JP2011044597A - 液処理システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】薬液を用いて基板を液処理する液処理部COTと、基板を液処理部COTに搬入出する搬送部8と、液処理部COTと搬送部8との間を仕切るとともに、搬送部8が基板Wを液処理部COTに搬入出するための開口部51が設けられた仕切板50とを備え、仕切板50に、液処理部COTが設けられた空間27の雰囲気を排気する排気孔52が設けられたことを特徴とする。
【選択図】図4
Description
(第1の実施の形態)
始めに、図1から図8を参照し、第1の実施の形態に係るレジスト塗布現像処理システムについて説明する。
(第1の実施の形態の変形例)
次に、図7及び図8を参照し、第1の実施の形態の変形例に係るレジスト塗布現像処理システムについて説明する。
(第2の実施の形態)
次に、図9を参照し、第2の実施の形態に係るレジスト塗布現像処理システムについて説明する。
(第2の実施の形態の変形例)
次に、図10を参照し、第2の実施の形態の変形例に係るレジスト塗布現像処理システムについて説明する。
(第3の実施の形態)
次に、図11を参照し、第3の実施の形態に係るレジスト塗布現像処理システムについて説明する。
(第3の実施の形態の変形例)
次に、図12を参照し、第3の実施の形態の変形例に係るレジスト塗布現像処理システムについて説明する。
26 搬送室
27 塗布処理室(空間)
28、29 加熱処理室
50 第1の仕切板(仕切板)
51 第1の開口部(開口部)
52 第1の排気孔
53 第1の排気流路
60 第2の仕切板
70 第3の仕切板
COT 塗布処理部(液処理部)
Claims (7)
- 薬液を用いて基板を液処理する液処理部と、
前記基板を前記液処理部に搬入出する搬送部と、
前記液処理部と前記搬送部との間を仕切るとともに、前記搬送部が前記基板を前記液処理部に搬入出するための開口部が設けられた仕切板と
を備え、
前記仕切板に、前記液処理部が設けられた空間の雰囲気を排気する排気孔が設けられたことを特徴とする液処理システム。 - 前記開口部の内周面に、前記排気孔が設けられたことを特徴とする請求項1に記載の液処理システム。
- 前記仕切板の前記液処理部側の面に、前記排気孔が設けられたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の液処理システム。
- 前記仕切板の内部に、前記排気孔と連通する排気流路が設けられたことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の液処理システム。
- 前記仕切板は複数の部分に分割され、
分割された各部分ごとに異なる前記排気流路が設けられたことを特徴とする請求項4に記載の液処理システム。 - 前記排気流路にケミカルフィルタが設けられたことを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の液処理システム。
- 基板を熱板に載置して加熱処理する加熱処理部と、
前記基板を前記加熱処理部に搬入出する搬送部と、
前記加熱処理部と前記搬送部との間を仕切るとともに、前記搬送部が前記基板を前記加熱処理部に搬入出するための開口部が設けられた仕切板と
を備え、
前記仕切板に、前記加熱処理部が設けられた空間の雰囲気を排気する排気孔が設けられたことを特徴とする液処理システム。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013175685A (ja) * | 2012-02-27 | 2013-09-05 | Disco Abrasive Syst Ltd | 洗浄装置 |
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2009
- 2009-08-21 JP JP2009192100A patent/JP5437739B2/ja active Active
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