JP2011098845A5 - - Google Patents
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（比較例３）
型母材に重ねて下地層にＴｉ、中間層にＴｉＡｌＮ、密着層にＳｉＣ、離型層にダイヤモンド状炭素層を順次備えた比較例２における光学素子成形金型の、中間層であるＴｉＡｌＮ層に代えて、剥離を抑えるためにＴｉＮ層にする以外は同様に成形金型を製造した。
型母材に重ねて下地層にＴｉ、中間層にＴｉＡｌＮ、密着層にＳｉＣ、離型層にダイヤモンド状炭素層を順次備えた比較例２における光学素子成形金型の、中間層であるＴｉＡｌＮ層に代えて、剥離を抑えるためにＴｉＮ層にする以外は同様に成形金型を製造した。
Claims (7)
- 母材の一部に成型面を有する成形金型において、前記成型面に、金属チタンからなる層、窒化チタンアルミニウムからなる層、炭化珪素からなる層、テトラヘドラルアモルファスカーボンからなる層が順次積層されていることを特徴とする成形金型。
- 前記金属チタンからなる層の厚さは０．１〜５μｍであり、前記窒化チタンアルミニウムからなる層の厚さは０．２〜５μｍであり、前記炭化珪素からなる層の厚さは１０〜１００ｎｍであり、前記テトラヘドラルアモルファスカーボンからなる層の厚さは５０〜１００ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載の成形金型。
- 前記窒化チタンアルミニウムからなる層における、アルミニウムに対するチタンの割合は０．３〜０．７であることを特徴とする請求項１に記載の成形金型。
- 母材の一部に成型面を有する成形金型の製造方法において、前記成型面に、金属チタンからなる層、窒化チタンアルミニウムからなる層、炭化珪素からなる層、テトラヘドラルアモルファスカーボンからなる層を順次成膜することを特徴とする成形金型の製造方法。
- 前記金属チタンからなる層の厚さは０．１〜５μｍであり、前記窒化チタンアルミニウムからなる層の厚さは０．２〜５μｍであり、前記炭化珪素からなる層の厚さは１０〜１００ｎｍであり、前記テトラヘドラルアモルファスカーボンからなる層の厚さは５０〜１００ｎｍであることを特徴とする請求項４に記載の成形金型の製造方法。
- 前記テトラヘドラルアモルファスカーボン膜が、フィルタードアークカソーディックバキュームアーク法により成膜されることを特徴とする請求項４または５に記載の成型金型の製造方法。
- 前記炭化珪素膜が、プラズマソースイオンインプラテーション法、もしくはスパッタ法により成膜されることを特徴とする請求項６に記載の成形金型の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009253078A JP5627214B2 (ja) | 2009-11-04 | 2009-11-04 | 成形金型、及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009253078A JP5627214B2 (ja) | 2009-11-04 | 2009-11-04 | 成形金型、及びその製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011098845A JP2011098845A (ja) | 2011-05-19 |
| JP2011098845A5 true JP2011098845A5 (ja) | 2013-09-12 |
| JP5627214B2 JP5627214B2 (ja) | 2014-11-19 |
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ID=44190355
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009253078A Expired - Fee Related JP5627214B2 (ja) | 2009-11-04 | 2009-11-04 | 成形金型、及びその製造方法 |
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| JP (1) | JP5627214B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6476261B1 (ja) * | 2017-10-17 | 2019-02-27 | 株式会社神戸製鋼所 | 成膜方法 |
| EP3650582A1 (en) * | 2018-11-08 | 2020-05-13 | Nanofilm Technologies International Pte Ltd | Temperature resistant amorphous carbon coatings |
| CN114905793B (zh) * | 2022-05-09 | 2024-02-23 | 深圳技术大学 | 高温模压成型硅模具的方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07112266A (ja) * | 1993-10-15 | 1995-05-02 | Ube Ind Ltd | ダイカスト金型 |
| JP5483384B2 (ja) * | 2007-06-01 | 2014-05-07 | 国立大学法人豊橋技術科学大学 | Ｄｌｃ膜及びｄｌｃコート金型 |
| JP2009242141A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Fujinon Corp | 金型の再生方法及び再生金型 |
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2009
- 2009-11-04 JP JP2009253078A patent/JP5627214B2/ja not_active Expired - Fee Related
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