed using the conductor pattern precursor according to any one of claims 1 to 5. 請求項7に記載の導体パターンを有すること特徴とする配線基板。   A wiring board comprising the conductor pattern according to claim 7. シート状の基板を複数準備する工程と、
前記基板のうち少なくとも1つの表面上に、金属粒子と前記金属粒子が分散する分散媒とを含む導体パターン形成用インクを液滴吐出法により吐出して、導体パターン前駆体を形成する工程と、
複数の前記基板を積層して積層体を得る工程と、
前記積層体を焼結して、導体パターンおよび基板とを有する配線基板を得る工程とを有し、
前記導体パターン前駆体は、導体パターンとしたときにパッドとなるパッド膜を有し、
前記パッド膜は、その中央部の厚さがその周縁部の厚さより小さいものであり、
前記基板のうち少なくとも1つには、少なくとも1つの貫通孔が設けられており、かつ、前記貫通孔は、導電性を有し、その表面が凸状をなすコンタクトまたはその前駆体が充填されており、
前記基板の積層時において、前記コンタクトまたはその前駆体は、凸状をなす部位が前記パッド膜と接触するように配置されることを特徴とする配線基板の製造方法。
A step of preparing a plurality of sheet-like substrates;
Discharging a conductive pattern forming ink containing metal particles and a dispersion medium in which the metal particles are dispersed on at least one surface of the substrate by a droplet discharge method to form a conductive pattern precursor;
Laminating a plurality of the substrates to obtain a laminate;
Sintering the laminate and obtaining a wiring substrate having a conductor pattern and a substrate,
The conductor pattern precursor has a pad film that becomes a pad when a conductor pattern is formed;
The pad film has a thickness at the center part smaller than the thickness at the peripheral part,
At least one through-hole is provided in at least one of the substrates, and the through-hole is filled with a conductive contact or a precursor having a convex surface. And
The method of manufacturing a wiring board, wherein the contact or the precursor thereof is disposed so that a convex portion is in contact with the pad film when the substrate is laminated.
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