JP2011096732A - 固体撮像装置、固体撮像装置の製造方法、電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】撮像面(xy面)に対して垂直な面である垂直断面(xz面)が矩形状になるように、マイクロレンズ140を形成する。ここでは、マイクロレンズ140において、第1屈折率層141を、高い屈折率(たとえば、n1=1.7)の材料で形成する。また、第2屈折率層142を、第1屈折率層141とは異なる低い屈折率(たとえば、n2=1.45)の材料で形成する。また、マイクロレンズ140の垂直断面(xz面)において、第1屈折率層141と第2屈折率層142との界面が、撮像面(xy面)に対して垂直な方向zに沿うように形成する。
【選択図】図5
Description
1.実施形態1(第1屈折率層の周囲に第2屈折率層がある場合)
2.実施形態2(第2屈折率層が第1屈折率層の上面を覆う場合)
3.実施形態3(第1屈折率層が第2屈折率層の上面を覆う場合)
4.実施形態4(実施形態1について瞳補正する場合)
5.実施形態5(中心が第2屈折率層のみの場合)
6.実施形態6(中心が第1屈折率層のみの場合)
7.実施形態7(実施形態1に対して製造方法が異なる場合)
8.実施形態8(実施形態2に対して製造方法が異なる場合)
9.実施形態9(実施形態3に対して製造方法が異なる場合)
10.その他
(A)装置構成
(A−1)カメラの要部構成
図1は、本発明にかかる実施形態1において、カメラ40の構成を示す構成図である。
固体撮像装置1の全体構成について説明する。
本実施形態にかかる固体撮像装置1の詳細内容について説明する。
固体撮像装置1において、フォトダイオード21は、図5に示すように、基板101の撮像面に設けられている。フォトダイオード21は、入射光を受光面JSで受光し光電変換することによって信号電荷を生成するように構成されている。フォトダイオード21は、図2において示した複数の画素Pのそれぞれに対応するように、複数が、基板101の面において配置されている。
固体撮像装置1において、カラーフィルタ130は、図5に示すように、基板101の面の上方において、配線層110上に位置するように形成されている。カラーフィルタ130は、被写体像による入射光を着色して、基板101の面へ透過するように構成されている。たとえば、カラーフィルタ130は、着色顔料とフォトレジスト樹脂とを含む塗布液を、スピンコート法などのコーティング方法によって塗布して塗膜を形成後、リソグラフィ技術によって、その塗膜をパターン加工して形成される。
固体撮像装置1において、マイクロレンズ140は、図5に示すように、基板101の面の上方において、カラーフィルタ130を被覆する平坦化膜HT上に形成されている。このマイクロレンズ140は、受光面JSの上方に設けられており、入射光をフォトダイオード21の受光面JSへ集光するように構成されている。
・酸化亜鉛(屈折率n=1.95)
・酸化ジルコニウム(屈折率n=2.4)
・酸化ニオブ(屈折率n=およそ2.3)
・酸化錫(屈折率n=2.0)
・酸化タンタル(屈折率n=2.1)
・酸化ハフニウム(屈折率n=2.0)
・酸化チタン(屈折率n=2.52)
・P−SiO(屈折率n=1.45)
・P−SiN(屈折率n=1.90)
・P−SiON(屈折率n=1.45〜1.90)
・P−SiO
成膜ガス種:SiH4,N2O,N2
・P−SiN
成膜ガス種:SiH4,NH3,N2
・P−SiON
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(第1屈折率層141の場合)
・材料:P−SiON(プラズマ窒化酸化シリコン)
・幅:0.4μm
・厚み:0.5μm
(第2屈折率層142の場合)
・材料:P−SiO(プラズマ酸化シリコン)
・幅:第1屈折率層を含み0.8μm
・厚み:0.5μm
このように構成することによって、矩形状のマイクロレンズ140が、凸レンズと同様に、集光機能を得る。
なお、下記を満たすように、矩形状のマイクロレンズ140を形成することが好適である。
(1)光学長(マイクロレンズ自身の光学的なレンズ長)に比べて相対的に薄いこと
(2)高屈折率層(第1屈折率層141)と低屈折率層(第2屈折率層142)とが光軸に対して交互に並んでおり、高屈折率層と低屈折率層の各幅が、入射光の波長オーダーまたはそれより小さいこと
以下より、上記の固体撮像装置1を製造する製造方法の要部について説明する。ここでは、固体撮像装置1においてマイクロレンズ140を形成する工程について詳細に説明する。
まず、図9(A)に示すように、第1屈折率層141を成膜する。
つぎに、図9(B)に示すように、フォトレジストマスクPR1を形成する。
つぎに、図10(A)に示すように、第1屈折率層141について加工する。
つぎに、図10(B)に示すように、第2屈折率層142を成膜する。
つぎに、図11(A)に示すように、第1屈折率層141と第2屈折率層142の表面を、平坦化する。
つぎに、図11(B)に示すように、フォトレジストマスクPR2を形成する。
つぎに、図5に示したように、マイクロレンズ140を形成する。
図12は、本発明にかかる実施形態1において、マイクロレンズ140について光学シミュレーションを実施した結果を示す図である。
・マイクロレンズ140の横幅d:0.8μm
・マイクロレンズ140のピッチP:1.1μm
・第1屈折率層141の屈折率n1:1.7
・第2屈折率層142の屈折率n2:1.45
・第1屈折率層141の横幅:0.4μm
・第2屈折率層142にて第1屈折率層141を挟む部分の横幅d2L,d2R:0.2μm
・第2屈折率層142の横幅(全体)d2(d2L+d2R):0.4μm
・主光線の入射角度θ:0°
以上のように、本実施形態においては、入射光を受光面JSへ集光するマイクロレンズ140が、基板101の撮像面(xy面)において受光面JSの上方に設けられている。このマイクロレンズ140は、撮像面(xy面)に対して垂直な面である垂直断面(xz面)が矩形状になるように形成されている。また、マイクロレンズ140は、第1屈折率層141と、第2屈折率層142とを有する。マイクロレンズ140において、第1屈折率層141は、高い屈折率(たとえば、n1=1.7)の材料で形成されている。これに対して、第2屈折率層142は、第1屈折率層141とは異なる低い屈折率(たとえば、n2=1.45)の材料で形成されている。そして、マイクロレンズ140は、第1および第2の屈折率層141,142よりも低い屈折率である空気層(屈折率n=1)から、入射光が第1および第2の屈折率層141,142へ入射して受光面JSへ集光されるように構成されている。具体的には、第1屈折率層141と第2屈折率層142とのそれぞれは、撮像面(xy面)に沿った方向xにおいて隣接して並んでいる。そして、マイクロレンズ140は、垂直断面(xz面)においては、第1屈折率層141と第2屈折率層142との界面が、撮像面(xy面)に対して垂直な方向zに沿うように形成されている(図5参照)。また、マイクロレンズ140は、水平面(xy面)においては、水平断面(xy面)が矩形状であり、この水平断面において第1屈折率層141の周囲を第2屈折率層142が囲うように形成されている(図7参照)。
(A)装置構成
図13と図14は、本発明にかかる実施形態2において、固体撮像装置1bの要部を示す図である。
以下より、上記の固体撮像装置1bを製造する製造方法の要部について説明する。ここでは、固体撮像装置1bにおいてマイクロレンズ140bを形成する工程について詳細に説明する。
以上のように、本実施形態においては、実施形態1の場合と同様に、マイクロレンズ140bは、第1屈折率層141と第2屈折率層142bとのそれぞれが、撮像面(xy面)に沿った方向xにおいて隣接して並んでいる。そして、マイクロレンズ140bは、垂直断面(xz面)においては、第1屈折率層141と第2屈折率層142bとの界面が、撮像面(xy面)に対して垂直な方向zに沿った部分を含むように形成されている(図13参照)。
(A)装置構成
図16と図17は、本発明にかかる実施形態3において、固体撮像装置1cの要部を示す図である。
以下より、上記の固体撮像装置1cを製造する製造方法の要部について説明する。ここでは、固体撮像装置1cにおいてマイクロレンズ140cを形成する工程について詳細に説明する。
まず、図18(A)に示すように、第2屈折率層142を成膜する。
つぎに、図18(B)に示すように、フォトレジストマスクPR1cを形成する。
つぎに、図19(A)に示すように、第2屈折率層142について加工する。
つぎに、図19(B)に示すように、第1屈折率層141cを成膜する。
つぎに、図20に示すように、フォトレジストマスクPR2を形成する。
つぎに、図16に示したように、マイクロレンズ140cを形成する。
以上のように、本実施形態においては、実施形態1の場合と同様に、マイクロレンズ140cは、第1屈折率層141cと第2屈折率層142とのそれぞれが、撮像面(xy面)に沿った方向xにおいて隣接して並んだ部分を含む。そして、マイクロレンズ140cは、垂直断面(xz面)においては、第1屈折率層141cと第2屈折率層142との界面が、撮像面(xy面)に対して垂直な方向zに沿った部分を含むように形成されている(図16参照)。
(A)装置構成など
図21,図22,図23は、本発明にかかる実施形態4において、固体撮像装置1dの要部を示す図である。
図24,図25は、本発明にかかる実施形態4において、マイクロレンズ140dについて光学シミュレーションを実施した結果を示す図である。
・主光線の入射角度θ:5°
・主光線の入射角度θ:7.5°
・主光線の入射角度θ:10°
・主光線の入射角度θ:15°
・曲面部分の膜厚h1:0.35μm
・曲面部分の下層の膜厚h2:0.2μm
・マイクロレンズOCLの横幅およびピッチP:1.1μm
・主光線の入射角度θ:15°
・主光線の入射角度θ:15°
・主光線の入射角度θ:15°
・主光線の入射角度θ:15°
・主光線の入射角度θ:15°
以上のように、本実施形態では、第2屈折率層142dは、撮像領域PAの中心および周辺において、水平面にて当該第2屈折率層142dが形成された領域の中心が、受光面JSの中心に対応するように形成されている。これに対して、第1屈折率層141dは、撮像領域PAの中心から周辺へ向かうに伴って、水平面にて当該第1屈折率層141dが形成された領域の中心が、受光面JSの中心に対して、撮像領域PA面の中心の側へシフトするように形成されている。
(A)装置構成など
図30,図31,図32は、本発明にかかる実施形態5において、固体撮像装置1fの要部を示す図である。
図33,図34,図35は、本発明にかかる実施形態5において、マイクロレンズ140fについて光学シミュレーションを実施した結果を示す図である。
・主光線の入射角度θ:0°
・主光線の入射角度θ:5°
・主光線の入射角度θ:7.5°
・主光線の入射角度θ:10°
・主光線の入射角度θ:15°
以上のように、本実施形態においては、第1屈折率層141fは、第2屈折率層142fに対して撮像領域PAの中心側へ位置している。第2屈折率層142fは、第1屈折率層141fに対して撮像領域PAの周辺側に位置している。ここでは、マイクロレンズ140fは、撮像領域PAの中心においては、第1屈折率層141fを含まずに、第2屈折率層142fによって構成されている。そして、複数のマイクロレンズ140fは、撮像領域PAの中心から周辺へ向かうに伴って、第1屈折率層141fの水平断面が、第2屈折率層142fの水平断面よりも小さくなるように形成されている。このため、上述したように、傾斜した主光線は、マイクロレンズ140fによって撮像面に対して垂直になって受光面JSへ集光される。つまり、本実施形態では、いわゆる「瞳補正」がなされている。
(A)装置構成など
図36,図37,図38は、本発明にかかる実施形態6において、固体撮像装置1eの要部を示す図である。
以上のように、本実施形態においては、第1屈折率層141eは、第2屈折率層142eに対して撮像領域PAの中心側へ位置している。第2屈折率層142eは、第1屈折率層141eに対して撮像領域PAの周辺側に位置している。ここでは、マイクロレンズ140eは、撮像領域PAの中心においては、第2屈折率層142eを含まずに、第1屈折率層141eによって構成されている。そして、複数のマイクロレンズ140eは、撮像領域PAの中心から周辺へ向かうに伴って、第1屈折率層141eの水平断面が、第2屈折率層142eの水平断面よりも大きくなるように形成されている。このため、上述したように、傾斜した主光線は、マイクロレンズ140eによって撮像面に対して垂直になって受光面JSへ集光される。つまり、本実施形態では、いわゆる「瞳補正」がなされている。
(A)製造方法など
図39は、本発明にかかる実施形態7において、固体撮像装置1を製造する方法の各工程にて設けられた要部を示す図である。図39は、実施形態1において図5で示した固体撮像装置1の要部を示す断面図である。ここでは、固体撮像装置1を構成するマイクロレンズ140を形成する工程について詳細に説明する。
本実施形態においては、第1屈折率層141の成膜前に、実施形態3にて図18(A)〜図19(A)に示した場合と同様にして、平坦化膜HT上に、第2屈折率層142をパターン加工する。
つぎに、図39(B)に示すように、第1屈折率層141と第2屈折率層142の表面を、平坦化する。
つぎに、図39(C)に示すように、フォトレジストマスクPRgを形成する。
つぎに、図5に示したように、マイクロレンズ140を形成する。
以上のように、本実施形態においては、実施形態1の場合と同様に、マイクロレンズ140が形成されている。
(A)製造方法など
図40は、本発明にかかる実施形態8において、固体撮像装置1bを製造する方法の各工程にて設けられた要部を示す図である。図40は、実施形態2において図13で示した固体撮像装置1bの要部を示す断面図である。ここでは、固体撮像装置1bを構成するマイクロレンズ140bを形成する工程について詳細に説明する。
まず、図40(A)に示すように、第1屈折率層141を成膜する。
つぎに、図40(B)に示すように、第1屈折率層141について加工する。
つぎに、図40(C)に示すように、第2屈折率層142bを成膜する。
以上のように、本実施形態においては、実施形態2の場合と同様に、マイクロレンズ140bが形成されている。
(A)製造方法など
図41は、本発明にかかる実施形態9において、固体撮像装置1cを製造する方法の各工程にて設けられた要部を示す図である。図41は、実施形態3において図16で示した固体撮像装置1cの要部を示す断面図である。ここでは、固体撮像装置1cを構成するマイクロレンズ140cを形成する工程について詳細に説明する。
まず、図41(A)に示すように、第2屈折率層142を成膜する。
つぎに、図41(B)に示すように、第2屈折率層142について加工する。
つぎに、図41(C)に示すように、第2屈折率層142bを成膜する。
以上のように、本実施形態においては、実施形態3の場合と同様に、マイクロレンズ140cが形成されている。
本発明の実施に際しては、上記した実施形態に限定されるものではなく、種々の変形例を採用することができる。
・レッドフィルタ層>グリーンフィルタ層>ブルーフィルタ層
上記のようにする理由は、微細なセルサイズの場合において、撮像素子へ入射した光が長波長であるほど受光面へ的確に集光されにくいからである(たとえば、赤色光の場合は、この赤色光より短波長な緑色光及び青色光よりも受光面へ的確に集光されにくい)。
Claims (18)
- 基板の撮像面に設けられており、受光面にて入射光を受光して信号電荷を生成する光電変換部と、
前記基板の撮像面において前記受光面の上方に設けられており、前記入射光を前記受光面へ集光するマイクロレンズと
を具備し、
前記マイクロレンズは、
第1の屈折率である第1屈折率層と、
前記第1の屈折率とは異なる第2の屈折率である第2屈折率層と
を有し、当該マイクロレンズは、前記撮像面に対して垂直な面である垂直断面が矩形状であり、
前記第1屈折率層と前記第2屈折率層とのそれぞれは、前記撮像面に沿った方向において隣接して並んでおり、前記垂直断面において前記第1屈折率層と前記第2屈折率層との界面が、前記撮像面に対して垂直な方向に沿うように形成されており、
前記第1の屈折率および前記第2の屈折率よりも低い第3の屈折率である第3屈折率層から、前記入射光が前記第1屈折率層および前記第2屈折率層へ入射して前記受光面へ集光される
固体撮像装置。 - 前記マイクロレンズは、前記撮像面に沿った水平面において、水平断面が矩形状であり、当該水平断面において前記第1屈折率層の周囲を前記第2屈折率層が囲うように形成されている、
請求項1に記載の固体撮像装置。 - 前記第1屈折率は、前記第2屈折率よりも高い、
請求項2に記載の固体撮像装置。 - 前記第1屈折率層は、前記水平面における水平断面の中心が、前記受光面の中心に対応するように形成されており、
前記第2屈折率層は、前記水平面における水平断面の中心が、前記受光面の中心に対応するように形成されている、
請求項3に記載の固体撮像装置。 - 前記マイクロレンズは、前記第1屈折率層と前記第2屈折率層とが、前記撮像面に沿った界面を含むように、前記第2屈折率層が前記第1屈折率層上に積層された部分を有する、
請求項3に記載の固体撮像装置。 - 前記マイクロレンズは、前記第1屈折率層と前記第2屈折率層とが、前記撮像面に沿った界面を含むように、前記第1屈折率層が前記第2屈折率層上に積層された部分を含む、
請求項3に記載の固体撮像装置。 - 前記光電変換部は、前記撮像面において複数が間を隔てて並んでおり、
前記マイクロレンズは、前記複数の光電変換部に対応するように複数が間を隔てて並んでおり、当該複数のマイクロレンズは、前記水平断面の大きさが、前記撮像面の中心から周辺において同じになるように形成されている、
請求項2に記載の固体撮像装置。 - 前記第1屈折率は、前記第2屈折率よりも高く、
前記第1屈折率層は、前記撮像面の中心から周辺へ向かうに伴って、前記水平面にて当該第1屈折率層が形成された領域の中心が、前記受光面の中心に対して、前記撮像面の中心の側へシフトするように形成されており、
前記第2屈折率層は、前記撮像面の中心および周辺において、前記水平面にて当該第2屈折率層が形成された領域の中心が、前記受光面の中心に対応するように形成されている、
請求項7に記載の固体撮像装置。 - 前記複数のマイクロレンズのそれぞれは、前記撮像面の中心から周辺に渡って、前記水平面にて前記第1屈折率層が形成された領域の大きさが同じであると共に、前記第2屈折率層が形成された領域の大きさが同じになるように形成されている、
請求項8に記載の固体撮像装置。 - 前記複数の光電変換部は、前記撮像面において第1方向と当該第1方向と異なる第2方向とのそれぞれに並んで配列されており、
前記複数のマイクロレンズは、前記複数の光電変換部に対応するように、前記第1方向と前記第2方向とのそれぞれに並んでいる、
請求項9に記載の固体撮像装置。 - 前記基板の撮像面に設けられており、前記入射光を着色して前記受光面へ透過するカラーフィルタ
を具備し、
前記カラーフィルタは、
前記受光面の上方に設けられており、第1波長帯域において光透過率が高い第1着色層と、
前記第1着色層が設けられた受光面と異なる受光面の上方に設けられており、前記第1方向において前記第1着色層に隣接して並んでおり、前記第1波長帯域と異なる第2波長帯域において光透過率が高い第2着色層と
を少なくとも含み、
前記マイクロレンズは、
前記第1着色層の上方に設けられている第1マイクロレンズと、
前記第2着色層の上方に設けられている第2マイクロレンズと
を少なくとも含み、
前記第1マイクロレンズと前記第2マイクロレンズとの間においては、前記水平面にて前記第1屈折率層が形成された領域の中心が前記受光面の中心に対して前記撮像面の中心の側へシフトするシフト量が、互いに異なっている、
請求項8に記載の固体撮像装置。 - 前記光電変換部は、前記撮像面において複数が間を隔てて並んでおり、
前記マイクロレンズは、前記複数の光電変換部に対応するように複数が間を隔てて並んでおり、当該複数のマイクロレンズは、前記撮像面に沿った水平面において水平断面が矩形状であって、前記撮像面の中心から周辺の間に渡って前記水平断面の大きさが同じになるように形成されており、
前記第1屈折率は、前記第2屈折率よりも高く、
前記第1屈折率層は、前記第2屈折率層に対して前記撮像面の中心側へ位置しており、
前記第2屈折率層は、前記第1屈折率層に対して前記撮像面の周辺側に位置しており、
前記複数のマイクロレンズは、前記撮像面の中心から周辺へ向かうに伴って、前記第1屈折率層の水平断面が、前記第2屈折率層の水平断面よりも小さくなるように形成されている、
請求項2に記載の固体撮像装置。 - 前記マイクロレンズは、前記撮像面の中心においては、前記第1屈折率層を含まずに、前記第2屈折率層によって構成されている、
請求項12に記載の固体撮像装置。 - 前記光電変換部は、前記撮像面において複数が間を隔てて並んでおり、
前記マイクロレンズは、前記複数の光電変換部に対応するように複数が間を隔てて並んでおり、当該複数のマイクロレンズは、前記撮像面に沿った水平面において水平断面が矩形状であって、前記撮像面の中心から周辺の間に渡って前記水平断面の大きさが同じになるように形成されており、
前記第1屈折率は、前記第2屈折率よりも高く、
前記第1屈折率層は、前記第2屈折率層に対して前記撮像面の中心側へ位置しており、
前記第2屈折率層は、前記第1屈折率層に対して前記撮像面の周辺側に位置しており、
前記複数のマイクロレンズは、前記撮像面の中心から周辺へ向かうに伴って、前記第1屈折率層の水平断面が、前記第2屈折率層の水平断面よりも大きくなるように形成されている、
請求項2に記載の固体撮像装置。 - 前記マイクロレンズは、前記撮像面の中心においては、前記第2屈折率層を含まずに、前記第1屈折率層によって構成されている、
請求項14に記載の固体撮像装置。 - 前記撮像面の中心では前記入射光の主光線が垂直に入射し、前記撮像面の周囲では、当該撮像面の中心から周囲へ向かって前記入射光の主光線が傾斜する
請求項1から15のいずれかに記載の固体撮像装置。 - 基板の撮像面に設けられており、受光面にて入射光を受光して信号電荷を生成する光電変換部と、
前記基板の撮像面において前記受光面の上方に設けられており、前記入射光を前記受光面へ集光するマイクロレンズと
を具備し、
前記マイクロレンズは、
第1の屈折率である第1屈折率層と、
前記第1の屈折率とは異なる第2の屈折率である第2屈折率層と
を有し、当該マイクロレンズは、前記撮像面に対して垂直な面である垂直断面が矩形状であり、
前記第1屈折率層と前記第2屈折率層とのそれぞれは、前記撮像面に沿った方向において隣接して並んでおり、前記垂直断面において前記第1屈折率層と前記第2屈折率層との界面が、前記撮像面に対して垂直な方向に沿うように形成されており、
前記第1の屈折率および前記第2の屈折率よりも低い第3の屈折率である第3屈折率層から、前記入射光が前記第1屈折率層および前記第2屈折率層へ入射して前記受光面へ集光される
電子機器。 - 受光面にて入射光を受光して信号電荷を生成する光電変換部を、基板の撮像面に設ける光電変換部形成工程と、
前記入射光を前記受光面へ集光するマイクロレンズを、前記撮像面に対して垂直な面である垂直断面が矩形状になるように前記受光面の上方に設けるマイクロレンズ形成工程と
を具備し、
前記マイクロレンズ形成工程は、
第1の屈折率である第1屈折率層を形成する第1屈折率層形成ステップと、
前記第1の屈折率とは異なる第2の屈折率である第2屈折率層を形成する第2屈折率層形成ステップと
を有し、
前記第1屈折率層形成ステップと前記第2屈折率層形成ステップとにおいては、前記第1屈折率層と前記第2屈折率層とのそれぞれが、前記撮像面に沿った方向において隣接して並んでおり、前記垂直断面において前記第1屈折率層と前記第2屈折率層との界面が、前記撮像面に対して垂直な方向に沿うと共に、前記第1の屈折率および前記第2の屈折率よりも低い第3の屈折率である第3屈折率層から、前記入射光が前記第1屈折率層および前記第2屈折率層へ入射して前記受光面へ集光されるように、前記第1屈折率層と前記第2屈折率層とを形成する、
固体撮像装置の製造方法。
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