JP2011053256A - 光学積層体 - Google Patents

Abstract

【課題】アクリル系重合体とセルロールエステルを有する光学異方性の小さい光学積層体の提供を目的とする。
【解決手段】主鎖に環構造を有するアクリル系重合体を主成分とするＡ層とセルロースエステルを主成分とするＢ層を有する積層光学フィルムであって、Ａ層とＢ層の厚み比Ａ／Ｂが１／９９から５０／５０の範囲であり、厚さ方向の位相差値Ｒｔｈの絶対値が５ｎｍ以下である光学積層体である。
【選択図】なし

Description

本発明は、主鎖に環構造を有するアクリル系重合体とセルロースエステルを有する光学積層体に関する。

セルロースエステルフィルムは、その高い透明性・低複屈折性・偏光子との易接着性などから、写真用ネガフィルムの支持体や、液晶ディスプレイに用いられる偏光子を保護するフィルムとして、偏光板などに用いられてきた。

液晶ディスプレイは、その奥行きの薄さ、軽さから近年大幅に生産量が増大しており、需要が高くなっている。また液晶ディスプレイを用いたテレビは、薄く軽いという特徴を有し、ブラウン管を用いたテレビでは達成されなかったような大型のテレビが生産されるようになっており、それに伴って液晶ディスプレイを構成する偏光板の需要が増大してきている。

一般的な偏光板は、延伸されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルムを、ヨウ素又は二色性色素で染色することによって得られる偏光膜の少なくとも片側に、保護フィルムを貼合することによって形成されている。セルロースエステルフィルムは、ＰＶＡに対して直接貼り合わせできる優位性を持ち、特にトリアセチルセルロースフィルムが多く用いられている。

偏光膜の保護フィルムの光学特性が偏光板の特性を大きく左右するため、その要求品質は年々高度化している。最近の液晶表示装置においては、斜め方向からの表示性能、すなわち視野角特性の改善がより強く要求されるようになっている。視野角特性を改善するために、偏光膜の保護フィルムや他に使用される光学フィルムの複屈折と厚みの積で表される位相差値が適切であることが重要で、通常はこの目的のために光学補償層が設けられている。しかし、セルロースエステルの有する光学異方性が邪魔となり、十分な光学補償が行えていないという問題があった。

光学補償層によって位相差値の調整を行う場合においては、保護フィルムには、余計な位相差値を持たせず、できるだけ小さいことが望ましい。特に保護フィルムにおいては、面内位相差値（Ｒｅ）もさることながら、厚さ方向の位相差値（Ｒｔｈ）を小さくすることが視野角依存性を改善するのに有利である。

特許文献１にはＲｅ及びＲｔｈを小さくしたセルロースエステルフィルムが開示されている。

特開２００５−２０６７３２号公報

しかしながら、特許文献１に開示されている光学異方性の小さいセルロースエステルフィルムは、製造時のローラ接触や巻き取り時の応力により微妙に屈折率が変化し、ムラが発生し得る等の懸念点があることがわかった。また、Ｒｅ、Ｒｔｈ又は波長分散を調節するために添加する材料は、光学的ムラ又は物理的面状欠陥の原因になり、その改善が望まれていた。

本発明の目的は、光学異方性の小さい光学積層体を提供することである。

本発明は、主鎖に環構造を有するアクリル系重合体を主成分とするＡ層とセルロースエステルを主成分とするＢ層を有する光学積層体であって、Ａ層とＢ層の厚み比Ａ／Ｂが１／９９から５０／５０の範囲であり、厚さ方向の位相差Ｒｔｈの絶対値が５ｎｍ以下である光学積層体である。

本発明により、光学異方性が小さく、他の光学補償層あるいはフィルムと組み合わせることにより、自由に光学補償能を調節できる耐熱性に優れた光学積層体を提供することができる。

これ以降の説明において特に記載がない限り、「％」は「質量％」を、「部」は「質量部」を、それぞれ意味する。また、範囲を示す「Ａ〜Ｂ」は、Ａ以上Ｂ以下であることを示す。

本発明の光学積層体は主鎖に環構造を有するアクリル系重合体を主成分とするＡ層とセルロースエステルを主成分とするＢ層を有する光学積層体である。
（主鎖に環構造を有するアクリル系重合体）
本発明の主鎖に環構造を有するアクリル系重合体は、主鎖に（メタ）アクリル酸エステル単量体由来の構造と環構造を含む。（メタ）アクリル酸エステル単量体由来の構造単位の含有割合と環構造単位の含有割合の合計を主鎖中に好ましくは５０質量％以上、より好ましくは７０質量％以上、さらに好ましくは９０質量％、特に好ましくは９５質量％以上、最も好ましくは９９質量％以上含む。特に環構造の含有率は、好ましくは２５質量％以上、更に好ましくは３５質量％以上、最も好ましくは４０質量％以上である。

（メタ）アクリル酸エステル単位は、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸クロロメチル、（メタ）アクリル酸２−クロロエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２，３，４，５，６−ペンタヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸２，３，４，５−テトラヒドロキシペンチルなどの単量体に由来する構成単位である。これらの構成単位を２種類以上有していてもよい。メタクリル酸メチル単位を有することが好ましく、この場合、アクリル系重合体ならびにアクリル系重合体を含む組成物および当該組成物を成形して得られたフィルムなどの成形品の熱安定性が向上する。

アクリル系重合体は、（メタ）アクリル酸エステル単位以外の構成単位を有していてもよい。環化反応により主鎖に環構造を導入するため、アクリル系重合体は重合時に水酸基やカルボン酸基を有する単量体を共重合することが好ましい。具体的には、水酸基を有する単量体として、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチル、２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸メチル、また、カルボン酸基を有する単量体として（メタ）アクリル酸単位は、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸、２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸などの単量体に由来する構成単位が挙げられる。これらの単量体を２種類以上共重合有していてもよい。水酸基やカルボン酸基を有する単量体は環化反応により環構造へと変化するが、主鎖に環構造を有するアクリル系重合体に未反応の水酸基やカルボン酸基を有する単量体由来の構成単位が含まれていてもよい。

また、アクリル系重合体はその他の構成単位を有していてもよく、このような構成単位は、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メタリルアルコール、アリルアルコール、エチレン、プロピレン、４−メチル−１−ペンテン、酢酸ビニル、２−ヒドロキシメチル−１−ブテン、メチルビニルケトン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾールなどの単量体に由来する構成単位である。アクリル系重合体は、これらの構成単位を２種類以上有していてもよい。

本発明の熱可塑性アクリル系重合体は主鎖に環構造を有する。そのため、アクリル系重合体およびアクリル系重合体のＴｇが高くなり、当該組成物から得た樹脂成形品の耐熱性が向上する。このように主鎖に環構造を有するアクリル系重合体から得た樹脂成形品、例えばフィルムは画像表示装置における光源などの発熱部近傍への配置が容易になるなど光学部材としての用途に好適である。

アクリル系重合体が環構造を有することにより、アクリル系重合体のＴｇが高くなると成形温度を高くする必要がある。成形温度が高くなると、成形時にポリマー主鎖間の架橋が生じやすく、成形体の異物が増加し、さらに、脆さが増加するため、特にフィルム成形時や成形後においてフィルム強度が不足しやすい。しかし、本発明のアクリル系重合体では、このような場合においても、ポリマー主鎖間の架橋が抑制でき、フィルム成形時や成形後において十分な機械的強度を有する成形体を得ることができる。

環構造の種類は特に限定されないが、例えば、ラクトン環構造、無水グルタル酸構造、グルタルイミド構造、Ｎ−置換マレイミド構造および無水マレイン酸構造から選ばれる少なくとも１種である。

アクリル系重合体が主鎖に有していてもよいラクトン環構造は特に限定されず、例えば、４から８員環であってもよいが、環構造の安定性に優れることから５員環または６員環であることが好ましく、６員環であることがより好ましい。６員環であるラクトン環構造は、例えば、特開２００４−１６８８８２号公報に開示されている構造であるが、前駆体の重合収率が高いこと、前駆体の環化反応により、高いラクトン環含有率を有するアクリル系重合体が得られること、メタクリル酸メチル単位を構成単位として有する重合体を前駆体にできること、などの理由から以下の一般式（１）に示される構造が好ましい。

上記一般式（１）において、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、互いに独立して、水素原子または炭素数１から２０の範囲の有機残基である。当該有機残基は酸素原子を含んでいてもよい。

一般式（１）における有機残基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などの炭素数１から２０の範囲のアルキル基、エテニル基、プロペニル基などの炭素数１から２０の範囲の不飽和脂肪族炭化水素基、フェニル基、ナフチル基などの炭素数１から２０の範囲の芳香族炭化水素基であり、上記アルキル基、上記不飽和脂肪族炭化水素基、上記芳香族炭化水素基は、水素原子の一つ以上が、水酸基、カルボキシル基、エーテル基、およびエステル基から選ばれる少なくとも１種類の基により置換されていてもよい。

アクリル系重合体が主鎖にラクトン環構造を有する場合、当該樹脂におけるラクトン環構造の含有率は特に限定はされないが、例えば５〜９０％であり、好ましくは１０〜８０％であり、より好ましくは１０〜７０％であり、さらに好ましくは２０〜６０％である。

アクリル系重合体における環構造の含有率が過渡に小さくなると、アクリル系重合体ならびに当該組成物から得られるフィルムなどの成形品における耐熱性の低下や、耐溶剤性および表面硬度が不十分となることがある。一方、上記含有率が過渡に大きくなると、アクリル系重合体の成形性、ハンドリング性が低下する。

本発明の主鎖に環構造を有するアクリル系重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は８万以上、分散度は３．５以下が好ましく、好ましくはＭｗ１０万以上、分散度は３以下である。尚、重量平均分子量と分散度は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフ）を用いて、ポリスチレン換算により求めた。分散度とは、重量平均分子量／数平均分子量であり、ＧＰＣで重量平均分子量、数平均分子量の測定結果から算出するものである。本発明の主鎖に環構造を有するアクリル系重合体の重量平均分子量を８万以上、分散度を３．５以下とすることにより、樹脂の分岐構造が抑制され、加工時の熱安定性が改善され、成形品とした時の強度や外観が改善される。

本発明の主鎖に環構造を有するアクリル系重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、特に限定されないが、１１０℃以上が好ましい。アクリル系重合体としてのＴｇを向上できることから、アクリル系重合体のＴｇは１１５℃以上がより好ましく、１２０℃以上がさらに好ましい。なお、一般的なアクリル系重合体のＴｇは１００℃程度である。
（主鎖に環構造を有するアクリル系重合体の製造方法）
主鎖に環構造を有するアクリル系重合体は公知の方法により製造できる。環構造が無水グルタル酸構造あるいはグルタルイミド構造であるアクリル系重合体は、例えば、ＷＯ２００７／２６６５９号公報あるいはＷＯ２００５／１０８４３８号公報に記載の方法により製造できる。環構造が無水マレイン酸構造あるいはＮ−置換マレイミド構造であるアクリル系重合体は、例えば、特開昭５７−１５３００８号公報、特開２００７−０３１５３７号公報に記載の方法により製造できる。環構造がラクトン環構造であるアクリル系重合体は、例えば、特開２００６−０９６９６０号公報、特開２００６−１７１４６４号公報あるいは特開２００７−０６３５４１号公報に記載の方法により製造できる。

本発明の主鎖に環構造を有するアクリル系重合体の製造方法としては、アクリル系重合体を重合する重合工程後に環化反応を行い、主鎖に環構造を導入することが好ましい。

重合工程に供する単量体成分中における（メタ）アクリル酸エステルの含有割合は、好ましくは３０〜９５質量％、より好ましくは５０〜９０質量％、さらに好ましくは６０〜９０質量％、特に好ましくは６５〜８５質量％である。（メタ）アクリル酸エステルの含有割合が３０質量％未満であると、得られたアクリル系重合体の光学的特性が劣ることがある。逆に、（メタ）アクリル酸エステルの含有割合が９５質量％を超えると、得られたアクリル系重合体の耐熱性が低下することがある。

また、重合工程に供する単量体成分中における（メタ）アクリル酸の含有割合は、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、さらに好ましくは０〜１０質量％、特に好ましくは０〜５質量％である。（メタ）アクリル酸の含有割合が３０質量％を超えると、重合工程などでゲル化が起こることがある。

重合工程に供する単量体成分には、（メタ）アクリル酸エステルおよび（メタ）アクリル酸以外の単量体を配合してもよい。これらの単量体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。

本発明の主鎖に環構造を有するアクリル系重合体の製造方法における重合温度は重合溶媒中、１２０℃以下で重合することが好ましい。この場合、実質的に１２０℃以下で重合が行われればよいが、具体的には重合時間の９０％以上の時間を１２０℃以下で重合する。好ましくは、重合温度が０〜１２０℃、重合時間が０．５〜２０時間であり、より好ましくは、重合温度が６０〜１２０℃、重合時間が１〜１０時間である。１２０℃以下で重合することにより、重合中の副反応としてのポリマーの分岐や主鎖間の架橋反応を抑制することが出来、アクリル系重合体に優れた熱安定性と機械的強度を付与することが出来る。

重合溶媒としては有機溶媒が好ましく、特に限定されるものではないが、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒；メタノール、エタノール、ブタノールなどのアルコール系溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いても２種類以上を併用してもよい。

エステル交換反応などの脱アルコール反応により起きる主鎖間の架橋反応が抑制できることから、重合溶媒はアルコール系溶媒を含むことが好ましい。ただし、アルコール系溶媒の含有割合が高い場合は主鎖に環構造を有する熱可塑性アクリル系重合体の溶解性が悪くなるため、有機溶媒中のアルコール系溶媒の含有割合は０〜９０％が好ましく、より好ましくは０〜５０％、さらに好ましくは０〜２０％、特に好ましくは０〜５％である。

また、重合溶媒の沸点が高すぎると、最終的に得られるアクリル系重合体の残存揮発分が多くなることから、沸点が４０〜２００℃である溶媒が好ましく、溶液製膜を実施することを考えると、重合溶媒の沸点は４０〜１２０℃が好ましい。重合溶媒の沸点が１２０℃を超える場合は、重合槽内を減圧することにより有機溶媒の沸点を下げる方法や、ジャケット部を冷却、または、重合槽内に導入したコイルによる冷却で徐熱を行う方法によって温度を制御する形態も好ましい重合形態のひとつである。

重合反応時には、必要に応じて、重合開始剤を添加してもよい。重合開始剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ｔ−アミルパーオキシ−２−エチルヘキサノエートなどの有機過酸化物；２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、ジメチル２，２’−アゾビスイソブチレートなどのアゾ化合物；などが挙げられる。これらの重合開始剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤の使用量は、単量体の組合せや反応条件などに応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものではない。

重合を行う際には、重合溶液のゲル化を抑制するために、重合溶液中に生成したアクリル系重合体の濃度が６０質量％以下となるように制御することが好ましい。具体的には、重合溶液中に生成したアクリル系重合体の濃度が６０質量％を超える場合には、重合溶媒を重合溶液に追加して６０質量％以下となるように制御することが好ましい。重合溶液中に生成したアクリル系重合体の濃度は、より好ましくは５０質量％以下、さらに好ましくは４５質量％以下である。なお、重合溶液中に生成したアクリル系重合体の濃度が低すぎると生産性が低下するので、重合溶液中に生成したアクリル系重合体の濃度は、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上である。

重合溶液の粘度や重合温度を制御するために、重合中に有機溶媒を追加するのも好ましい形態のひとつである。追加する形態としては、特に限定されるものではなく、例えば、重合溶液に連続的に重合溶媒を添加してもよいし、間欠的に重合溶媒を添加してもよい。また、添加する重合溶媒としては、例えば、重合反応の初期仕込み時に使用した溶媒と同じ種類の重合溶媒であってもよいし、異なる種類の重合溶媒であってもよいが、重合反応の初期仕込み時に使用した溶媒と同じ種類の溶媒を用いることが好ましい。また、添加する重合溶媒は、１種類のみの単一溶媒であっても２種類以上の混合溶媒であってもよい。樹脂の重合中に重合溶媒を追加することにより、重合槽内の重合溶液の粘度を一定の範囲内に制御することが可能となり、十分な攪拌を行うことが可能となると共に、高粘度下で発生するポリマー鎖の分岐や架橋を抑制できる。また、重合温度より低温の重合溶媒を追加するため、重合で発熱する重合系中の重合温度の制御も容易となる。

以上の重合工程を終了した時点で得られる重合溶液中には、通常、得られたアクリル系重合体以外に有機溶媒が含まれているが、溶媒を完全に除去してアクリル系重合体を固体状態で取り出す必要はなく、有機溶媒を含んだ状態で、続く環化反応工程に導入することが好ましい。また、必要な場合は、固体状態で取り出した後に、続く環化反応に好適な溶媒を再添加してもよい。

環化反応は、重合後に行われることが好ましく、加熱により環化反応が促進される。主鎖にラクトン環構造または無水グルタル酸構造を有するアクリル系重合体の場合、アクリル系重合体の分子鎖中に存在するヒドロキシ基またはカルボキシル基とエステル基とが環化縮合反応してラクトン環構造または無水グルタル酸構造を生じる反応であり、その環化反応によってアルコールが発生し、脱アルコールが行われる。主鎖にグルタルイミド構造アクリル系重合体の場合は、添加したアミノ基含有化合物のアミノ基とポリマー鎖中に存在するカルボキシル基とエステル基とが環化縮合反応を起こし、その環化反応によって水やアルコールが発生し、脱水と脱アルコールが行われる。環構造がアクリル系重合体の分子鎖中（アクリル系重合体の主骨格中）に形成されることにより、高い耐熱性が付与される。

環化反応を行う際に、公知の環化触媒を添加することが好ましい。樹脂の重合後に環化触媒を添加することにより、単量体と触媒の副反応や重合中の分岐・架橋が抑制され、アクリル系重合体に優れた熱安定性と機械的強度を付与することが出来る。

環化触媒としてはｐ−トルエンスルホン酸などのエステル化触媒またはエステル交換触媒を用いてもよいし、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸などの有機カルボン酸類を触媒として用いてもよい。さらに、例えば、特開昭６１−２５４６０８号公報や特開昭６１−２６１３０３号公報に開示されているように、塩基性化合物、酢酸亜鉛などの有機カルボン酸塩、炭酸塩などを用いてもよい。

あるいは、環化反応の触媒として有機リン化合物を用いてもよい。使用可能な有機リン酸化合物としては、例えば、メチル亜ホスホン酸、エチル亜ホスホン酸、フェニル亜ホスホン酸などのアルキル（アリール）亜ホスホン酸（ただし、これらは、互変異性体であるアルキル（アリール）ホスフィン酸になっていてもよい）およびこれらのモノエステルまたはジエステル；ジメチルホスフィン酸、ジエチルホスフィン酸、ジフェニルホスフィン酸、フェニルメチルホスフィン酸、フェニルエチルホスフィン酸などのジアルキル（アリール）ホスフィン酸およびこれらのエステル；メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、トリフルオルメチルホスホン酸、フェニルホスホン酸などのアルキル（アリール）ホスホン酸およびこれらのモノエステルまたはジエステル；メチル亜ホスフィン酸、エチル亜ホスフィン酸、フェニル亜ホスフィン酸などのアルキル（アリール）亜ホスフィン酸およびこれらのエステル；亜リン酸メチル、亜リン酸エチル、亜リン酸フェニル、亜リン酸ジメチル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリフェニルなどの亜リン酸モノエステル、ジエステルまたはトリエステル；リン酸メチル、リン酸エチル、リン酸２−エチルヘキシル、リン酸イソデシル、リン酸ラウリル、リン酸ステアリル、リン酸イソステアリル、リン酸フェニル、リン酸ジメチル、リン酸ジエチル、リン酸ジ−２−エチルヘキシル、リン酸オクチル、リン酸ジイソデシル、リン酸ジラウリル、リン酸ジステアリル、リン酸ジイソステアリル、リン酸ジフェニル、リン酸トリメチル、リン酸トリエチル、リン酸トリイソデシル、リン酸トリラウリル、リン酸トリステアリル、リン酸トリイソステアリル、リン酸トリフェニルなどのリン酸モノエステル、ジエステルまたはトリエステル；メチルホスフィン、エチルホスフィン、フェニルホスフィン、ジメチルホスフィン、ジエチルホスフィン、ジフェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどのモノ−、ジ−またはトリ−アルキル（アリール）ホスフィン；メチルジクロロホスフィン、エチルジクロロホスフィン、フェニルジクロロホスフィン、ジメチルクロロホスフィン、ジエチルクロロホスフィン、ジフェニルクロロホスフィンなどのアルキル（アリール）ハロゲンホスフィン；酸化メチルホスフィン、酸化エチルホスフィン、酸化フェニルホスフィン、酸化ジメチルホスフィン、酸化ジエチルホスフィン、酸化ジフェニルホスフィン、酸化トリメチルホスフィン、酸化トリエチルホスフィン、酸化トリフェニルホスフィンなどの酸化モノ−、ジ−またはトリ−アルキル（アリール）ホスフィン；塩化テトラメチルホスホニウム、塩化テトラエチルホスホニウム、塩化テトラフェニルホスホニウムなどのハロゲン化テトラアルキル（アリール）ホスホニウム；などが挙げられる。これらの有機リン化合物は、単独で用いても２種類以上を併用してもよい。これらの有機リン化合物のうち、触媒活性が高くて着色性が低いことから、アルキル（アリール）亜ホスホン酸、亜リン酸モノエステルまたはジエステル、リン酸モノエステルまたはジエステル、アルキル（アリール）ホスホン酸が好ましく、アルキル（アリール）亜ホスホン酸、亜リン酸モノエステルまたはジエステル、リン酸モノエステルまたはジエステルがより好ましく、アルキル（アリール）亜ホスホン酸、リン酸モノエステルまたはジエステルが特に好ましい。

また、塩基性の環化触媒の使用も可能であり、特開２００９−１４４１１２に記載された１２族元素の化合物、特に亜鉛化合物が好ましい。亜鉛化合物の具体的な種類は特に限定されず、例えば、酢酸亜鉛、プロピオン酸亜鉛、オクチル酸亜鉛などの有機亜鉛化合物；酸化亜鉛、塩化亜鉛、硫酸亜鉛などの無機亜鉛化合物；トリフルオロメタンスルホン酸亜鉛などのフッ素を含む有機亜鉛化合物；が挙げられる。

環化反応の際に用いる触媒の使用量は、特に限定されるものではないが、例えば、アクリル系重合体に対して、好ましくは０．００１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２．５質量％、さらに好ましくは０．０１〜１質量％、特に好ましくは０．０５〜０．５質量％である。触媒の使用量が０．００１質量％未満であると、環化反応の反応率が充分に向上しないことがある。逆に、触媒の使用量が５質量％を超えると、得られたアクリル系重合体が着色することや、アクリル系重合体の主鎖が架橋して、溶融成形が困難になることがある。

触媒の添加時期は、特に限定されるものではなく、例えば、重合工程途中に添加してもよいし、重合工程後に添加してもよいし、それらの両方で添加してもよい。重合中あるいは重合後に加熱しながら触媒を添加してもよいし、環化触媒の添加後に高温で熱処理してもよい。

環化反応において加熱する方法については、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を利用すればよい。例えば、重合工程によって得られた、重合溶媒を含む重合溶液をそのまま加熱処理してもよいし、溶媒を脱揮後に加熱処理してもよい。溶液状態でオートクレーブなどの耐圧装置中で２００℃以上の温度で環化反応を行い、高温で環化反応を促進させるのも好ましい実施形態のひとつである。あるいは、揮発成分を除去するための真空装置あるいは脱揮装置を備えた加熱炉や反応装置、脱揮装置を備えた押出機などを用いて脱揮処理を行うこともできる。本発明では、触媒を含んだ重合溶液を加圧下に熱処理することが特に好ましい実施形態である。重合溶媒と後述する環化触媒を含んだ状態で加熱した後、更に耐圧装置中加圧下で２００℃以上に加熱して環化することにより、環化度が高くて耐熱性に優れた主鎖に環構造を有するアクリル系重合体を溶液状態で得ることが出来る。

環化反応の際に採用できる反応器は、特に限定されるものではないが、例えば、オートクレーブ、釜型反応器、熱交換器と脱揮槽とからなる脱揮装置などが挙げられ、さらに、脱揮工程を同時に併用した環化反応に好適なベント付き押出機も使用可能である。これらの反応器のうち、本発明においては、釜型反応器、オートクレーブ、熱交換器が特に好ましい。環化触媒を加えてから釜型反応器において常圧で熱処理後、オートクレーブや熱交換器などの耐圧装置を使用して加圧下で２００℃以上の高温において熱処理することも好ましい実施形態のひとつである。

環化反応の際には、例えば、重合工程で得られたアクリル系重合体と重合溶媒とを含む重合溶液を無触媒で加熱反応させることも可能であるが、本発明では環化触媒を添加して加熱反応させる方法が好ましい。加熱時間は、特に限定されるものではないが、例えば、加熱温度は、好ましくは４０〜３００℃であり、加熱時間は、好ましくは１〜２０時間、より好ましくは２〜１０時間である。加熱温度が４０℃未満であるか、あるいは、加熱時間が１時間未満であると、環化反応率が低下することがある。逆に、加熱温度が３００℃を超えるか、あるいは、加熱時間が２０時間を超えると、樹脂の着色や分解が起こることがある。

本発明においては、環化反応に特開２０００-２３００１６などに記載された脱揮工程を併用することも可能である。脱揮された主鎖に環構造を有するアクリル系重合体は重合時に用いられた溶媒や溶液製膜に好ましい低沸点の溶媒に再溶解して、溶液製膜に用いられる。

環化触媒を添加し環化反応を十分行った後にも微量の未反応の反応性基が残存し、成形時に発泡やポリマー間の架橋での増粘などの問題が起きることがあるため、環化触媒の失活剤を添加することが好ましい。失活剤の添加は、残存する触媒による溶液製膜時のセルロースエステルの劣化を抑制するためにも有効である。環化反応には酸性触媒、あるいは、塩基性触媒が用いられることが多く、その場合、失活剤は中和反応により触媒を失活させるため、触媒が酸性物質である場合、失活剤は塩基性物質を用いればよく、逆に触媒が塩基性物質である場合、失活剤は酸性物質を用いればよい。失活剤としては、熱加工時に樹脂組成物を阻害する物質などを発生しない限り、特に限定されるものではないが、失活剤に塩基性物質を用いる場合、例えば、金属カルボン酸塩、金属錯体、金属酸化物などが挙げられ、金属カルボン酸塩と金属酸化物が好ましく、金属カルボン酸塩が特に好ましい。ここで、金属としては、樹脂組成物の物性を阻害せず、廃棄時に環境汚染を招くことがない限り、特に限定されるものではないが、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属；マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムなどのアルカリ土類金属；亜鉛；ジルコニウム；などが挙げられる。金属カルボン酸塩を構成するカルボン酸としては、特に限定されるものではないが、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、トリデカン酸、ペンタデカン酸、ヘプタデカン酸、乳酸、リンゴ酸、クエン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、アジピン酸などが挙げられる。金属錯体における有機成分としては、特に限定されるものではないが、アセチルアセトンなどが挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化カルシウム、酸化マグネシウムなどが挙げられ、酸化亜鉛が好ましい。他方、失活剤に酸性物質を用いる場合には、例えば、有機リン酸化合物やカルボン酸などが挙げられる。失活剤は単独で用いても２種以上を併用してもよい。なお、失活剤は固形物、粉末状、分散体、懸濁液、水溶液など、いずれの形態で添加しても良く、特に限定されるものではない。

失活剤の配合量は、環化反応に使用した触媒に応じて適宜調節すればよく、特に限定されるものではないが、好ましくはアクリル系重合体に対して、１０〜１０，０００ｐｐｍ、より好ましくは５０〜５，０００ｐｐｍ、さらに好ましくは１００〜３，０００ｐｐｍである。失活剤の配合量が１０ｐｐｍ未満であると、失活剤の作用が不十分になり、成形時に発泡やポリマー間の架橋での増粘が起こることがある。逆に、失活剤の配合量が１０，０００を越えると、必要以上に失活剤を使用することになり、分子量低下が起こるなど樹脂組成物の物性を阻害することがある。

失活剤を添加するタイミングは、アクリル系重合体の製造にあたり、触媒を添加し環化反応を十分行った後であり、かつ得られたアクリル系重合体が成形される前である限り、特に限定されるものではない。例えば、アクリル系重合体を製造中に所定の段階で失活剤を添加するか、アクリル系重合体に環化触媒を添加し熱処理して環化反応を進行させてから失活剤を添加するか、あるいは、アクリル系重合体を製造した後、アクリル系重合体、失活剤、その他の成分などを同時に加熱溶融させて混練する方法；アクリル系重合体、その他の成分などを加熱溶融させておき、そこに失活剤を添加して混練する方法；アクリル系重合体を加熱溶融させておき、そこに失活剤、その他の成分などを添加して混練する方法；などが挙げられる。この場合、熱可塑性樹脂と失活剤を混練した後に、脱揮工程を設けることも可能である。

アクリル系重合体を環化反応させて得られた、主鎖に環構造を有するアクリル系重合体に含まれる異物数は、アクリル系重合体の製造工程および／またはフィルム製膜工程において、アクリル系重合体の溶液または溶融液を、例えば、濾過精度０．０１〜１５μｍのフィルターなどで濾過することにより、減少させることができる。
（セルロースエステル）
本発明に用いられるセルロースエステルとしては、特に限定はされず、例えば芳香族カルボン酸エステル等も用いられるが、光学特性等の得られるフィルムの特性を鑑みると、セルロースの低級脂肪酸エステルを使用するのが好ましい。本発明においてセルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が５以下の脂肪酸を意味し、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースピバレート等がセルロースの低級脂肪酸エステルの好ましいものとして挙げられる。力学特性と溶融製膜性の双方を両立させるために、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレート等のように混合脂肪酸エステルを用いてもよい。その中でも、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートが好ましく用いられる。

本発明に用いられるセルロースエステルは、５０,０００〜１５０,０００の数平均分子量（Ｍｎ）を有することが好ましく、５５,０００〜１２０,０００の数平均分子量を有することが更に好ましく、６０,０００〜１００,０００の数平均分子量を有することが最も好ましい。また、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）比が１．３〜５．５のものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．５〜５．０であり、更に好ましくは１．７〜４．０であり、更に好ましくは２．０〜３．５のセルロースエステルが好ましく用いられる。

なお、Ｍｎ及びＭｗ／Ｍｎは下記の要領で、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で算出した。

本発明で用いられるセルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。製膜の際の剥離性の点からは綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは適宜混合して、或いは単独で使用することができる。

セルロースエステルは、例えば、原料セルロースの水酸基を無水酢酸、無水プロピオン酸及び／または無水酪酸を用いて常法によりアセチル基、プロピオニル基及び／またはブチル基を置換することで得られる。このようなセルロースエステルの合成方法は、特に限定はないが、例えば、特開平１０−４５８０４号或いは特表平６−５０１０４０号に記載の方法を参考にして合成することができる。

溶液製膜に用いる場合、セルロースエステルは溶媒に溶解させておくことが好ましい。有機溶媒に溶解釜中で該セルロースエステルや添加剤を攪拌しながら溶解しドープを形成することや、セルロースエステル溶液にポリマー溶液や添加剤溶液を混合してドープを形成することが考えられる。セルロースエステルの合成の際に溶媒に溶解させたままの状態で用いることも可能である。セルロースエステルの溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平９−９５５４４号、同９−９５５５７号または同９−９５５３８号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平１１−２１３７９号公報に記載の如き高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることが出来る。ドープ中のセルロースエステルの濃度は１０〜３５質量％が好ましい。溶解中または後のドープにマット剤を除く添加剤を加えて溶解した後、濾材で濾過し、脱泡して送液ポンプで次工程に送る。
濾過は、セルロースエステル中の異物は溶媒に溶解して、必要に応じて紫外線吸収剤、可塑剤、劣化防止剤、酸化防止剤、アンチブロッキング剤等の添加物を添加混合した後、実施することが出来る。溶媒としては、塩化メチレン、酢酸メチル、ジオキソラン等の溶液流延法で用いられる良溶媒を用いることができ、同時にメタノール、エタノール、ブタノール等の貧溶媒を用いてもよい。溶解の過程で−２０℃以下に冷却したり、８０℃以上に加熱したりしてもよい。もちろん、セルロースエステルの合成の際に溶媒に溶解させて濾過により低減させてもよい。

濾過の濾材は、絶対濾過精度が５０μｍ以下のものが好ましく、１〜２０μｍの範囲がより好ましい。濾材の材質には特に制限はなく、通常の濾材を使用することが出来るが、ポリプロピレン、テフロン等のプラスチック繊維製の濾材やステンレス繊維等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。
（光学積層体）
本発明の光学積層体は、主鎖に環構造を有するアクリル系重合体を主成分とするＡ層とセルロースエステルを主成分とするＢ層とを有する。Ａ層とＢ層の厚み比Ａ／Ｂは１／９９／〜５０／５０が好ましい。

本発明の光学積層体は、厚さ方向の位相差値Ｒｔｈの絶対値が５ｎｍ以下であり、より好ましくは３ｎｍ以下である。

本発明の光学積層体は、面内位相差値Ｒｅが２０ｎｍ以下であり、より好ましくは１０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは５ｎｍ以下である。

ここでいう面内位相差値Ｒｅは、
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
で、厚さ方向位相差値Ｒｔｈは、
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ
で、定義される。なお、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内でｎｘと垂直方向の屈折率、ｎｚはフィルム厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。遅相軸方向は、フィルム面内の屈折率が最大となる方向とする。

本発明の光学積層体を構成する主鎖に環構造を有するアクリル系重合体を主成分とするＡ層は、アクリル系重合体以外の成分を４０％未満の範囲で含んでいてもよい。

本発明の光学積層体を構成するセルロースエステルを主成分とするＢ層は、セルロースエステル以外の成分を４０％未満の範囲で含んでいてもよい。

その他の熱可塑性樹脂を含む場合、その他の熱可塑性樹脂は、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）などのオレフィンポリマー；塩化ビニル、塩素化ビニル樹脂などのハロゲン含有ポリマー；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体などのスチレンポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０などのポリアミド；ポリアセタール：ポリカーボネート；ポリフェニレンオキシド；ポリフェニレンスルフィド：ポリエーテルエーテルケトン；ポリエーテルニトリル；ポリサルホン；ポリエーテルサルホン；ポリオキシペンジレン；ポリアミドイミド；などである。

上記例示した熱可塑性樹脂のなかでも、アクリル系重合体との相溶性、特に主鎖にラクトン環構造を有するアクリル系重合体との相溶性に優れることから、シアン化ビニル単量体に由来する構成単位と芳香族ビニル単量体に由来する構成単位とを含む共重合体が好ましい。当該共重合体は、例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合体である。

紫外線吸収剤を含む場合、紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系化合物、サリシケート系化合物、ベンゾエート系化合物、トリアゾール系化合物およびトリアジン系化合物等が挙げられる。ベンゾフェノン系化合物としては、２，４−ジーヒドロキシベンゾフェノン、４−ｎ−オクチルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、１，４−ビス（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノン）−ブタン等が挙げられる。サリシケート系化合物としては、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシケート等が挙げられる。ベンゾエート系化合物としては、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。また、トリアゾール系化合物としては、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−ベンゾトリアゾール−２−イル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−［５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミジルメチル）フェノール、メチル３−（３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応生成物、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−Ｃ７−９側鎖及び直鎖アルキルエステルが挙げられる。さらに、トリアジン系化合物としては、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシエトキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス「２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル」−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３−５−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−アルキルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−５−α−クミルフェニル］−ｓ−トリアジン骨格（アルキルオキシ；オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシなどの長鎖アルキルオキシ基）を有する紫外線吸収剤が挙げられる。市販品としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤として「チヌビン１５７７」「チヌビン４６０」「チヌビン４７７」（チバジャパン製）、トリアゾール系紫外線吸収剤として「アデカスタブＬＡ−３１」（ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。

これらは単独で、または２種類以上の組み合わせて使用することができる。上記紫外線吸収剤の配合量は特に限定されないが、光学積層体中に０．０１〜２５質量％であることが好ましく、さらに好ましくは０．０５〜１０質量％である。添加量が少なすぎると耐候性向上の寄与が低く、また多すぎると機械強度の低下や黄変を引き起こす場合がある。

本発明の光学積層体は、酸化防止剤を含んでいてもよい。酸化防止剤は特に限定されないが、例えば、ヒンダードフェノール系、リン系あるいはイオウ系などの公知の酸化防止剤を、１種類で、または２種類以上を併用して用いることができる。

酸化防止剤はフェノール系の酸化防止剤であってもよい。フェノール系酸化防止剤は、例えば、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アセテート、ｎ−オクタデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオドデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチル−α−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシル−α−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシル−α−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミド−Ｎ，Ｎ−ビス−［エチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノ−Ｎ，Ｎ−ビス−［エチレン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル−７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−１−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス−［３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，１，１−トリメチロールエタントリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−ヒドロキシエチル−７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル−７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオールビス［（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリトリトールテトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−［β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］−ウンデカンである。

フェノール系酸化防止剤は、チオエーテル系酸化防止剤またはリン酸系酸化防止剤と組み合わせて使用することが好ましい。組み合わせる際の酸化防止剤の添加量は、アクリル系重合体に対してフェノール系酸化防止剤およびチオエーテル系酸化防止剤の各々が０．０１質量％以上、あるいはフェノール系酸化防止剤およびリン酸系酸化防止剤の各々が０．０２５質量％以上である。

チオエーテル系酸化防止剤は、例えば、ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネートである。

リン酸系酸化防止剤は、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト、２−［［２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェピン−６−イル］オキシ］−Ｎ，Ｎ−ビス［２−［［２，４，８，１０−テトラキス（１，１ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェピン−６−イル］オキシ］−エチル］エタナミン、ジフェニルトリデシルフォスファイト、トリフェニルフォスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリストールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジフォスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）フォスファイトである。

本発明の光学積層体における酸化防止剤の添加量は、例えば０〜１０質量％であり、好ましくは０〜５質量％であり、より好ましくは０．０１〜２質量％であり、さらに好ましくは０．０５〜１質量％がである。酸化防止剤の添加量が過度に大きくなると、成形時に酸化防止剤のブリードアウトやシルバーストリークスが発生することがある。

本発明の光学積層体は、その他の添加剤を含んでいてもよい。その他の添加剤は、例えば、耐光安定剤、耐候安定剤、熱安定剤などの安定剤；ガラス繊維、炭素繊維などの補強材；近赤外線吸収剤；トリス（ジブロモプロピル）ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモンなどの難燃剤；アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤に代表される帯電防止剤；無機顔料、有機顔料、染料などの着色剤；有機フィラー、無機フィラー；樹脂改質剤；アンチブロッキング剤；マット剤；酸補足剤；金属不活性化剤；可塑剤；滑剤；難燃剤；ＡＳＡやＡＢＳなどのゴム質量体などである。本発明の光学積層体における好ましい可塑剤としては、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、カルボン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤であり、特に好ましくは多価アルコールエステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤等の非リン酸エステル系可塑剤である。本発明の光学積層体における、上記その他の添加剤の添加量は、例えば０〜５質量％であり、好ましくは０〜２質量％であり、より好ましくは０〜０．５質量％である。

本発明の光学積層体の厚さは特に限定されないが、例えば１０μｍ〜５００μｍであり、２０μｍ〜３００μｍが好ましく、３０μｍ〜１５０μｍが特に好ましい。

本発明の光学積層体は、全光線透過率が８５％以上であることが好ましい。より好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９１％以上である。全光線透過率は、透明性の目安であり、８５％未満であると透明性が低下し、光学用途に適さないことがある。

本発明の光学積層体は、着色が少なく、２５０μｍ厚みあたりのｂ値が好ましくは０．５以下であり、より好ましくは０．３以下である。

本発明の光学積層体は、好ましくはヘイズが５％以下であり、より好ましくは３％以下であり、さらに好ましくは１％以下である。ヘイズが５％を越えると透過率が低下し、光学用途に適さないことがある。

本発明の光学積層体は、好ましくは反射率が１０％以下である。反射率が１０％を越えると光線透過率が低下し、光学用途に適さないことがある。

本発明の光学積層体の表面には、必要に応じて、各種の機能性コーティング層が形成されていてもよい。機能性コーティング層は、例えば、帯電防止層、粘接着剤層、接着層、易接着層、防眩（ノングレア）層、光触媒層などの防汚層、反射防止層、ハードコート層、紫外線遮蔽層、熱線遮蔽層、電磁波遮蔽層、ガスバリヤー層などである。

本発明の光学積層体の用途は特に限定されないが、その高い透明性、耐熱性により、光学部材として好適に用いることができる。光学部材としては、例えば、光学用保護フィルム、具体的には、各種の光ディスク（ＶＤ、ＣＤ、ＤＶＤ、ＭＤ、ＬＤなど）基板の保護フィルム、液晶表示装置（ＬＣＤ）などの画像表示装置が備える偏光板に用いる偏光子保護フィルムである。位相差フィルム、視野角補償フィルム、光拡散フィルム、反射フィルム、反射防止フィルム、防眩フィルム、輝度向上フィルム、タッチパネル用導電フィルムなどの光学フィルムとして、本発明の光学積層体を用いてもよい。特に、偏光子保護フィルムや位相差フィルムとして好適に用いられる。

本発明の光学積層体の製造方法は、溶液製膜法、溶融製膜法など特に限定されず、公知の手法を用いることができる。例えば、前記Ａ層、Ｂ層を別々に形成後に積層してもよいし、前記Ａ層を形成後、Ａ層を基材としてＢ層を製膜することで積層してもよいし、Ａ層とＢ層を逆にして積層してもよい。また、共流延や共押出等の同時製膜を行うことで積層することもできる。

溶液製膜法における塗工方法としてはダイコーター、ドクターブレードコーター、ロールコーター、コンマコーター、リップコーター等が好ましいが、これらの例に限定されずに通常使用される種々の方法が可能である。

溶融製膜法における成形方法としては、プレス成形、インフレーション成形、Ｔダイ成形などが挙げられるが、これらに限定されず種々の方法が可能である。

本発明の光学積層体の製造工程は、接着性向上のために、けん化処理やコロナ処理、プラズマ処理、さらには、易接着層などの塗布などの工程を有していても良い。また、防眩層やハードコート層などの各種の機能性コーティング層を設ける工程や延伸工程を有することも可能である。

延伸する場合は、一軸延伸でも良いし、二軸延伸でも良い。二軸延伸する場合は、同時二軸延伸でも良いし、逐次二軸廷伸でも良い。延伸した場合は、機械強度が向上しフィルム性能が向上する。

延伸温度としては、光学フィルムのガラス転移温度近辺で行うことが好ましく、具体的には、（ガラス転移温度−３０）℃〜（ガラス転移温度＋１００）℃で行うことが好ましく、より好ましくは（ガラス転移温度−２０）℃〜（ガラス転移温度＋８０）℃である。（ガラス転移温度−３０）℃よりも低いと、十分な延伸倍率が得られないために好ましくない。（ガラス転移温度＋１００）℃よりも高いと、樹脂の流動（フロー）が起こり安定な延伸が行えなくなるために好ましくない。

面積比で定義した廷伸倍率は、好ましくは１．１〜２５倍の範囲、より好ましくは１．３〜１０倍の範囲で行われる。１．１倍よりも小さいと、延伸に伴う靱性の向上につながらないために好ましくない。２５倍よりも大きいと、延伸倍率を上げるだけの効果が認められない。

延伸速度（一方向）としては、好ましくは１０〜２００００％／分の範囲、より好ましくは１００〜１００００％／分の範囲である。１０％／分よりも遅いと、十分な延伸倍率を得るために時間がかかり、製造コストが高くなるために好ましくない。２００００％／分よりも早いと、光学フィルムの破断等が起こるおそれがあるために好ましくない。

フィルムの光学等方性や力学特性を安定化させるため、溶液製膜後や延伸処理後に熱処理（アニーリング）などを行うこともできる。

＜ガラス転移温度＞
重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＪＩＳ Ｋ７１２１に準拠して求めた。具体的には、示差走査熱量計（リガク社製、ＤＳＣ−８２３０）を用い、窒素ガス雰囲気下、約１０ｍｇのサンプルを常温から２００℃まで昇温（昇温速度２０℃／分）して得られたＤＳＣ曲線から、始点法により評価した。リファレンスには、α−アルミナを用いた。

＜重量平均分子量＞
重合体の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて、ポリスチレン換算により求めた。測定に用いた装置および測定条件は以下の通りである。

システム：東ソー製
カラム：ＴＳＫ−ＧＥＬ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｍ ６．０×１５０ ２本直列
ガードカラム：ＴＳＫ−ＧＥＬ ＳｕｐｅｒＨＺ−Ｌ ４．６×３５ １本
リファレンスカラム：ＴＳＫ−ＧＥＬ ＳｕｐｅｒＨ−ＲＣ ６．０×１５０ ２本直列
溶離液：クロロホルム 流量０．６ｍＬ／分
カラム温度：４０℃
＜フィルムの厚さ＞
デジマチックマイクロメーター（（株）ミツトヨ製）を用いて測定した。

＜ヘイズ＞
全光線透過率およびヘイズは、濁度計（日本電色工業社製、ＮＤＨ ５０００）を用いて測定した。

＜面内位相差Ｒｅ＞
光学積層体の面内位相差Ｒｅは、全自動複屈折計（王子計測機器製、ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用いて測定波長５８９ｎｍを用いて評価した。

＜厚さ方向の位相差Ｒｔｈ＞
光学積層体の厚さ方向の位相差Ｒｔｈは、全自動複屈折計（王子計測機器製、ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用いて測定波長５８９ｎｍを用い、遅相軸を傾斜軸として４０°傾斜して測定した値を基に算出した。

＜反射率＞
５５０ｎｍにおける反射率は、分光光度計（島津製作所製、ＵＶ−３７００）にて積分球を用いてＡ層側から入射して測定した。

（製造例１）アクリル系重合体組成物（Ａ−１）の製造
攪拌装置、温度計、冷却器、窒素導入管を備えた１０００Ｌ反応釜に、メタクリル酸メチル４０部、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル１０部、トルエン５０部、アデカスタブ２１１２（ＡＤＥＫＡ製）０．０２５部を仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温させ、還流したところで、開始剤とｔ−アミルパーオキシイソノナノエート（アトフィナ吉富製、商品名：ルパゾール５７０）を０．０５部添加すると同時に、０．１０部のｔ−アミルパーオキシイソノナノエートを２時間かけて滴下しながら、還流下（約１０５〜１１０℃）で溶液重合を行い、さらに４時間かけて熟成を行った。

上記重合体溶液に、リン酸オクチル（堺化学工業製、商品名：Ｐｈｏｓｌｅｘ Ａ−８）を０．０５部加え、還流下（約９０〜１１０℃）において２時間環化縮合反応を進行させた。

次いで、上記環化縮合反応で得られた重合体溶液を、２４０℃に加熱した多管式熱交換器を通して環化縮合反応を完結させた後、バレル温度２４０℃、回転数１２０ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ、リアベント数１個、フォアベント数４個（上流側から第１、第２、第３、第４ベントと称する）第３ベントと第４ベントの間にサイドフィーダーを有するのベントタイプスクリュー二軸押出機（φ＝４４ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝５２．５）に、樹脂量換算で２２．４ｋｇ／時間の処理速度で導入し、脱揮を行った。そのとき、別途準備しておいた酸化防止剤・失活剤混合溶液を、第２ベントの後から高圧ポンプを用いて０．３ｋｇ／時間の投入速度で注入した。また、第１ベントの後およびサイドフィーダーの後から高圧ポンプを用いてイオン交換水をそれぞれ０．３ｋｇ／時間の投入速度で注入した。

また、サイドフィーダーからＡＳ樹脂（旭化成ケミカルズ製、商品名：スタイラックＡＳ７８３Ｌ）を９．６ｋｇ/時間の供給速度で添加した。

さらに、溶融混練した樹脂をリーフディスク型のポリマーフィルター（長瀬産業製、濾過精度５μｍ）でろ過した。

酸化防止剤・失活剤混合溶液はアデカスタブＡＯ−６０（ＡＤＥＫＡ製）５０部、オクチル酸亜鉛（日本化学産業製、ニッカオクチクス亜鉛３．６％）４０部をトルエン２１０部に溶解して調製した。

上記脱揮操作により、アクリル系重合体組成物（Ａ−１）のペレットを得た。樹脂部の重量平均分子量は１５１,０００、ガラス転移温度は１２２℃であった。

（製造例２）アクリル系重合体組成物（Ａ−２）の製造
攪拌装置、温度計、冷却器、窒素導入管を備えた１０００Ｌ反応釜に、メタクリル酸メチル３５部、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル１０部、トルエン５０部、アデカスタブ２１１２（ＡＤＥＫＡ製）０．０２５部を仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温させ、還流したところで、開始剤とｔ−アミルパーオキシイソノナノエート（アトフィナ吉富製、商品名：ルパゾール５７０）を０．０５部添加すると同時に、０．１０部のｔ−アミルパーオキシイソノナノエートとスチレン５部を２時間かけて滴下しながら、還流下（約１０５〜１１０℃）で溶液重合を行い、さらに４時間かけて熟成を行った。

上記重合体溶液に、リン酸オクチル（堺化学工業製、商品名：Ｐｈｏｓｌｅｘ Ａ−８）を０．０５部加え、還流下（約９０〜１１０℃）において２時間環化縮合反応を進行させた。

次いで、上記環化縮合反応で得られた重合体溶液を、２４０℃に加熱した多管式熱交換器を通して環化縮合反応を完結させた後、バレル温度２４０℃、回転数１２０ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ、リアベント数１個、フォアベント数４個（上流側から第１、第２、第３、第４ベントと称する）を有するのベントタイプスクリュー二軸押出機（φ＝４４ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝５２．５）に、樹脂量換算で２５ｋｇ／時間の処理速度で導入し、脱揮を行った。そのとき、別途準備しておいた酸化防止剤・失活剤混合溶液を、第２ベントの後から高圧ポンプを用いて０．３ｋｇ／時間の投入速度で注入した。また、第１ベントと第３ベントの後から高圧ポンプを用いてイオン交換水をそれぞれ０．３ｋｇ／時間の投入速度で注入した。

さらに、溶融混練した樹脂をリーフディスク型のポリマーフィルター（長瀬産業製、濾過精度５μｍ）でろ過した。

酸化防止剤・失活剤混合溶液はアデカスタブＡＯ−６０（ＡＤＥＫＡ製）５０部、オクチル酸亜鉛（日本化学産業製、ニッカオクチクス亜鉛３．６％）４０部をトルエン２１０部に溶解して調製した。

上記脱揮操作により、アクリル系重合体組成物（Ａ−２）のペレットを得た。樹脂部の重量平均分子量は１６４,０００、ガラス転移温度は１２８℃であった。

（製造例３）セルロースエステルフィルム（Ｂ−１）の製造
酢酸セルロース（アセチル基置換度 ６１．３〜６１．９％、粘度（６０ｇ／Ｌ、２５℃） ８０〜１１０ｍＰ・ｓ）２０部、塩化メチレン６３部、メタノール６部、トリフェニルフォスフェート１部、ビフェニルジフェニルフォスフェート０．４部、平均粒子径１６ｎｍのシリカ粒子（商品名：ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル製）０．０２５部をミキシングタンクに投入して各成分を均一に混合して、セルロースエステル溶液を調製した。得られた溶液を濾過精度１０μｍのフィルターで濾過した後、２２℃にてバンド流延装置を用いて、ステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、タックフリー状態（塗膜に指で触れてみて付着しなくなる状態）になるまで溶媒を蒸発させた後、剥離張力１５０Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上から剥離した。剥離したフィルムを３５℃で溶媒を蒸発させた後、段階的に乾燥温度を１３５℃まで上げて乾燥させて、膜厚８０μｍのセルロースエステルフィルム（Ｂ−１）を得た。

＜実施例１＞
製造例１で得たアクリル系重合体組成物（Ａ−１）２０部を塩化メチレン８０部に溶解し、得られた溶液を濾過精度１０μｍのフィルターで濾過した後、製造例３で得たセルロースエステルフィルム（Ｂ−１）に塗布した。これを段階的に乾燥温度を１００℃まで上げて乾燥させて、膜厚１０７μｍの光学積層体を得た。得られた光学積層体のＲｅは４．９ｎｍ、Ｒｔｈは−１．６ｎｍ、全光線透過率は９２．１％、ヘイズは０．２０％、５５０ｎｍでの反射率は７．８％であった。

＜実施例２＞
製造例２で得たアクリル系重合体組成物（Ａ−２）２０部を塩化メチレン８０部に溶解し、得られた溶液を濾過精度１０μｍのフィルターで濾過した後、製造例３で得たセルロースエステルフィルム（Ｂ−１）に塗布した。これを段階的に乾燥温度を１００℃まで上げて乾燥させて、膜厚１１３μｍの光学積層体を得た。得られた光学積層体のＲｅは２．４ｎｍ、Ｒｔｈは３．５ｎｍ、全光線透過率は９２．０％、ヘイズは０．２２％、５５０ｎｍでの反射率は７．７％であった。

＜実施例３＞
製造例１で得たアクリル系重合体組成物（Ａ−１）２０部、紫外線吸収剤としてアデカスタブＬＡ−３１（ＡＤＥＫＡ製）０．４部、チヌビン１５７７（チバジャパン製）０．４部を塩化メチレン８０部に溶解し、得られた溶液を濾過精度１０μｍのフィルターで濾過した後、製造例３で得たセルロースエステルフィルム（Ｂ−１）に塗布した。これを段階的に乾燥温度を１００℃まで上げて乾燥させて、膜厚１０８μｍの光学積層体を得た。得られた光学積層体のＲｅは３．４８ｎｍ、Ｒｔｈは１．６２ｎｍ、全光線透過率は９２．０％、ヘイズは０．２１％、５５０ｎｍでの反射率は７．６％であった。

＜実施例４＞
実施例１で得られた光学積層体を逐次２軸延伸機（東洋精機製作所製）で１５５℃にて８００ｍｍ／分の速度で縦・横方向（ＭＤ・ＴＤ方向）の順にそれぞれ１．８倍になるように逐次二軸延伸を行った。延伸後、速やかに試験装置からフィルムを取り出して冷却し、Ａ層が約９μｍ、Ｂ層が約２５μｍである厚さ３４μｍの延伸光学積層体を得た。得られた延伸光学積層体の面内位相差Ｒｅは１．４ｎｍ、厚さ方向位相差Ｒｔｈは−２．５ｎｍ、全光線透過率は９２．８％、ヘイズは０．１８％、５５０ｎｍでの反射率は７．７％であった。

＜実施例５＞
製造例１で得られたアクリル系重合体組成物（Ａ−１）のペレットを単軸押出機（φ＝２０ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝２５）を用いて、２８０℃でコートハンガータイプＴダイ（幅１５０ｍｍ）から溶融押出を行い、温度１１０℃の冷却ロール上に吐出して、厚さ１０４μｍのフィルムを作製した。次に作成したフィルムを、逐次二軸延伸機（東洋精機製作所製）を用いて、ＭＤ方向の延伸倍率が２．０倍、ＴＤ方向の延伸倍率が１．５倍となるように、延伸温度１３０℃で逐次２軸延伸して、厚さ５３μｍのフィルムを得た。得られたフィルム上に製造例３で作成したセルロースエステル溶液を濾過精度１０μｍのフィルターで濾過した後に延伸フィルム上に塗布した。これを段階的に乾燥温度を１００℃まで上げて乾燥させて、膜厚１２８μｍの光学積層体を得た、得られた光学積層体の面内位相差Ｒｅは２．８ｎｍ、厚さ方向位相差Ｒｔｈは−３．５ｎｍ、全光線透過率は９１．９％、ヘイズは０．２１％、５５０ｎｍでの反射率は７．８％であった。

＜比較例＞
ポリメチルメタクリレート（商品名：スミペックスＥＸ、住友化学製）２０部を塩化メチレン８０部に溶解し、製造例３で得たセルロースエステルフィルム（Ｂ−１）に塗布した。これを段階的に乾燥温度を１００℃まで上げて乾燥させて、膜厚１１０μｍの光学積層体を得た。得られた光学積層体のＲｅは２．８ｎｍ、Ｒｔｈは１５．２ｎｍ、全光線透過率は９１．９％、ヘイズは０．２０％、５５０ｎｍでの反射率は７．５％であった。

本発明の光学積層体は、その高い透明性、耐熱性により、光学部材として好適に用いることができる。光学部材としては、例えば、偏光子保護フィルムなどの光学用保護フィルムや位相差フィルム、視野角補償フィルム、光拡散フィルム、反射フィルム、反射防止フィルム、防眩フィルム、輝度向上フィルム、タッチパネル用導電フィルムなどに好適に用いられる。

Claims (3)

1. 主鎖に環構造を有するアクリル系重合体を主成分とするＡ層とセルロースエステルを主成分とするＢ層を有する光学積層体であって、Ａ層とＢ層の厚み比Ａ／Ｂが１／９９から５０／５０の範囲であり、厚さ方向の位相差Ｒｔｈの絶対値が５ｎｍ以下である光学積層体。
2. 前記Ａ層とＢ層を積層した後に、延伸して得られる請求項１に記載の光学積層体。
3. 前記Ａ層が紫外線吸収能有する請求項１または２に記載の光学積層体。