JP2011138635A - 有機el装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】絶縁基板と、前記絶縁基板の上方に配置され、無機化合物によって形成された第1絶縁膜と、前記第1絶縁膜の上に配置されるとともに前記第1絶縁膜を露出する格子状の溝が形成され、上面及び側面を有する有機化合物によって形成された第2絶縁膜と、前記溝によって囲まれた前記第2絶縁膜の上面に配置された画素電極と、前記第2絶縁膜の上面及び側面、及び、前記溝によって露出した前記第1絶縁膜をカバーする無機化合物によって形成された第3絶縁膜と、前記画素電極の上に配置された有機層と、前記有機層の上に配置された対向電極と、を備えたことを特徴とする有機EL装置。
【選択図】 図2
Description
絶縁基板と、前記絶縁基板の上方に配置され、無機化合物によって形成された第1絶縁膜と、前記第1絶縁膜の上に配置されるとともに前記第1絶縁膜を露出する格子状の溝が形成され、上面及び側面を有する有機化合物によって形成された第2絶縁膜と、前記溝によって囲まれた前記第2絶縁膜の上面に配置された画素電極と、前記第2絶縁膜の上面及び側面、及び、前記溝によって露出した前記第1絶縁膜をカバーする無機化合物によって形成された第3絶縁膜と、前記画素電極の上に配置された有機層と、前記有機層の上に配置された対向電極と、を備えたことを特徴とする有機EL装置が提供される。
絶縁基板と、前記絶縁基板の上方に配置され、無機化合物によって形成された第1絶縁膜と、前記第1絶縁膜の上にそれぞれ配置されるとともに互いに離間した複数の島状のセグメントによって構成され、各セグメントが上面及び側面を有する有機化合物によって形成された第2絶縁膜と、前記第2絶縁膜の各セグメントの上面にそれぞれ配置された画素電極と、前記第2絶縁膜の各セグメントの上面及び側面、及び、各セグメント間から露出した前記第1絶縁膜をカバーする無機化合物によって形成された第3絶縁膜と、前記画素電極の上にそれぞれ配置された有機層と、前記有機層の上に配置された対向電極と、を備えたことを特徴とする有機EL装置が提供される。
100…アレイ基板
113…第1絶縁膜
114…第2絶縁膜
115…第3絶縁膜
116…封止膜
200…封止基板
OLED…有機EL素子
GR…溝
PE…画素電極 PT…上面
PEP…周縁部 PEC…中央部
ORG…有機層
CE…対向電極
Claims (7)
- 絶縁基板と、
前記絶縁基板の上方に配置され、無機化合物によって形成された第1絶縁膜と、
前記第1絶縁膜の上に配置されるとともに前記第1絶縁膜を露出する格子状の溝が形成され、上面及び側面を有する有機化合物によって形成された第2絶縁膜と、
前記溝によって囲まれた前記第2絶縁膜の上面に配置された画素電極と、
前記第2絶縁膜の上面及び側面、及び、前記溝によって露出した前記第1絶縁膜をカバーする無機化合物によって形成された第3絶縁膜と、
前記画素電極の上に配置された有機層と、
前記有機層の上に配置された対向電極と、
を備えたことを特徴とする有機EL装置。 - 前記溝によって囲まれた前記第2絶縁膜の上面と側面とのなす角度は、90度以上であることを特徴とする請求項1に記載の有機EL装置。
- 前記第3絶縁膜は、前記画素電極の周縁部をカバーし、前記画素電極の上面に対して90度以下のなす角度を形成する側面を有することを特徴とする請求項1に記載の有機EL装置。
- 前記第3絶縁膜は、シリコン窒化物、アルミニウム酸化物、シリコン酸化物のいずれかによって形成されたことを特徴とする請求項1に記載の有機EL装置。
- さらに、前記対向電極の上に配置され、無機化合物によって形成された封止膜を備えたことを特徴とする請求項1に記載の有機EL装置。
- 絶縁基板と、
前記絶縁基板の上方に配置され、無機化合物によって形成された第1絶縁膜と、
前記第1絶縁膜の上にそれぞれ配置されるとともに互いに離間した複数の島状のセグメントによって構成され、各セグメントが上面及び側面を有する有機化合物によって形成された第2絶縁膜と、
前記第2絶縁膜の各セグメントの上面にそれぞれ配置された画素電極と、
前記第2絶縁膜の各セグメントの上面及び側面、及び、各セグメント間から露出した前記第1絶縁膜をカバーする無機化合物によって形成された第3絶縁膜と、
前記画素電極の上にそれぞれ配置された有機層と、
前記有機層の上に配置された対向電極と、
を備えたことを特徴とする有機EL装置。 - 前記第2絶縁膜の各セグメントは、前記第1絶縁膜と接する底面から上面に向かってテーパー状に形成されたことを特徴とする請求項6に記載の有機EL装置。
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