JP2011129787A - Conductor pattern forming ink, conductor pattern, wiring board - Google Patents

Conductor pattern forming ink, conductor pattern, wiring board Download PDF

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Mitsuhiro Isobe
光宏 磯部
佳和 ▲濱▼
Yoshikazu Hama
Kentaro Tanabe
健太郎 田邉
Toshiyuki Kobayashi
敏之 小林
Naoyuki Toyoda
直之 豊田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductor pattern forming ink superior in discharge stability of droplets by forming a conductor pattern of high reliability, and also to provide the conductor pattern of high reliability, and a wiring board of high reliability including such a conductor pattern. <P>SOLUTION: The conductor pattern forming ink is for forming the conductor pattern on a board by a droplet discharging method, and contains metal particles, ceramic particles, and water-system dispersion medium wherein the metal particles and the ceramic particles are dispersed. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、導体パターン形成用インク、導体パターン、配線基板に関する。   The present invention relates to a conductor pattern forming ink, a conductor pattern, and a wiring board.

電子回路または集積回路などに使われる配線の製造には、例えばフォトリソグラフィ法が用いられている。このフォトリソグラフィ法は、予め導電膜を塗布した基板上にレジストと呼ばれる感光材を塗布し、回路パターンを照射して現像し、レジストパターンに応じて導電膜をエッチングすることで導体パターンからなる配線を形成するものである。このフォトリソグラフィ法は真空装置などの大掛かりな設備と複雑な工程を必要とし、また材料使用効率も数%程度でそのほとんどを廃棄せざるを得ず、製造コストが高い。   For example, a photolithography method is used for manufacturing a wiring used for an electronic circuit or an integrated circuit. In this photolithography method, a photosensitive material called a resist is coated on a substrate coated with a conductive film in advance, a circuit pattern is irradiated and developed, and the conductive film is etched according to the resist pattern, thereby forming a wiring made of a conductor pattern. Is formed. This photolithography method requires large-scale equipment such as a vacuum apparatus and a complicated process, and the material use efficiency is about several percent, and most of it must be discarded, and the manufacturing cost is high.

これに対して、液体吐出ヘッドから液体材料を液滴状に吐出する液滴吐出法、いわゆるインクジェット法を用いて導体パターン(配線)を形成する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。この方法では、導電性微粒子を分散させた導体パターン形成用インクを基板に直接パターン塗布し、その後、溶媒を除去して導体パターン前駆体を得、焼結させることにより導体パターンに変換する。この方法によれば、フォトリソグラフィが不要となり、プロセスが大幅に簡単なものになるとともに、原材料の使用量も少なくてすむというメリットがある。また、この方法によれば、従来の方法と比較して、微細な導体パターンを形成することが可能であり、回路密度の向上に有利である。   On the other hand, a method of forming a conductor pattern (wiring) by using a droplet discharge method in which a liquid material is discharged from a liquid discharge head in the form of droplets, a so-called inkjet method has been proposed (for example, see Patent Document 1). ). In this method, a conductive pattern forming ink in which conductive fine particles are dispersed is directly applied to a substrate, and then the solvent is removed to obtain a conductive pattern precursor, which is then converted into a conductive pattern by sintering. According to this method, there is an advantage that photolithography is not required, the process is greatly simplified, and the amount of raw materials used is reduced. Further, according to this method, it is possible to form a fine conductor pattern as compared with the conventional method, which is advantageous in improving the circuit density.

しかし、従来の導体パターン形成用インクでは、吐出待機時や長時間連続して吐出した際に、液滴吐出ヘッド(インクジェットヘッド)の液滴の吐出口付近において、導体パターン形成用インクの分散媒の揮発により導電性微粒子が析出してしまうといった問題があった。このように液滴の吐出口付近に導電性微粒子が析出すると、吐出口が目詰まりして吐出された液滴の軌道が変化し(いわゆる、飛行曲がりが発生し)、目的の部位に液滴を着弾させることができなくなったり、液滴の吐出量が不安定化する等の問題を生じることがあった。また、このような場合、従来の導体パターン形成用インクによって基板上に形成されたパターンは、十分に均一な厚さ、幅を有することが困難であった。このように、目的とする形状のパターンを形成できない場合、結果として形成した導体パターンの一部に断線が生じやすいものとなっていた。また、導体パターンが目的とする形状とならないことにより、導体パターンが目的とする周波数特性(Q値)からずれた特性を有してしまう問題があった。特に、近年の配線の微細化、狭ピッチ化による回路基板の高密度化に伴い、このような問題の発生が顕著であった。   However, with the conventional conductor pattern forming ink, the dispersion medium of the conductor pattern forming ink is in the vicinity of the droplet ejection port of the droplet ejection head (inkjet head) during ejection standby or when ejected continuously for a long time. There has been a problem that conductive fine particles are precipitated by volatilization of the liquid. When the conductive fine particles are deposited in the vicinity of the droplet ejection port in this way, the ejection port is clogged and the trajectory of the ejected droplet changes (so-called flight bending occurs), and the droplet is deposited at the target site. May not be able to land, or the discharge amount of droplets may become unstable. In such a case, it is difficult for the pattern formed on the substrate with the conventional conductor pattern forming ink to have a sufficiently uniform thickness and width. As described above, when a pattern having a desired shape cannot be formed, disconnection is likely to occur in a part of the formed conductor pattern. In addition, since the conductor pattern does not have a desired shape, there is a problem that the conductor pattern has characteristics that deviate from the target frequency characteristics (Q value). In particular, the occurrence of such a problem has been remarkable with the recent increase in the density of circuit boards due to the miniaturization of wiring and the reduction in pitch.

特開2007−84387号公報JP 2007-84387 A

本発明の目的は、信頼性の高い導体パターンを形成することができ、液滴の吐出安定性に優れた導体パターン形成用インクを提供すること、信頼性の高い導体パターンを提供すること、および、このような導体パターンを備え、信頼性の高い配線基板を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a conductive pattern forming ink that can form a highly reliable conductor pattern and has excellent droplet ejection stability, to provide a highly reliable conductor pattern, and An object of the present invention is to provide a highly reliable wiring board having such a conductor pattern.

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の導体パターン形成用インクは、液滴吐出法により、基板上に導体パターンを形成するための導体パターン形成用インクであって、
金属粒子と、セラミックス粒子と、前記金属粒子および前記セラミックス粒子が分散した水系分散媒とを含むことを特徴とする。
これにより、信頼性の高い導体パターンを形成することができ、液滴の吐出安定性に優れた導体パターン形成用インクを提供することができる。
Such an object is achieved by the present invention described below.
The conductive pattern forming ink of the present invention is a conductive pattern forming ink for forming a conductive pattern on a substrate by a droplet discharge method,
It includes metal particles, ceramic particles, and an aqueous dispersion medium in which the metal particles and the ceramic particles are dispersed.
As a result, a highly reliable conductor pattern can be formed, and a conductor pattern forming ink excellent in droplet discharge stability can be provided.

本発明の導体パターン形成用インクでは、前記セラミックス粒子は、二酸化ケイ素、または、酸化アルミニウムであることが好ましい。
このような化合物は、長期間導体パターン形成用インク中にあった場合でも、化学的に安定であり、安定してインク中で分散される。また、比較的硬度が高いため、好適に吐出口の汚れを除去し、導体パターン形成用インクの液滴の吐出安定性を特に優れたものとすることができ、精度よく所定の寸法の導体パターン前駆体を形成することができるとともに、導体パターン前駆体の配線太りをより効果的に防止することができる。
さらに、このような化合物は、焼結中に少なくともその一部が溶融することにより、導体パターンと基板との密着性の向上に寄与することができ、導体パターンの信頼性をより高くすることができる。
In the conductive pattern forming ink of the present invention, the ceramic particles are preferably silicon dioxide or aluminum oxide.
Such a compound is chemically stable even when it has been in the conductor pattern forming ink for a long time, and is stably dispersed in the ink. Moreover, since the hardness is relatively high, it is possible to suitably remove the dirt on the discharge port, and to particularly improve the discharge stability of the ink droplets for forming the conductor pattern, and to accurately conduct the conductor pattern of a predetermined size. The precursor can be formed, and the wiring pattern thickening of the conductor pattern precursor can be more effectively prevented.
Further, such a compound can contribute to improvement in the adhesion between the conductor pattern and the substrate by melting at least a part thereof during sintering, and can further increase the reliability of the conductor pattern. it can.

本発明の導体パターン形成用インクでは、前記セラミックス粒子の平均粒子径は、5nm以上300nm以下であることが好ましい。
これにより、インクの流路に付着した金属粒子を取り除くことができるとともに、インクの吐出安定性をより高いものとすることができるとともに、微細な導体パターンを容易に形成することができる。
In the conductive pattern forming ink of the present invention, the ceramic particles preferably have an average particle diameter of 5 nm to 300 nm.
As a result, the metal particles adhering to the ink flow path can be removed, the ink ejection stability can be further improved, and a fine conductor pattern can be easily formed.

本発明の導体パターン形成用インクでは、導体パターン形成用インク中における前記セラミックス粒子の含有量は、0.1wt%以上1.6wt%以下であることが好ましい。
これにより、形成される導体パターンの性能にセラミックス粒子が影響を与えることを防止しつつ、インクの流路に金属粒子が付着することを防止でき、インクの吐出安定性をより高いものとすることができる。
In the conductive pattern forming ink of the present invention, the content of the ceramic particles in the conductive pattern forming ink is preferably 0.1 wt% or more and 1.6 wt% or less.
This prevents the ceramic particles from affecting the performance of the conductor pattern to be formed, prevents the metal particles from adhering to the ink flow path, and improves the ink ejection stability. Can do.

本発明の導体パターン形成用インクでは、前記基板は、前記セラミックス粒子に含まれる成分のうち少なくとも1つを含むことが好ましい。
これにより、得られる基板と導体パターン前駆体との間での密着性が高まる。この結果、形成される導体パターンは、より信頼性の高いものとなる。
本発明の導体パターン形成用インクでは、前記基板は、ガラス材料を含むことが好ましい。
これにより、得られる基板と導体パターン前駆体との間での密着性が高まる。この結果、形成される導体パターンは、より信頼性の高いものとなる。
In the conductive pattern forming ink of the present invention, it is preferable that the substrate includes at least one of components contained in the ceramic particles.
Thereby, the adhesiveness between the board | substrate obtained and a conductor pattern precursor increases. As a result, the formed conductor pattern is more reliable.
In the conductive pattern forming ink of the present invention, the substrate preferably contains a glass material.
Thereby, the adhesiveness between the board | substrate obtained and a conductor pattern precursor increases. As a result, the formed conductor pattern is more reliable.

本発明の導体パターンは、本発明の導体パターン形成用インクによって形成されたことを特徴とする。
これにより、信頼性の高い導体パターンを提供することができる。
本発明の配線基板は、本発明の導体パターンが備えられてなることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い配線基板を提供することができる。
The conductor pattern of the present invention is formed by the conductor pattern forming ink of the present invention.
Thereby, a highly reliable conductor pattern can be provided.
The wiring board of the present invention is provided with the conductor pattern of the present invention.
Thereby, a highly reliable wiring board can be provided.

配線基板(セラミックス回路基板)の好適な実施形態の一例を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows an example of suitable embodiment of a wiring board (ceramics circuit board). 図1に示す配線基板(セラミックス回路基板)の製造方法の概略の工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the outline process of the manufacturing method of the wiring board (ceramics circuit board) shown in FIG. 図1の配線基板(セラミックス回路基板)の製造工程説明図である。FIG. 2 is a manufacturing process explanatory diagram of the wiring board (ceramic circuit board) of FIG. 1. インクジェット装置の概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows schematic structure of an inkjet apparatus. インクジェットヘッドの概略構成を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating schematic structure of an inkjet head.

以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
図1は、配線基板(セラミックス回路基板)の好適な実施形態の一例を示す縦断面図、図2は、図1に示す配線基板(セラミックス回路基板)の製造方法の概略の工程を示す説明図、図3は、図1の配線基板(セラミックス回路基板)の製造工程説明図、図4は、インクジェット装置(液滴吐出装置)の概略構成を示す斜視図、図5は、図4の液滴吐出装置が備えるインクジェットヘッド(液滴吐出ヘッド)の概略構成を説明するための模式図である。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail.
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing an example of a preferred embodiment of a wiring board (ceramic circuit board), and FIG. 2 is an explanatory view showing a schematic process of the manufacturing method of the wiring board (ceramic circuit board) shown in FIG. 3 is an explanatory diagram of a manufacturing process of the wiring board (ceramic circuit board) of FIG. 1, FIG. 4 is a perspective view showing a schematic configuration of an ink jet device (droplet discharge device), and FIG. 5 is a droplet of FIG. It is a schematic diagram for demonstrating schematic structure of the inkjet head (droplet discharge head) with which an discharge apparatus is provided.

《導体パターン形成用インク》
本発明の導体パターン形成用インクは、基板上に導体パターンを形成するのに用いるインクであり、特に、液滴吐出法によって導体パターンを形成するのに用いるインクである。
なお、本実施形態では、金属粒子を水系分散媒に分散してなる分散液として、銀粒子が分散した分散液を用いた場合について代表的に説明する。
<Conductor pattern forming ink>
The ink for forming a conductor pattern of the present invention is an ink used for forming a conductor pattern on a substrate, in particular, an ink used for forming a conductor pattern by a droplet discharge method.
In this embodiment, a case where a dispersion liquid in which silver particles are dispersed is used as a dispersion liquid in which metal particles are dispersed in an aqueous dispersion medium.

また、導体パターンが形成される基板は、いかなるものであってもよいが、本実施形態では、基板としてセラミックスを主として構成されたセラミックス基板を用いることとする。また、本実施形態では、セラミックスとバインダーとを含む材料で構成されたシート状のセラミックス成形体(セラミックスグリーンシート)に導体パターン形成用インクを付与するものとして説明する。なお、セラミックス成形体は、後述するように焼結処理され、セラミックス基板となる。   The substrate on which the conductor pattern is formed may be any substrate, but in the present embodiment, a ceramic substrate mainly composed of ceramics is used as the substrate. In the present embodiment, the description will be made assuming that the ink for forming a conductor pattern is applied to a sheet-like ceramic formed body (ceramic green sheet) made of a material containing ceramics and a binder. The ceramic molded body is sintered as described later to become a ceramic substrate.

以下、導体パターン形成用インクの各構成成分について詳細に説明する。
[水系分散媒]
まず、水系分散媒について説明する。
本発明において、「水系分散媒」とは、水および/または水との相溶性に優れる液体(例えば、25℃における水:100gに対する溶解度が30g以上の液体)で構成されたもののことを指す。このように、水系分散媒は、水および/または水との相溶性に優れる液体で構成されたものであるが、主として水で構成されたものであるのが好ましく、特に、水の含有率が70wt%以上のものであるのが好ましく、90wt%以上のものであるのがより好ましい。
Hereinafter, each component of the conductor pattern forming ink will be described in detail.
[Aqueous dispersion medium]
First, the aqueous dispersion medium will be described.
In the present invention, the “aqueous dispersion medium” refers to one composed of water and / or a liquid having excellent compatibility with water (for example, water at 25 ° C .: a liquid having a solubility in 100 g of 30 g or more). As described above, the aqueous dispersion medium is composed of water and / or a liquid having excellent compatibility with water, but is preferably composed mainly of water. It is preferably 70 wt% or more, more preferably 90 wt% or more.

水系分散媒の具体例としては、例えば、水、メタノール、エタノール、ブタノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)等のエーテル系溶媒、ピリジン、ピラジン、ピロール等の芳香族複素環化合物系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMA)等のアミド系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、アセトアルデヒド等のアルデヒド系溶媒等が挙げられ、これらのうち、1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
また、導体パターン形成用インク中における水系分散媒の含有量は、25wt%以上60wt%以下であることが好ましく、30wt%以上50wt%以下であることがより好ましい。これにより、インクの粘度を好適なものとしつつ、分散媒の揮発による粘度の変化を少ないものとすることができる。
Specific examples of the aqueous dispersion medium include, for example, water, methanol, ethanol, butanol, propanol, isopropanol and other alcohol solvents, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran (THF) and other ether solvents, pyridine, pyrazine, pyrrole and the like. Aromatic heterocyclic compound solvents, amide solvents such as N, N-dimethylformamide (DMF) and N, N-dimethylacetamide (DMA), nitrile solvents such as acetonitrile, and aldehyde solvents such as acetaldehyde. Of these, one or a combination of two or more can be used.
Further, the content of the aqueous dispersion medium in the conductor pattern forming ink is preferably 25 wt% or more and 60 wt% or less, and more preferably 30 wt% or more and 50 wt% or less. Thereby, while making the viscosity of an ink suitable, the change of the viscosity by volatilization of a dispersion medium can be made small.

[銀粒子]
次に、銀粒子(金属粒子)について説明する。
銀粒子は、形成される導体パターンの主成分であり、導体パターンに導電性を付与する成分である。
また、銀粒子は、インク中において分散している。
[Silver particles]
Next, silver particles (metal particles) will be described.
Silver particles are the main component of the conductor pattern to be formed, and are components that impart conductivity to the conductor pattern.
The silver particles are dispersed in the ink.

銀粒子の平均粒径は、1nm以上100nm以下であるのが好ましく、10nm以上30nm以下であるのがより好ましい。これにより、インクの吐出安定性をより高いものとすることができるとともに、微細な導体パターンを容易に形成することができる。なお、本明細書では、「平均粒径」とは、特に断りのない限り、体積基準の平均粒径のことを指すものとする。   The average particle diameter of the silver particles is preferably 1 nm or more and 100 nm or less, and more preferably 10 nm or more and 30 nm or less. As a result, the ink ejection stability can be further improved, and a fine conductor pattern can be easily formed. In the present specification, the “average particle size” means a volume-based average particle size unless otherwise specified.

また、インク中に含まれる銀粒子(分散剤が表面に吸着していない銀粒子(金属粒子))の含有量は、0.5wt%以上60wt%以下であるのが好ましく、10wt%以上45wt%以下であるのがより好ましい。これにより、導体パターンの断線をより効果的に防止することができ、より信頼性の高い導体パターンを提供することができる。
また、銀粒子(金属粒子)は、その表面に分散剤が付着した銀コロイド粒子(金属コロイド粒子)として、水系分散媒中に分散していることが好ましい。これにより、銀粒子の水系分散媒への分散性が特に優れたものとなり、インクの吐出安定性が特に優れたものとなる。
Further, the content of silver particles (silver particles (metal particles) in which the dispersant is not adsorbed on the surface) contained in the ink is preferably 0.5 wt% or more and 60 wt% or less, and is preferably 10 wt% or more and 45 wt%. The following is more preferable. Thereby, disconnection of a conductor pattern can be prevented more effectively, and a more reliable conductor pattern can be provided.
The silver particles (metal particles) are preferably dispersed in an aqueous dispersion medium as silver colloid particles (metal colloid particles) having a dispersant attached to the surface thereof. Thereby, the dispersibility of the silver particles in the aqueous dispersion medium is particularly excellent, and the ink ejection stability is particularly excellent.

インク中における銀コロイド粒子の含有量は、1wt%以上60wt%以下であるのが好ましく、10wt%以上50wt%以下であるのがより好ましい。銀コロイド粒子の含有量が前記下限値未満であると、銀の含有量が少なく、導体パターンを形成した際、比較的厚い膜を形成する場合に、複数回重ね塗りする必要が生じる。一方、銀コロイド粒子の含有量が前記上限値を超えると、銀の含有量が多くなり、分散性が低下し、これを防ぐためには攪拌の頻度が高くなる。   The content of the silver colloid particles in the ink is preferably 1 wt% or more and 60 wt% or less, and more preferably 10 wt% or more and 50 wt% or less. When the content of the silver colloidal particles is less than the lower limit, the silver content is small, and when a conductive pattern is formed, it is necessary to apply a plurality of times when a relatively thick film is formed. On the other hand, when the content of the silver colloidal particles exceeds the upper limit, the silver content increases and the dispersibility decreases. To prevent this, the frequency of stirring increases.

また、銀コロイド粒子の熱重量分析における500℃までの加熱減量は、1wt%以上25wt%以下が好ましい。コロイド粒子(固形分)を500℃まで加熱すると、表面に付着した分散剤等が酸化分解され、大部分のものはガス化されて消失する。500℃までの加熱による減量は、銀コロイド粒子中の分散剤の量にほぼ相当すると考えられる。加熱減量が1wt%未満であると、銀粒子に対する分散剤の量が少なく、銀粒子の充分な分散性が低下する。一方、25wt%を超えると、銀粒子に対する残留分散剤の量が多なり、導体パターンの比抵抗が高くなる。但し、比抵抗は、導体パターンの形成後に加熱焼結して有機分を分解消失させることである程度改善することができる。そのため、基板として、より高温で焼結されるセラミックス成形体等を用いた場合このような効果を容易に得ることができる。   Further, the heat loss to 500 ° C. in the thermogravimetric analysis of the silver colloid particles is preferably 1 wt% or more and 25 wt% or less. When the colloidal particles (solid content) are heated to 500 ° C., the dispersant or the like attached to the surface is oxidized and decomposed, and most of them are gasified and disappear. The weight loss due to heating up to 500 ° C. is considered to substantially correspond to the amount of the dispersant in the silver colloid particles. When the loss on heating is less than 1 wt%, the amount of the dispersant with respect to the silver particles is small, and the sufficient dispersibility of the silver particles is lowered. On the other hand, when it exceeds 25 wt%, the amount of the residual dispersant with respect to the silver particles increases, and the specific resistance of the conductor pattern increases. However, the specific resistance can be improved to some extent by heating and sintering after formation of the conductor pattern to decompose and disappear organic components. Therefore, such an effect can be easily obtained when a ceramic molded body sintered at a higher temperature is used as the substrate.

[セラミックス粒子]
また、本発明の導体パターン形成用インクは、セラミックス粒子を含んでいる。また、セラミックス粒子は、後述する分散媒中に分散している。
ところで、従来の導体パターン形成用インクは、吐出待機時や長時間連続して吐出した際に、液滴吐出ヘッド(インクジェットヘッド)の液滴の吐出部付近において、導体パターン形成用インクの分散媒の揮発により導電性微粒子が析出してしまうといった問題があった。このように液滴の吐出部付近に導電性微粒子が析出すると吐出口の目詰まりが発生し、飛行曲がりが発生したり、液滴の吐出量が不安定化する等の問題を生じることがあった。また、このような場合、従来の導体パターン形成用インクによって基板上に形成されたパターンは、十分に均一な厚さ、幅を有することが困難であった。このように形成されたパターンが目的とする形状を有していない場合、焼結後の導体パターンにおいて、断線が生じやすいものとなっていた。また、導体パターンが目的とする形状とならないことにより、導体パターンが目的とする周波数特性(Q値)からずれた特性を有してしまう場合があった。以上の結果、形成される導体パターンが十分に信頼性の高いものとならない問題があった。
[Ceramic particles]
Further, the conductor pattern forming ink of the present invention contains ceramic particles. The ceramic particles are dispersed in a dispersion medium described later.
By the way, the conventional conductor pattern forming ink is a dispersion medium for the conductor pattern forming ink in the vicinity of the droplet discharge portion of the droplet discharge head (inkjet head) when waiting for discharge or continuously discharging for a long time. There has been a problem that conductive fine particles are precipitated by volatilization of the liquid. When conductive fine particles are deposited in the vicinity of the droplet discharge portion in this way, the discharge port may become clogged, causing flight bending, and the droplet discharge amount becoming unstable. It was. In such a case, it is difficult for the pattern formed on the substrate with the conventional conductor pattern forming ink to have a sufficiently uniform thickness and width. When the pattern formed in this way does not have the target shape, the conductor pattern after sintering is likely to be disconnected. Further, since the conductor pattern does not have a desired shape, the conductor pattern sometimes has characteristics deviated from the target frequency characteristics (Q value). As a result, there is a problem in that the formed conductor pattern is not sufficiently reliable.

これに対し、本発明の導体パターン形成用インクは、上述したようにセラミックス粒子を含んでいる。セラミックス粒子は、比較的硬度が高いものであり、導体パターン形成用インクの流路に対して研磨剤として機能する。この結果、液滴吐出ヘッドの吐出部付近において金属粒子が析出した場合であっても、セラミックス粒子が析出した金属粒子を速やかに削り取り、液滴吐出ヘッドの吐出口付近に金属粒子が蓄積することが防止される。このため、本発明の導体パターン形成用インクを用いた場合、飛行曲がりや、液滴の吐出量の不安定化が防止され、液滴の吐出安定性に優れたものとなる。そして、このような導体パターン形成用インクを用いた場合、微細なパターンを精度よく描画でき、形成される導体パターンは、断線が防止され、寸法精度の高いものとなる。   On the other hand, the conductor pattern forming ink of the present invention contains ceramic particles as described above. The ceramic particles have relatively high hardness and function as an abrasive for the flow path of the conductor pattern forming ink. As a result, even when metal particles are deposited in the vicinity of the discharge part of the droplet discharge head, the metal particles on which the ceramic particles are deposited are quickly scraped off and accumulated in the vicinity of the discharge port of the droplet discharge head. Is prevented. For this reason, when the ink for forming a conductor pattern of the present invention is used, flight bending and instability of the droplet discharge amount are prevented, and the droplet discharge stability is excellent. When such a conductor pattern forming ink is used, a fine pattern can be drawn with high accuracy, and the formed conductor pattern is prevented from being disconnected and has high dimensional accuracy.

また、導体パターン形成用インクがセラミックス粒子を含むことにより、形成された導体パターン前駆体が比較的硬いものとなり、この結果、基板を複数積層する際に導体パターン前駆体が潰れて幅が大きくなる現象(配線太り)が防止される。
そして、導体パターンの寸法精度が高くなり、配線太りが防止されることによって、形成される導体パターンの周波数特性(Q値)が所望のものと近いものとなる。
In addition, since the conductor pattern forming ink contains ceramic particles, the formed conductor pattern precursor becomes relatively hard, and as a result, the conductor pattern precursor is crushed and widened when a plurality of substrates are stacked. The phenomenon (wiring thickening) is prevented.
Then, the dimensional accuracy of the conductor pattern is increased and the thickness of the wiring is prevented, so that the frequency characteristic (Q value) of the formed conductor pattern is close to a desired one.

セラミックス粒子として用いることのできるセラミックス材料としては、特に限定されないが、例えば、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化ランタニウム、酸化亜鉛、酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化チタニウム、酸化ゲルマニウム、酸化スズ、酸化チタン、酸化ジルコニウム等の金属酸化物、ホウケイ酸ガラス、ケイ酸塩、二酸化ケイ素等のガラス材料、炭化ケイ素等の炭化物、窒化ケイ素等の窒化物、蛍石等のハロゲン化物、酸化アンチモン、酸化ビスマス等または、これらの混合物等を挙げることができ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   The ceramic material that can be used as the ceramic particles is not particularly limited. For example, aluminum oxide, magnesium oxide, calcium oxide, strontium oxide, barium oxide, lanthanum oxide, zinc oxide, gallium oxide, indium oxide, titanium oxide, and oxide. Metal oxides such as germanium, tin oxide, titanium oxide and zirconium oxide, glass materials such as borosilicate glass, silicate and silicon dioxide, carbides such as silicon carbide, nitrides such as silicon nitride, halides such as fluorite , Antimony oxide, bismuth oxide and the like, or a mixture thereof, and the like can be used, and one or more of these can be used in combination.

また、セラミックス粒子は、上述した中でも、金属酸化物を含むことが好ましい。このような化合物は、長期間導体パターン形成用インク中にあった場合でも、化学的に安定であり、安定してインク中で分散される。また、比較的硬度が高いため、好適に吐出口の汚れを除去し、導体パターン形成用インクの液滴の吐出安定性を特に優れたものとすることができ、精度よく所定の寸法の導体パターン前駆体を形成することができるとともに、導体パターン前駆体の配線太りをより効果的に防止することができる。   Moreover, it is preferable that a ceramic particle contains a metal oxide among the above-mentioned. Such a compound is chemically stable even when it has been in the conductor pattern forming ink for a long time, and is stably dispersed in the ink. Moreover, since the hardness is relatively high, it is possible to suitably remove the dirt on the discharge port, and to particularly improve the discharge stability of the ink droplets for forming the conductor pattern, and to accurately conduct the conductor pattern of a predetermined size. The precursor can be formed, and the wiring pattern thickening of the conductor pattern precursor can be more effectively prevented.

特に、金属酸化物としてセラミックス粒子が、二酸化ケイ素、または、酸化アルミニウムを含む場合、以下のような効果が得られる。これらの化合物は、硬度が高いものであり、洗浄効果に特に優れるとともに、配線太りをより効果的に防止することができる。また、これらの化合物は、融点が比較的高いものであり、導体パターンの前駆体を焼結する際には溶融せず、粒子として存在する。この結果、導体パターンの銀粒子が溶融した際に液状の銀の表面張力によって、これらのセラミックス粒子が押し出され、形成される導体パターンからセラミックス粒子が排除される。この結果、形成される導体パターンは、目的とした性能をより確実に発揮でき、信頼性の高いものとなる。また、特に、二酸化ケイ素、酸化アルミニウムは、基板となるセラミックス成形体の構成材料として一般に用いられるものであり、セラミックス成形体から形成されるセラミックス基板への影響も少ないもとなる。   In particular, when the ceramic particles contain silicon dioxide or aluminum oxide as the metal oxide, the following effects can be obtained. These compounds have high hardness, are particularly excellent in the cleaning effect, and can more effectively prevent the wiring from becoming thicker. Further, these compounds have a relatively high melting point, and do not melt when the conductor pattern precursor is sintered, but exist as particles. As a result, when the silver particles of the conductor pattern are melted, these ceramic particles are pushed out by the surface tension of the liquid silver, and the ceramic particles are excluded from the formed conductor pattern. As a result, the formed conductor pattern can exhibit the intended performance more reliably and has high reliability. In particular, silicon dioxide and aluminum oxide are generally used as a constituent material of a ceramic molded body to be a substrate, and have little influence on the ceramic substrate formed from the ceramic molded body.

また、セラミックス粒子は、上述した中でも、ガラス材料を含むことが好ましく、二酸化ケイ素またはケイ酸塩を含むことがより好ましい。このような化合物は、焼結中に少なくともその一部が溶融することにより、導体パターンと基板との密着性の向上に寄与することができ、導体パターンの信頼性をより高くすることができる。特に、二酸化ケイ素およびケイ酸塩は、基板となるセラミックス成形体の構成材料として一般に用いられるものであり、セラミックス成形体に二酸化ケイ素またはケイ酸塩が含まれる場合、セラミックス成形体から形成されるセラミックス基板への影響も少ないものとなると同時に、導体パターンとセラミックス基板との密着性がより向上し、導体パターンの信頼性がより高いものとなる。   Moreover, among the above-mentioned ceramic particles, it is preferable to include a glass material, and it is more preferable to include silicon dioxide or silicate. Such a compound can contribute to improvement in the adhesion between the conductor pattern and the substrate by melting at least part of the compound during sintering, and can further increase the reliability of the conductor pattern. In particular, silicon dioxide and silicate are generally used as a constituent material of a ceramic molded body serving as a substrate. When the ceramic molded body contains silicon dioxide or silicate, ceramics formed from the ceramic molded body At the same time, the influence on the substrate is reduced, and at the same time, the adhesion between the conductor pattern and the ceramic substrate is further improved, and the reliability of the conductor pattern is further improved.

また、セラミックス粒子の平均粒子径は、3nm以上300nm以下であることが好ましく、30nm以上60nm以下であることがより好ましい。これにより、インクの流路に付着した金属粒子を取り除くことができるとともに、セラミックス粒子の分散安定性を高いものとしてインクの吐出安定性をより高いものとすることができる。この結果、微細な導体パターン前駆体を容易に精度よく形成することができ、導体パターンの周波数特性を所望のものからより近いものとすることができる。   The average particle size of the ceramic particles is preferably 3 nm or more and 300 nm or less, and more preferably 30 nm or more and 60 nm or less. As a result, the metal particles adhering to the ink flow path can be removed, and the dispersion stability of the ceramic particles can be made high, so that the ink ejection stability can be made higher. As a result, a fine conductor pattern precursor can be formed easily and accurately, and the frequency characteristics of the conductor pattern can be made closer to the desired one.

また、導体パターン形成用インク中における前記セラミックス粒子(後述するように、セラミックス粒子がコロイドとして存在する場合には、セラミックスコロイド粒子)の含有量は、0.1wt%以上1.6wt%以下であることが好ましく、0.8wt%以上1.6wt%以下であることがより好ましい。これにより、形成される導体パターンの性能にセラミックス粒子が影響を与えることを防止しつつ、インクの流路に金属粒子が付着することを防止でき、インクの吐出安定性をより高いものとすることができる。   Further, the content of the ceramic particles in the conductive pattern forming ink (as will be described later, when the ceramic particles are present as a colloid) is 0.1 wt% or more and 1.6 wt% or less. It is preferably 0.8 wt% or more and 1.6 wt% or less. This prevents the ceramic particles from affecting the performance of the conductor pattern to be formed, prevents the metal particles from adhering to the ink flow path, and improves the ink ejection stability. Can do.

また、セラミックス粒子は、その表面に分散剤が付着したセラミックスコロイド粒子として、水系分散媒中に分散していることが好ましい。これにより、セラミックスコロイド粒子の水系分散媒への分散性が特に優れたものとなり、インクの吐出安定性が特に優れたものとなる。
また、セラミックスコロイド粒子の熱重量分析における500℃までの加熱減量は、1wt%以上25wt%以下が好ましい。これにより、セラミックスコロイド粒子の分散安定性安定性を特に優れたものとしつつ、形成される導体パターンの比抵抗が高くなることを防止することができる。
The ceramic particles are preferably dispersed in an aqueous dispersion medium as ceramic colloidal particles having a dispersant attached to the surface thereof. As a result, the dispersibility of the ceramic colloid particles in the aqueous dispersion medium is particularly excellent, and the ink ejection stability is particularly excellent.
Moreover, the heating loss to 500 ° C. in the thermogravimetric analysis of the ceramic colloidal particles is preferably 1 wt% or more and 25 wt% or less. Thereby, it is possible to prevent the specific resistance of the formed conductor pattern from being increased while making the dispersion stability of the ceramic colloidal particles particularly excellent.

[分散剤]
導体パターン形成用インクは、分散剤を含むことが好ましい。
分散剤は、銀粒子や、セラミックス粒子に付着して、それぞれ、銀コロイド粒子およびセラミックスコロイド粒子を形成する。このような銀コロイド粒子およびセラミックスコロイド粒子は、分散安定性に優れるため、導体パターン形成用インクの液滴の吐出安定性は、より優れたものとなる。
[Dispersant]
The conductor pattern forming ink preferably contains a dispersant.
The dispersant adheres to silver particles and ceramic particles to form silver colloid particles and ceramic colloid particles, respectively. Since such silver colloidal particles and ceramic colloidal particles are excellent in dispersion stability, the ejection stability of the droplets of the conductor pattern forming ink is more excellent.

分散剤としては、特に限定されないが、COOH基とOH基とを合わせて3個以上有し、かつ、COOH基の数がOH基と同じか、それよりも多いヒドロキシ酸またはその塩を含むことが好ましい。これらの分散剤は、銀粒子やセラミックス粒子の表面に吸着してコロイド粒子を形成し、分散剤中に存在するCOOH基の電気的反発力によって銀コロイド粒子やセラミックスコロイド粒子を水溶液中に均一に分散させてコロイド液を安定化する働きを有する。このように、銀コロイド粒子やセラミックスコロイド粒子が安定してインク中に存在することにより、より容易に微細な導体パターンを形成することができる。また、インクによって形成されたパターン(導体パターン前駆体)において銀粒子が均一に分布し、クラック、断線等が発生しにくいものとなる。これに対して、分散剤中のCOOH基とOH基の数が3個未満であったり、COOH基の数がOH基の数よりも少ないと、銀コロイド粒子やセラミックスコロイド粒子の分散性が十分に得られない場合がある。
このような分散剤としては、例えば、クエン酸、りんご酸、クエン酸三ナトリウム、クエン酸三カリウム、クエン酸三リチウム、クエン酸三アンモニウム、りんご酸二ナトリウム、タンニン酸、ガロタンニン酸、五倍子タンニン等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
Although it does not specifically limit as a dispersing agent, it has 3 or more of COOH groups and OH groups, and the number of COOH groups is the same as that of OH groups, or contains hydroxy acid or its salt more than it. Is preferred. These dispersants adsorb on the surface of silver particles and ceramic particles to form colloidal particles, and silver colloid particles and ceramic colloid particles are uniformly dispersed in an aqueous solution by the electric repulsive force of COOH groups present in the dispersant. Disperses and stabilizes the colloidal liquid. As described above, since the silver colloid particles and the ceramic colloid particles are stably present in the ink, a fine conductor pattern can be formed more easily. Further, silver particles are uniformly distributed in a pattern (conductor pattern precursor) formed with ink, and cracks, disconnections, and the like are less likely to occur. In contrast, if the number of COOH groups and OH groups in the dispersant is less than 3 or the number of COOH groups is less than the number of OH groups, the dispersibility of the silver colloid particles and ceramic colloid particles is sufficient. May not be obtained.
Examples of such a dispersing agent include citric acid, malic acid, trisodium citrate, tripotassium citrate, trilithium citrate, triammonium citrate, disodium malate, tannic acid, gallotannic acid, and pentaploid tannin. Of these, one or a combination of two or more can be used.

また、分散剤は、COOH基とSH基とを合わせて2個以上有するメルカプト酸またはその塩を含んでいてもよい。これらの分散剤は、メルカプト基が銀粒子やセラミックス粒子の表面に吸着してコロイド粒子を形成し、分散剤中に存在するCOOH基の電気的反発力によってコロイド粒子を水溶液中に均一に分散させてコロイド液を安定化する働きを有する。このように、銀コロイド粒子やセラミックスコロイド粒子が安定してインク中に存在することにより、より容易に微細な導体パターンを形成することができる。また、インクによって形成されたパターン(導体パターン前駆体)において銀粒子が均一に分布し、クラック、断線等が発生しにくいものとなる。これに対して、分散剤中のCOOH基とSH基の数が2個未満すなわち片方のみであると、銀コロイド粒子やセラミックスコロイド粒子の分散性が十分に得られない場合がある。   Further, the dispersant may contain mercapto acid or a salt thereof having two or more COOH groups and SH groups. In these dispersants, mercapto groups are adsorbed on the surfaces of silver particles and ceramic particles to form colloidal particles, and the colloidal particles are uniformly dispersed in an aqueous solution by the electric repulsive force of COOH groups present in the dispersant. Has the function of stabilizing the colloidal liquid. As described above, since the silver colloid particles and the ceramic colloid particles are stably present in the ink, a fine conductor pattern can be formed more easily. Further, silver particles are uniformly distributed in a pattern (conductor pattern precursor) formed with ink, and cracks, disconnections, and the like are less likely to occur. On the other hand, when the number of COOH groups and SH groups in the dispersant is less than 2, that is, only one, the dispersibility of the silver colloid particles and ceramic colloid particles may not be sufficiently obtained.

このような分散剤としては、例えば、メルカプト酢酸、メルカプトプロピオン酸、チオジプロピオン酸、メルカプトコハク酸、チオ酢酸、メルカプト酢酸ナトリウム、メルカプトプロピオン酸ナトリウム、チオジプロピオン酸ナトリウム、メルカプトコハク酸二ナトリウム、メルカプト酢酸カリウム、メルカプトプロピオン酸カリウム、チオジプロピオン酸カリウム、メルカプトコハク酸二カリウム等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of such dispersants include mercaptoacetic acid, mercaptopropionic acid, thiodipropionic acid, mercaptosuccinic acid, thioacetic acid, sodium mercaptoacetate, sodium mercaptopropionate, sodium thiodipropionate, disodium mercaptosuccinate, Examples include potassium mercaptoacetate, potassium mercaptopropionate, potassium thiodipropionate, dipotassium mercaptosuccinate, and the like, and one or more of these can be used in combination.

[有機バインダー]
また、導体パターン形成用インクは、有機バインダーを含んでいてもよい。有機バインダーは、導体パターン形成用インクによって形成された導体パターン前駆体において、銀粒子の凝集を防止するものである。すなわち、形成された導体パターン前駆体において、有機バインダーは、銀粒子同士の間に存在することで銀粒子同士が凝集して、パターンの一部に亀裂(クラック)が生じることを防止できる。また、焼結時においては、有機バインダーは、分解されて除去されることができ、導体パターン前駆体中の銀粒子同士は、結合して導体パターンを形成する。
[Organic binder]
The conductive pattern forming ink may contain an organic binder. The organic binder prevents aggregation of silver particles in the conductor pattern precursor formed by the conductor pattern forming ink. That is, in the formed conductor pattern precursor, the organic binder is present between the silver particles, whereby the silver particles can be prevented from aggregating and cracking in a part of the pattern can be prevented. Further, at the time of sintering, the organic binder can be decomposed and removed, and the silver particles in the conductor pattern precursor are bonded to form a conductor pattern.

有機バインダーとしては、特には限定されないが、例えば、ポリエチレングリコール#200(重量平均分子量200)、ポリエチレングリコール#300(重量平均分子量300)、ポリエチレングリコール#400(平均分子量400)、ポリエチレングリコール#600(重量平均分子量600)、ポリエチレングリコール#1000(重量平均分子量1000)、ポリエチレングリコール#1500(重量平均分子量1500)、ポリエチレングリコール#1540(重量平均分子量1540)、ポリエチレングリコール#2000(重量平均分子量2000)等のポリエチレングリコール、ポリビニルアルコール#200(重量平均分子量:200)、ポリビニルアルコール#300(重量平均分子量:300)、ポリビニルアルコール#400(平均分子量:400)、ポリビニルアルコール#600(重量平均分子量:600)、ポリビニルアルコール#1000(重量平均分子量:1000)、ポリビニルアルコール#1500(重量平均分子量:1500)、ポリビニルアルコール#1540(重量平均分子量:1540)、ポリビニルアルコール#2000(重量平均分子量:2000)等のポリビニルアルコール、ポリグリセリン、ポリグリセリンエステル等のポリグリセリン骨格を有するポリグリセリン化合物が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。また、ポリグリセリンエステルとしては、例えば、ポリグリセリンのモノステアレート、トリステアレート、テトラステアレート、モノオレエート、ペンタオレエート、モノラウレート、モノカプリレート、ポリシノレート、セスキステアレート、デカオレエート、セスキオレエート等が挙げられる。
この中でも、有機バインダーとして、ポリグリセリン化合物を用いた場合、以下のような効果が得られる。
Although it does not specifically limit as an organic binder, For example, polyethyleneglycol # 200 (weight average molecular weight 200), polyethyleneglycol # 300 (weight average molecular weight 300), polyethyleneglycol # 400 (average molecular weight 400), polyethyleneglycol # 600 ( Weight average molecular weight 600), polyethylene glycol # 1000 (weight average molecular weight 1000), polyethylene glycol # 1500 (weight average molecular weight 1500), polyethylene glycol # 1540 (weight average molecular weight 1540), polyethylene glycol # 2000 (weight average molecular weight 2000), etc. Polyethylene glycol, polyvinyl alcohol # 200 (weight average molecular weight: 200), polyvinyl alcohol # 300 (weight average molecular weight: 300), polyvinyl alcohol # 400 (average molecular weight: 400), polyvinyl alcohol # 600 (weight average molecular weight: 600), polyvinyl alcohol # 1000 (weight average molecular weight: 1000), polyvinyl alcohol # 1500 (weight average molecular weight: 1500), polyvinyl alcohol # Polyglycerin compounds having a polyglycerin skeleton such as polyvinyl alcohol such as 1540 (weight average molecular weight: 1540), polyvinyl alcohol # 2000 (weight average molecular weight: 2000), polyglycerin, polyglycerin ester, etc. Alternatively, two or more kinds can be used in combination. Examples of the polyglycerol ester include polyglycerol monostearate, tristearate, tetrastearate, monooleate, pentaoleate, monolaurate, monocaprylate, polycinnolate, sesquistearate, decaoleate, and sesquioleate. Etc.
Among these, when a polyglycerin compound is used as the organic binder, the following effects can be obtained.

ポリグリセリン化合物は、導体パターン形成用インクによって形成された導体パターン前駆体を乾燥(脱分散媒)した際に、導体パターン前駆体にクラックが発生するのを特に好適に防止することができる。これは、以下のように考えられる。導体パターン形成用インク中にポリグリセリン化合物が含まれることにより、銀粒子(金属粒子)の間に高分子鎖が存在することとなり、ポリグリセリン化合物が銀粒子同士の距離を適度なものとすることができる。さらに、ポリグリセリン化合物は比較的沸点が高いため、水系分散媒の除去時においては除去されず、銀粒子の周囲に付着する。以上により、水系分散媒除去時において、ポリグリセリン化合物が銀粒子を包み込んだ状態が長く続き、水系分散媒の揮発による急激な体積収縮が避けられるとともに銀の粒成長(凝集)が妨げられる結果、導体パターン前駆体中のクラックの発生が抑制されると考えられる。   The polyglycerin compound can particularly suitably prevent the conductor pattern precursor from cracking when the conductor pattern precursor formed by the conductor pattern forming ink is dried (dedispersing medium). This is considered as follows. When the polyglycerin compound is contained in the conductive pattern forming ink, polymer chains exist between the silver particles (metal particles), and the polyglycerin compound makes the distance between the silver particles moderate. Can do. Furthermore, since the polyglycerin compound has a relatively high boiling point, it is not removed when the aqueous dispersion medium is removed, and adheres around the silver particles. As described above, at the time of removing the aqueous dispersion medium, the polyglycerin compound continuously encapsulates the silver particles, and as a result, rapid volume shrinkage due to volatilization of the aqueous dispersion medium is avoided and silver grain growth (aggregation) is hindered. It is considered that generation of cracks in the conductor pattern precursor is suppressed.

また、ポリグリセリン化合物は、導体パターンを形成する際の焼結時において、断線が発生するのをより確実に防止することができる。これは、以下のように考えられる。ポリグリセリン化合物は、比較的沸点あるいは分解温度が高い。このため、導体パターン形成用インクから導体パターンを形成する過程において、水系分散媒が蒸発した後、比較的高い温度まで、ポリグリセリン化合物を、蒸発或いは熱(酸化)分解せずに、導体パターン前駆体中に存在させることができる。したがって、ポリグリセリン化合物が蒸発或いは熱(酸化)分解するまでは、銀粒子の周囲にポリグリセリン化合物が存在し、銀粒子同士の接近と凝集とを抑制することができ、ポリグリセリン化合物が分解した後には、より均一に銀粒子同士を接合させることができる。さらに、焼結時においてパターン中の銀粒子(金属粒子)の間に高分子鎖(ポリグリセリン化合物)が存在することとなり、ポリグリセリン化合物が銀粒子同士の距離を保つことができる。また、このポリグリセリン化合物は、適度な流動性を有している。このため、ポリグリセリン化合物を含むことにより、導体パターン前駆体は、セラミックス成形体の温度変化による膨張・収縮への追従性が優れたものとなる。   Further, the polyglycerin compound can more reliably prevent disconnection from occurring during sintering when forming the conductor pattern. This is considered as follows. Polyglycerin compounds have a relatively high boiling point or decomposition temperature. Therefore, in the process of forming the conductor pattern from the conductor pattern forming ink, the polyglycerol compound is not evaporated or thermally (oxidized) decomposed to a relatively high temperature after the aqueous dispersion medium evaporates. It can exist in the body. Therefore, until the polyglycerin compound evaporates or is thermally (oxidized) decomposed, the polyglycerin compound exists around the silver particles, and the approach and aggregation of the silver particles can be suppressed, and the polyglycerin compound is decomposed. Later, the silver particles can be joined more uniformly. Furthermore, a polymer chain (polyglycerin compound) exists between silver particles (metal particles) in the pattern during sintering, and the polyglycerin compound can keep the distance between the silver particles. Moreover, this polyglycerin compound has moderate fluidity | liquidity. For this reason, by including a polyglycerin compound, the conductor pattern precursor has excellent followability to expansion / contraction due to temperature change of the ceramic molded body.

以上より、形成された導体パターンに断線が生じることをより確実に防止することができると考えられる。
また、ポリグリセリン化合物は、比較的多くの水酸基を有しているため、上述した金属酸化物との親和性に優れている。このため、導体パターン形成用インクがセラミックス粒子として金属酸化物を含み、かつ、ポリグリセリン化合物を含む場合、導体パターン形成用インク中におけるセラミックス粒子の分散安定性は特に優れたものとなり、導体パターン形成用インクの液滴の吐出安定性が特に優れたものとなる。
From the above, it is considered that disconnection of the formed conductor pattern can be more reliably prevented.
In addition, since the polyglycerin compound has a relatively large number of hydroxyl groups, it has excellent affinity with the above-described metal oxide. For this reason, when the conductive pattern forming ink contains a metal oxide as ceramic particles and a polyglycerin compound, the dispersion stability of the ceramic particles in the conductive pattern forming ink is particularly excellent, and the conductive pattern formation In particular, the ejection stability of the ink drops is excellent.

また、このようなポリグリセリン化合物を含むことにより、インクの粘度をより適度なものとすることができ、インクジェットヘッドからの吐出安定性をより効果的に向上させることができる。また、成膜性も向上させることができる。
ポリグリセリン化合物としては、上述した中でも、ポリグリセリンを用いるのが好ましい。ポリグリセリンは、セラミックス成形体の温度変化による膨張・収縮への追従性が特に優れるとともに、セラミックス成形体の焼結後には、導体パターン中からより確実に除去することができる成分である。その結果、導体パターンの電気的特性をより高いものとすることができる。さらに、ポリグリセリンは、水系分散媒への溶解度も高いので、好適に用いることができる。
Moreover, by including such a polyglycerin compound, the viscosity of the ink can be made more appropriate, and the ejection stability from the ink jet head can be improved more effectively. In addition, film formability can be improved.
Among the above-mentioned polyglycerin compounds, polyglycerin is preferably used. Polyglycerin is a component that is particularly excellent in the ability to follow expansion and contraction due to temperature changes of the ceramic molded body, and can be more reliably removed from the conductor pattern after the ceramic molded body is sintered. As a result, the electrical characteristics of the conductor pattern can be made higher. Furthermore, since polyglycerin has high solubility in an aqueous dispersion medium, it can be suitably used.

有機バインダーは、その重量平均分子量が300以上3000以下であるのが好ましく、400以上1000以下であるのがより好ましく、400以上600以下であるのがさらに好ましい。これにより、導体パターン形成用インクによって形成されたパターンを乾燥した際に、クラックの発生をより確実に防止することができる。これに対し、有機バインダーの重量平均分子量が前記下限値未満であると、有機バインダーの組成によっては、水系分散媒を除去する際に有機バインダーが分解しやすい傾向があり、断線やクラックの発生を防止する効果が小さくなる。また、有機バインダーの重量平均分子量が前記上限値を超えると、有機バインダーの組成によっては、排除体積効果等によりインク中への溶解性、分散性が低下する場合がある。   The organic binder preferably has a weight average molecular weight of 300 or more and 3000 or less, more preferably 400 or more and 1000 or less, and still more preferably 400 or more and 600 or less. Thereby, when the pattern formed with the conductor pattern forming ink is dried, the occurrence of cracks can be more reliably prevented. On the other hand, if the weight average molecular weight of the organic binder is less than the lower limit, depending on the composition of the organic binder, the organic binder tends to be decomposed when removing the aqueous dispersion medium, and breakage and cracks are generated. The effect to prevent becomes small. When the weight average molecular weight of the organic binder exceeds the upper limit, the solubility and dispersibility in the ink may be reduced depending on the composition of the organic binder due to the excluded volume effect or the like.

また、インク中に有機バインダーの含有量は、1wt%以上30wt%以下であるのが好ましく、5wt%以上20wt%以下であるのがより好ましい。これにより、インクの吐出安定性を特に優れたものとしつつ、クラック、断線の発生をより効果的に防止することができる。これに対して、有機バインダーの含有量が前記下限値未満であると、有機バインダーの組成によっては、断線やクラックの発生を防止する効果が小さくなる場合がある。また、有機バインダーの含有量が前記上限値を超えると、有機バインダーの組成によっては、インクの粘度を十分に低いものとすることが困難な場合がある。   Further, the content of the organic binder in the ink is preferably 1 wt% or more and 30 wt% or less, and more preferably 5 wt% or more and 20 wt% or less. This makes it possible to more effectively prevent the occurrence of cracks and disconnections while making the ink ejection stability particularly excellent. On the other hand, when the content of the organic binder is less than the lower limit, the effect of preventing disconnection or cracking may be reduced depending on the composition of the organic binder. If the content of the organic binder exceeds the upper limit, it may be difficult to make the viscosity of the ink sufficiently low depending on the composition of the organic binder.

[乾燥抑制剤]
また、導体パターン形成用インクは、乾燥抑制剤を含んでいてもよい。乾燥抑制剤は、インク中の水系分散媒の不本意な揮発を防止するものである。その結果、インクジェット装置の吐出部付近において水系分散媒が揮発することを防止でき、インクの粘度の上昇、乾燥が抑えられる。導体パターン形成用インクは、このような乾燥抑制剤を含む結果、インクの液滴の吐出安定性が特に優れたものとなる。すなわち、インクの液滴の重量のばらつきが小さいものとなり、目詰まり、飛行曲がり等が少ないものとなる。また、特に、インクジェット装置に導体パターン形成用インクを充填した後に、長期間(例えば、5日間)運転を行わずにインクジェット装置を待機状態とした場合であっても、本発明の導体パターン形成用インクは、均一な量で、目的とする位置に精度よく吐出させることができる。
[Drying inhibitor]
Further, the conductor pattern forming ink may contain a drying inhibitor. The drying inhibitor prevents unintended volatilization of the aqueous dispersion medium in the ink. As a result, the aqueous dispersion medium can be prevented from volatilizing in the vicinity of the ejection portion of the ink jet apparatus, and the increase in the viscosity and drying of the ink can be suppressed. As a result of including such a drying inhibitor, the conductive pattern forming ink has particularly excellent ink droplet ejection stability. That is, variation in the weight of ink droplets is small, and clogging, flight bending, and the like are small. In particular, even when the ink jet device is in a standby state without being operated for a long time (for example, 5 days) after the ink for forming the conductor pattern is filled in the ink jet device, the conductor pattern forming ink of the present invention is used. The ink can be accurately ejected to the target position in a uniform amount.

このような乾燥抑制剤としては、特に限定されないが、例えば、下記式(I)で示される化合物、糖アルコール、アルカノールアミン等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの化合物は、上述したように水系分散媒の揮発を防止する機能を有するとともに、水酸基やカルボニル基等の極性基を多く有し、このため、金属酸化物がこれらに包み込まれるようにして導体パターン形成用インク中に安定して分散する。このため、導体パターン形成用インクがセラミックス粒子として金属酸化物を含み、かつ、上記の化合物を含む場合、導体パターン形成用インク中におけるセラミックス粒子の分散安定性は特に優れたものとなり、導体パターン形成用インクの液滴の吐出安定性が特に優れたものとなる。   Such a drying inhibitor is not particularly limited, and examples thereof include compounds represented by the following formula (I), sugar alcohols, alkanolamines, etc., and one or more of these may be used in combination. Can do. These compounds have a function of preventing volatilization of the aqueous dispersion medium as described above, and have a large number of polar groups such as hydroxyl groups and carbonyl groups. For this reason, the metal oxide is encapsulated in these conductors. Disperses stably in the pattern forming ink. For this reason, when the conductive pattern forming ink contains a metal oxide as the ceramic particles and the above compound, the dispersion stability of the ceramic particles in the conductive pattern forming ink is particularly excellent. In particular, the ejection stability of the ink drops is excellent.

Figure 2011129787
(ただし、R、R’は、それぞれ、Hまたはアルキル基である。)
Figure 2011129787
(However, R and R ′ are each H or an alkyl group.)

上記式(I)で表される化合物は、水素結合性の高い成分である。このため、水との親和性が高く、適度な水分を保持することができ、導体パターン形成用インクの水系分散媒の不本意な揮発を防止することができる。
また、上記化合物は、比較的燃焼しやすく、導体パターンを形成する際には導体パターン内からより容易に除去(酸化分解)することができる。
The compound represented by the above formula (I) is a component having a high hydrogen bonding property. For this reason, it has a high affinity with water, can retain an appropriate amount of water, and can prevent unintentional volatilization of the aqueous dispersion medium of the conductive pattern forming ink.
Moreover, the said compound is comparatively easy to burn, and when forming a conductor pattern, it can remove (oxidative decomposition) more easily from the inside of a conductor pattern.

また、導体パターン形成用インクによって形成されたパターンを乾燥(脱分散媒)する際に、水系分散媒が揮発とともに、上記化合物の濃度が上昇する。これにより、導体パターン前駆体の粘度が上昇するため、導体パターン前駆体を構成するインクの不本意な部位への流れ出しがより確実に防止される。その結果、形成される導体パターンをより高い精度で所望の形状とすることができる。   Further, when the pattern formed by the conductor pattern forming ink is dried (dedispersion medium), the concentration of the compound increases as the aqueous dispersion medium volatilizes. Thereby, since the viscosity of the conductor pattern precursor is increased, the ink constituting the conductor pattern precursor is more reliably prevented from flowing out to an unintended portion. As a result, the formed conductor pattern can be formed into a desired shape with higher accuracy.

また、上述したような化合物は、金属粒子(銀粒子)やセラミックス粒子が前述したように表面に分散剤が付着したコロイド粒子である場合、表面の分散剤と水素結合により結合し、金属粒子やセラミックス粒子の分散安定性を向上させる効果を有している。これにより、導体パターン形成用インクの吐出安定性に優れるとともに、保存安定性にも優れたものとなる。   In addition, when the metal particles (silver particles) or ceramic particles are colloidal particles having a dispersant attached to the surface as described above, the compound as described above is bonded to the surface dispersant by hydrogen bonding, and the metal particles or It has the effect of improving the dispersion stability of ceramic particles. Accordingly, the ejection stability of the conductor pattern forming ink is excellent, and the storage stability is also excellent.

上述したように、本発明で用いる上記式(I)で表される化合物中における、R、R’は、それぞれ、水素またはアルキル基であるが、R、R’は、ともに水素であるのが好ましい。すなわち、尿素であるのが好ましい。これにより、上述したような保湿性を特に高いものとすることができ、特に優れた吐出安定性を得ることができる。また、金属粒子やセラミックス粒子が上述したようなコロイド粒子として存在する場合に、特に優れた分散安定性を示すものとなる。   As described above, R and R ′ in the compound represented by the above formula (I) used in the present invention are each hydrogen or an alkyl group, but R and R ′ are both hydrogen. preferable. That is, urea is preferable. As a result, the moisture retention as described above can be made particularly high, and particularly excellent ejection stability can be obtained. Further, when metal particles or ceramic particles are present as colloidal particles as described above, particularly excellent dispersion stability is exhibited.

このような上記式(I)で表される化合物のインク中における含有量は、5wt%以上25wt%以下であるのが好ましく、8wt%以上20wt%以下であるのがより好ましく、10wt%以上18wt%以下であるのがさらに好ましい。これにより、導体パターン形成用インクの不本意な乾燥をより効率よく防止することができる。その結果、インクの吐出安定性を特に優れたものとすることができる。   The content of the compound represented by the above formula (I) in the ink is preferably 5 wt% or more and 25 wt% or less, more preferably 8 wt% or more and 20 wt% or less, and 10 wt% or more and 18 wt% or less. % Or less is more preferable. Thereby, unintentional drying of the conductor pattern forming ink can be prevented more efficiently. As a result, the ink ejection stability can be made particularly excellent.

アルカノールアミンは、保湿性の高い成分であるとともに、金属粒子やセラミックス粒子が前述したようなコロイド粒子である場合に、コロイド粒子表面の分散剤の官能基を活性化させることができ、金属粒子やセラミックス粒子の分散安定性をより高いものとすることができる。
アルカノールアミンとしては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノプロパノールアミン、ジプロパノールアミン、トリプロパノールアミン等各種のものを挙げることができる。
Alkanolamine is a highly moisturizing component, and when the metal particles and ceramic particles are colloidal particles as described above, the functional group of the dispersant on the surface of the colloidal particles can be activated. The dispersion stability of the ceramic particles can be made higher.
Examples of the alkanolamine include monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monopropanolamine, dipropanolamine, and tripropanolamine.

また、アルカノールアミンは、第3級アミンであるのが好ましい。第3級アミンは、アルカノールアミンの中でも、特に保湿性が高く、上記効果をより顕著なものとすることができる。
また、第3級アミンの中でも、取り扱いやすさや、保湿性の高さ等の観点から、特に、トリエタノールアミンを用いるのが好ましい。
The alkanolamine is preferably a tertiary amine. Tertiary amines have particularly high moisture retention among alkanolamines, and can make the above effects more remarkable.
Among tertiary amines, it is particularly preferable to use triethanolamine from the viewpoints of ease of handling, high moisture retention, and the like.

導体パターン形成用インク中におけるアルカノールアミンの含有量は、1wt%以上10wt%以下であるのが好ましく、3wt%以上7wt%以下であるのがより好ましい。これにより、導体パターン形成用インクの保湿性を十分に高いものとすることができるとともに、導体パターン形成用インクの吐出安定性をより優れたものとすることができる。
糖アルコールは、糖類のアルデヒド基およびケトン基を還元して得られるものである。
The content of alkanolamine in the conductor pattern forming ink is preferably 1 wt% or more and 10 wt% or less, and more preferably 3 wt% or more and 7 wt% or less. As a result, the moisture retention of the conductor pattern forming ink can be made sufficiently high, and the ejection stability of the conductor pattern forming ink can be made more excellent.
Sugar alcohol is obtained by reducing aldehyde groups and ketone groups of sugars.

また、糖アルコールは、高い保湿性を有する化合物である。また、糖アルコールは、分子量あたりの酸素数が多いため、雰囲気が糖アルコールの分解温度に達すると、容易に分解して除去される。このため、導体パターンを形成する際には、導体パターンの温度を糖アルコールの分解温度よりも高くすることで、導体パターン内から糖アルコールを確実に除去(酸化分解)することができる。   Sugar alcohol is a compound having high moisture retention. In addition, since sugar alcohol has a large number of oxygen per molecular weight, it is easily decomposed and removed when the atmosphere reaches the decomposition temperature of sugar alcohol. For this reason, when forming a conductor pattern, sugar alcohol can be reliably removed (oxidative decomposition) from the conductor pattern by making the temperature of the conductor pattern higher than the decomposition temperature of the sugar alcohol.

糖アルコールとしては、例えば、トレイトール、エリスリトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、アラビトール、リビトール、キシリトール、ソルビトール、マンニトール、スレイトール、グリトール、タリトール、ガラクチトール、アリトール、アルトリトール、ドルシトール、イディトール、グリセリン(グリセロール)、イノシトール、マルチトール、イソマルチトール、ラクチトール、ツラニトール等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of sugar alcohols include threitol, erythritol, pentaerythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, arabitol, ribitol, xylitol, sorbitol, mannitol, threitol, glycol, tallitol, galactitol, allitol, altritol, dolitol, iditol. Glycerin (glycerol), inositol, maltitol, isomaltitol, lactitol, tranitol and the like, and one or more of these can be used in combination.

上述したような糖アルコールの、導体パターン形成用インク中における含有量は、3wt%以上20wt%以下であるのが好ましく、5wt%以上15wt%以下であるのがより好ましい。これにより、導体パターン形成用インクの水系分散媒の揮発をより確実に抑制することができ、導体パターン形成用インクは、より長期にわたって液滴の吐出安定性が特に優れたものとなる。   The content of the sugar alcohol in the conductive pattern forming ink as described above is preferably 3 wt% or more and 20 wt% or less, and more preferably 5 wt% or more and 15 wt% or less. Thereby, volatilization of the aqueous dispersion medium of the conductor pattern forming ink can be more reliably suppressed, and the conductor pattern forming ink has particularly excellent droplet discharge stability over a longer period of time.

[表面張力調整剤]
また、導体パターン形成用インクには、表面張力調整剤を含んでいてもよい。
表面張力調整剤は、導体パターン形成用インクとセラミックス成形体との接触角を所定の角度に調整するために用いられる。
表面張力調整剤としては、各種界面活性剤を用いることができ、1種または2種以上を組み合わせて用いることができるが、アセチレングリコール系化合物を含むことが好ましい。
[Surface tension modifier]
Further, the conductive pattern forming ink may contain a surface tension adjusting agent.
The surface tension adjusting agent is used to adjust the contact angle between the conductor pattern forming ink and the ceramic molded body to a predetermined angle.
As the surface tension adjusting agent, various surfactants can be used, and one or a combination of two or more types can be used, but it is preferable to include an acetylene glycol compound.

アセチレングリコール系化合物は、少ない添加量で、導体パターン形成用インクとセラミックス成形体との接触角を所定の範囲に調整することができる。このように、導体パターン形成用インクとセラミックス成形体との接触角を所定の範囲に調整することにより、より微細な導体パターンを形成することができる。また、吐出した液滴内に気泡が混入した場合であっても、速やかに気泡を除去することができる。その結果、形成される導体パターンでのクラック、断線の発生をより効果的に防止することができる。   The contact angle between the conductive pattern forming ink and the ceramic molded body can be adjusted within a predetermined range with a small addition amount of the acetylene glycol compound. Thus, a finer conductor pattern can be formed by adjusting the contact angle between the conductor pattern forming ink and the ceramic molded body within a predetermined range. Further, even when bubbles are mixed in the discharged droplets, the bubbles can be quickly removed. As a result, generation of cracks and disconnections in the formed conductor pattern can be more effectively prevented.

アセチレングリコール系化合物としては、例えば、サーフィノール104シリーズ(104E、104H、104PG−50、104PA等)、サーフィノール400シリーズ(420、465、485等)、オルフィンシリーズ(EXP4036、EXP4001、E1010等)(「サーフィノール」および「オルフィン」は、日信化学工業株式会社の商品名)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the acetylene glycol compounds include Surfinol 104 series (104E, 104H, 104PG-50, 104PA, etc.), Surfynol 400 series (420, 465, 485, etc.), Olphine series (EXP4036, EXP4001, E1010, etc.). ("Surfinol" and "Orphine" are trade names of Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) and the like, and one or more of these can be used in combination.

また、インク中には、HLB値が異なる2種以上のアセチレングリコール系化合物を含んでいるのが好ましい。導体パターン形成用インクとセラミックス成形体との接触角を所定の範囲により容易に調整することができる。
特に、インク中に含まれる2種以上のアセチレングリコール系化合物のうち、最もHLB値が高いアセチレングリコール系化合物のHLB値と、最もHLB値が低いアセチレングリコール系化合物のHLB値との差が、4以上12以下であるのが好ましく、5以上10以下であるのがより好ましい。これにより、より少ないアセチレングリコール系化合物の添加量で、導体パターン形成用インクとセラミックス成形体との接触角を所定の範囲により容易に調整することができる。
The ink preferably contains two or more acetylene glycol compounds having different HLB values. The contact angle between the conductor pattern forming ink and the ceramic molded body can be easily adjusted within a predetermined range.
In particular, the difference between the HLB value of the acetylene glycol compound having the highest HLB value and the HLB value of the acetylene glycol compound having the lowest HLB value among two or more kinds of acetylene glycol compounds contained in the ink is 4 It is preferably 12 or more and more preferably 5 or more and 10 or less. Accordingly, the contact angle between the conductor pattern forming ink and the ceramic molded body can be easily adjusted within a predetermined range with a smaller amount of the acetylene glycol compound.

インク中に2種以上のアセチレングリコール系化合物を含むものを用いる場合、最もHLB値の高いアセチレングリコール系化合物のHLB値は、8以上16以下であるのが好ましく、9以上14以下であるのがより好ましい。
また、インク中に2種以上のアセチレングリコール系化合物を含むものを用いる場合、最もHLB値の低いアセチレングリコール系化合物のHLB値は、2以上7以下であるのが好ましく、3以上5以下であるのがより好ましい。
インク中に含まれる表面張力調整剤の含有量は、0.001wt%以上1wt%以下であるのが好ましく、0.01wt%以上0.5wt%以下であるのがより好ましい。これにより、導体パターン形成用インクとセラミックス成形体との接触角をより効果的に所定の範囲に調整することができる。
When an ink containing two or more acetylene glycol compounds is used, the HLB value of the acetylene glycol compound having the highest HLB value is preferably 8 or more and 16 or less, and preferably 9 or more and 14 or less. More preferred.
Moreover, when using what contains 2 or more types of acetylene glycol type compounds in an ink, it is preferable that the HLB value of the acetylene glycol type compound with the lowest HLB value is 2-7, and it is 3-5. Is more preferable.
The content of the surface tension adjusting agent contained in the ink is preferably 0.001 wt% or more and 1 wt% or less, and more preferably 0.01 wt% or more and 0.5 wt% or less. As a result, the contact angle between the conductor pattern forming ink and the ceramic molded body can be more effectively adjusted to a predetermined range.

[その他の成分]
なお、導体パターン形成用インクの構成成分は、上記成分に限定されず、上記以外の成分を含んでいてもよい。
例えば、導体パターン形成用インクには、上記成分の他、1,3−プロパンジオールが含まれていてもよい。これにより、インクジェットヘッドの吐出部付近における水系分散媒の揮発をより効果的に抑制することができるとともに、インクの粘度をより適度なものとすることができ、吐出安定性がさらに向上する。
[Other ingredients]
The constituent components of the conductor pattern forming ink are not limited to the above components, and may include components other than those described above.
For example, the conductor pattern forming ink may contain 1,3-propanediol in addition to the above components. As a result, volatilization of the aqueous dispersion medium in the vicinity of the ejection portion of the inkjet head can be more effectively suppressed, the viscosity of the ink can be made more appropriate, and ejection stability is further improved.

インク中に1,3−プロパンジオールを含む場合、その含有量は、0.5wt%以上20wt%以下であるのが好ましく、2wt%以上10wt%以下であるのがより好ましい。これにより、インクの吐出安定性をより効果的に向上させることができる。
また、例えば、導体パターン形成用インクは、エチレングリコール、1,3−ブチレングリコール、プロピレングリコール等の多価アルコールを含んでいてもよい。導体パターン形成用インクは、上述した尿素以外にも、チオ尿素を含んでいてもよい。
When 1,3-propanediol is contained in the ink, the content is preferably 0.5 wt% or more and 20 wt% or less, and more preferably 2 wt% or more and 10 wt% or less. Thereby, the ejection stability of ink can be improved more effectively.
In addition, for example, the conductor pattern forming ink may contain a polyhydric alcohol such as ethylene glycol, 1,3-butylene glycol, and propylene glycol. The conductor pattern forming ink may contain thiourea in addition to the urea described above.

導体パターン形成用インクとセラミックス成形体との接触角は、特に限定されないが、40°以上80°以下であることが好ましく、50°以上80°以下であることがより好ましい。接触角が小さすぎると、微細な線幅の導体パターンを形成するのが困難となる場合がある。一方、接触角が大きすぎると、吐出条件等によっては、均一な線幅の導体パターンを形成するのが困難となる場合がある。また、着弾した液滴とセラミックス成形体との接触面積が小さくなりすぎてしまい、着弾した液滴が着弾位置からずれてしまう場合がある。   The contact angle between the conductor pattern forming ink and the ceramic molded body is not particularly limited, but is preferably 40 ° or more and 80 ° or less, and more preferably 50 ° or more and 80 ° or less. If the contact angle is too small, it may be difficult to form a conductor pattern with a fine line width. On the other hand, if the contact angle is too large, it may be difficult to form a conductor pattern with a uniform line width depending on the discharge conditions and the like. In addition, the contact area between the landed droplet and the ceramic molded body may be too small, and the landed droplet may be displaced from the landing position.

また、導体パターン形成インクの粘度は、特に限定されないが、2.0mPa・s以上11.0mPa・s以下であることが好ましく、4.0mPa・s以上6.0mPa・s以下であることがより好ましい。これにより、液滴の吐出安定性を優れたものとすることができるとともに、セラミックス成形体に着弾したインクの濡れ広がりを防止することができ、微細な線幅の導体パターン前駆体を形成することができる。   The viscosity of the conductor pattern forming ink is not particularly limited, but is preferably 2.0 mPa · s or more and 11.0 mPa · s or less, and more preferably 4.0 mPa · s or more and 6.0 mPa · s or less. preferable. As a result, the droplet discharge stability can be improved, and wetting and spreading of the ink that has landed on the ceramic molded body can be prevented, and a conductor pattern precursor having a fine line width can be formed. Can do.

《導体パターン形成用インクの製造方法》
次に、上述したような導体パターン形成用インクの製造方法の一例について説明する。
本実施形態では導体パターン形成用インクは、銀コロイド粒子が水系分散媒中に分散したコロイド液であるとして説明する。
本実施形態のインクを製造する際には、まず、上記分散剤と、還元剤とを溶解した水溶液を調製する。
分散剤の配合量としては、出発物質である硝酸銀のような銀塩中の銀と分散剤とのモル比が1:1〜1:100程度となるように配合することが好ましい。銀塩に対する分散剤のモル比が大きくなると、銀粒子の粒径が小さくなって導体パターン形成後の粒子同士の接触点が増えるため、体積抵抗値の低い被膜を得ることができる。
<< Method for producing conductive pattern forming ink >>
Next, an example of a method for producing the above-described conductor pattern forming ink will be described.
In this embodiment, the conductor pattern forming ink will be described as a colloidal liquid in which silver colloidal particles are dispersed in an aqueous dispersion medium.
When manufacturing the ink of this embodiment, first, an aqueous solution in which the dispersant and the reducing agent are dissolved is prepared.
As a blending amount of the dispersing agent, it is preferable to blend so that a molar ratio of silver and the dispersing agent in a silver salt such as silver nitrate as a starting material is about 1: 1 to 1: 100. When the molar ratio of the dispersant to the silver salt is increased, the particle size of the silver particles is reduced and the contact points between the particles after the formation of the conductor pattern is increased, so that a film having a low volume resistance value can be obtained.

還元剤は、出発物質である硝酸銀(AgNO3−)のような銀塩中のAgイオンを還元して銀粒子を生成するという働きを有する。
還元剤としては、特に限定されず、例えば、ヒドラジン、ジメチルアミノエタノール、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミン系;水酸化ホウ素ナトリウム、水素ガス、ヨウ化水素等の水素化合物系;一酸化炭素、亜硫酸次亜リン酸等の酸化物系、Fe(II)化合物、Sn(II)化合物等の低原子価金属塩系、D−グルコースのような糖類、ホルムアルデヒド等の有機化合物系、あるいは上記の分散剤として挙げたヒドロキシ酸であるクエン酸、りんご酸や、ヒドロキシ酸塩であるクエン酸三ナトリウム、クエン酸三カリウム、クエン酸三リチウム、クエン酸三アンモニウム、りんご酸二ナトリウムやタンニン酸等が挙げられる。中でも、タンニン酸や、ヒドロキシ酸は還元剤として機能すると同時に分散剤としての効果を発揮するため好適に用いることができる。あるいは、金属表面で安定した結合を形成する分散剤として上記に挙げたメルカプト酸であるメルカプト酢酸、メルカプトプロピオン酸、チオジプロピオン酸、メルカプトコハク酸、チオ酢酸やメルカプト酸塩であるメルカプト酢酸ナトリウム、メルカプトプロピオン酸ナトリウム、チオジプロピオン酸ナトリウム、メルカプトコハク酸ナトリウム、メルカプト酢酸カリウム、メルカプトプロピオン酸カリウム、チオジプロピオン酸カリウム、メルカプトコハク酸カリウム等を好適に用いることができる。これらの分散剤や還元剤は単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。これらの化合物を使用する際には、光や熱を加えて還元反応を促進させてもよい。
また、還元剤の配合量としては、上記出発物質である銀塩を完全に還元できる量が必要であるが、過剰な還元剤は不純物として銀コロイド液中に残存してしまい、成膜後の導電性を悪化させる等の原因となるため、必要最小限の量が好ましい。具体的な配合量としては、上記銀塩と還元剤とのモル比が1:1〜1:3程度である。
The reducing agent has a function of generating silver particles by reducing Ag + ions in a silver salt such as silver nitrate (Ag + NO 3− ) which is a starting material.
The reducing agent is not particularly limited, and examples thereof include amines such as hydrazine, dimethylaminoethanol, methyldiethanolamine, and triethanolamine; hydrogen compounds such as sodium borohydride, hydrogen gas, and hydrogen iodide; carbon monoxide, Oxides such as hyposulfite hypophosphorous acid, low valent metal salts such as Fe (II) compounds and Sn (II) compounds, saccharides such as D-glucose, organic compounds such as formaldehyde, or the above dispersions Citric acid and malic acid which are the hydroxy acids mentioned as agents, and trisodium citrate, tripotassium citrate, trilithium citrate, triammonium citrate, disodium malate and tannic acid which are hydroxy acid salts It is done. Among them, tannic acid and hydroxy acid can be suitably used because they function as a reducing agent and at the same time exert an effect as a dispersant. Alternatively, mercaptoacetic acid, mercaptopropionic acid, thiodipropionic acid, mercaptosuccinic acid, mercaptosuccinic acid, mercaptoacetate sodium that is thioacetic acid or mercaptoate, listed above as a dispersant that forms a stable bond on the metal surface, Sodium mercaptopropionate, sodium thiodipropionate, sodium mercaptosuccinate, potassium mercaptoacetate, potassium mercaptopropionate, potassium thiodipropionate, potassium mercaptosuccinate and the like can be suitably used. These dispersants and reducing agents may be used alone or in combination of two or more. When these compounds are used, the reduction reaction may be promoted by applying light or heat.
In addition, the amount of the reducing agent is required to be an amount that can completely reduce the silver salt that is the starting material. However, the excessive reducing agent remains as impurities in the silver colloidal solution, and the film is formed after film formation. The necessary minimum amount is preferable because it causes deterioration of conductivity. Specifically, the molar ratio of the silver salt to the reducing agent is about 1: 1 to 1: 3.

本実施形態において、分散剤と還元剤とを溶解して水溶液を調製した後、この水溶液のpHを6〜12に調整することが好ましい。
これは、以下のような理由による。例えば、分散剤であるクエン酸三ナトリウムと還元剤である硫酸第一鉄とを混合した場合、全体の濃度にもよるがpHは大体4〜5程度と、上記したpH6を下回る。このとき存在する水素イオンは、下記反応式(1)で表される反応の平衡を右辺に移動させ、COOHの量が多くなる。したがって、その後、銀塩溶液を滴下して得られる銀粒子表面の電気的反発力が減少し、銀粒子(コロイド粒子)の分散性が低下してしまう。
−COO+H → −COOH…(1)
In this embodiment, it is preferable to adjust the pH of the aqueous solution to 6 to 12 after dissolving the dispersant and the reducing agent to prepare the aqueous solution.
This is due to the following reasons. For example, when trisodium citrate, which is a dispersant, and ferrous sulfate, which is a reducing agent, are mixed, the pH is about 4 to 5 and lower than the above pH 6, although it depends on the overall concentration. The hydrogen ions present at this time move the equilibrium of the reaction represented by the following reaction formula (1) to the right side, and the amount of COOH increases. Therefore, thereafter, the electric repulsive force on the surface of the silver particles obtained by dropping the silver salt solution decreases, and the dispersibility of the silver particles (colloid particles) decreases.
−COO + H + → −COOH (1)

そこで、分散剤と還元剤とを溶解して水溶液を調製した後、この水溶液にアルカリ性の化合物を添加し、水素イオン濃度を低下させる。
添加するアルカリ性の化合物としては、特に限定されず、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア水や、上述したアルカノールアミン等を用いることができる。これらの中でも、アルカノールアミンを用いた場合、pHを容易に調整できるとともに、形成される銀コロイド粒子の分散安定性をより向上させることができる。
なお、アルカリ性の化合物の添加量が多すぎて、pHが12を超えると、鉄イオンのような残存している還元剤のイオンの水酸化物の沈殿が起こりやすくなる。
Therefore, after dissolving the dispersant and the reducing agent to prepare an aqueous solution, an alkaline compound is added to the aqueous solution to reduce the hydrogen ion concentration.
It does not specifically limit as an alkaline compound to add, For example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, ammonia water, the alkanolamine mentioned above, etc. can be used. Among these, when alkanolamine is used, the pH can be easily adjusted and the dispersion stability of the formed silver colloidal particles can be further improved.
In addition, when there is too much addition amount of an alkaline compound and pH exceeds 12, precipitation of the hydroxide of the ion of the remaining reducing agent like iron ion will occur easily.

次に、本実施形態のインクの製造工程では、調製した分散剤と還元剤とが溶解した水溶液に銀塩を含む水溶液を滴下する。
銀塩としては、特に限定されず、例えば、酢酸銀、炭酸銀、酸化銀、硫酸銀、亜硝酸銀、塩素酸銀、硫化銀、クロム酸銀、硝酸銀、二クロム酸銀等を用いることができる。これらの中では、水への溶解度が大きい硝酸銀が好ましい。
Next, in the ink manufacturing process of this embodiment, an aqueous solution containing a silver salt is dropped into an aqueous solution in which the prepared dispersant and reducing agent are dissolved.
The silver salt is not particularly limited, and for example, silver acetate, silver carbonate, silver oxide, silver sulfate, silver nitrite, silver chlorate, silver sulfide, silver chromate, silver nitrate, silver dichromate and the like can be used. . Among these, silver nitrate having a high solubility in water is preferable.

また、銀塩の量は、目的とするコロイド粒子の含有量、および、還元剤により還元される割合を考慮して定められるが、例えば、硝酸銀の場合、水溶液100重量部に対して15〜70重量部程度とするのが好ましい。
銀塩水溶液は、上記銀塩を純水に溶かすことにより調製し、調製した銀塩の水溶液を徐々に前述した分散剤と還元剤とが溶解した水溶液中に滴下する。
The amount of the silver salt is determined in consideration of the content of the desired colloidal particles and the ratio reduced by the reducing agent. For example, in the case of silver nitrate, 15 to 70 parts per 100 parts by weight of the aqueous solution. The amount is preferably about parts by weight.
The silver salt aqueous solution is prepared by dissolving the silver salt in pure water, and the prepared silver salt aqueous solution is gradually dropped into the aqueous solution in which the dispersing agent and reducing agent described above are dissolved.

この工程において、銀塩は還元剤により銀粒子に還元され、さらに、該銀粒子の表面に分散剤が吸着して銀コロイド粒子が形成される。これにより、銀コロイド粒子が水溶液中にコロイド状に分散した水溶液が得られる。
得られた溶液中には、コロイド粒子のほかに、還元剤の残留物や分散剤が存在しており、液全体のイオン濃度が高くなっている。このような状態の液は、凝析が起こり、沈殿しやすい。そこで、このような水溶液中の余分なイオンを取り除いてイオン濃度を低下させるために、洗浄を行うことが望ましい。
In this step, the silver salt is reduced to silver particles by a reducing agent, and the dispersant is adsorbed on the surface of the silver particles to form silver colloidal particles. As a result, an aqueous solution in which silver colloidal particles are colloidally dispersed in the aqueous solution is obtained.
In the obtained solution, in addition to the colloidal particles, a reducing agent residue and a dispersing agent are present, and the ion concentration of the whole liquid is high. The liquid in such a state is likely to coagulate and precipitate easily. Therefore, it is desirable to perform cleaning in order to remove excess ions in such an aqueous solution and lower the ion concentration.

洗浄の方法としては、例えば、得られたコロイド粒子を含む水溶液を一定期間静置し、生じた上澄み液を取り除いた上で、純水を加えて再度攪拌し、さらに一定期間静置して生じた上澄み液を取り除く工程を幾度が繰り返す方法、上記静置の代わりに遠心分離を行う方法、限外濾過等でイオンを取り除く方法等を挙げることができる。
あるいは、次のような方法で洗浄を行ってもよい。溶液を製造した後に溶液のpHを5以下の酸性の領域に調整し、上記反応式(1)の反応の平衡を右辺に移動させることで銀粒子表面の電気的反発力を減少させ、積極的に金属コロイド粒子を凝集させた状態で洗浄を行い、塩類や溶媒を除去することができる。メルカプト酸のような低分子量の硫黄化合物を分散剤として粒子表面に有する金属コロイド粒子であれば金属表面で安定した結合を形成するため、凝集した金属コロイド粒子は、溶液のpHを6以上のアルカリ性の領域に再調整することにより、容易に再分散し、分散安定性に優れた金属コロイド液を得ることができる。
As a washing method, for example, the aqueous solution containing the obtained colloidal particles is allowed to stand for a certain period, and the resulting supernatant liquid is removed, and then pure water is added and stirred again, and further left to stand for a certain period. In addition, a method of repeating the step of removing the supernatant liquid several times, a method of performing centrifugation instead of the above-mentioned standing, a method of removing ions by ultrafiltration, and the like can be mentioned.
Alternatively, cleaning may be performed by the following method. After the solution is prepared, the pH of the solution is adjusted to an acidic region of 5 or less, and the electric repulsive force on the surface of the silver particles is reduced by moving the equilibrium of the reaction of the above reaction formula (1) to the right side. It is possible to remove salts and solvents by washing in a state where metal colloidal particles are aggregated. In the case of a metal colloid particle having a low molecular weight sulfur compound such as mercapto acid on the particle surface as a dispersant, a stable bond is formed on the metal surface. Therefore, the aggregated metal colloid particle has an alkaline pH of 6 or more. By re-adjusting to this region, it is possible to obtain a metal colloid liquid that is easily redispersed and excellent in dispersion stability.

本実施形態のインクの製造過程では、上記工程の後、必要により銀コロイド粒子が分散した水溶液に水酸化アルカリ金属水溶液を添加し、最終的なpHを6〜11に調整することが好ましい。
これは、還元後に洗浄を行ったため、電解質イオンであるナトリウム濃度が減少している場合があり、このような状態の溶液では、下記反応式(2)で表される反応の平衡が右辺へ移動する。このままでは、銀コロイドの電気的反発力が減少して銀粒子の分散性が低下するため、適当量の水酸化アルカリを添加することにより、反応式(2)の平衡を左辺に移動させ、銀コロイドを安定化させるのである。
−COONa+HO → −COOH+Na+OH…(2)
In the ink production process of the present embodiment, it is preferable to adjust the final pH to 6 to 11 by adding an aqueous alkali metal hydroxide solution to an aqueous solution in which silver colloidal particles are dispersed as necessary after the above step.
This is because the concentration of sodium, which is an electrolyte ion, may be decreased because washing is performed after reduction. In the solution in such a state, the equilibrium of the reaction represented by the following reaction formula (2) moves to the right side. To do. If this is the case, the electrical repulsive force of the silver colloid is reduced and the dispersibility of the silver particles is lowered. Therefore, by adding an appropriate amount of alkali hydroxide, the equilibrium of the reaction formula (2) is shifted to the left side, and silver It stabilizes the colloid.
—COO Na + + H 2 O → —COOH + Na + + OH (2)

このときに使用する上記水酸化アルカリ金属としては、例えば、最初にpHを調整する際に用いた化合物と同様の化合物を挙げることができる。
pHが6未満では、反応式(2)の平衡が右辺に移動するため、コロイド粒子が不安定化し、一方、pHが11を超えると、鉄イオンのような残存しているイオンの水酸化塩の沈殿が起こりやすくなるため好ましくない。ただし、予め鉄イオン等を取り除いておけば、pHが11を超えても大きな問題はない。
As said alkali metal hydroxide used at this time, the compound similar to the compound used when adjusting pH first can be mentioned, for example.
If the pH is less than 6, the equilibrium of the reaction formula (2) shifts to the right side, so that the colloidal particles become unstable. On the other hand, if the pH exceeds 11, hydroxides of remaining ions such as iron ions This is not preferable because precipitation of selenium tends to occur. However, if iron ions or the like are removed in advance, there is no major problem even if the pH exceeds 11.

なお、ナトリウムイオン等の陽イオンは水酸化物の形で加えるのが好ましい。これは、水の自己プロトリシスを利用できるため最も効果的にナトリウムイオン等の陽イオンを水溶液中に加えることができるからである。
また、pHを6〜11に調整する上記工程において、水酸化アルカリ金属水溶液の代わりに、アルカノールアミンを用いてもよい。
Cations such as sodium ions are preferably added in the form of hydroxides. This is because the self-protolysis of water can be used, so that cations such as sodium ions can be added to the aqueous solution most effectively.
Moreover, in the said process of adjusting pH to 6-11, you may use an alkanolamine instead of an alkali metal hydroxide aqueous solution.

以上のようにして得られた銀コロイド粒子が分散した水溶液に、セラミックスコロイド粒子が分散したセラミックスコロイド液等の他の成分を添加することにより、導体パターン形成用インク(本発明の導体パターン形成用インク)を得る。
なお、セラミックスコロイド液等の他の成分の添加時期は、特に限定されず、銀コロイド粒子の形成後ならいつでもよい。
By adding other components such as a ceramic colloid liquid in which ceramic colloid particles are dispersed to the aqueous solution in which silver colloid particles are dispersed as described above, a conductive pattern forming ink (for forming a conductive pattern of the present invention) is added. Ink).
In addition, the addition time of other components, such as a ceramic colloid liquid, is not specifically limited, As long as it is after formation of a silver colloid particle, it may be anytime.

《導体パターンおよび配線基板》
次に、本発明の導体パターンおよび配線基板について説明する。
図1に示すように、配線基板(セラミックス回路基板)30は、セラミックス基板31が多数(例えば10枚から20枚程度)積層されてなる積層基板32と、この積層基板32の最外層、すなわち一方の側の表面に形成された、微細配線等からなる導体パターン(回路)21とを有して形成されたものである。
<< Conductor pattern and wiring board >>
Next, the conductor pattern and wiring board of the present invention will be described.
As shown in FIG. 1, a wiring board (ceramic circuit board) 30 includes a laminated board 32 in which a large number (for example, about 10 to 20) of ceramic boards 31 are laminated, and an outermost layer of the laminated board 32, that is, one of them. And a conductor pattern (circuit) 21 made of fine wiring or the like formed on the surface of the substrate.

積層基板32は、積層されたセラミックス基板31、31間に、導体パターン(回路、本発明の導体パターン)20を備えている。
導体パターン20は、本発明の導体パターン形成用インクにより形成されたパターン(導体パターン前駆体、以下、単に前駆体ともいう。)10を加熱する(焼結する)ことにより形成される薄膜状の導体パターンであって、銀粒子が相互に結合されてなり、少なくとも導体パターン表面において前記銀粒子同士が隙間なく結合している。
The laminated substrate 32 includes a conductor pattern (circuit, conductor pattern of the present invention) 20 between the laminated ceramic substrates 31 and 31.
The conductor pattern 20 is a thin film formed by heating (sintering) a pattern (conductor pattern precursor, hereinafter also simply referred to as a precursor) 10 formed by the conductor pattern forming ink of the present invention. It is a conductor pattern, Comprising: Silver particle | grains are mutually couple | bonded and the said silver particle is couple | bonded without gap at least on the conductor pattern surface.

このような導体パターン20は、本発明の導体パターン形成用インクを用いて形成されている。このため、その前駆体10は、精度よく形成されており、この結果、導体パターン20は、断線が防止され、周波数特性(Q値)が所望のものとなった、信頼性の高いものとなっている。
導体パターン20の比抵抗は、20μΩcm未満であることが好ましく、15μΩcm以下であることがより好ましい。このときの比抵抗は、インクの付与後、160℃で加熱、乾燥した後の比抵抗をいう。上記比抵抗が20μΩcm以上になると、導電性が要求される用途、すなわち回路基板上に形成する電極等に用いることが困難となる。
Such a conductor pattern 20 is formed using the conductor pattern forming ink of the present invention. For this reason, the precursor 10 is formed with high accuracy. As a result, the conductor pattern 20 is prevented from being disconnected and has a desired frequency characteristic (Q value) and is highly reliable. ing.
The specific resistance of the conductor pattern 20 is preferably less than 20 μΩcm, and more preferably 15 μΩcm or less. The specific resistance at this time refers to the specific resistance after heating and drying at 160 ° C. after ink application. When the specific resistance is 20 μΩcm or more, it becomes difficult to use it for applications requiring electrical conductivity, that is, for electrodes formed on a circuit board.

なお、上記のような導体パターン20は、携帯電話やPDA等の移動通話機器の高周波モジュール、インターポーザー、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)、加速度センサー、弾性表面波素子、アンテナや櫛歯電極等の異形電極、その他各種計測装置等の電子部品等に適用することができる。
なお、導体パターン20は、導体パターン前駆体10を焼結処理として160℃以上で20分以上の条件で加熱することにより得られる。なお、この導体パターン前駆体10の焼結は、後述するようにセラミックス成形体15の脱脂、焼結とともに行うことができる。
The conductor pattern 20 as described above is used for high-frequency modules, interposers, MEMS (Micro Electro Mechanical Systems), acceleration sensors, surface acoustic wave elements, antennas, comb electrodes, and the like of mobile telephones such as mobile phones and PDAs. The present invention can be applied to deformed electrodes and other electronic parts such as various measuring devices.
The conductor pattern 20 can be obtained by heating the conductor pattern precursor 10 as a sintering process at 160 ° C. or more for 20 minutes or more. The conductor pattern precursor 10 can be sintered together with degreasing and sintering of the ceramic molded body 15 as described later.

なお、導体パターン20Aも、導体パターン20と同様に、本発明の導体パターン形成用インクにより形成されたものとなっている。
セラミックス基板31は、シート状をなしており、導体パターン20を支持する。
また、セラミックス基板31には、導体パターン20に接続するコンタクト(ビア)33が形成されている。このような構成によって導体パターン20は、上下に配置された導体パターン20、20間が、コンタクト33によって導通したものとなっている。
なお、セラミックス基板31は、後述するように、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン等のセラミックス粉末と、バインダーとを含む材料をシート状にし、その後、加熱処理(焼結処理)することにより得られる基板である。
The conductor pattern 20 </ b> A is also formed by the conductor pattern forming ink of the present invention, similarly to the conductor pattern 20.
The ceramic substrate 31 has a sheet shape and supports the conductor pattern 20.
In addition, a contact (via) 33 connected to the conductor pattern 20 is formed on the ceramic substrate 31. With such a configuration, the conductor pattern 20 is electrically connected by the contact 33 between the conductor patterns 20 and 20 disposed above and below.
As will be described later, the ceramic substrate 31 is obtained by forming a material containing ceramic powder such as silicon dioxide, aluminum oxide, and titanium oxide and a binder into a sheet shape, and then heat-treating (sintering treatment). It is a substrate.

以上のような配線基板30は、本発明の導体パターン形成用インクを用いて形成されているため、導体パターン20の断線が防止され、周波数特性(Q値)が所望のものとなった、信頼性の高いものとなっている。
また、上述したような配線基板30は、各種の電子機器に用いられる電子部品となるものであり、各種配線や電極等からなる回路パターン、積層セラミックスコンデンサ、積層インダクター、LCフィルタ、複合高周波部品等を基板に形成してなるものである。
Since the wiring board 30 as described above is formed using the conductor pattern forming ink of the present invention, disconnection of the conductor pattern 20 is prevented, and the frequency characteristics (Q value) are as desired. It has a high quality.
The wiring board 30 as described above is an electronic component used in various electronic devices, such as circuit patterns composed of various wirings, electrodes, etc., multilayer ceramic capacitors, multilayer inductors, LC filters, composite high-frequency components, and the like. Is formed on a substrate.

《配線基板の製造方法》
次に、上述したような配線基板の製造方法を、図2の概略工程図を参照して説明する。
以下、各工程について詳細に説明する。
[セラミックス成形体形成工程(基板準備工程)]
まず、原料粉体として、平均粒径が1μm以上2μm以下のアルミナ(Al)や酸化チタン(TiO)等からなるセラミックス粉末(セラミックス材料)と、平均粒径が1μm以上2μm以下のホウ珪酸ガラス等からなるガラス粉末とを用意し、これらを適宜な混合比、例えば1:1の重量比で混合する。
<Method for manufacturing wiring board>
Next, a method of manufacturing the wiring board as described above will be described with reference to the schematic process diagram of FIG.
Hereinafter, each step will be described in detail.
[Ceramic compact formation process (substrate preparation process)]
First, as a raw material powder, ceramic powder (ceramic material) made of alumina (Al 2 O 3 ) or titanium oxide (TiO 2 ) having an average particle diameter of 1 μm to 2 μm, and an average particle diameter of 1 μm to 2 μm A glass powder made of borosilicate glass or the like is prepared, and these are mixed at an appropriate mixing ratio, for example, a weight ratio of 1: 1.

なお、このとき、基板(セラミックス成形体15)の材料として、導体パターン形成用インク中のセラミックス粒子に含まれる成分のうち少なくとも1つを含むことが好ましい。これにより、得られるセラミックス成形体15と導体パターン前駆体10との間での密着性が高まり、最終的に製造される配線基板30におけるセラミックス基板31と導体パターン20との密着性を高めることができる。この結果、導体パターン20および配線基板30は、より信頼性の高いものとなる。   At this time, it is preferable that at least one of the components contained in the ceramic particles in the conductor pattern forming ink is included as a material of the substrate (ceramic molded body 15). Thereby, the adhesiveness between the obtained ceramic molded body 15 and the conductor pattern precursor 10 increases, and the adhesiveness between the ceramic substrate 31 and the conductor pattern 20 in the wiring substrate 30 to be finally manufactured can be increased. it can. As a result, the conductor pattern 20 and the wiring board 30 are more reliable.

また、特に、基板(セラミックス成形体15)の材料として、ガラス材料を含むことにより、以下のような効果が得られる。ガラス材料は、焼結時において溶融し、導体パターン20を形成されるセラミックス基板31に固定、密着させる機能を有している。このため、形成される導体パターン20および配線基板30はより信頼性の高いものとなる。特に、導体パターン形成用インク1のセラミックス粒子にガラス材料が含まれている場合、このような効果は顕著なものとなる。   In particular, the following effects can be obtained by including a glass material as the material of the substrate (ceramic molded body 15). The glass material melts during sintering and has a function of fixing and closely contacting the ceramic substrate 31 on which the conductor pattern 20 is formed. For this reason, the conductor pattern 20 and the wiring board 30 to be formed are more reliable. In particular, when a glass material is contained in the ceramic particles of the conductor pattern forming ink 1, such an effect becomes remarkable.

次に、得られた混合粉末に適宜なバインダー(結合剤)や可塑剤、有機溶剤(分散剤)等を加え、混合・撹拌することにより、スラリーを得る。ここで、バインダーとしては、ポリビニルブチラールが好適に用いられるが、これは水に不溶であり、かつ、いわゆる油系の有機溶媒に溶解しあるいは膨潤し易いものである。
次に、得られたスラリーを、ドクターブレード、リバースコーター等を用いてPETフィルム上にシート状に形成し、製品の製造条件に応じて数μm以上数百μm以下の厚さのシートに成形し、その後、ロールに巻き取る。
Next, a suitable binder (binder), a plasticizer, an organic solvent (dispersant), etc. are added to the obtained mixed powder, and a slurry is obtained by mixing and stirring. Here, polyvinyl butyral is preferably used as the binder, but it is insoluble in water and easily dissolved or swelled in a so-called oil-based organic solvent.
Next, the resulting slurry is formed into a sheet on a PET film using a doctor blade, reverse coater, etc., and formed into a sheet having a thickness of several μm or more and several hundreds μm or less depending on the manufacturing conditions of the product. Then, it is wound on a roll.

続いて、製品の用途に合わせて切断し、さらに所定寸法のシートに裁断する。本実施形態では、例えば1辺の長さを200mmとする正方形状に裁断する。
次に、必要に応じて所定の位置に、COレーザー、YAGレーザー、機械式パンチ等によって孔開けを行うことでスルーホール(貫通孔)を形成する。
そして、このスルーホールに、金属粒子が分散した厚膜導電ペーストを充填することにより、コンタクトとなるべき部位(コンタクト前駆体16)を形成する。厚膜導電ペーストとしては、後述するような導体パターン形成用インクを用いることができる。
以上により、複数の基板(セラミックス成形体15)を準備する。
Subsequently, the sheet is cut according to the use of the product, and further cut into a sheet having a predetermined size. In this embodiment, for example, it is cut into a square shape having a side length of 200 mm.
Next, a through hole (through hole) is formed at a predetermined position by drilling with a CO 2 laser, a YAG laser, a mechanical punch or the like as necessary.
Then, by filling the through hole with a thick film conductive paste in which metal particles are dispersed, a portion to be a contact (contact precursor 16) is formed. As the thick film conductive paste, a conductor pattern forming ink as described later can be used.
Thus, a plurality of substrates (ceramic compact 15) are prepared.

[導体パターン前駆体形成工程]
以上のようにして得られたセラミックス成形体15の一方の側の表面に、導体パターン20となる導体パターン前駆体10を、コンタクト前駆体16に連続した状態に形成する。すなわち、図3(a)に示すようにセラミックス成形体15上に、前述したような導体パターン形成用インク(以下単にインクともいう)1を液滴吐出(インクジェット)法により付与し、前記導体パターン前駆体10を形成する。
[Conductor pattern precursor forming step]
On the surface of one side of the ceramic molded body 15 obtained as described above, the conductor pattern precursor 10 to be the conductor pattern 20 is formed in a state continuous with the contact precursor 16. That is, as shown in FIG. 3A, the above-described conductor pattern forming ink (hereinafter also simply referred to as ink) 1 is applied onto the ceramic molded body 15 by a droplet discharge (inkjet) method. The precursor 10 is formed.

本実施形態において、導体パターン形成用インクの吐出は、例えば図4および図5に示すインクジェット装置(液滴吐出装置)100を用いることにより行うことができる。以下に、インクジェット装置100について説明する。
図4は、インクジェット装置100の斜視図である。図4において、X方向はベース130の左右方向であり、Y方向は前後方向であり、Z方向は上下方向である。
In the present embodiment, the conductive pattern forming ink can be discharged by using, for example, an ink jet apparatus (droplet discharge apparatus) 100 shown in FIGS. Hereinafter, the inkjet apparatus 100 will be described.
FIG. 4 is a perspective view of the ink jet apparatus 100. In FIG. 4, the X direction is the left-right direction of the base 130, the Y direction is the front-rear direction, and the Z direction is the up-down direction.

インクジェット装置100は、図5に示すインクジェットヘッド(液滴吐出ヘッド。以下、単にヘッドと呼ぶ)110と、ベース130と、テーブル140と、制御装置190と、テーブル位置決め手段170と、ヘッド位置決め手段180とを有している。
ベース130は、テーブル140、テーブル位置決め手段170、およびヘッド位置決め手段180等の液滴吐出装置100の各構成部材を支持する台である。
The ink jet apparatus 100 includes an ink jet head (droplet discharge head; hereinafter simply referred to as a head) 110, a base 130, a table 140, a control device 190, a table positioning unit 170, and a head positioning unit 180 shown in FIG. And have.
The base 130 is a table that supports each component of the droplet discharge device 100 such as the table 140, the table positioning unit 170, and the head positioning unit 180.

テーブル140は、テーブル位置決め手段170を介してベース130に設置されている。また、テーブル140は、基材S(本実施形態ではセラミックス成形体15)を載置するものである。
また、テーブル140の裏面には、ラバーヒータ(図示せず)が配設されている。テーブル140上に載置されたセラミックス成形体15は、その上面全体がラバーヒータにて所定の温度に加熱されるようになっている。
The table 140 is installed on the base 130 via the table positioning means 170. The table 140 is used for placing the substrate S (the ceramic molded body 15 in this embodiment).
A rubber heater (not shown) is disposed on the back surface of the table 140. The ceramic molded body 15 placed on the table 140 is heated to a predetermined temperature by a rubber heater over the entire upper surface thereof.

セラミックス成形体15に着弾したインク1は、その表面側から水系分散媒の少なくとも一部が蒸発する。このとき、セラミックス成形体15は加熱されているので、水系分散媒の蒸発が促進される。そして、セラミックス成形体15に着弾したインク1は、乾燥とともにその表面の外縁から増粘し、つまり、中央部に比べて外周部における固形分(粒子)濃度が速く飽和濃度に達することから表面の外縁から増粘していく。外縁の増粘したインク1は、セラミックス成形体15の面方向に沿う自身の濡れ広がりを停止するため、着弾径しいては線幅の制御が容易になる。   At least part of the aqueous dispersion medium evaporates from the surface side of the ink 1 that has landed on the ceramic molded body 15. At this time, since the ceramic molded body 15 is heated, evaporation of the aqueous dispersion medium is promoted. The ink 1 that has landed on the ceramic molded body 15 is thickened from the outer edge of the surface as it dries. That is, the solid content (particles) concentration at the outer peripheral portion is faster than the central portion and reaches the saturated concentration. Thicken from the outer edge. The thickened ink 1 on the outer edge stops its own wetting and spreading along the surface direction of the ceramic molded body 15, so that the line width can be easily controlled with respect to the landing diameter.

セラミックス成形体15の加熱温度としては、例えば、40℃以上100℃以下で行うのが好ましく、50℃以上70℃以下で行うのがより好ましい。このような条件とすることにより、水系分散媒が蒸発した際に、クラックが発生するのをより効果的に防止することができる。
テーブル位置決め手段170は、第1移動手段171と、モータ172とを有している。テーブル位置決め手段170は、ベース130におけるテーブル140の位置を決定し、これにより、ベース130におけるセラミックス成形体15の位置を決定する。
The heating temperature of the ceramic molded body 15 is preferably 40 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, and more preferably 50 ° C. or higher and 70 ° C. or lower. By setting it as such conditions, when an aqueous dispersion medium evaporates, it can prevent more effectively that a crack generate | occur | produces.
The table positioning unit 170 includes a first moving unit 171 and a motor 172. The table positioning means 170 determines the position of the table 140 on the base 130, and thereby determines the position of the ceramic molded body 15 on the base 130.

第1移動手段171は、Y方向と略平行に設けられた2本のレールと、当該レール上を移動する支持台とを有している。第1移動手段171の支持台は、モータ172を介してテーブル140を支持している。そして、支持台がレール上を移動することにより、基材Sを載置するテーブル140は、Y方向に移動および位置決めされる。
モータ172は、テーブル140を支持しており、θz方向にテーブル140を揺動および位置決めする。
The first moving means 171 has two rails provided substantially parallel to the Y direction and a support base that moves on the rails. The support base of the first moving means 171 supports the table 140 via the motor 172. Then, as the support base moves on the rail, the table 140 on which the base material S is placed is moved and positioned in the Y direction.
The motor 172 supports the table 140 and swings and positions the table 140 in the θz direction.

ヘッド位置決め手段180は、第2移動手段181と、リニアモータ182と、モータ183、184、185とを有している。ヘッド位置決め手段180は、ヘッド110の位置を決定する。
第2移動手段181は、ベース130から立設する2本の支持柱と、当該支持柱同士の間に当該支持柱に支持されて設けられ、2本のレールを有するレール台と、レールに沿って移動可能でヘッド110を支持する支持部材(図示せず)とを有している。そして、支持部材がレールに沿って移動することにより、ヘッド110は、X方向に移動および位置決めされる。
The head positioning unit 180 includes a second moving unit 181, a linear motor 182, and motors 183, 184 and 185. The head positioning unit 180 determines the position of the head 110.
The second moving means 181 is provided with two support pillars standing from the base 130, a support base provided between the support pillars, the rail support having two rails, and the rails. And a support member (not shown) for supporting the head 110. Then, as the support member moves along the rail, the head 110 is moved and positioned in the X direction.

リニアモータ182は、支持部材付近に設けられており、ヘッド110のZ方向の移動および位置決めをすることができる。
モータ183、184、185は、ヘッド110を、それぞれα,β,γ方向に揺動および位置決めする。
以上のようなテーブル位置決め手段170およびヘッド位置決め手段180とにより、インクジェット装置100は、ヘッド110のインク吐出面115Pと、テーブル140上の基材Sとの相対的な位置および姿勢を、正確にコントロールできるようになっている。
The linear motor 182 is provided in the vicinity of the support member, and can move and position the head 110 in the Z direction.
Motors 183, 184, and 185 swing and position the head 110 in the α, β, and γ directions, respectively.
By the table positioning unit 170 and the head positioning unit 180 as described above, the ink jet apparatus 100 accurately controls the relative position and posture of the ink ejection surface 115P of the head 110 and the base material S on the table 140. It can be done.

図5に示すように、ヘッド110は、インクジェット方式(液滴吐出方式)によってインク1をノズル(突出部)118から吐出するものである。本実施形態では、ヘッド110は、圧電体素子としてのピエゾ素子113を用いてインクを吐出させるピエゾ方式を用いている。ピエゾ方式は、インク1に熱を加えないため、材料の組成に影響を与えないなどの利点を有する。   As shown in FIG. 5, the head 110 ejects the ink 1 from the nozzles (protruding portions) 118 by an inkjet method (droplet ejection method). In the present embodiment, the head 110 uses a piezo method in which ink is ejected using a piezo element 113 as a piezoelectric element. The piezo method has the advantage that the composition of the material is not affected because heat is not applied to the ink 1.

ヘッド110は、ヘッド本体111と、振動板112と、ピエゾ素子113とを有している。
ヘッド本体111は、本体114と、その下端面にノズルプレート115とを有している。そして、本体114を板状のノズルプレート115と振動板112とが挟み込むことにより、空間としてのリザーバ116およびリザーバ116から分岐した複数のインク室117が形成されている。
The head 110 has a head body 111, a diaphragm 112, and a piezo element 113.
The head main body 111 has a main body 114 and a nozzle plate 115 on the lower end surface thereof. Then, the main body 114 is sandwiched between the plate-like nozzle plate 115 and the vibration plate 112, whereby a reservoir 116 as a space and a plurality of ink chambers 117 branched from the reservoir 116 are formed.

リザーバ116には、図示せぬインクタンクよりインク1が供給される。リザーバ116は、各インク室117にインク1を供給するための流路を形成している。
また、ノズルプレート115は、本体114の下端面に装着されており、インク吐出面115Pを構成している。このノズルプレート115には、インク1を吐出する複数のノズル118が、各インク室117に対応して開口されている。そして、各インク室117から対応するノズル118に向かって、インク流路が形成されている。
Ink 1 is supplied to the reservoir 116 from an ink tank (not shown). The reservoir 116 forms a flow path for supplying the ink 1 to each ink chamber 117.
The nozzle plate 115 is attached to the lower end surface of the main body 114 and constitutes an ink ejection surface 115P. In the nozzle plate 115, a plurality of nozzles 118 that discharge ink 1 are opened corresponding to the ink chambers 117. An ink flow path is formed from each ink chamber 117 toward the corresponding nozzle 118.

振動板112は、ヘッド本体111の上端面に装着されており、各インク室117の壁面を構成している。振動板112は、ピエゾ素子113の振動に応じて振動可能となっている。
ピエゾ素子113は、その振動板112のヘッド本体111と反対側に、各インク室117に対応して設けられている。ピエゾ素子113は、水晶等の圧電材料を一対の電極(不図示)で挟持したものである。その一対の電極は、駆動回路191に接続されている。
The diaphragm 112 is attached to the upper end surface of the head body 111 and constitutes the wall surface of each ink chamber 117. The diaphragm 112 can vibrate according to the vibration of the piezo element 113.
The piezo element 113 is provided corresponding to each ink chamber 117 on the opposite side of the vibration plate 112 from the head body 111. The piezoelectric element 113 is obtained by sandwiching a piezoelectric material such as quartz with a pair of electrodes (not shown). The pair of electrodes is connected to the drive circuit 191.

そして、駆動回路191からピエゾ素子113に電気信号を入力すると、ピエゾ素子113が膨張変形または収縮変形する。ピエゾ素子113が収縮変形すると、インク室117の圧力が低下して、リザーバ116からインク室117にインク1が流入する。また、ピエゾ素子113が膨張変形すると、インク室117の圧力が増加して、ノズル118からインク1が吐出される。なお、印加電圧を変化させることにより、ピエゾ素子113の変形量を制御することができる。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子113の変形速度を制御することができる。すなわち、ピエゾ素子113への印加電圧を制御することにより、インク1の吐出条件を制御し得るようになっている。
制御装置190は、インクジェット装置100の各部位を制御する。例えば、駆動回路191で生成する印加電圧の波形を調節してインク1の吐出条件を制御したり、ヘッド位置決め手段180およびテーブル位置決め手段170を制御することにより基板Sへのインク1の吐出位置を制御する。
When an electric signal is input from the drive circuit 191 to the piezo element 113, the piezo element 113 is expanded or contracted. When the piezo element 113 contracts and deforms, the pressure in the ink chamber 117 decreases, and the ink 1 flows from the reservoir 116 into the ink chamber 117. Further, when the piezo element 113 expands and deforms, the pressure in the ink chamber 117 increases and the ink 1 is ejected from the nozzle 118. Note that the amount of deformation of the piezo element 113 can be controlled by changing the applied voltage. Further, the deformation speed of the piezo element 113 can be controlled by changing the frequency of the applied voltage. That is, by controlling the voltage applied to the piezo element 113, the ejection conditions of the ink 1 can be controlled.
The control device 190 controls each part of the inkjet device 100. For example, the discharge position of ink 1 is controlled by adjusting the waveform of the applied voltage generated by the drive circuit 191, or the discharge position of the ink 1 onto the substrate S is controlled by controlling the head positioning unit 180 and the table positioning unit 170. Control.

以上のようなインクジェット装置100を用いることにより、インク1を、セラミックス成形体15(基材S)上の所望する場所に所望の量、精度良く吐出し、配することができる。さらに、インク1は、導体パターン形成用インクであるので、図5(a)に示したように導体パターン前駆体10を、長時間にわたって、精度良くしかも容易に形成することができる。また、インク1の付与を一時的に停止して、長期間放置した場合であっても、ヘッド110のノズル118の目詰まりが防止されており、極めて短時間の予備運転で、インク1についての優れた液滴の吐出安定性が得られる。   By using the ink jet apparatus 100 as described above, the ink 1 can be discharged and arranged with a desired amount and accuracy in a desired place on the ceramic molded body 15 (base material S). Furthermore, since the ink 1 is a conductor pattern forming ink, the conductor pattern precursor 10 can be accurately and easily formed over a long period of time as shown in FIG. Further, even when the application of the ink 1 is temporarily stopped and left for a long period of time, the clogging of the nozzles 118 of the head 110 is prevented. Excellent droplet discharge stability can be obtained.

なお、形成した導体パターン前駆体10について、さらに乾燥処理を行ってもよい。乾燥処理は、上記の液滴吐出時におけるセラミックス成形体15の加熱温度と同様の条件で行うことができる。
また、液滴吐出方法によりインク1を付与してから、セラミックス成形体15を加熱して水等の分散媒を蒸発させ、当該加熱後の導体パターン前駆体10の上に再度インク1を付与する、といった工程を繰り返し行うことで、厚膜の導体パターン前駆体10を形成してもよい。このような場合、セラミックス成形体15に一旦付与されたインク1の粘度が上昇することから、インク1がセラミックス成形体15上に過度に濡れ広がることを防止し、導体パターン前駆体10の厚さ、線幅等をより精度よく目的のものとすることができる。
In addition, you may perform a drying process about the formed conductor pattern precursor 10. FIG. The drying process can be performed under the same conditions as the heating temperature of the ceramic molded body 15 at the time of droplet discharge.
Further, after applying ink 1 by the droplet discharge method, the ceramic molded body 15 is heated to evaporate the dispersion medium such as water, and the ink 1 is applied again on the conductor pattern precursor 10 after the heating. The thick film conductor pattern precursor 10 may be formed by repeatedly performing the above-described processes. In such a case, since the viscosity of the ink 1 once applied to the ceramic molded body 15 increases, the ink 1 is prevented from excessively spreading on the ceramic molded body 15, and the thickness of the conductor pattern precursor 10 is reduced. In addition, the line width and the like can be made more accurate.

また、この場合において、分散媒を蒸発させた後のインク1に乾燥抑制剤が含まれる場合、形成された導体パターン前駆体10が完全に乾燥しない状態でもパターンが流失してしまうおそれがない。従って、一旦、インク1を付与して乾燥してから長時間放置し、その後、再度インク1を付与することが可能になる。
また、この場合において、上述したような有機バインダーをインク1が含む場合、有機バインダー(特に、ポリグリセリン化合物)は、化学的、物理的に安定な化合物であるので、インクを付与して乾燥してから長時間放置してもインクが変質するおそれがなく、再度インクを付与することが可能になり、均質なパターンを形成できる。これにより、導体パターン前駆体10自体が多層構造になるおそれがなく、この結果、層間同士の間の比抵抗が上昇して導体パターン20全体の比抵抗が増大するおそれがない。
Further, in this case, when the drying inhibitor is included in the ink 1 after the dispersion medium is evaporated, there is no possibility that the pattern is lost even when the formed conductor pattern precursor 10 is not completely dried. Therefore, once ink 1 is applied and dried, it is allowed to stand for a long time, and then ink 1 can be applied again.
In this case, when the ink 1 contains the organic binder as described above, the organic binder (particularly, the polyglycerin compound) is a chemically and physically stable compound. Even if the ink is left for a long time, the ink does not change in quality, and it becomes possible to apply the ink again, and a uniform pattern can be formed. Thereby, there is no possibility that the conductor pattern precursor 10 itself has a multilayer structure, and as a result, there is no possibility that the specific resistance between the layers increases and the specific resistance of the entire conductor pattern 20 increases.

上記の工程を経ることによって、本実施形態の導体パターン20は、従来のインクによって形成された導体パターンに比べて厚く形成することができる。より具体的には5μm以上の厚みのものを形成することができる。
このようにして導体パターン前駆体10を形成したら、同様の工程により、導体パターン前駆体10を形成したセラミックス成形体15を必要枚数、例えば10枚から20枚程度作製する。
Through the above steps, the conductor pattern 20 of the present embodiment can be formed thicker than a conductor pattern formed by a conventional ink. More specifically, a film having a thickness of 5 μm or more can be formed.
After the conductor pattern precursor 10 is formed in this way, the required number of ceramic molded bodies 15 on which the conductor pattern precursor 10 is formed, for example, about 10 to 20 are produced by the same process.

[積層工程]
次いで、これらセラミックス成形体15からPETフィルムを剥がし、図3(b)に示すようにこれらを積層することにより、積層体17を得る。
この際に、積層するセラミックス成形体15については、上下に重ねられるセラミックス成形体15間で、それぞれの導体パターン前駆体10が必要に応じてコンタクト前駆体16を介して接続するように配置する。
[Lamination process]
Next, the PET film is peeled off from these ceramic molded bodies 15, and these are laminated as shown in FIG.
At this time, the ceramic molded bodies 15 to be laminated are arranged so that the conductor pattern precursors 10 are connected via the contact precursors 16 as necessary between the ceramic molded bodies 15 stacked one above the other.

その後、セラミックス成形体15を構成するバインダーのガラス転移点以上に加熱しつつ、各セラミックス成形体15同士を圧着する。これにより、積層体17を得る。なお、このようにセラミックス成形体15同士を圧着する際に、導体パターン前駆体10に圧力がかかるが、本発明では、導体パターン前駆体10はセラミックス粒子を含んでいるため、比較的硬質であり、線幅が大きくなることが防止される。すなわち、配線太りが防止される。   Thereafter, the ceramic compacts 15 are pressure-bonded to each other while being heated to a glass transition point or higher of the binder constituting the ceramic compact 15. Thereby, the laminated body 17 is obtained. In addition, when the ceramic molded bodies 15 are pressure-bonded in this way, pressure is applied to the conductor pattern precursor 10, but in the present invention, since the conductor pattern precursor 10 contains ceramic particles, it is relatively hard. The line width is prevented from increasing. That is, the wiring is prevented from being thickened.

[加熱工程]
このようにして積層体17を形成したら、例えば、ベルト炉などによって加熱処理する。これにより、各セラミックス成形体15は焼結されることで、図1に示すようにセラミックス基板31となり、また、導体パターン前駆体10は、これを構成する銀コロイド粒子が焼結して配線パターンや電極パターンからなる導体パターン(回路)20となる。そして、このように積層体17が加熱処理されることで、この積層体17は図1に示した積層基板32となる。
[Heating process]
When the laminate 17 is formed in this way, for example, heat treatment is performed by a belt furnace or the like. As a result, each ceramic molded body 15 is sintered to become a ceramic substrate 31 as shown in FIG. 1, and the conductor pattern precursor 10 is obtained by sintering the silver colloid particles constituting the conductor pattern precursor 10 to form a wiring pattern. Or a conductor pattern (circuit) 20 composed of an electrode pattern. And the laminated body 17 becomes the laminated substrate 32 shown in FIG. 1 by heat-processing the laminated body 17 in this way.

ここで、積層体17の加熱温度としては、セラミックス成形体15中に含まれるガラス材料の軟化点以上とするのが好ましく、具体的には、600℃以上900℃以下とするのが好ましい。また、加熱条件としては、適宜な速度で温度を上昇させ、かつ下降させるようにし、さらに、最大加熱温度、すなわち前記の600℃以上900℃以下の温度では、その温度に応じて適宜な時間保持するようにする。   Here, the heating temperature of the laminated body 17 is preferably not less than the softening point of the glass material contained in the ceramic molded body 15, and specifically not less than 600 ° C. and not more than 900 ° C. As heating conditions, the temperature is raised and lowered at an appropriate rate, and the maximum heating temperature, that is, the temperature of 600 ° C. to 900 ° C. is maintained for an appropriate time according to the temperature. To do.

このようにガラスの軟化点以上の温度、すなわち前記温度範囲にまで加熱温度を上げることにより、得られるセラミックス基板31のガラス成分を軟化させることができる。したがって、その後常温にまで冷却し、ガラス成分を硬化させることにより、積層基板32を構成する各セラミックス基板31と導体パターン20との間がより強固に固着するようになる。   Thus, the glass component of the ceramic substrate 31 obtained can be softened by raising the heating temperature to a temperature equal to or higher than the softening point of the glass, that is, the temperature range. Therefore, after cooling to room temperature and curing the glass component, the ceramic substrate 31 and the conductor pattern 20 constituting the laminated substrate 32 are more firmly fixed.

また、このような温度範囲で加熱することにより、得られるセラミックス基板31は、900°以下の温度で焼結されて形成された、低温焼結セラミックス(LTCC)となる。
ここで、セラミックス成形体15上に配されたインク1中の金属は、加熱処理によって互いに融着し、連続することによって導電性を示すようになる。
Further, by heating in such a temperature range, the obtained ceramic substrate 31 becomes a low-temperature sintered ceramic (LTCC) formed by sintering at a temperature of 900 ° C. or less.
Here, the metals in the ink 1 arranged on the ceramic molded body 15 are fused to each other by the heat treatment and become conductive by being continuous.

このような加熱処理によって導体パターン20は、セラミックス基板31中のコンタクト33に直接接続させられ、導通させられて形成されたものとなる。ここで、この導体パターン20が単にセラミックス基板31上に載っているだけでは、セラミックス基板31に対する機械的な接続強度が確保されず、したがって衝撃等によって破損してしまうおそれがある。しかしながら、本実施形態では、前述したようにセラミックス成形体15中のガラスを一旦軟化させ、その後硬化させることにより、導体パターン20をセラミックス基板31に対し強固に固着させている。したがって、形成された導体パターン20は、機械的にも高い強度を有するものとなる。
なお、このような加熱処理により、導体パターン20Aについても前記導体パターン20と同時に形成することができ、これによってセラミックス回路基板(配線基板)30を得ることができる。
By such heat treatment, the conductor pattern 20 is formed by being directly connected to the contact 33 in the ceramic substrate 31 and conducting. Here, if the conductor pattern 20 is merely placed on the ceramic substrate 31, the mechanical connection strength to the ceramic substrate 31 is not ensured, and therefore there is a possibility that the conductor pattern 20 may be damaged by an impact or the like. However, in the present embodiment, as described above, the conductor pattern 20 is firmly fixed to the ceramic substrate 31 by once softening the glass in the ceramic molded body 15 and then curing it. Therefore, the formed conductor pattern 20 has a high mechanical strength.
By such heat treatment, the conductor pattern 20A can be formed at the same time as the conductor pattern 20, whereby a ceramic circuit board (wiring board) 30 can be obtained.

以上のようなセラミックス回路基板30の製造方法では、導体パターンの形成に際し、インク1を使用しているため、ヘッド110のノズル118における目詰まりが防止され、導体パターン前駆体10を精度よく形成できる。また導体パターン前駆体10の配線太りも防止されている。この結果、得られる導体パターン20は、断線が防止され、寸法、周波数特性が所望のものとなった信頼性の高いものとなる。また、製造されるセラミックス回路基板30も、信頼性の高いものとなる。   In the manufacturing method of the ceramic circuit board 30 as described above, since the ink 1 is used in forming the conductor pattern, clogging in the nozzle 118 of the head 110 is prevented, and the conductor pattern precursor 10 can be formed with high accuracy. . In addition, the wiring pattern conductor 10 is prevented from being thickened. As a result, the obtained conductor pattern 20 is highly reliable because disconnection is prevented and the dimensions and frequency characteristics are desired. Further, the manufactured ceramic circuit board 30 is also highly reliable.

以上、本発明について、好適な実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
例えば、前述した実施形態では、金属粒子を溶媒に分散してなる分散液として、コロイド液を用いる場合について説明したが、コロイド液でなくてもよい。
また、前述した実施形態では、導体パターン形成用インクは、銀粒子が分散したものとして説明したが、銀以外のものであってもよい。金属粒子に含まれる金属としては、例えば、銀、銅、パラジウム、白金、金、または、これらの合金等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。金属粒子が合金である場合、前記金属が主とするもので、他の金属を含む合金であってもよい。また、上記金属同士が任意の割合で混ざった合金であってもよい。また、混合粒子(例えば、銀粒子と銅粒子とパラジウム粒子とが任意の比率で存在するもの)が液中に分散したものであってもよい。これら金属は、抵抗率が小さく、かつ、加熱処理によって酸化されない安定なものであるから、これらの金属を用いることにより、低抵抗で安定な導体パターンを形成することが可能になる。
As mentioned above, although this invention was demonstrated based on suitable embodiment, this invention is not limited to these.
For example, in the above-described embodiment, the case where the colloid liquid is used as the dispersion liquid in which the metal particles are dispersed in the solvent has been described, but the colloid liquid may not be used.
In the above-described embodiment, the conductor pattern forming ink is described as having silver particles dispersed therein, but may be other than silver. Examples of the metal contained in the metal particles include silver, copper, palladium, platinum, gold, and alloys thereof. One or more of these can be used in combination. When the metal particles are an alloy, the metal is mainly used, and an alloy containing another metal may be used. Moreover, the alloy which the said metals mixed with arbitrary ratios may be sufficient. Further, mixed particles (for example, particles in which silver particles, copper particles, and palladium particles are present in an arbitrary ratio) may be dispersed in a liquid. Since these metals have a low resistivity and are stable and are not oxidized by heat treatment, it is possible to form a stable conductor pattern with a low resistance by using these metals.

また、例えば、前述した実施形態では、液滴吐出方式としてピエゾ方式を用いたが、これに限定されず、例えば、インクを加熱して発生した泡(バブル)によりインクを吐出させる方式など、公知の種々の技術を適用することができる。
また、例えば、前述した実施形態では、導体パターン前駆体を形成する基板として、セラミックス成形体を用いることして説明したが、これに限定されない。導体パターン前駆体の形成に用いられる基板としては、特に限定されず、例えば、セラミックス焼結体、アルミナ焼結体、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、ガラスエポキシ樹脂、ガラス等からなる基板等が挙げられる。
Further, for example, in the above-described embodiment, the piezo method is used as the droplet discharge method. However, the present invention is not limited to this, and for example, a method of discharging ink by bubbles generated by heating the ink is known. Various techniques can be applied.
For example, in the above-described embodiment, the ceramic molded body is used as the substrate on which the conductor pattern precursor is formed. However, the present invention is not limited to this. The substrate used for forming the conductor pattern precursor is not particularly limited, and examples thereof include a ceramic sintered body, an alumina sintered body, a substrate made of polyimide resin, phenol resin, glass epoxy resin, glass, and the like.

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
(実施例1〜13)
10N−NaOH水溶液を3mL添加してアルカリ性にした水50mLに、クエン酸3ナトリウム2水和物17g、タンニン酸0.36gを溶解した。得られた溶液に対して3.87mol/L硝酸銀水溶液3mLを添加し、2時間攪拌を行い銀コロイド液を得た。得られた銀コロイド液に対し、導電率が30μS/cm以下になるまで透析することで脱塩を行った。透析後、3000rpm、10分の条件で遠心分離を行うことで、粗大金属コロイド粒子を除去した。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
(Examples 1 to 13)
17 mL of trisodium citrate dihydrate and 0.36 g of tannic acid were dissolved in 50 mL of water made alkaline by adding 3 mL of 10N-NaOH aqueous solution. To the obtained solution, 3 mL of 3.87 mol / L silver nitrate aqueous solution was added and stirred for 2 hours to obtain a silver colloid solution. The obtained silver colloid solution was desalted by dialysis until the electrical conductivity was 30 μS / cm or less. After dialysis, the coarse metal colloid particles were removed by centrifugation at 3000 rpm for 10 minutes.

この銀コロイド液に、セラミックス粒子としての酸化アルミニウムコロイド液(NANOBYK−3600、ビックケミージャパン社製、平均粒子径:40nm、固形分のうち、酸化アルミニウムの含有量:50wt%)と、コロイダルシリカ(二酸化ケイ素のコロイド液、日産化学工業株式会社製、スノーテックスシリーズおよびMPシリーズ、平均粒子径:4.0〜450nm、固形分のうち、二酸化ケイ素の含有量:40wt%)と、乾燥抑制剤としての表1に示すアルカノールアミンと、尿素と、キシリトールと、ポリグリセリンと、表面張力調整剤としてのサーフィノール104PG−50(日信化学工業社製)およびオルフィンEXP4036(日信化学工業社製)とを添加し、さらに濃度調整用のイオン交換水を添加して調整し、導体パターン形成用インクとした。
(比較例1)
セラミックス粒子およびセラミックス粒子用分散剤を添加せず、その他の成分の配合量を表1に示すようにした以外は、前記実施例1と同様にして導体パターン形成用インクを製造した。
To this silver colloidal liquid, aluminum oxide colloidal liquid (NANOBYK-3600, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd., average particle diameter: 40 nm, content of aluminum oxide of solid content: 50 wt%) as a ceramic particle, colloidal silica ( As a drying inhibitor, colloidal liquid of silicon dioxide, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., Snowtex series and MP series, average particle size: 4.0 to 450 nm, content of silicon dioxide out of solid content: 40 wt%) Alkanolamine, urea, xylitol, polyglycerin, Surfynol 104PG-50 (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) and Olphine EXP4036 (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) as surface tension regulators Add ion exchange water for concentration adjustment and adjust And a conductive pattern forming ink.
(Comparative Example 1)
A conductive pattern forming ink was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the ceramic particles and the dispersant for ceramic particles were not added and the blending amounts of other components were as shown in Table 1.

表1に各実施例および比較例の導体パターン形成用インクの組成を示す。なお、表中、二酸化ケイ素をSiO、酸化アルミニウムをAl、トリエタノールアミンをTEA、モノエタノールアミンをMEA、ジエタノールアミンをDEA、尿素をUr、キシリトールをXylとした。 Table 1 shows the compositions of the conductive pattern forming inks of the examples and comparative examples. In Table, SiO 2 and silicon dioxide, aluminum oxide and Al 2 O 3, triethanolamine TEA, monoethanolamine MEA, diethanolamine DEA, urea Ur, and Xyl xylitol.

Figure 2011129787
Figure 2011129787

[2]液滴吐出安定性評価
各実施例および比較例で得られた導体パターン形成用インクを製造直後にそれぞれ図4、5に示すようなインクジェット装置に投入した。まず、上記導体パターン形成用インクを搭載した上記インクジェット装置を用いて描画を行い、インクが安定して吐出されることを確認した。次に、インクジェット装置を、インクジェットヘッドを描画位置から外した待機状態で室温25℃、相対湿度50%、クラス100のクリーンルーム環境下に2週間放置した。次に、インクジェット装置の電源を入れて、ノズルについて一度のクリーニングを行った後、上記のようにして得られたセラミックスグリーンシート20枚に対してベタパターンの描画を行った。インクの吐出が不安定になった場合は、インクジェット装置に搭載されている所定のクリーニング機能を用い、吐出の安定した状態に復帰させた。以上の操作を行い、下記評価基準により吐出安定性を評価した。
[2] Evaluation of droplet discharge stability The ink for forming a conductor pattern obtained in each of the examples and comparative examples was put into an ink jet apparatus as shown in FIGS. First, drawing was performed using the above-described inkjet device equipped with the above-described conductor pattern forming ink, and it was confirmed that the ink was stably ejected. Next, the inkjet apparatus was left in a clean room environment of room temperature 25 ° C., relative humidity 50%, class 100 for 2 weeks in a standby state with the inkjet head removed from the drawing position. Next, the ink jet device was turned on and the nozzles were cleaned once, and then a solid pattern was drawn on the 20 ceramic green sheets obtained as described above. When the ejection of ink became unstable, a predetermined cleaning function mounted on the ink jet apparatus was used to return to a stable ejection state. The above operation was performed and the ejection stability was evaluated according to the following evaluation criteria.

A:描画中にノズルの目詰まりが発生せず、インクが安定して吐出される。(吐出安定性良好。)
B:描画中に目詰まりが発生し、インクの吐出が安定するまでにさらに2回以内のクリーニング動作を要する。(実用上問題なし。)
C:描画中に目詰まりが発生し、インクの吐出が安定するまでにさらに3回以上のクリーニング動作を要する。(実用可能。)
D:描画中に目詰まりが発生し、クリーニング動作によっても回復しない。(実用不可。)
さらに、待機状態の期間を40日間として、上記と同様の操作を行い、上記と同様の評価を行った。
A: No nozzle clogging occurs during drawing, and ink is stably ejected. (Discharge stability is good.)
B: Clogging occurs during drawing, and a cleaning operation within two more times is required until ink ejection is stabilized. (There is no practical problem.)
C: Clogging occurs during drawing, and three more cleaning operations are required until ink ejection is stabilized. (Practical possible.)
D: Clogging occurs during drawing and does not recover even by a cleaning operation. (Not practical.)
Further, the same operation as described above was performed with the period of the standby state being 40 days, and the same evaluation as above was performed.

[3]セラミックスグリーンシートの作製
まず、以下のようにしてセラミックスグリーンシート(セラミックス成形体)を用意した。
平均粒径が1〜2μm程度のアルミナ(Al)と酸化チタン(TiO)等からなるセラミックス粉末と、平均粒径が1〜2μm程度のホウ珪酸ガラス等からなるガラス粉末とを1:1の重量比で混合し、バインダー(結合剤)としてポリビニルブチラール、可塑剤としてジブチルフタレートを加え、混合・撹拌することにより得たスラリーを、ドクターブレードでPETフィルム上にシート状に形成したものをセラミックスグリーンシートとし、1辺の長さを200mmとする正方形状に裁断したものを使用した。
[3] Production of Ceramic Green Sheet First, a ceramic green sheet (ceramic molded body) was prepared as follows.
1 ceramic powder composed of alumina (Al 2 O 3 ) and titanium oxide (TiO 2 ) having an average particle diameter of about 1 to 2 μm, and glass powder composed of borosilicate glass and the like having an average particle diameter of about 1 to 2 μm. : A mixture obtained by mixing at a weight ratio of 1 and adding polyvinyl butyral as a binder (binder) and dibutyl phthalate as a plasticizer, mixing and stirring, and forming a slurry on a PET film with a doctor blade Was used as a ceramic green sheet and cut into a square shape with a side length of 200 mm.

[4.1]セラミックス回路基板の作製および評価
各実施例および比較例で得られた導体パターン形成用インクを、それぞれ図4、5に示すようなインクジェット装置に投入した。
まず、上記導体パターン形成用インクを搭載した上記インクジェット装置を用いて描画を行い、インクが安定して吐出されることを確認した。次に、インクジェット装置を、インクジェットヘッドを描画位置から外した待機状態で室温25℃、相対湿度50%、クラス100のクリーンルーム環境下に1週間放置した。
[4.1] Fabrication and Evaluation of Ceramic Circuit Board The conductor pattern forming inks obtained in the respective Examples and Comparative Examples were put into an ink jet apparatus as shown in FIGS.
First, drawing was performed using the above-described inkjet device equipped with the above-described conductor pattern forming ink, and it was confirmed that the ink was stably ejected. Next, the ink jet apparatus was left for one week in a clean room environment of a room temperature of 25 ° C., a relative humidity of 50%, and a class 100 with the ink jet head removed from the drawing position.

次に、上記セラミックスグリーンシートを60℃に昇温保持した。ノズルについて一度のクリーニングを行った後、各吐出ノズルからそれぞれ1滴当り15ngの液滴を順次吐出し、線幅が30μm、厚み15μm、長さが10.0cmのライン(前駆体)を20本描画した。各ライン間の距離は、5mmとした。そして、このラインが形成されたセラミックスグリーンシートを乾燥炉に入れ、60℃で30分間加熱して乾燥した。
上記のようにして、ラインが形成されたセラミックスグリーンシートを第1のセラミックスグリーンシートとした。この第1のセラミックスグリーンシートを各インクにつき、20枚ずつ作成した。また、各シートについて、クラックがあるか否かを確認した。この結果を表2に示した。なお、表2には、第1のセラミックスグリーンシートのうち、ラインにクラックの入っていない良品の数を示した。
Next, the ceramic green sheet was heated to 60 ° C. and held. After cleaning the nozzle once, 15 ng droplets per droplet are sequentially ejected from each ejection nozzle, and 20 lines (precursors) having a line width of 30 μm, a thickness of 15 μm, and a length of 10.0 cm are prepared. Drawn. The distance between each line was 5 mm. And the ceramic green sheet in which this line was formed was put into the drying furnace, and it heated and dried at 60 degreeC for 30 minutes.
The ceramic green sheet on which the line was formed as described above was used as the first ceramic green sheet. 20 sheets of this first ceramic green sheet were prepared for each ink. Each sheet was checked for cracks. The results are shown in Table 2. Table 2 shows the number of non-defective products having no cracks in the line among the first ceramic green sheets.

次に、別のセラミックスグリーンシートに上記の金属配線の両端位置に機械式パンチ等によって孔開けを行うことで計40箇所に直径100μmのスルーホールを形成し、得られた各実施例および比較例の導体パターン形成用インクを充填することでコンタクト(ビア)を形成した。さらに、このコンタクト(ビア)上に2mm角のパターンを、得られた各実施例および比較例の導体パターン形成用インクを用いて上記液滴吐出装置を用いて端子部を形成した。
この端子部が形成されたセラミックスグリーンシートを第2のセラミックスグリーンシートとした。
Next, through holes having a diameter of 100 μm were formed in a total of 40 locations by punching another ceramic green sheet with mechanical punches or the like at both ends of the metal wiring, and each of the obtained Examples and Comparative Examples A contact (via) was formed by filling the conductive pattern forming ink. Further, a 2 mm square pattern was formed on the contact (via), and the terminal portion was formed using the above-described droplet discharge device using the conductive pattern forming inks of the respective Examples and Comparative Examples.
The ceramic green sheet on which this terminal portion was formed was used as the second ceramic green sheet.

次に、第2のセラミックスグリーンシートの下に第1のセラミックスグリーンシートを積層し、さらに無加工のセラミックスグリーンシートを補強層として2枚積層し、生の積層体を得た。この生の積層体を各インクにつき、第1のセラミックスグリーンシート20枚それぞれに作成し、各インクにつき20ブロックずつ作成した。
次に、生の積層体を、95℃の温度において、250kg/cmの圧力で30秒間プレスした後、大気中において、昇温速度66℃/時間で約6時間、昇温速度10℃/時間で約5時間、昇温速度85℃/時間で約4時間といった連続的に昇温する昇温過程を経て、最高温度890℃で30分間保持するといった焼結プロファイルに従って焼結し、セラミックス回路基板を得た。
冷却後、各セラミックス回路基板について、20本の導体パターン上に形成された端子部間にテスタをあて、それぞれ導通の有無を確認し、導通率が100%であったものを良品とした。なお、導通率は、各セラミックス回路基板中にある導通のあった導体パターンの数を、形成した導体パターンの数(20本)で除したものとした。
Next, the first ceramic green sheet was laminated under the second ceramic green sheet, and two unprocessed ceramic green sheets were laminated as reinforcing layers to obtain a raw laminate. This raw laminate was prepared for each of the 20 first ceramic green sheets for each ink, and 20 blocks were prepared for each ink.
Next, the raw laminate was pressed at a temperature of 95 ° C. at a pressure of 250 kg / cm 2 for 30 seconds, and then in the atmosphere at a temperature rising rate of 66 ° C./hour for about 6 hours and a temperature rising rate of 10 ° C. / The ceramic circuit is sintered according to a sintering profile in which the temperature is continuously raised, such as about 5 hours in time and about 4 hours at a rate of temperature increase of 85 ° C./hour, and then held at a maximum temperature of 890 ° C. for 30 minutes. A substrate was obtained.
After cooling, for each ceramic circuit board, a tester was applied between the terminal portions formed on the 20 conductor patterns to confirm the presence or absence of conduction, and those with a conductivity of 100% were regarded as non-defective products. The conductivity was obtained by dividing the number of conductive patterns in each ceramic circuit board by the number of formed conductive patterns (20).

[4.2]導体パターン(配線基板)の周波数特性
各実施例および比較例で得られた導体パターン形成用インクを、それぞれ図4、5に示すようなインクジェット装置に投入した。
まず、上記導体パターン形成用インクを搭載した上記インクジェット装置を用いて描画を行い、インクが安定して吐出されることを確認した。次に、インクジェット装置を、インクジェットヘッドを描画位置から外した待機状態で室温25℃、相対湿度50%、クラス100のクリーンルーム環境下に1週間放置した。
[4.2] Frequency characteristics of conductor pattern (wiring board) The ink for forming a conductor pattern obtained in each example and comparative example was put into an ink jet apparatus as shown in FIGS.
First, drawing was performed using the above-described inkjet device equipped with the above-described conductor pattern forming ink, and it was confirmed that the ink was stably ejected. Next, the ink jet apparatus was left for one week in a clean room environment of a room temperature of 25 ° C., a relative humidity of 50%, and a class 100 with the ink jet head removed from the drawing position.

次に、上記セラミックスグリーンシートを60℃に昇温保持した。ノズルについて一度のクリーニングを行った後、各吐出ノズルからそれぞれ1滴当り15ngの液滴を順次吐出し、線幅が100μm、曲率半径10μm、長さが10.0cmのライン(前駆体)を20本描画した。各ライン間の距離は、5mmとした。そして、このラインが形成されたセラミックスグリーンシートを乾燥炉に入れ、60℃で30分間加熱して乾燥した。
上記のようにして、ラインが形成されたセラミックスグリーンシートを第1のセラミックスグリーンシートとした。
Next, the ceramic green sheet was heated to 60 ° C. and held. After cleaning the nozzle once, 15 ng droplets per droplet are sequentially ejected from each ejection nozzle, and 20 lines (precursors) having a line width of 100 μm, a curvature radius of 10 μm, and a length of 10.0 cm are obtained. I drew this book. The distance between each line was 5 mm. And the ceramic green sheet in which this line was formed was put into the drying furnace, and it heated and dried at 60 degreeC for 30 minutes.
The ceramic green sheet on which the line was formed as described above was used as the first ceramic green sheet.

次に、別のセラミックスグリーンシートに上記の金属配線の両端位置に機械式パンチ等によって孔開けを行うことで計40箇所に直径100μmのスルーホールを形成し、得られた各実施例および比較例の導体パターン形成用インクを充填することでコンタクト(ビア)を形成した。さらに、このコンタクト(ビア)上に2mm角のパターンを、得られた各実施例および比較例の導体パターン形成用インクを用いて上記液滴吐出装置を用いて端子部を形成した。
この端子部が形成されたセラミックスグリーンシートを第2のセラミックスグリーンシートとした。
Next, through holes having a diameter of 100 μm were formed in a total of 40 locations by punching another ceramic green sheet with mechanical punches or the like at both ends of the metal wiring, and each of the obtained Examples and Comparative Examples A contact (via) was formed by filling the conductive pattern forming ink. Further, a 2 mm square pattern was formed on the contact (via), and the terminal portion was formed using the above-described droplet discharge device using the conductive pattern forming inks of the respective Examples and Comparative Examples.
The ceramic green sheet on which this terminal portion was formed was used as the second ceramic green sheet.

次に、第2のセラミックスグリーンシートの下に第1のセラミックスグリーンシートを積層し、さらに無加工のセラミックスグリーンシートを補強層として2枚積層し、生の積層体を得た。
次に、生の積層体を、95℃の温度において、250kg/cmの圧力で30秒間プレスした後、大気中において、昇温速度66℃/時間で約6時間、昇温速度10℃/時間で約5時間、昇温速度85℃/時間で約4時間といった連続的に昇温する昇温過程を経て、最高温度890℃で30分間保持するといった焼結プロファイルに従って焼結し、セラミックス回路基板を得た。
Next, the first ceramic green sheet was laminated under the second ceramic green sheet, and two unprocessed ceramic green sheets were laminated as reinforcing layers to obtain a raw laminate.
Next, the raw laminate was pressed at a temperature of 95 ° C. at a pressure of 250 kg / cm 2 for 30 seconds, and then in the atmosphere at a temperature rising rate of 66 ° C./hour for about 6 hours and a temperature rising rate of 10 ° C. / The ceramic circuit is sintered according to a sintering profile in which the temperature is continuously raised, such as about 5 hours in time and about 4 hours at a rate of temperature increase of 85 ° C./hour, and then held at a maximum temperature of 890 ° C. for 30 minutes. A substrate was obtained.

次に、得られたセラミックス回路基板の共振特性をSパラメータネットワークアナライザ(アジレント・テクノロジー社製8722ES)により測定した。共振器の無負荷Q(Qu値)から、軸対称有限要素法により、実効導電率を算出した。この実効導電率を純Agの導電率(6.1×107Ω−1・m−1)を100%として規格化し、以下の4段階の基準に従い、導体パターン(配線基板)の周波数特性を評価した。 Next, the resonance characteristics of the obtained ceramic circuit board were measured with an S-parameter network analyzer (8722ES manufactured by Agilent Technologies). The effective conductivity was calculated from the unloaded Q (Qu value) of the resonator by the axially symmetric finite element method. This effective conductivity was normalized with the pure Ag conductivity (6.1 × 10 7 Ω −1 · m −1 ) being 100%, and the frequency characteristics of the conductor pattern (wiring board) were evaluated according to the following four criteria. .

A:実効導電率が90%以上である。(周波数特性に優れている。)
B:実効導電率が80%以上90%未満である。(周波数特性にやや優れている。)
C:実効導電率が70%以上80%未満である。(実用上問題のない周波数特性である。)
D:実効導電率が70%未満である。(周波数特性が劣っている。)
これらの結果を表2に示す。
A: The effective conductivity is 90% or more. (Excellent frequency characteristics.)
B: The effective conductivity is 80% or more and less than 90%. (Slightly superior frequency characteristics.)
C: The effective conductivity is 70% or more and less than 80%. (Frequency characteristics with no practical problems.)
D: The effective conductivity is less than 70%. (The frequency characteristics are inferior.)
These results are shown in Table 2.

Figure 2011129787
Figure 2011129787

表2に示すように、本発明の導体パターン形成用インクでは、長期間液滴吐出装置内で保管された場合であっても、吐出安定性に優れるものであった。また、本発明の導体パターン形成用インクを用いて形成された導体パターンおよび配線基板は、優れた導通率を示していた。また、本発明の導体パターン形成用インクを用いて形成された導体パターンおよび配線基板は、周波数特性が所望のものとなった信頼性の高いものであった。これに対して、比較例では、満足な結果が得られなかった。
また、インク中における銀コロイド粒子の含有量を20wt%、30wt%に変更したところ、上記と同様の結果が得られた。
As shown in Table 2, the conductor pattern forming ink of the present invention was excellent in ejection stability even when stored in a droplet ejection apparatus for a long time. Moreover, the conductor pattern and wiring board formed using the ink for forming a conductor pattern of the present invention showed excellent conductivity. In addition, the conductor pattern and the wiring board formed using the conductor pattern forming ink of the present invention were highly reliable with the desired frequency characteristics. On the other hand, in the comparative example, a satisfactory result was not obtained.
Moreover, when the content of the silver colloid particles in the ink was changed to 20 wt% and 30 wt%, the same result as above was obtained.

1…導体パターン形成用インク(インク) 10…導体パターン前駆体(前駆体) 15…セラミックス成形体(セラミックスグリーンシート) 16…コンタクト前駆体 17…積層体 20、20A…導体パターン(回路) 30…セラミックス回路基板(配線基板) 31…セラミックス基板 32…積層基板 33…コンタクト 100…インクジェット装置(液滴吐出装置) 110…インクジェットヘッド(液滴吐出ヘッド、ヘッド) 111…ヘッド本体 112…振動板 113…ピエゾ素子 114…本体 115…ノズルプレート 115P…インク吐出面 116…リザーバ 117…インク室 118…ノズル(突出部) 130…ベース 140…テーブル 170…テーブル位置決め手段 171…第1移動手段 172…モータ 180…ヘッド位置決め手段 181…第2移動手段 182…リニアモータ 183、184、185…モータ 190…制御装置 191…駆動回路 S…基材   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Conductor pattern formation ink (ink) 10 ... Conductor pattern precursor (precursor) 15 ... Ceramic molding (ceramics green sheet) 16 ... Contact precursor 17 ... Laminate 20, 20A ... Conductor pattern (circuit) 30 ... Ceramic circuit board (wiring board) 31 ... Ceramics board 32 ... Laminated board 33 ... Contact 100 ... Inkjet device (droplet ejection device) 110 ... Inkjet head (droplet ejection head, head) 111 ... Head body 112 ... Vibration plate 113 ... Piezo element 114 ... body 115 ... nozzle plate 115P ... ink ejection surface 116 ... reservoir 117 ... ink chamber 118 ... nozzle (protruding part) 130 ... base 140 ... table 170 ... table positioning means 171 ... first moving means 172 ... mode 180 ... head positioning means 181: second moving means 182 ... linear motor 183,184,185 ... motor 190 ... controller 191 ... driving circuit S ... substrate

Claims (8)

液滴吐出法により、基板上に導体パターンを形成するための導体パターン形成用インクであって、
金属粒子と、セラミックス粒子と、前記金属粒子および前記セラミックス粒子が分散した水系分散媒とを含むことを特徴とする導体パターン形成用インク。
Conductor pattern forming ink for forming a conductor pattern on a substrate by a droplet discharge method,
An ink for forming a conductor pattern, comprising metal particles, ceramic particles, and an aqueous dispersion medium in which the metal particles and the ceramic particles are dispersed.
前記セラミックス粒子は、二酸化ケイ素、または、酸化アルミニウムである請求項1に記載の導体パターン形成用インク。   The ink for forming a conductor pattern according to claim 1, wherein the ceramic particles are silicon dioxide or aluminum oxide. 前記セラミックス粒子の平均粒子径は、5nm以上300nm以下である請求項1または2に記載の導体パターン形成用インク。   The ink for forming a conductor pattern according to claim 1 or 2, wherein the ceramic particles have an average particle diameter of 5 nm to 300 nm. 導体パターン形成用インク中における前記セラミックス粒子の含有量は、0.1wt%以上1.6wt%以下である請求項1ないし3のいずれかに記載の導体パターン形成用インク。   The conductor pattern forming ink according to any one of claims 1 to 3, wherein a content of the ceramic particles in the conductor pattern forming ink is 0.1 wt% or more and 1.6 wt% or less. 前記基板は、前記セラミックス粒子に含まれる成分のうち少なくとも1つを含む請求項1ないし4のいずれかに記載の導体パターン形成用インク。   The conductive pattern forming ink according to claim 1, wherein the substrate includes at least one of components contained in the ceramic particles. 前記基板は、ガラス材料を含む請求項1ないし5のいずれかに記載の導体パターン形成用インク。   The ink for forming a conductor pattern according to claim 1, wherein the substrate includes a glass material. 請求項1ないし6のいずれかに記載の導体パターン形成用インクによって形成されたことを特徴とする導体パターン。   A conductor pattern formed with the conductor pattern forming ink according to claim 1. 請求項7に記載の導体パターンが備えられてなることを特徴とする配線基板。   A wiring board comprising the conductor pattern according to claim 7.
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