JP2011083770A - 汚染物質除去用プラズマ反応器及び駆動方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係る汚染物質除去用プラズマ反応器210は、互いに距離をおいて位置する第1接地電極21及び第2接地電極22と、第1接地電極21と第2接地電極22との間に固定される誘電体30と、第1接地電極21及び第2接地電極22と距離をおいて誘電体30の外面に位置して交流電源部40と連結し、これから駆動電圧の印加を受ける少なくとも1つの駆動電極50とを備える。
【選択図】図2
Description
図4A及び図4Bを参照すれば、駆動電極50に印加される駆動電圧(Vs)は1kHz〜999kHzの周波数を有する交流電圧又は二極式パルス電圧であり、運転電圧は正の値(+1/2Vs)と負の値(−1/2Vs)が周期的に変わる形態を有する。駆動波形は四角波形、三角波形、及びサイン波形等、多様な形態で構成されるが、共通して増加部、維持部、及び消滅部を有する。図4A及び図4Bでは夫々四角波形及びサイン波形の例を示した。
図5を参照すれば、第2実施形態のプラズマ反応器220は、誘電体30の外面に位置して駆動電極50と距離をおいて位置する補助接地電極25を更に含むことを除いては、上述した第1実施形態のプラズマ反応器と同じ構成からなる。第1実施形態と同じ部材については同じ図面符号を用いている。
図6を参照すれば、第3実施形態のプラズマ反応器230は、1つの駆動電極50が2つの補助接地電極25の間でこれらと距離をおいて位置することを除いては、上述した第2実施形態のプラズマ反応器と同じ構成からなる。第2実施形態と同じ部材については同じ図面符号を用いている。
図7を参照すれば、第4実施形態のプラズマ反応器240は、1つの補助接地電極25が2つの駆動電極50の間でこれらと距離をおいて位置することを除いては、上述した第2実施形態のプラズマ反応器と同じ構成からなる。第2実施形態と同じ部材については同じ図面符号を用いる。
図8を参照すれば、第5実施形態のプラズマ反応器250は、2つ以上の駆動電極50と2つ以上の補助接地電極25とが互いに距離をおいて1つずつ交互に位置することを除いては、上述した第2実施形態のプラズマ反応器と同じ構成からなる。第2実施形態と同じ部材については同じ図面符号を用いている。
図9及び図10を参照すれば、第6実施形態のプラズマ反応器260は、誘電体30と、誘電体30の両端に固定された第1接地電極21及び第2接地電極22と、誘電体30の外面に固定された第1駆動電極51及び第2駆動電極52とを備える。第1駆動電極51は第1交流電源部41と連結し、第2駆動電極52は第2交流電源部42と連結する。
図11を参照すれば、第1交流電圧と第2交流電圧とは互いに180°の位相差を有し、一周期毎に正の電圧と負の電圧とが交互に印加される。第1交流電圧及び第2交流電圧の振幅は放電駆動電圧(Vd)の振幅の半分の値からなる。ここで、「放電駆動電圧」は、放電を開始してこれを維持することができる駆動電圧で定義され、プラズマ反応器の形状条件と汚染物質の状態に応じて多様な値で設定されても良い。
図12を参照すれば、第1駆動電極51と第2駆動電極52との夫々に第1交流電圧と第2交流電圧を印加すれば、電極(第1接地電極21、第1駆動電極51、2駆動電極52、第2接地電極22)間の電圧差によってプラズマ反応器260の内部にプラズマ放電が誘導される。
11: 連結管
12: 真空ポンプ
13: 気体注入部
14: スクラバ
15: フィルタ
20: プラズマ反応器
21: 第1接地電極
22: 第2接地電極
23: 第3接地電極
24: 第4接地電極
25: 補助接地電極
30: 誘電体
40: 交流電源部
41: 第1交流電源部
42: 第2交流電源部
43: 第3交流電源部
50: 駆動電極
51: 第1駆動電極
52: 第2駆動電極
53: 第3駆動電極
100:低圧工程システム
210:プラズマ反応器
220:プラズマ反応器
230:プラズマ反応器
240:プラズマ反応器
250:プラズマ反応器
260:プラズマ反応器
270:プラズマ反応器
Claims (22)
- 低圧工程チャンバと真空ポンプとの間に位置し、低圧プラズマを生成して低圧工程チャンバで発生した汚染物質を除去するプラズマ反応器であって、
互いに距離をおいて位置する第1接地電極及び第2接地電極と、
前記第1接地電極と前記第2接地電極との間に固定される誘電体と、
前記第1接地電極及び前記第2接地電極と距離をおいて前記誘電体の外面に位置して交流電源部と連結し、これから駆動電圧の印加を受ける少なくとも1つの駆動電極と、
を備える汚染物質除去用プラズマ反応器。 - 前記第1接地電極と前記誘電体と前記第2接地電極とは環状で形成され、一方向に沿って繋がって管を構成する請求項1に記載の汚染物質除去用プラズマ反応器。
- 前記第1接地電極及び前記第2接地電極のいずれか一方は前記低圧工程チャンバと連結し、他方は前記真空ポンプと連結する請求項2に記載の汚染物質除去用プラズマ反応器。
- 前記誘電体の外面で前記駆動電極と距離をおいて位置する少なくとも1つの補助接地電極を更に備える請求項1に記載の汚染物質除去用プラズマ反応器。
- 前記誘電体の長さ方向に沿って前記補助接地電極、前記駆動電極、及び前記補助接地電極の順に配置される請求項4に記載の汚染物質除去用プラズマ反応器。
- 前記誘電体の長さ方向に沿って前記駆動電極、前記補助接地電極、及び前記駆動電極の順に配置される請求項4に記載の汚染物質除去用プラズマ反応器。
- 前記誘電体の長さ方向に沿って複数の駆動電極と複数の補助接地電極とが1つずつ交互に配置される請求項4に記載の汚染物質除去用プラズマ反応器。
- 誘電体と、誘電体の両端に固定された第1接地電極及び第2接地電極と、第1接地電極及び第2接地電極と距離をおいて誘電体の外面に位置する少なくとも1つの駆動電極とを備える汚染物質除去用プラズマ反応器において、
前記駆動電極に1kHz〜999kHzの周波数を有する交流駆動電圧を印加して低圧プラズマを発生させる汚染物質除去用プラズマ反応器の駆動方法。 - 前記駆動電圧は増加部、維持部、及び消滅部を有し、1つの周期において正の電圧値と負の電圧値とが周期的に変わる請求項8に記載の汚染物質除去用プラズマ反応器の駆動方法。
- 前記駆動電極の投入電力を調節して前記低圧プラズマの温度と密度とを変化させ、
前記投入電力の増加は駆動電圧上昇、駆動周波数上昇、及び駆動電圧の傾き上昇のいずれか1つの方法によって実現される請求項9に記載の汚染物質除去用プラズマ反応器の駆動方法。 - 誘電体と、誘電体の両端に固定された第1接地電極及び第2接地電極と、第1接地電極及び第2接地電極と距離をおいて誘電体の外面に位置する少なくとも1つの駆動電極及び少なくとも一つの補助接地電極とを備える汚染物質除去用プラズマ反応器において、
前記駆動電極に1kHz〜999kHzの周波数を有する交流駆動電圧を印加して低圧プラズマを発生させる汚染物質除去用プラズマ反応器の駆動方法。 - 前記駆動電圧は増加部、維持部、及び消滅部を有し、1つの周期において正の電圧値と負の電圧値とが周期的に変わる請求項11に記載の汚染物質除去用プラズマ反応器の駆動方法。
- 前記駆動電極の投入電力を調節して前記低圧プラズマの温度と密度を変化させ、
前記投入電力の増加は駆動電圧上昇、駆動周波数上昇、及び駆動電圧の傾き上昇のいずれか1つの方法によって実現される請求項12に記載の汚染物質除去用プラズマ反応器の駆動方法。 - 互いに距離をおいて位置する第1接地電極及び第2接地電極と、
第1誘電体領域を間において前記第1接地電極の内側に位置し、第1交流電圧の印加を受ける第1駆動電極と、
第2誘電体領域を間において前記第1駆動電極と離隔して位置し、第3誘電体領域を間において前記第2接地電極の内側に位置し、第2交流電圧の印加を受ける第2駆動電極と、を備え、
前記第1交流電圧と前記第2交流電圧とは180°の位相差を有し、前記第1交流電圧と前記第2交流電圧との振幅は放電駆動電圧の振幅の半分の値を有する汚染物質除去用プラズマ反応器。 - 前記放電駆動電圧は、前記第1交流電圧及び前記第2交流電圧のいずれか一方と同じ位相を有する請求項14に記載の汚染物質除去用プラズマ反応器。
- 低圧工程チャンバと真空ポンプとの間に位置し、低圧プラズマを生成して低圧工程チャンバで発生した汚染物質を除去するプラズマ反応器であって、
内部空間を形成する誘電体と、
前記誘電体の両端に固定された第1接地電極及び第2接地電極と、
前記第1接地電極及び前記第2接地電極と距離をおいて前記誘電体の外面に固定されて各自の交流電源部と連結し、これから第1交流電圧と第2交流電圧とが夫々印加される第1駆動電極及び第2駆動電極と、を備え、
前記第1交流電圧と前記第2交流電圧とは180°の位相差を有し、前記第1交流電圧と前記第2交流電圧との振幅は放電駆動電圧の振幅の半分の値を有する汚染物質除去用プラズマ反応器。 - 前記第1接地電極と前記誘電体と前記第2接地電極とは環状で形成され、一方向に沿って繋がって管を構成する請求項16に記載の汚染物質除去用プラズマ反応器。
- 前記第1接地電極及び前記第2接地電極のいずれか一方は前記低圧工程チャンバに連結し、他方は前記真空ポンプと連結する請求項17に記載の汚染物質除去用プラズマ反応器。
- 前記放電駆動電圧は、前記第1交流電圧及び前記第2交流電圧のいずれか一方と同じ位相を有する請求項16に記載の汚染物質除去用プラズマ反応器。
- 前記第1駆動電極と前記第2駆動電極との間に位置する少なくとも1つの駆動電極と少なくとも2つの接地電極を更に備える請求項19に記載の汚染物質除去用プラズマ反応器。
- 前記少なくとも1つの駆動電極は第3駆動電極であり、前記少なくとも2つの接地電極は前記第1駆動電極と前記第3駆動電極との間に位置する第3接地電極と、前記第2駆動電極と前記第3駆動電極との間に位置する第4接地電極とを備える請求項20に記載の汚染物質除去用プラズマ反応器。
- 前記第3駆動電極は、前記放電駆動電圧の印加を受ける請求項21に記載の汚染物質除去用プラズマ反応器。
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013084561A (ja) * | 2011-10-10 | 2013-05-09 | Korea Inst Of Machinery & Materials | 汚染物質除去用プラズマ反応器 |
JP2015213171A (ja) * | 2014-04-30 | 2015-11-26 | コリア・インスティテュート・オブ・マシナリー・アンド・マテリアルズKorea Institute Of Machinery & Materials | 汚染物質除去用プラズマ反応器 |
JP2016225025A (ja) * | 2015-05-27 | 2016-12-28 | シャープ株式会社 | プラズマ生成素子 |
KR20180008994A (ko) * | 2016-07-15 | 2018-01-25 | 연세대학교 산학협력단 | 이차원 나노 물질을 이용한 반도체 소자의 제조 장치 및 방법 |
JP2019503562A (ja) * | 2016-01-13 | 2019-02-07 | エムケイエス インストゥルメンツ, インコーポレイテッド | ポンピング・ラインでの堆積クリーニングのための方法及び装置 |
CN110831182A (zh) * | 2018-08-10 | 2020-02-21 | 华为技术有限公司 | 一种资源分配方法、相关设备及装置 |
JP2020188010A (ja) * | 2014-03-06 | 2020-11-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | ホール効果が促進された容量結合プラズマ源、軽減システム、および真空処理システム |
KR20210123981A (ko) * | 2020-04-06 | 2021-10-14 | 서울대학교산학협력단 | 2차원 물질의 원자층 단위의 표면 처리 장치, 이를 이용한 2차원 물질의 원자층 단위의 표면 처리 방법,및 이에 의해 표면처리된 2차원 물질 |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9111728B2 (en) | 2011-04-11 | 2015-08-18 | Lam Research Corporation | E-beam enhanced decoupled source for semiconductor processing |
US20120258555A1 (en) * | 2011-04-11 | 2012-10-11 | Lam Research Corporation | Multi-Frequency Hollow Cathode and Systems Implementing the Same |
US20120255678A1 (en) * | 2011-04-11 | 2012-10-11 | Lam Research Corporation | Multi-Frequency Hollow Cathode System for Substrate Plasma Processing |
US8900403B2 (en) | 2011-05-10 | 2014-12-02 | Lam Research Corporation | Semiconductor processing system having multiple decoupled plasma sources |
US20140202131A1 (en) * | 2011-05-12 | 2014-07-24 | Roderick William Boswell | Plasma micro-thruster |
US10225919B2 (en) * | 2011-06-30 | 2019-03-05 | Aes Global Holdings, Pte. Ltd | Projected plasma source |
KR101352164B1 (ko) * | 2012-10-17 | 2014-01-27 | (주)클린팩터스 | 금속성 부산물의 제거를 위한 방법 및 진공 시스템 |
ITPD20130310A1 (it) | 2013-11-14 | 2015-05-15 | Nadir S R L | Metodo per la generazione di un getto o jet di plasma atmosferico e dispositivo minitorcia al plasma atmosferico |
CN106165062A (zh) * | 2014-04-16 | 2016-11-23 | 清洁要素技术有限公司 | 处理制程设备发生的废气的等离子体反应器 |
US9211500B2 (en) | 2014-04-29 | 2015-12-15 | Korea Institute Of Machinery & Materials | Plasma reactor for abating hazardous material |
CN104190342A (zh) * | 2014-08-25 | 2014-12-10 | 重庆科技学院 | 一种等离子体气相反应装置 |
JP2017537435A (ja) * | 2014-10-15 | 2017-12-14 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 耐腐食性軽減システム |
BR102014028832B1 (pt) * | 2014-11-19 | 2017-04-11 | Embraer Sa | processo de reciclagem para recuperar o material de reforço fibroso de materiais compósitos e sistema de tratamento de gases efluentes |
US10535506B2 (en) | 2016-01-13 | 2020-01-14 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for deposition cleaning in a pumping line |
WO2017134531A1 (en) * | 2016-02-03 | 2017-08-10 | King Abdullah University Of Science And Technology | In-liquid plasma devices and methods of use thereof |
CN106362586B (zh) * | 2016-11-01 | 2018-09-04 | 天津海泰市政绿化有限公司 | 一种VOCs废气处理***以及处理方法 |
CN108615667B (zh) * | 2016-12-09 | 2020-04-14 | 韩国三重核心株式会社 | 提高点火性能的低压等离子体反应器 |
KR102022156B1 (ko) * | 2016-12-19 | 2019-09-18 | 연세대학교 산학협력단 | 2 차원 물질을 이용한 반도체 소자의 제조 장치 및 이를 이용하는 방법 |
CN106621745A (zh) * | 2016-12-26 | 2017-05-10 | 江南大学 | 一种竹节串联组合式抽真空尾气净化管 |
EP3629916A1 (de) * | 2017-05-24 | 2020-04-08 | B. Braun Melsungen AG | Elektrodenanordnung für eine driftröhre |
KR102157876B1 (ko) * | 2018-08-28 | 2020-09-18 | 한국기계연구원 | 리모트 플라즈마 장치를 구비한 진공 펌프 시스템 |
WO2021065357A1 (ja) * | 2019-09-30 | 2021-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 成膜装置 |
CN111465160A (zh) * | 2020-05-14 | 2020-07-28 | 国网重庆市电力公司电力科学研究院 | 一种等离子体射流发生装置及*** |
US11745229B2 (en) | 2020-08-11 | 2023-09-05 | Mks Instruments, Inc. | Endpoint detection of deposition cleaning in a pumping line and a processing chamber |
US11931682B2 (en) * | 2020-09-22 | 2024-03-19 | Edwards Vacuum Llc | Waste gas abatement technology for semiconductor processing |
US11664197B2 (en) * | 2021-08-02 | 2023-05-30 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for plasma generation |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0226804A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-29 | Mitsubishi Electric Corp | 酸素原子発生方法および装置 |
JP2004014699A (ja) * | 2002-06-05 | 2004-01-15 | Seiko Epson Corp | 排ガス処理装置および半導体製造装置 |
JP2004223365A (ja) * | 2003-01-21 | 2004-08-12 | Rohm Co Ltd | ガス処理装置 |
JP2004305841A (ja) * | 2003-04-03 | 2004-11-04 | Honda Motor Co Ltd | NOx浄化システム |
JP2004323280A (ja) * | 2003-04-23 | 2004-11-18 | Mitsubishi Electric Corp | オゾン発生装置、その製造方法、及びその製造装置 |
WO2005000450A1 (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-06 | Ngk Insulators, Ltd. | 排気ガス処理装置及び排気ガス処理方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2003A (en) * | 1841-03-12 | Improvement in horizontal windivhlls | ||
US2005A (en) * | 1841-03-16 | Improvement in the manner of constructing molds for casting butt-hinges | ||
JPH04334543A (ja) * | 1991-05-07 | 1992-11-20 | Masuhiro Kokoma | 管内大気圧グロープラズマ反応方法とその装置 |
JP3231367B2 (ja) * | 1991-10-16 | 2001-11-19 | 益弘 小駒 | グロープラズマ反応方法 |
IL122300A (en) * | 1997-11-25 | 2005-09-25 | Rafael Armament Dev Authority | Modular dielectric barrier discharge device for pollution abatement |
US6685803B2 (en) * | 2001-06-22 | 2004-02-03 | Applied Materials, Inc. | Plasma treatment of processing gases |
JP3823069B2 (ja) | 2002-06-12 | 2006-09-20 | 株式会社アルバック | 磁気中性線放電プラズマ処理装置 |
US6977371B2 (en) * | 2003-06-10 | 2005-12-20 | Micromass Uk Limited | Mass spectrometer |
WO2005074333A1 (en) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Changjo Engineering Co., Ltd. | Apparatus of generating glow plasma on a wide surface under atmospheric pressure |
US20050214181A1 (en) * | 2004-03-26 | 2005-09-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Dielectric, gas treatment apparatus using the same, and plasma generator |
CN101022074A (zh) * | 2007-03-14 | 2007-08-22 | 万京林 | 差分馈电介质阻挡放电低温等离子体装置 |
US20090031785A1 (en) * | 2007-07-31 | 2009-02-05 | Caviton, Inc. | Capacitively coupled dielectric barrier discharge detector |
US7910896B2 (en) * | 2008-07-25 | 2011-03-22 | Honeywell International Inc. | Micro discharge device ionizer and method of fabricating the same |
-
2010
- 2010-10-13 EP EP10013598.7A patent/EP2312612B1/en active Active
- 2010-10-13 JP JP2010230295A patent/JP5473001B2/ja active Active
- 2010-10-15 US US12/905,227 patent/US8852520B2/en active Active
- 2010-10-15 CN CN201010514577.6A patent/CN102085470B/zh active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0226804A (ja) * | 1988-07-12 | 1990-01-29 | Mitsubishi Electric Corp | 酸素原子発生方法および装置 |
JP2004014699A (ja) * | 2002-06-05 | 2004-01-15 | Seiko Epson Corp | 排ガス処理装置および半導体製造装置 |
JP2004223365A (ja) * | 2003-01-21 | 2004-08-12 | Rohm Co Ltd | ガス処理装置 |
JP2004305841A (ja) * | 2003-04-03 | 2004-11-04 | Honda Motor Co Ltd | NOx浄化システム |
JP2004323280A (ja) * | 2003-04-23 | 2004-11-18 | Mitsubishi Electric Corp | オゾン発生装置、その製造方法、及びその製造装置 |
WO2005000450A1 (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-06 | Ngk Insulators, Ltd. | 排気ガス処理装置及び排気ガス処理方法 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013084561A (ja) * | 2011-10-10 | 2013-05-09 | Korea Inst Of Machinery & Materials | 汚染物質除去用プラズマ反応器 |
JP2020188010A (ja) * | 2014-03-06 | 2020-11-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | ホール効果が促進された容量結合プラズマ源、軽減システム、および真空処理システム |
JP7091394B2 (ja) | 2014-03-06 | 2022-06-27 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ホール効果が促進された容量結合プラズマ源、軽減システム、および真空処理システム |
JP2015213171A (ja) * | 2014-04-30 | 2015-11-26 | コリア・インスティテュート・オブ・マシナリー・アンド・マテリアルズKorea Institute Of Machinery & Materials | 汚染物質除去用プラズマ反応器 |
US9472381B2 (en) | 2014-04-30 | 2016-10-18 | Korea Institute Of Machinery & Materials | Plasma reactor for abatement of hazardous material |
JP2016225025A (ja) * | 2015-05-27 | 2016-12-28 | シャープ株式会社 | プラズマ生成素子 |
JP7448625B2 (ja) | 2016-01-13 | 2024-03-12 | エムケイエス インストゥルメンツ, インコーポレイテッド | ポンピング・ラインでの堆積クリーニングのための方法及び装置 |
JP2019503562A (ja) * | 2016-01-13 | 2019-02-07 | エムケイエス インストゥルメンツ, インコーポレイテッド | ポンピング・ラインでの堆積クリーニングのための方法及び装置 |
KR101924689B1 (ko) * | 2016-07-15 | 2019-02-28 | 연세대학교 산학협력단 | 이차원 나노 물질의 처리 장치 및 방법 |
KR20180008994A (ko) * | 2016-07-15 | 2018-01-25 | 연세대학교 산학협력단 | 이차원 나노 물질을 이용한 반도체 소자의 제조 장치 및 방법 |
CN110831182A (zh) * | 2018-08-10 | 2020-02-21 | 华为技术有限公司 | 一种资源分配方法、相关设备及装置 |
KR20210123981A (ko) * | 2020-04-06 | 2021-10-14 | 서울대학교산학협력단 | 2차원 물질의 원자층 단위의 표면 처리 장치, 이를 이용한 2차원 물질의 원자층 단위의 표면 처리 방법,및 이에 의해 표면처리된 2차원 물질 |
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