JP2011078889A - Filter member cleaning system - Google Patents

Filter member cleaning system Download PDF

Info

Publication number
JP2011078889A
JP2011078889A JP2009232146A JP2009232146A JP2011078889A JP 2011078889 A JP2011078889 A JP 2011078889A JP 2009232146 A JP2009232146 A JP 2009232146A JP 2009232146 A JP2009232146 A JP 2009232146A JP 2011078889 A JP2011078889 A JP 2011078889A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
filtration
cleaning liquid
cleaning
pressure difference
raw water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2009232146A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Muranaka
貴志 村中
Seiji Miyawaki
誠治 宮脇
Natsuhiko Ninomiya
夏彦 二宮
Naoya Kakimoto
直哉 柿本
Koji Ono
耕治 大野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Miura Co Ltd
Original Assignee
Miura Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Miura Co Ltd filed Critical Miura Co Ltd
Priority to JP2009232146A priority Critical patent/JP2011078889A/en
Publication of JP2011078889A publication Critical patent/JP2011078889A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
    • Y02W10/00—Technologies for wastewater treatment
    • Y02W10/10—Biological treatment of water, waste water, or sewage

Landscapes

  • Activated Sludge Processes (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a filter member cleaning system capable of suppressing degradation of the quality of water to be treated while suppressing generation of clogging in the filter member. <P>SOLUTION: The filter member cleaning system includes: a filter member 23 for filtering raw water W1; a filtering apparatus 2 which passes raw water W1 through the filter member 23 from a primary region 21 toward a secondary region 22 to perform filtration of raw water W1; raw water circulation means 3 for circulating raw water W1 from the primary region 21 toward a secondary region 22; cleaning liquid supply means 4 for supplying cleaning water W3 to the filter member 23 from secondary side toward the primary side; pressure difference measurement means 8 for measuring a pressure difference between the primary region 21 and the secondary region 22; evaluation means 91 for evaluating startup of the cleaning liquid supply means 4 after elapse of a time threshold value from supply completion of the cleaning liquid W3 when a pressure difference measurement value measured by the pressure difference measurement means 8 is equal to or above the pressure difference threshold value; and control means 92 for controlling startup of the cleaning liquid supply means 4 based on evaluation results from the evaluation means 91. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、水処理システムを構成する濾過処理装置における濾過膜モジュール等の濾過部材を洗浄する濾過部材洗浄システムに関する。   The present invention relates to a filtration member cleaning system for cleaning a filtration member such as a filtration membrane module in a filtration apparatus that constitutes a water treatment system.

従来より、工場排水や生活排水などの原水から高純度の処理水（浄化水）を生産し、処理水を各種プロセス水、中水、雑用水等に使用可能とする水処理システムが知られている。このような排水処理を行う水処理システムにおいては、原水に対して、例えば、膜分離活性汚泥法による水浄化技術が利用されている。膜分離活性汚泥法では、活性汚泥と処理水とを分離するため、濾過処理装置により濾過処理が行われる。   Conventionally, there has been known a water treatment system that produces high-purity treated water (purified water) from raw water such as factory wastewater and domestic wastewater, and can use the treated water for various process water, intermediate water, miscellaneous water, etc. Yes. In a water treatment system that performs such wastewater treatment, for example, a water purification technique based on a membrane separation activated sludge method is used for raw water. In the membrane separation activated sludge method, in order to separate activated sludge and treated water, filtration treatment is performed by a filtration treatment apparatus.

濾過処理装置は、濾過部材として、曝気槽を兼ねる濾過処理水槽の内部に浸漬配置され、一次側から二次側に向かって原水（微生物の作用により有機物等が分解された原水）を通過させて活性汚泥と処理水との分離を行う濾過膜モジュールを有している。濾過処理装置によれば、一次側から二次側に向かって原水を濾過膜モジュールに通過させることにより原水の濾過処理を行うことができる。   The filtration apparatus is immersed in a filtration water tank that also serves as an aeration tank as a filtration member, and passes raw water (raw water in which organic substances are decomposed by the action of microorganisms) from the primary side to the secondary side. It has a filtration membrane module that separates activated sludge and treated water. According to the filtration apparatus, the raw water can be filtered by allowing the raw water to pass through the filtration membrane module from the primary side toward the secondary side.

一方、濾過処理装置は、濾過処理を繰り返すと、濾過膜モジュールに捕捉された活性汚泥等の不純物により濾過膜モジュールが閉塞する。そのため、閉塞した濾過膜モジュールに対して逆洗浄を行い、濾過膜モジュールに付着した不純物を除去する必要がある。濾過膜モジュールの逆洗浄では、濾過膜モジュールを濾過処理水槽の内部に配置した状態のままで二次側から一次側に向けて濾過膜モジュールに洗浄液等を供給し、濾過膜モジュールの洗浄を行う。   On the other hand, when the filtration treatment apparatus repeats the filtration treatment, the filtration membrane module is blocked by impurities such as activated sludge trapped by the filtration membrane module. Therefore, it is necessary to back-clean the clogged filtration membrane module to remove impurities attached to the filtration membrane module. In the reverse cleaning of the filtration membrane module, the filtration membrane module is supplied to the filtration membrane module from the secondary side to the primary side while the filtration membrane module is placed inside the filtration water tank to wash the filtration membrane module. .

ここで、逆洗浄は、定期的（例えば、１ヶ月毎）に行われるが、例えば、有機物濃度の高い原水が導入され、活性汚泥濃度が急激に増加したときは、定期的な逆洗浄が行われる前に濾過膜モジュールが閉塞する場合がある。そのため、濾過処理装置は、定期的な逆洗浄の他に、濾過膜モジュールの膜差圧を監視し、濾過膜モジュールの膜差圧に基づいて逆洗浄を行う場合がある（例えば、特許文献１参照）。   Here, the reverse cleaning is performed periodically (for example, every month). For example, when raw water having a high organic substance concentration is introduced and the activated sludge concentration increases rapidly, the periodic reverse cleaning is performed. There is a case where the filtration membrane module is blocked before it is released. For this reason, in addition to regular backwashing, the filtration apparatus may monitor the membrane pressure difference of the filtration membrane module and perform backwashing based on the membrane pressure difference of the filtration membrane module (for example, Patent Document 1). reference).

特開２０００−３００９６９号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2000-300969

しかしながら、濾過膜モジュールの膜差圧に基づいて逆洗浄を行う場合には、濾過膜モジュールが閉塞しやすい状態（例えば、活性汚泥濃度が増加した状態等）にあると、すぐに濾過膜モジュールの膜差圧が上昇してしまうため、所定時間が経過することなく次の逆洗浄を行う場合がある。
また、濾過膜モジュールの逆洗浄には、高濃度の酸化剤（例えば、次亜塩素酸ナトリウム水溶液）が使用される。濾過処理水槽内に流入した酸化剤は、濾過処理中に曝気を行うことにより大気中に放出されるため、通常は微生物の成長に影響はないとされている。しかしながら、逆洗浄を行った後、所定時間が経過することなく次の逆洗浄を行うと、濾過処理水槽内の微生物の多くが酸化剤の頻繁な流入により死滅してしまう。これにより、原水の十分な活性汚泥処理ができなくなり、処理水の水質が悪化するおそれがある。 However, when performing reverse cleaning based on the membrane differential pressure of the filtration membrane module, if the filtration membrane module is in a state of being easily clogged (for example, an increased activated sludge concentration), the filtration membrane module immediately Since the membrane differential pressure increases, the next backwash may be performed without a predetermined time.
Moreover, a high concentration oxidizing agent (for example, sodium hypochlorite aqueous solution) is used for the back washing of the filtration membrane module. Since the oxidant that has flowed into the filtration water tank is released into the atmosphere by aeration during the filtration treatment, it is normally assumed that there is no effect on the growth of microorganisms. However, if the next backwash is performed without a predetermined time after backwashing, many of the microorganisms in the filtration water tank will be killed by frequent inflow of the oxidizing agent. Thereby, sufficient activated sludge treatment of raw water becomes impossible, and there is a possibility that the quality of treated water may deteriorate.

本発明は、濾過処理装置における濾過部材に対して閉塞の発生を抑制しながら、処理水の水質の悪化を抑制可能な濾過部材洗浄システムを提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the filtration member washing | cleaning system which can suppress deterioration of the quality of a treated water, suppressing generation | occurrence | production of obstruction | occlusion with respect to the filtration member in a filtration processing apparatus.

本発明は、一次側から二次側に向かって原水を通過させ原水の濾過を行う濾過部材と、該濾過部材により区画される一次側領域及び二次側領域とを有し、一次側領域から二次側領域に向かって原水を前記濾過部材に通過させることにより原水の濾過処理を行う濾過処理装置と、一次側領域から二次側領域に向かって原水を流通させる原水流通手段と、前記濾過部材に二次側から一次側に向けて洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、濾過処理中の一次側領域と二次側領域との圧力差の測定を行う圧力差測定手段と、所定の圧力差閾値及び所定の時間閾値を設定可能で、設定された該圧力差閾値及び該時間閾値に基づいて前記洗浄液供給手段の起動の判定を行う判定手段であって、前記洗浄液供給手段による洗浄液の供給終了後において、前記圧力差測定手段により測定された圧力差測定値が前記圧力差閾値以上となった場合に、前記洗浄液供給手段による洗浄液の供給終了から前記時間閾値を経過した後に、前記洗浄液供給手段の起動の決定を行う判定手段と、前記判定手段による判定結果に基づいて、前記洗浄液供給手段の起動の制御を行う制御手段と、を備える濾過部材洗浄システムに関する。   The present invention has a filtration member that passes raw water from the primary side toward the secondary side and filters the raw water, and a primary side region and a secondary side region that are partitioned by the filtration member, from the primary side region A filtration apparatus that performs raw water filtration by allowing raw water to pass through the filtration member toward the secondary side region, raw water circulation means that circulates raw water from the primary side region toward the secondary side region, and the filtration A cleaning liquid supply means for supplying a cleaning liquid to the member from the secondary side toward the primary side, a pressure difference measuring means for measuring a pressure difference between the primary side area and the secondary side area during the filtration process, and a predetermined pressure difference A determination unit that can set a threshold value and a predetermined time threshold value, and that determines whether to start the cleaning liquid supply unit based on the set pressure difference threshold value and the time threshold value, and ends the supply of the cleaning liquid by the cleaning liquid supply unit Later, the pressure When the pressure difference measurement value measured by the difference measuring means is equal to or greater than the pressure difference threshold value, the start of the cleaning liquid supply means is determined after the time threshold has elapsed since the supply of the cleaning liquid by the cleaning liquid supply means. The present invention relates to a filtration member cleaning system comprising: a determination unit that performs the control, and a control unit that controls activation of the cleaning liquid supply unit based on a determination result by the determination unit.

また、前記制御手段は、前記判定手段による判定結果にかかわらず、前記洗浄液供給手段の起動の制御が可能な強制洗浄部を備えることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said control means is provided with the forced washing part which can control the starting of the said washing | cleaning liquid supply means irrespective of the determination result by the said determination means.

本発明によれば、濾過処理装置における濾過部材に対して閉塞の発生を抑制しながら、処理水の水質の悪化を抑制可能な濾過部材洗浄システムを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the filtration member washing | cleaning system which can suppress deterioration of the quality of treated water can be provided, suppressing generation | occurrence | production of obstruction | occlusion with respect to the filtration member in a filtration processing apparatus.

本発明の実施形態に係る濾過部材洗浄システムを示す構成図である。It is a lineblock diagram showing the filtration member washing system concerning the embodiment of the present invention. 図１に示す濾過部材洗浄システムの動作の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of operation | movement of the filtration member washing | cleaning system shown in FIG.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の実施形態に係る濾過部材洗浄システム１を示す構成図である。
図１に示す濾過部材洗浄システム１は、水処理システムの一部を構成している。水処理システムは、例えば、工場排水や生活排水などの原水Ｗ１から懸濁物質などの不純物を除去し、各種プロセス水、中水、雑用水等として再利用可能な処理水（浄化水）Ｗ２を生成する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a configuration diagram showing a filtration member cleaning system 1 according to an embodiment of the present invention.
A filtration member cleaning system 1 shown in FIG. 1 constitutes a part of a water treatment system. The water treatment system, for example, removes impurities such as suspended solids from raw water W1 such as factory wastewater and domestic wastewater, and uses treated water (purified water) W2 that can be reused as various process water, intermediate water, miscellaneous water, etc. Generate.

図１に示すように、本実施形態に係る濾過部材洗浄システム１は、濾過処理を行う濾過処理装置２と、原水流通手段としての濾過用ポンプ３と、洗浄液供給手段としての洗浄用ポンプ４と、処理水Ｗ２が貯留される処理水タンク６と、洗浄液Ｗ３が貯留される洗浄液タンク７と、圧力差測定手段としての圧力センサ８と、判定手段としての判定部９１及び制御手段としての制御部９２を有するシステム制御装置９とを主体として構成されている。   As shown in FIG. 1, the filtration member washing | cleaning system 1 which concerns on this embodiment is the filtration processing apparatus 2 which performs a filtration process, the pump 3 for filtration as a raw | natural water distribution means, and the washing pump 4 as a washing | cleaning liquid supply means. The treated water tank 6 in which the treated water W2 is stored, the cleaning liquid tank 7 in which the cleaning liquid W3 is stored, the pressure sensor 8 as the pressure difference measuring unit, the determining unit 91 as the determining unit, and the control unit as the controlling unit The system control apparatus 9 having 92 is mainly configured.

また、本実施形態に係る濾過部材洗浄システム１は、更に、原水ラインＬ１、第１処理水ライン（第２洗浄液ライン）Ｌ２、第２処理水ラインＬ３、第１洗浄液ラインＬ４、処理水バルブ３１、処理水逆止弁３２、洗浄液バルブ４１、洗浄液逆止弁４２などを備える。   The filtration member cleaning system 1 according to the present embodiment further includes a raw water line L1, a first treated water line (second washed liquid line) L2, a second treated water line L3, a first washed liquid line L4, and a treated water valve 31. And a treated water check valve 32, a cleaning liquid valve 41, a cleaning liquid check valve 42, and the like.

本実施形態に係る濾過部材洗浄システム１において、原水Ｗ１は、濾過処理装置２による濾過処理の前に、必要に応じて前処理が行われ、その後、原水ラインＬ１を介して、濾過処理装置２に供給される。
濾過処理装置２により濾過処理が行われた処理水（透過水）Ｗ２は、第１処理水ラインＬ２及び第２処理水ラインＬ３（以下、第１処理水ラインＬ２及び第２処理水ラインＬ３を併せて「処理水ラインＬ２３」ともいう）を介して、処理水タンク６へ供給される。 In the filtration member cleaning system 1 according to the present embodiment, the raw water W1 is pretreated as necessary before the filtration treatment by the filtration treatment apparatus 2, and then the filtration treatment apparatus 2 via the raw water line L1. To be supplied.
The treated water (permeated water) W2 that has been filtered by the filtration device 2 is divided into a first treated water line L2 and a second treated water line L3 (hereinafter referred to as a first treated water line L2 and a second treated water line L3). In addition, it is also supplied to the treated water tank 6 via the “treated water line L23”).

また、洗浄液タンク７に貯留される洗浄液Ｗ３は、第１洗浄液ラインＬ４及び第２洗浄液ラインＬ２（以下、第１洗浄液ラインＬ４及び第２洗浄液ラインＬ２を併せて「洗浄液ラインＬ４２」ともいう）を介して、濾過処理装置２へ供給される。
なお、第１処理水ラインＬ２及び第２洗浄液ラインＬ２は、原水Ｗ１及び洗浄液Ｗ３の供給に兼用されるラインであり、使用態様に応じて言い分けることにする。また、「ライン」とは、流路、経路、管路などの物体の流通が可能なラインの総称をいう。 The cleaning liquid W3 stored in the cleaning liquid tank 7 is the first cleaning liquid line L4 and the second cleaning liquid line L2 (hereinafter, the first cleaning liquid line L4 and the second cleaning liquid line L2 are also referred to as “cleaning liquid line L42”). To the filtration processing device 2.
Note that the first treated water line L2 and the second cleaning liquid line L2 are lines that are also used for supplying the raw water W1 and the cleaning liquid W3, and are referred to according to the usage mode. Further, the “line” is a generic name for a line through which an object such as a flow path, a route, and a pipe can flow.

以下、本実施形態に係る濾過部材洗浄システム１について詳述する。
濾過処理装置２による濾過処理の前には、所要の前処理が行われる。前処理が行われた原水Ｗ１は、図１に示すように、原水ラインＬ１を介して、濾過処理装置２に供給される。 Hereinafter, the filtration member washing | cleaning system 1 which concerns on this embodiment is explained in full detail.
Before the filtration process by the filtration apparatus 2, a necessary pretreatment is performed. The raw water W1 subjected to the pretreatment is supplied to the filtration apparatus 2 via the raw water line L1, as shown in FIG.

濾過処理装置２は、原水Ｗ１に対して濾過処理を行う装置である。図１に示すように、濾過処理装置２は、濾過部材としての濾過膜モジュール２３と、濾過処理水槽２４とを備える。   The filtration apparatus 2 is an apparatus that performs a filtration process on the raw water W1. As shown in FIG. 1, the filtration device 2 includes a filtration membrane module 23 as a filtration member and a filtration water tank 24.

濾過膜モジュール２３は、多数の濾過膜（図示せず）を備えており、濾過膜により懸濁物質などの不純物を除去する。
濾過膜としては、例えば、精密濾過膜（ＭＦ膜）、限外濾過膜（ＵＦ膜）及びナノ濾過膜（ＮＦ膜）が挙げられる。濾過膜の形状としては、平膜型、中空糸膜型、管状型及びノモリス型が挙げられる。これらの濾過膜は、処理水の用途、例えば、蒸気ボイラ、温水ボイラ、クーリングタワー、給湯器などの熱機器への給水や、半導体製造、電子部品、医療器具などの洗浄など、処理水に求められる用途に応じて適宜選択されて使用される。 The filtration membrane module 23 includes a large number of filtration membranes (not shown), and impurities such as suspended substances are removed by the filtration membrane.
Examples of the filtration membrane include a microfiltration membrane (MF membrane), an ultrafiltration membrane (UF membrane), and a nanofiltration membrane (NF membrane). Examples of the shape of the filtration membrane include a flat membrane type, a hollow fiber membrane type, a tubular type, and a Nomoris type. These filtration membranes are required for treated water, for example, for water supply to thermal equipment such as steam boilers, hot water boilers, cooling towers, and water heaters, and for cleaning semiconductor manufacturing, electronic components, medical equipment, etc. It is appropriately selected and used depending on the application.

濾過処理水槽２４は、その内部に、原水Ｗ１を貯留可能であると共に、濾過膜モジュール２３を配置可能となっている。濾過処理水槽２４の内部には、原水ラインＬ１を介して原水Ｗ１が供給されて、貯留される。   The filtration water tank 24 can store the raw water W1 and the filtration membrane module 23 therein. The raw water W1 is supplied and stored in the filtered water tank 24 via the raw water line L1.

本実施形態における濾過処理装置２は、膜分離活性汚泥法（ＭＢＲ；メンブレン・バイオ・リアクター）により濾過処理を行う。なお、ＭＢＲによる濾過処理の場合には、通常、中空糸膜型のＵＦ膜又はＭＦ膜が濾過処理水槽２４に浸漬された状態で配置され、使用される。
なお、ＭＢＲにおいては、濾過膜モジュール２３の下方には、外部のブロアに接続された散気管が配置され、濾過処理中に曝気が可能に構成されている（図示せず）。 The filtration apparatus 2 in this embodiment performs a filtration process by a membrane separation activated sludge method (MBR; membrane bioreactor). In the case of MBR filtration treatment, a hollow fiber membrane type UF membrane or MF membrane is usually disposed and used while immersed in the filtration treatment water tank 24.
In the MBR, an air diffuser connected to an external blower is disposed below the filtration membrane module 23, and is configured to allow aeration during the filtration process (not shown).

濾過処理装置２は、濾過処理水槽２４の内部で且つ濾過膜モジュール２３の外側の領域である一次側領域２１と、濾過膜モジュール２３の内側の領域である二次側領域２２と、を有する。つまり、一次側領域２１と二次側領域２２とは、濾過膜モジュール２３により区画される。
濾過膜モジュール２３は、一次側から二次側に向かって原水Ｗ１を流通させることにより、原水Ｗ１の濾過を行う。濾過処理装置２によれば、一次側領域２１から二次側領域２２に向かって原水Ｗ１を濾過膜モジュール２３に流通させることにより、原水Ｗ１の濾過処理を行い、処理水（透過水）Ｗ２を得ることができる。
また、濾過膜モジュール２３は、二次側から一次側に向かって洗浄液Ｗ３が供給されることにより、逆洗浄が行われる。 The filtration apparatus 2 includes a primary side area 21 that is an area inside the filtration process water tank 24 and outside the filtration membrane module 23, and a secondary side area 22 that is an area inside the filtration membrane module 23. That is, the primary side region 21 and the secondary side region 22 are partitioned by the filtration membrane module 23.
The filtration membrane module 23 filters the raw water W1 by circulating the raw water W1 from the primary side toward the secondary side. According to the filtration device 2, the raw water W1 is circulated through the filtration membrane module 23 from the primary side region 21 to the secondary side region 22, thereby filtering the raw water W1 and treating the treated water (permeated water) W2. Obtainable.
The filtration membrane module 23 is back-washed by supplying the cleaning liquid W3 from the secondary side toward the primary side.

濾過処理装置２の濾過膜モジュール２３の二次側領域２２には、処理水ラインＬ２３（第１処理水ラインＬ２）が接続されている。この処理水ラインＬ２３（第２処理水ラインＬ３）の下流側の端部は、処理水タンク６に接続されている。
原水Ｗ１が濾過処理されて得られる処理水Ｗ２は、処理水ラインＬ２３を介して処理水タンク６に供給されて、貯留される。 A treated water line L23 (first treated water line L2) is connected to the secondary region 22 of the filtration membrane module 23 of the filtration apparatus 2. The downstream end of the treated water line L23 (second treated water line L3) is connected to the treated water tank 6.
The treated water W2 obtained by filtering the raw water W1 is supplied to the treated water tank 6 through the treated water line L23 and stored.

処理水タンク６は、処理水Ｗ２を貯留するタンクである。処理水タンク６は、処理水ラインＬ２３（第２処理水ラインＬ３）の下流側の端部に接続されている。   The treated water tank 6 is a tank that stores treated water W2. The treated water tank 6 is connected to the downstream end of the treated water line L23 (second treated water line L3).

処理水ラインＬ２３は、濾過処理装置２により得られた処理水Ｗ２を処理水タンク６に供給するラインである。
処理水ラインＬ２３は、第１処理水ラインＬ２と、第１接続部Ｊ１と、第２処理水ラインＬ３とを有する。第１処理水ラインＬ２と第２処理水ラインＬ３とは、第１接続部Ｊ１において接続されている。第１処理水ラインＬ２は、濾過処理装置２の濾過膜モジュール２３の二次側領域２２と第１接続部Ｊ１とを接続するラインである。第２処理水ラインＬ３は、第１接続部Ｊ１と処理水タンク６とを接続するラインである。 The treated water line L23 is a line that supplies the treated water W2 obtained by the filtration device 2 to the treated water tank 6.
The treated water line L23 includes a first treated water line L2, a first connection portion J1, and a second treated water line L3. The 1st treated water line L2 and the 2nd treated water line L3 are connected in the 1st connection part J1. The 1st treated water line L2 is a line which connects the secondary side area | region 22 of the filtration membrane module 23 of the filtration apparatus 2, and the 1st connection part J1. The second treated water line L3 is a line that connects the first connecting portion J1 and the treated water tank 6.

濾過用ポンプ３は、第２処理水ラインＬ３の途中に接続されている。濾過用ポンプ３によれば、その吸引力により、処理水ラインＬ２３（第２処理水ラインＬ３及び第１処理水ラインＬ２）を介して濾過処理装置２の二次側領域２２を負圧にすることができる。これにより、濾過用ポンプ３は、一次側領域２１から二次側領域２２に向かって原水Ｗ１を流通させることができる。   The filtration pump 3 is connected in the middle of the second treated water line L3. According to the filtration pump 3, the secondary side region 22 of the filtration treatment device 2 is brought to a negative pressure through the treated water line L <b> 23 (the second treated water line L <b> 3 and the first treated water line L <b> 2) by the suction force. be able to. Thereby, the pump 3 for filtration can distribute | circulate the raw | natural water W1 toward the secondary side area | region 22 from the primary side area | region 21. FIG.

処理水バルブ３１は、第２処理水ラインＬ３における第１接続部Ｊ１と濾過用ポンプ３との間に設けられている。処理水バルブ３１によれば、第１接続部Ｊ１と濾過用ポンプ３との間において、第２処理水ラインＬ３を開閉することができる。   The treated water valve 31 is provided between the first connection part J1 and the filtration pump 3 in the second treated water line L3. According to the treated water valve 31, the second treated water line L3 can be opened and closed between the first connection portion J1 and the filtration pump 3.

処理水逆止弁３２は、第２処理水ラインＬ３における濾過用ポンプ３と処理水タンク６側の端部との間に設けられている。処理水逆止弁３２は、濾過用ポンプ３から第２処理水ラインＬ３の処理水タンク６側の端部に向かう方向のみ、流体の流通を許容する弁である。   The treated water check valve 32 is provided between the filtration pump 3 and the treated water tank 6 side end in the second treated water line L3. The treated water check valve 32 is a valve that allows fluid to flow only in the direction from the filtration pump 3 toward the end of the second treated water line L3 on the treated water tank 6 side.

洗浄液ラインＬ４２は、洗浄液タンク７に貯留された洗浄液Ｗ３を濾過処理装置２の二次側領域２２に供給するラインである。洗浄液ラインＬ４２は、第１洗浄液ラインＬ４と、第１接続部Ｊ１と、第１処理水ラインＬ２とを有する。第１洗浄液ラインＬ４と第１処理水ラインＬ２とは、第１接続部Ｊ１を介して接続されている。   The cleaning liquid line L <b> 42 is a line that supplies the cleaning liquid W <b> 3 stored in the cleaning liquid tank 7 to the secondary region 22 of the filtration processing device 2. The cleaning liquid line L42 includes a first cleaning liquid line L4, a first connection portion J1, and a first treated water line L2. The first cleaning liquid line L4 and the first treated water line L2 are connected via the first connection portion J1.

第１洗浄液ラインＬ４は、洗浄液タンク７と第１接続部Ｊ１とを接続するラインである。第１洗浄液ラインＬ４は、処理水ラインＬ２３の第１接続部Ｊ１において、処理水ラインＬ２３に接続されている。第１洗浄液ラインＬ４の上流側の端部は、洗浄液タンク７に接続されている。   The first cleaning liquid line L4 is a line that connects the cleaning liquid tank 7 and the first connection portion J1. The first cleaning liquid line L4 is connected to the treated water line L23 at the first connection portion J1 of the treated water line L23. The upstream end of the first cleaning liquid line L4 is connected to the cleaning liquid tank 7.

第２洗浄液ラインＬ２は、第１接続部Ｊ１と濾過処理装置２の二次側領域２２とを接続するラインである。なお、第１処理水ラインＬ２は、処理水ラインＬ２３の一部を構成すると共に、洗浄液ラインＬ４２の一部を構成する。洗浄液ラインＬ４２の一部を構成する第１処理水ラインＬ２を「第２洗浄液ラインＬ２」ともいう。   The second cleaning liquid line L2 is a line that connects the first connection portion J1 and the secondary region 22 of the filtration apparatus 2. The first treated water line L2 constitutes part of the treated water line L23 and constitutes part of the cleaning liquid line L42. The first treated water line L2 constituting a part of the cleaning liquid line L42 is also referred to as “second cleaning liquid line L2”.

洗浄液タンク７は、洗浄液Ｗ３を貯留するタンクである。洗浄液タンク７は、洗浄液ラインＬ４２（第１洗浄液ラインＬ４）の上流側の端部に接続されている。洗浄液Ｗ３としては、酸化剤、界面活性剤、キレート剤等を含む周知の洗浄液を使用でき、ＭＢＲによる濾過処理の場合には、次亜塩素酸ナトリウム水溶液が好ましく使用される。   The cleaning liquid tank 7 is a tank that stores the cleaning liquid W3. The cleaning liquid tank 7 is connected to the upstream end of the cleaning liquid line L42 (first cleaning liquid line L4). As the cleaning liquid W3, a known cleaning liquid containing an oxidizing agent, a surfactant, a chelating agent, and the like can be used. In the case of MBR filtration, an aqueous sodium hypochlorite solution is preferably used.

洗浄用ポンプ４は、第１洗浄液ラインＬ４の途中に接続されている。洗浄用ポンプ４は、二次側から一次側に向けて濾過膜モジュール２３に洗浄液Ｗ３を供給する。洗浄用ポンプ４によれば、洗浄液ラインＬ４２（第１洗浄液ラインＬ４及び第２洗浄液ラインＬ２）を介して、洗浄液タンク７に貯留される洗浄液Ｗ３を濾過処理装置２の二次側領域２２に供給することができる。   The cleaning pump 4 is connected in the middle of the first cleaning liquid line L4. The cleaning pump 4 supplies the cleaning liquid W3 to the filtration membrane module 23 from the secondary side toward the primary side. According to the cleaning pump 4, the cleaning liquid W3 stored in the cleaning liquid tank 7 is supplied to the secondary region 22 of the filtration apparatus 2 through the cleaning liquid line L42 (the first cleaning liquid line L4 and the second cleaning liquid line L2). can do.

洗浄液バルブ４１は、第１洗浄液ラインＬ４における洗浄用ポンプ４よりも下流（第１接続部Ｊ１）側に接続されている。詳細には、後述の洗浄液逆止弁４２と第１接続部Ｊ１との間に設けられている。洗浄液バルブ４１によれば、第１接続部Ｊ１と洗浄用ポンプ４との間において、第１洗浄液ラインＬ４を開閉することができる。   The cleaning liquid valve 41 is connected to the downstream (first connecting portion J1) side of the cleaning pump 4 in the first cleaning liquid line L4. Specifically, it is provided between a cleaning liquid check valve 42 described later and the first connection portion J1. According to the cleaning liquid valve 41, the first cleaning liquid line L4 can be opened and closed between the first connecting portion J1 and the cleaning pump 4.

洗浄液逆止弁４２は、第１洗浄液ラインＬ４における洗浄液バルブ４１と洗浄用ポンプ４との間に設けられている。洗浄液逆止弁４２は、第１洗浄液ラインＬ４における洗浄液タンク７側の端部から第１接続部Ｊ１に向かう方向のみ、流体の流通を許容する弁である。   The cleaning liquid check valve 42 is provided between the cleaning liquid valve 41 and the cleaning pump 4 in the first cleaning liquid line L4. The cleaning liquid check valve 42 is a valve that allows fluid to flow only in the direction from the end on the cleaning liquid tank 7 side in the first cleaning liquid line L4 toward the first connection portion J1.

圧力センサ８は、第１処理水ラインＬ２の途中に接続されている。圧力センサ８は、一次側領域２１と二次側領域２２との圧力差の測定を行うセンサである。詳述すると、圧力センサ８は、濾過用ポンプ３の吸引力により負圧となった第１処理水ラインＬ２の圧力を測定するセンサである。濾過処理装置２の一次側領域２１には大気圧が作用しているため、圧力センサ８は、第１処理水ラインＬ２の圧力を測定することにより、濾過処理装置２の一次側領域２１と二次側領域２２との膜間差圧（濾過膜モジュール２３を挟んで一次側と二次側との間の膜間差圧）を測定することができる。   The pressure sensor 8 is connected in the middle of the first treated water line L2. The pressure sensor 8 is a sensor that measures a pressure difference between the primary side region 21 and the secondary side region 22. More specifically, the pressure sensor 8 is a sensor that measures the pressure of the first treated water line L2 that has become negative due to the suction force of the filtration pump 3. Since the atmospheric pressure is acting on the primary side region 21 of the filtration treatment device 2, the pressure sensor 8 measures the pressure of the first treated water line L 2, so The transmembrane pressure difference between the secondary region 22 (the transmembrane pressure difference between the primary side and the secondary side across the filtration membrane module 23) can be measured.

システム制御装置９は、本実施形態の濾過部材洗浄システム１の全体を制御する。システム制御装置９は、濾過部材洗浄システム１を構成する各要素のうち、制御が行われる要素に電気的に接続される。詳細には、システム制御装置９は、濾過用ポンプ３、処理水バルブ３１、洗浄用ポンプ４及び洗浄液バルブ４１に電気的に接続され、濾過用ポンプ３、処理水バルブ３１、洗浄用ポンプ４及び洗浄液バルブ４１を制御する。
また、システム制御装置９は、圧力センサ８に電気的に接続され、圧力センサ８により測定された圧力差値情報を受信する。 The system control device 9 controls the entire filtering member cleaning system 1 of the present embodiment. The system controller 9 is electrically connected to an element to be controlled among the elements constituting the filter member cleaning system 1. Specifically, the system control device 9 is electrically connected to the filtration pump 3, the treated water valve 31, the washing pump 4 and the washing liquid valve 41, and the filtration pump 3, the treated water valve 31, the washing pump 4 and The cleaning liquid valve 41 is controlled.
In addition, the system control device 9 is electrically connected to the pressure sensor 8 and receives pressure difference value information measured by the pressure sensor 8.

システム制御装置９は、判定部９１と、制御部９２とを備える。
判定部９１は、圧力センサ８に電気的に接続される。判定部９１は、時間閾値及び圧力差閾値を設定可能であり、設定された時間閾値及び圧力差閾値に基づいて、洗浄用ポンプ４の起動の判定を行う。例えば、判定部９１は、洗浄用ポンプ４による洗浄液の供給終了後において、圧力センサ８により測定された圧力差測定値が圧力差閾値以上となった場合に、洗浄用ポンプ４による洗浄液の供給終了から時間閾値を経過した後に、洗浄用ポンプ４の起動の決定を行う。なお、時間閾値及び圧力差閾値は、例えば、作業者による入力操作によって適宜設定される。 The system control device 9 includes a determination unit 91 and a control unit 92.
The determination unit 91 is electrically connected to the pressure sensor 8. The determination unit 91 can set a time threshold value and a pressure difference threshold value, and determines whether to start the cleaning pump 4 based on the set time threshold value and pressure difference threshold value. For example, the determination unit 91 ends the supply of the cleaning liquid by the cleaning pump 4 when the measurement value of the pressure difference measured by the pressure sensor 8 is equal to or greater than the pressure difference threshold after the supply of the cleaning liquid by the cleaning pump 4 ends. After the time threshold has elapsed, the activation of the cleaning pump 4 is determined. Note that the time threshold value and the pressure difference threshold value are appropriately set by an input operation by an operator, for example.

制御部９２は、濾過用ポンプ３、処理水バルブ３１、洗浄用ポンプ４及び洗浄液バルブ４１に電気的に接続される。制御部９２は、所定の定期洗浄のタイミング又は判定部９１による判定結果に基づいて、処理水バルブ３１の開閉の制御、濾過用ポンプ３の起動及び停止の制御、洗浄液バルブ４１の開閉の制御、洗浄用ポンプ４の起動及び停止の制御などを行う。
なお、定期洗浄とは、濾過膜モジュール２３の閉塞の程度に拘わらず、所定の頻度で定期的に行われる洗浄のことである。定期洗浄は、例えば、所定時間おきに行われる。 The control unit 92 is electrically connected to the filtration pump 3, the treated water valve 31, the cleaning pump 4, and the cleaning liquid valve 41. The control unit 92 controls opening / closing of the treated water valve 31, control of starting and stopping of the filtration pump 3, control of opening / closing of the cleaning liquid valve 41, based on a predetermined periodic cleaning timing or a determination result by the determination unit 91. Control of starting and stopping of the cleaning pump 4 is performed.
The term “cleaning” refers to cleaning that is periodically performed at a predetermined frequency regardless of the degree of blockage of the filtration membrane module 23. The regular cleaning is performed, for example, every predetermined time.

また、制御部９２は、強制洗浄部９３を有する。強制洗浄部９３は、所定の定期洗浄のタイミング及び判定部９１に基づく判定結果にかかわらず、処理水バルブ３１の開閉の制御、濾過用ポンプ３の起動及び停止の制御、洗浄液バルブ４１の開閉の制御、洗浄用ポンプ４の起動及び停止の制御などを行う。強制洗浄部９３による制御は、例えば、作業者による入力操作に基づいて適宜行われる。   Further, the control unit 92 includes a forced cleaning unit 93. Regardless of the predetermined periodic cleaning timing and the determination result based on the determination unit 91, the forced cleaning unit 93 controls the opening and closing of the treatment water valve 31, controls the start and stop of the filtration pump 3, and opens and closes the cleaning liquid valve 41. Control, control of starting and stopping of the cleaning pump 4, and the like are performed. The control by the forced cleaning unit 93 is appropriately performed based on, for example, an input operation by an operator.

次に、本実施形態の濾過部材洗浄システム１の動作の一実施例について、図２を参照しながら説明する。図２は、図１に示す濾過部材洗浄システム１の動作の一例を示すフローチャートである。   Next, an example of the operation of the filtration member cleaning system 1 of the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a flowchart showing an example of the operation of the filtration member cleaning system 1 shown in FIG.

本実施例においては、濾過部材洗浄システム１において、濾過膜モジュール２３の洗浄処理（所定の定期洗浄又は判定部９１による判定結果に基づく洗浄処理）が行われた後、原水Ｗ１の濾過処理が行われる中での次の洗浄処理（所定の定期洗浄又は判定部９１による判定結果に基づく洗浄処理）が行われる迄の１サイクルの例について説明する。   In the present embodiment, in the filtration member cleaning system 1, after the filtration processing of the filtration membrane module 23 (predetermined periodic cleaning or cleaning processing based on the determination result by the determination unit 91) is performed, the raw water W1 is filtered. An example of one cycle until the next cleaning process (predetermined periodic cleaning or cleaning process based on the determination result by the determination unit 91) is performed will be described.

図２に示すように、ステップＳＴ１において、圧力センサ８は、洗浄処理（所定の定期洗浄又は判定部９１による判定結果に基づく洗浄処理）が行われた後、濾過処理中の濾過処理装置２の一次側領域２１と二次側領域２２との圧力差を測定する。つまり、圧力センサ８は、濾過処理装置２の一次側領域２１と二次側領域２２との膜間差圧（濾過膜モジュール２３を挟んで一次側と二次側との間の膜間差圧）を測定する。圧力センサ８により測定された圧力差測定値は、システム制御装置９の判定部９１に入力される。   As shown in FIG. 2, in step ST <b> 1, after the cleaning process (predetermined periodic cleaning or the cleaning process based on the determination result by the determination unit 91) is performed, the pressure sensor 8 The pressure difference between the primary side region 21 and the secondary side region 22 is measured. That is, the pressure sensor 8 has a transmembrane differential pressure between the primary side region 21 and the secondary side region 22 of the filtration processing device 2 (transmembrane differential pressure between the primary side and the secondary side across the filtration membrane module 23. ). The pressure difference measurement value measured by the pressure sensor 8 is input to the determination unit 91 of the system control device 9.

ステップＳＴ２において、判定部９１は、入力された圧力差測定値に基づいて、濾過処理装置２の一次側領域２１と二次側領域２２との圧力差が所定の圧力差閾値以上であるか又は所定の圧力差閾値よりも低いかについて判定する。濾過処理装置２の一次側領域２１と二次側領域２２との圧力差が所定の圧力差閾値以上である場合（ＹＥＳ）には、ステップＳＴ３に進む。濾過処理装置２の一次側領域２１と二次側領域２２との圧力差が所定の圧力差閾値よりも低い場合（ＮＯ）には、ステップＳＴ７に進む。   In step ST2, the determination unit 91 determines whether the pressure difference between the primary side region 21 and the secondary side region 22 of the filtration device 2 is equal to or greater than a predetermined pressure difference threshold based on the input pressure difference measurement value. It is determined whether it is lower than a predetermined pressure difference threshold. When the pressure difference between the primary side region 21 and the secondary side region 22 of the filtration apparatus 2 is equal to or greater than a predetermined pressure difference threshold value (YES), the process proceeds to step ST3. When the pressure difference between the primary side region 21 and the secondary side region 22 of the filtration apparatus 2 is lower than the predetermined pressure difference threshold value (NO), the process proceeds to step ST7.

濾過処理装置２の一次側領域２１と二次側領域２２との圧力差が所定の圧力差閾値以上である場合には、濾過膜モジュール２３に活性汚泥等の不純物が付着して堆積傾向の状態にある。つまり、濾過膜モジュール２３がいずれ閉塞するおそれがある。そのため、濾過膜モジュールの洗浄処理（逆洗浄）を行う必要がある。   When the pressure difference between the primary side region 21 and the secondary side region 22 of the filtration apparatus 2 is equal to or greater than a predetermined pressure difference threshold, impurities such as activated sludge adhere to the filtration membrane module 23 and are in a tendency to accumulate It is in. That is, the filtration membrane module 23 may eventually be blocked. Therefore, it is necessary to perform a cleaning process (back cleaning) of the filtration membrane module.

ここで、前回の洗浄液Ｗ３の供給の終了（洗浄処理の終了）時点では、濾過処理水槽２４内に流入した洗浄液Ｗ３が残留した状態にある。この洗浄液Ｗ３は、例えば、次亜塩素酸ナトリウム水溶液の場合には、濾過処理中に曝気を行うことにより大気中に放出される。しかし、前回の洗浄液Ｗ３の供給の終了（洗浄処理の終了）から所定時間が経過していない場合には、再び洗浄液Ｗ３が流入すると、高濃度の洗浄液Ｗ３が残留した状態が継続するため、濾過処理水槽２４内において、微生物の成長速度よりも死滅速度の方が上回ることがある。そのため、頻繁に洗浄処理が繰り返されると、濾過処理水槽２４内の活性汚泥濃度が次第に減少し、生物処理能力が低下した状態となる。その結果、処理水の水質を悪化させるおそれがある。これにより、ステップＳＴ３において、前回の洗浄液Ｗ３の供給の終了（洗浄処理の終了）から所定の時間閾値を経過しているか否かについて判定する。   Here, at the end of the previous supply of the cleaning liquid W3 (end of the cleaning process), the cleaning liquid W3 that has flowed into the filtration water tank 24 remains. For example, in the case of an aqueous sodium hypochlorite solution, the cleaning liquid W3 is released into the atmosphere by aeration during the filtration process. However, if the predetermined time has not elapsed since the end of the previous supply of the cleaning liquid W3 (the end of the cleaning process), if the cleaning liquid W3 flows in again, the state in which the high-concentration cleaning liquid W3 remains is continued. In the treated water tank 24, the death rate may exceed the growth rate of microorganisms. Therefore, when the washing process is repeated frequently, the activated sludge concentration in the filtration water tank 24 gradually decreases, and the biological treatment capacity is lowered. As a result, the water quality of the treated water may be deteriorated. Thereby, in step ST3, it is determined whether or not a predetermined time threshold has elapsed since the end of the previous supply of the cleaning liquid W3 (end of the cleaning process).

ステップＳＴ３において、前回の洗浄液Ｗ３の供給の終了（洗浄処理の終了）から所定の時間閾値が経過している場合（ＹＥＳ）には、ステップＳＴ４に進む。前回の洗浄液Ｗ３の供給の終了（洗浄処理の終了）から所定の時間閾値が経過していない場合（ＮＯ）には、ステップＳＴ７に進む。   In step ST3, when the predetermined time threshold has elapsed since the end of the previous supply of the cleaning liquid W3 (end of the cleaning process) (YES), the process proceeds to step ST4. If the predetermined time threshold has not elapsed (NO) since the end of the previous supply of the cleaning liquid W3 (end of the cleaning process), the process proceeds to step ST7.

前回の洗浄処理から所定の時間閾値を経過している場合には、ステップＳＴ４において、システム制御装置９の制御部９２は、第２処理水ラインＬ３の濾過用ポンプ３を停止して処理水バルブ３１を閉じる制御を行う。これにより、処理水ラインＬ２３における処理水Ｗ２の流通が停止される。   When a predetermined time threshold has elapsed since the previous cleaning process, in step ST4, the control unit 92 of the system control device 9 stops the filtration pump 3 of the second treated water line L3 and treats the treated water valve. Control to close 31 is performed. Thereby, the distribution of the treated water W2 in the treated water line L23 is stopped.

また、制御部９２は、第１洗浄液ラインＬ４の洗浄液バルブ４１を開き、洗浄用ポンプ４を起動する制御を行う。これにより、洗浄液ラインＬ４２における洗浄液Ｗ３の供給が開始され、濾過膜モジュール２３の洗浄処理（逆洗浄）が行われる。   Further, the control unit 92 performs control to open the cleaning liquid valve 41 of the first cleaning liquid line L4 and start the cleaning pump 4. Thereby, supply of the cleaning liquid W3 in the cleaning liquid line L42 is started, and the cleaning process (reverse cleaning) of the filtration membrane module 23 is performed.

その後、ステップＳＴ５において、所定時間が経過するまで（ＮＯ）、ステップＳＴ４が繰り返される。そして、ステップＳＴ５において、所定時間が経過すると（ＹＥＳ）、ステップＳＴ６に進む。   Thereafter, in step ST5, step ST4 is repeated until a predetermined time elapses (NO). In step ST5, when a predetermined time has elapsed (YES), the process proceeds to step ST6.

ステップＳＴ６において、制御部９２は、第１洗浄液ラインＬ４の洗浄用ポンプ４を停止し、洗浄液バルブ４１を閉じる制御を行う。これにより、洗浄液ラインＬ４２における洗浄液Ｗ３の供給が停止され、濾過膜モジュール２３の洗浄処理（逆洗浄）が終了する。
また、制御部９２は、第２処理水ラインＬ３の処理水バルブ３１を開き、濾過用ポンプ３を起動する制御を行う。これにより、処理水ラインＬ２３における処理水Ｗ２の流通が再開される。 In step ST6, the control unit 92 performs a control to stop the cleaning pump 4 of the first cleaning liquid line L4 and close the cleaning liquid valve 41. Thereby, the supply of the cleaning liquid W3 in the cleaning liquid line L42 is stopped, and the cleaning process (reverse cleaning) of the filtration membrane module 23 is completed.
Moreover, the control part 92 performs control which opens the treated water valve 31 of the 2nd treated water line L3, and starts the pump 3 for filtration. Thereby, the distribution of the treated water W2 in the treated water line L23 is resumed.

ステップＳＴ２において、圧力差測定値が圧力差閾値よりも低い場合（ＮＯ）には、まず、所定の定期洗浄のタイミングであるか否かを判定する。前回の定期洗浄から所定の時間が経過しており、次の定期洗浄のタイミングである場合（ＹＥＳ）には、ステップＳＴ８に進む。一方、次の定期洗浄のタイミングでない場合には、ステップＳＴ４に進み、上述の動作を行う。   In step ST2, when the pressure difference measurement value is lower than the pressure difference threshold value (NO), it is first determined whether or not it is a predetermined periodical cleaning timing. When a predetermined time has elapsed since the previous periodic cleaning and the timing of the next periodic cleaning is reached (YES), the process proceeds to step ST8. On the other hand, if it is not the timing of the next periodic cleaning, the process proceeds to step ST4 and the above-described operation is performed.

ステップＳＴ８において、システム制御装置９における制御部９２の強制洗浄部９３は、濾過膜モジュール２３の強制洗浄を行うか否かを判定する。強制洗浄を行うか否かの判定は、作業者による入力操作があるか否かにより判定される。作業者による強制洗浄を行う旨の入力操作があった場合には、ステップＳＴ４に進み、上述の動作を行う。一方、作業者による強制洗浄を行う旨の入力操作がなかった場合には、ステップＳＴ１へ戻る。   In step ST <b> 8, the forced cleaning unit 93 of the control unit 92 in the system control device 9 determines whether to perform forced cleaning of the filtration membrane module 23. Whether to perform forced cleaning is determined based on whether there is an input operation by an operator. When there is an input operation for performing forced cleaning by the operator, the process proceeds to step ST4 and the above-described operation is performed. On the other hand, if there is no input operation to perform forced cleaning by the operator, the process returns to step ST1.

また、ステップＳＴ３において、前回の洗浄液Ｗ３の供給の終了（洗浄処理の終了）から所定の時間閾値が経過していない場合（ＮＯ）には、ステップＳＴ７に進み、上述の判定を行う。   In step ST3, if the predetermined time threshold has not elapsed since the end of the previous supply of the cleaning liquid W3 (end of the cleaning process) (NO), the process proceeds to step ST7 and the above-described determination is performed.

本実施形態に係る濾過部材洗浄システム１によれば、例えば、以下のような効果が奏される。
本実施形態においては、濾過部材洗浄システム１は、所定の圧力差閾値及び時間閾値を設定可能であり、設定された圧力差閾値及び時間閾値に基づいて濾過膜モジュール２３の洗浄の判定を行う判定部９１と、判定部９１の判定結果に基づいて洗浄用ポンプ４の起動等の制御を行う制御部９２と、を備える。つまり、濾過部材洗浄システム１は、設定された圧力差閾値を超えた場合であっても、設定された時間閾値を経過しなければ次の濾過膜モジュール２３の洗浄処理を行わない。その後、設定された時間閾値を経過した後に次の濾過膜モジュール２３の洗浄処理を行う。これにより、過度の濾過膜モジュール２３の洗浄を抑制することが可能となり、微生物の多くが死滅したままの状態になることを抑制することができる。つまり、残留する洗浄液Ｗ３の影響により、活性汚泥濃度の減少が引き起こされることを抑制することができる。その結果、濾過膜モジュール２３の閉塞の発生を抑制しながら、微生物による十分な活生汚泥処理が可能となり、処理水Ｗ２の水質を安定させることができる。 According to the filtration member cleaning system 1 according to the present embodiment, for example, the following effects are exhibited.
In the present embodiment, the filtration member cleaning system 1 can set a predetermined pressure difference threshold value and a time threshold value, and performs determination for cleaning the filtration membrane module 23 based on the set pressure difference threshold value and time threshold value. And a control unit 92 that performs control such as activation of the cleaning pump 4 based on the determination result of the determination unit 91. That is, even when the set pressure difference threshold is exceeded, the filtration member cleaning system 1 does not perform the next cleaning process for the filtration membrane module 23 unless the set time threshold has elapsed. Thereafter, after the set time threshold value has elapsed, the next cleaning process of the filtration membrane module 23 is performed. Thereby, it becomes possible to suppress the washing | cleaning of the excessive filtration membrane module 23, and it can suppress that many microorganisms remain in the state which was killed. That is, it can suppress that the activated sludge density | concentration is caused by the influence of the residual washing | cleaning liquid W3. As a result, sufficient activated sludge treatment with microorganisms is possible while suppressing the occurrence of clogging of the filtration membrane module 23, and the quality of the treated water W2 can be stabilized.

また、過度の濾過膜モジュール２３の洗浄処理を抑制することにより、濾過膜モジュール２３の劣化（例えば、酸化劣化）を抑制することができる。   Moreover, deterioration (for example, oxidation deterioration) of the filtration membrane module 23 can be suppressed by suppressing the excessive washing process of the filtration membrane module 23.

また、本実施形態においては、濾過部材洗浄システム１は、所定の定期洗浄及び判定部９１に基づく判定結果にかかわらず、洗浄用ポンプ４の起動等の制御を行う強制洗浄部９３を備える。そのため、例えば、所定の定期洗浄又は判定部９１に基づく判定結果にかかわらず、作業者による濾過膜モジュール２３の洗浄処理を行うことができる。これにより、濾過処理装置２のメンテナンスを行った後等においても濾過膜モジュール２３の洗浄を行うことができる。   Moreover, in this embodiment, the filtration member cleaning system 1 includes a forced cleaning unit 93 that performs control such as activation of the cleaning pump 4 regardless of a predetermined periodic cleaning and determination result based on the determination unit 91. Therefore, for example, regardless of the predetermined periodic cleaning or the determination result based on the determination unit 91, the cleaning process of the filtration membrane module 23 by the operator can be performed. Thereby, the filtration membrane module 23 can be cleaned even after the filtration processing apparatus 2 is maintained.

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上述した実施形態に限定されることなく、種々の形態で実施することができる。
例えば、前記実施形態においては、濾過処理装置２は、濾過部材としての浸漬型の濾過膜モジュール２３を備えているが、これに制限されない。濾過処理装置２は、外圧型の濾過膜モジュールを備える装置であってもよく、あるいは、粒状濾材を使用する活性炭濾過装置や砂濾過装置であってもよい。本発明の主旨は、インターロックにより過度の洗浄処理を抑制する点にあるので、逆洗浄を必要とするいかなるタイプの濾過処理装置にも適用することができる。 As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described, this invention can be implemented with a various form, without being limited to embodiment mentioned above.
For example, in the said embodiment, although the filtration processing apparatus 2 is equipped with the immersion type filtration membrane module 23 as a filtration member, it is not restrict | limited to this. The filtration processing apparatus 2 may be an apparatus including an external pressure type filtration membrane module, or may be an activated carbon filtration apparatus or a sand filtration apparatus using a granular filter medium. Since the gist of the present invention is to suppress an excessive cleaning process by an interlock, it can be applied to any type of filtration processing apparatus that requires back cleaning.

また、本実施形態においては、原水流通手段は、吸引ポンプとしての濾過用ポンプ３から構成されているが、濾過処理装置が外圧型の濾過膜モジュールを備える場合には、吐出ポンプから構成することもできる。この場合、圧力センサ８により測定される圧力差は、正圧として測定される。   Further, in this embodiment, the raw water circulation means is constituted by a filtration pump 3 as a suction pump. However, when the filtration treatment apparatus is provided with an external pressure type filtration membrane module, it is constituted by a discharge pump. You can also. In this case, the pressure difference measured by the pressure sensor 8 is measured as a positive pressure.

また、本実施形態においては、制御手段としての制御部９２は、濾過用ポンプ３の起動のＯＮ／ＯＦＦを制御しているが、これに制限されない。制御部９２は、更に洗浄液Ｗ３の量、濃度などの制御を行うこともできる。   Further, in the present embodiment, the control unit 92 as a control unit controls ON / OFF of activation of the filtration pump 3, but is not limited thereto. The controller 92 can also control the amount and concentration of the cleaning liquid W3.

また、圧力センサ８による圧力差の測定は、洗浄用ポンプ４による洗浄液の供給終了と同時に又は直後に行うこともできる。   Further, the measurement of the pressure difference by the pressure sensor 8 can be performed simultaneously with or immediately after the completion of the supply of the cleaning liquid by the cleaning pump 4.

また、制御部９２は、濾過膜モジュール２３の洗浄処理において、所定時間の経過に基づいて洗浄用ポンプ４の起動等を制御しているが、洗浄液Ｗ３の流量に基づいて制御してもよい。   Further, in the cleaning process of the filtration membrane module 23, the control unit 92 controls the activation of the cleaning pump 4 based on the passage of a predetermined time, but may control based on the flow rate of the cleaning liquid W3.

１ 濾過部材洗浄システム
２ 濾過処理装置
３ 濾過用ポンプ（原水流通手段）
４ 洗浄用ポンプ（洗浄液供給手段）
８ 圧力センサ（圧力差測定手段）
９ システム制御装置
２１ 一次側領域
２２ 二次側領域
２３ 濾過膜モジュール（濾過部材）
９１ 判定部（判定手段）
９２ 制御部（制御手段）
９３ 強制洗浄部
Ｗ１ 原水
Ｗ２ 処理水
Ｗ３ 洗浄液 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Filtration member washing | cleaning system 2 Filtration processing apparatus 3 Pump for filtration (raw water distribution means)
4 Cleaning pump (cleaning liquid supply means)
8 Pressure sensor (pressure difference measuring means)
9 System Controller 21 Primary Side Region 22 Secondary Side Region 23 Filtration Membrane Module (Filtration Member)
91 determination unit (determination means)
92 Control unit (control means)
93 Forced cleaning part W1 Raw water W2 Treated water W3 Cleaning liquid

Claims (2)

一次側から二次側に向かって原水を通過させ原水の濾過を行う濾過部材と、該濾過部材により区画される一次側領域及び二次側領域とを有し、一次側領域から二次側領域に向かって原水を前記濾過部材に通過させることにより原水の濾過処理を行う濾過処理装置と、
一次側領域から二次側領域に向かって原水を流通させる原水流通手段と、
前記濾過部材に二次側から一次側に向けて洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
濾過処理中の一次側領域と二次側領域との圧力差の測定を行う圧力差測定手段と、
所定の圧力差閾値及び所定の時間閾値を設定可能で、設定された該圧力差閾値及び該時間閾値に基づいて前記洗浄液供給手段の起動の判定を行う判定手段であって、前記洗浄液供給手段による洗浄液の供給終了後において、前記圧力差測定手段により測定された圧力差測定値が前記圧力差閾値以上となった場合に、前記洗浄液供給手段による洗浄液の供給終了から前記時間閾値を経過した後に、前記洗浄液供給手段の起動の決定を行う判定手段と、
前記判定手段による判定結果に基づいて、前記洗浄液供給手段の起動の制御を行う制御手段と、
を備える濾過部材洗浄システム。 It has a filtration member that passes raw water from the primary side to the secondary side and filters raw water, and a primary side region and a secondary side region that are partitioned by the filtration member, and the primary side region to the secondary side region A filtration device for filtering the raw water by allowing the raw water to pass through the filtration member,
Raw water distribution means for distributing raw water from the primary side region toward the secondary side region;
Cleaning liquid supply means for supplying a cleaning liquid from the secondary side to the primary side of the filter member;
A pressure difference measuring means for measuring a pressure difference between the primary region and the secondary region during the filtration process;
A determination unit that can set a predetermined pressure difference threshold value and a predetermined time threshold value, and determines activation of the cleaning liquid supply unit based on the set pressure difference threshold value and the time threshold value. After the supply of the cleaning liquid, when the pressure difference measurement value measured by the pressure difference measuring means is equal to or greater than the pressure difference threshold, after the time threshold has elapsed from the end of the supply of the cleaning liquid by the cleaning liquid supply means, Determination means for determining activation of the cleaning liquid supply means;
Control means for controlling activation of the cleaning liquid supply means based on a determination result by the determination means;
A filtration member cleaning system comprising: 前記制御手段は、前記判定手段による判定結果にかかわらず、前記洗浄液供給手段の起動の制御が可能な強制洗浄部を備える請求項１に記載の濾過部材洗浄システム。   2. The filtration member cleaning system according to claim 1, wherein the control unit includes a forced cleaning unit capable of controlling activation of the cleaning liquid supply unit regardless of a determination result by the determination unit.
JP2009232146A 2009-10-06 2009-10-06 Filter member cleaning system Pending JP2011078889A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009232146A JP2011078889A (en) 2009-10-06 2009-10-06 Filter member cleaning system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009232146A JP2011078889A (en) 2009-10-06 2009-10-06 Filter member cleaning system

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011078889A true JP2011078889A (en) 2011-04-21

Family

ID=44073533

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009232146A Pending JP2011078889A (en) 2009-10-06 2009-10-06 Filter member cleaning system

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011078889A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017018859A (en) * 2015-07-07 2017-01-26 株式会社東芝 Membrane washing control method, membrane washing control device, and water treatment system
JP2017525563A (en) * 2014-08-12 2017-09-07 ウォーター プラネット，インコーポレイテッド Intelligent fluid filtration management system
WO2017178583A1 (en) 2016-04-14 2017-10-19 Covestro Deutschland Ag Poycarbonate compositions containing isosorbide diesters
WO2018134371A1 (en) 2017-01-23 2018-07-26 Covestro Deutschland Ag Graphite-containing polycarbonate compositions containing a new type of flow promoter
CN115138216A (en) * 2022-07-05 2022-10-04 珠海格力智能装备有限公司 Urea machine and reverse osmosis membrane cleaning method thereof

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017525563A (en) * 2014-08-12 2017-09-07 ウォーター プラネット，インコーポレイテッド Intelligent fluid filtration management system
JP2017018859A (en) * 2015-07-07 2017-01-26 株式会社東芝 Membrane washing control method, membrane washing control device, and water treatment system
WO2017178583A1 (en) 2016-04-14 2017-10-19 Covestro Deutschland Ag Poycarbonate compositions containing isosorbide diesters
US10676613B2 (en) 2016-04-14 2020-06-09 Covestro Deutschland Ag Poycarbonate compositions containing isosorbide diesters
WO2018134371A1 (en) 2017-01-23 2018-07-26 Covestro Deutschland Ag Graphite-containing polycarbonate compositions containing a new type of flow promoter
US11279812B2 (en) 2017-01-23 2022-03-22 Covestro Deutschland Ag Graphite-containing polycarbonate compositions containing a new type of flow promoter
CN115138216A (en) * 2022-07-05 2022-10-04 珠海格力智能装备有限公司 Urea machine and reverse osmosis membrane cleaning method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5453711B2 (en) Cleaning method for external pressure hollow fiber membrane module
US20060065596A1 (en) Membrane filter cleansing process
JP2006297376A (en) Method for cleaning separation membrane
JP5245216B2 (en) Hollow fiber membrane water treatment method and water treatment apparatus
JP2011078889A (en) Filter member cleaning system
JP2007296500A (en) Membrane separation apparatus and membrane filtration method
WO2018043154A1 (en) Method for operating membrane separation device, and membrane separation device
JP5588099B2 (en) Membrane filtration treatment method and membrane filtration treatment equipment
JP2014008439A (en) Membrane separation type water treatment apparatus and method for cleaning water treatment separation membrane
JP2007196126A (en) Membrane filtration system
JP2007090249A (en) Method for cleaning membrane deaerator
JP2006255708A (en) Method for backwashing of hollow fiber membrane and hollow fiber membrane water treatment apparatus
JP5017922B2 (en) Water treatment method
KR20120122927A (en) System and Method for Filtering
JP2012176343A (en) Membrane filtering device
JP2011031145A (en) Filter member-washing system
JP5434752B2 (en) Filtration device and operation method thereof
JP2011083660A (en) Filter member cleaning system
JP5319583B2 (en) Membrane filtration device backwashing method
JP2010227851A (en) Membrane filtration system and method of cleaning the same
JP6264095B2 (en) Membrane module cleaning method
JP2008289958A (en) Membrane filtration system
JP4348691B2 (en) How to prevent clogging of reverse osmosis membrane
JP3881941B2 (en) Hollow fiber membrane backwash method and hollow fiber membrane water treatment apparatus
JP2008080266A (en) Membrane module washing method