JP2011034734A - 電界放出型電子源 - Google Patents
電界放出型電子源 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011034734A JP2011034734A JP2009178302A JP2009178302A JP2011034734A JP 2011034734 A JP2011034734 A JP 2011034734A JP 2009178302 A JP2009178302 A JP 2009178302A JP 2009178302 A JP2009178302 A JP 2009178302A JP 2011034734 A JP2011034734 A JP 2011034734A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- emitter
- conductive material
- target
- field emission
- electron source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
Abstract
【課題】 電界放出型電子源における電子放出部の劣化を抑えることによって長寿命化を実現する。
【解決手段】 電界が印加されることにより電子を放出する電界放出型電子源において、ターゲット3に対し電子流を放出するエミッタ1の周囲に導電性材料4を、ターゲット3とエミッタ1との間の距離よりもターゲット3と導電性材料4との間の距離が短くなるように配置し、ターゲット3と導電性材料4との間に、ターゲット3とエミッタ1との間に印加する電圧と略同じ電圧を印加する。
【選択図】 図2
【解決手段】 電界が印加されることにより電子を放出する電界放出型電子源において、ターゲット3に対し電子流を放出するエミッタ1の周囲に導電性材料4を、ターゲット3とエミッタ1との間の距離よりもターゲット3と導電性材料4との間の距離が短くなるように配置し、ターゲット3と導電性材料4との間に、ターゲット3とエミッタ1との間に印加する電圧と略同じ電圧を印加する。
【選択図】 図2
Description
本発明は、電界が印加されることにより電子を放出する電界放出型電子源に関する。
従来、電子顕微鏡、電子線管、X線管等に用いられ、電界が印加されることにより電子を放出する電界放出型電子源が知られている。電界放出型電子源の冷陰極(エミッタ)から放出される電子の流れ(放出電流)Jは、電界の強さをF、仕事関数をφ、定数をA、Bとしたとき、次式(1)で表される。
J=A(F2/φ)exp[−Bφ3/2/F] ・・・(1)
式(1)によれば、仕事関数φを低くすることにより大きな放出電流Jを得ることができる。
式(1)によれば、仕事関数φを低くすることにより大きな放出電流Jを得ることができる。
上記の電界放出型電子源の使用例として、電界放出型X線管がある。これは、電界放出型電子材料からなるエミッタに強電界を印加して電子を放出させ、電子をX線発生ターゲットに照射することによってX線を発生させるものである。かかるX線管において、エミッタから電子を放出させるためには、X線発生ターゲットとエミッタとの間に高電圧を印加し、エミッタ先端から電子放出をさせるのに十分な電界強度を与えなければならない。
このタイプのX線管は、図8に模式的に示すように、エミッタ1及び電圧源2を備えた電子源とX線ターゲット3とをガラス管内に封入し、その内部を高真空状態に保持するように構成される。このX線ターゲット3とエミッタ1との間に電圧源2から高電圧VETを印加すると共にエミッタ1の先端に強電界を印加することにより、エミッタ1から放出された電子がターゲット3に照射され、ターゲット3からX線が発生する。このとき、放出された電子がターゲット3に衝突すると、ターゲット3に付着したガスがイオン化し、イオン化ガスがエミッタ1に向かってくる。
従来の電界放出型X線管では、その構成部材のうちエミッタに最も強い電界が印加されると共に、上記のように発生したイオンが高電圧で加速されてエミッタに衝突することによりエミッタの電子放出部が消失し、その電子放出能力が失われる。従って、エミッタの寿命を延ばすためには、イオンの衝突を回避することが必要である。
すなわち、上記のような電界放出型X線管の寿命は、イオンの衝突による電子放出部の消失の度合に依存する。図9に示すように、イオンは電気力線に沿って移行し、電気力線はエミッタ1の先端に集中するので、強電界が印加された電子放出部材に対するイオンの衝突頻度は、低電界が印加された部材よりも高くなる。このため、従来の電界放出部を形成する電子材料の寿命は短く、これがX線管などの長寿命化の障害となっていた。
本発明は、上記のような電界放出型電子源における電子放出部の劣化を抑えることによって長寿命化を実現できる電界放出型電子源を提供することを目的とする。
本発明の第1の態様(第1発明)は、電界が印加されることにより電子を放出する電界放出型電子源において、ターゲットに対し電子流を放出するエミッタの周囲に導電性材料を、ターゲットとエミッタとの間の距離よりもターゲットと導電性材料との間の距離が短くなるように配置し、ターゲットと導電性材料との間に、ターゲットとエミッタとの間に印加するのと同じ電圧を印加することを特徴とする。
第1発明によれば、導電性材料が、ターゲットとエミッタとの間の距離よりもターゲットと導電性材料との間の距離が短くなるように配置されるので、エミッタよりもそれを囲む導電性材料の電界強度が強く、X線発生ターゲットで発生したイオンは、エミッタに向かうより導電性材料に向かっていく。このため、エミッタの先端部におけるイオン衝撃頻度は従来の電界放出型電子源に比して圧倒的に小さくなる。これにより、電界放出型電子源の寿命を延ばし、実用に供し得る寿命を有するX線管等が得られる。
本発明の第2の態様(第2発明)は、電界が印加されることにより電子を放出する電界放出型電子源において、ターゲットに対し電子流を放出するエミッタの周囲に導電性材料を、ターゲットとエミッタとの間の距離よりもターゲットと導電性材料との間の距離が短くなるように配置して、エミッタに印加される電界よりも導電性材料に印加される電界の強度が大きくなるように構成すると共に、エミッタと導電性材料との間に、前記電界の強度の関係が反転しない範囲で電圧を印加する調節用電源を備えたことを特徴とする。
第2発明によれば、導電性材料が、ターゲットとエミッタとの間の距離よりもターゲットと導電性材料との間の距離が短くなるように配置されるので、エミッタよりもそれを囲む導電性材料の電界強度が強く、X線発生ターゲットで発生したイオンは、エミッタに向かうより導電性材料に向かっていく。このため、エミッタの先端部におけるイオン衝撃頻度は従来の電界放出型電子源に比して圧倒的に小さくなる。
また、エミッタと導電性材料との間に、前記電界の強度の関係が反転しない範囲で電圧を印加する調節用電源を備えたことにより、エミッタと導電性材料との電位差を微調整することができる、すなわち導電性材料の電位をエミッタの電位より低くする程度を調整することで、導電性材料へのイオンの引き込み量を調整することができ、ひいてはエミッタへのイオンの衝突を更に減少又は微調整することができる。これにより、電界放出型電子源の寿命を延ばし、実用に供し得る寿命を有するX線管等が得られる。
上記第1、第2発明の電界放出型電子源において、前記導電性材料はエミッタに比べて仕事関数の高い材料であることが好ましい。
本発明によれば、導電性材料の電界強度がエミッタに比して強いので、導電性材料の仕事関数が低いと、導電性材料からの電子放出がエミッタからの電子放出より優勢となる可能性があるが、前記導電性材料にエミッタに比べて仕事関数の高い材料を用いることで、導電性材料からの電子放出がエミッタからの電子放出より優勢となるのを防止できる。
また、上記導電性材料は、イオン衝突によるスパッタを生じない材料が好適であり、原子番号の大きい材料或いは共有結合性の強い材料が好ましい。なぜなら、電界放出型電子源で生じるイオンは、数10keVのエネルギーを有しているため、スパッタが生じると更なるイオンの発生が起こり得るからである。
以下、本発明の実施形態について説明する。
図1は、本発明の実施形態に係る電界放出型電子源の構造を示す。これは、棒状のエミッタ1の上方に、円筒状の導電性材料4をエミッタ1と心合せして配置した構造である。すなわち、エミッタ1は、導電性材料4の中心部の円孔5の下方で同心位置に配置されている。そして、図2に示すように、導電性材料4は、ターゲット3とエミッタ1との間の距離よりもターゲット3と当該導電性材料4との間の距離が短くなるように配置されている。
この構造によれば、電界が図の矢印方向に印加されると、導電性材料4の電界強度はエミッタ1のそれよりも強くなる。すなわち、図1の電界放出型電子源においては、エミッタ1を導電性材料4で取り囲み、導電性材料4は、これに印加される電界強度がエミッタ1よりも強くなるように配置される。
図2は、図1の電界放出型電子源において、エミッタ1及び導電性材料4とターゲット3との間に高電圧VETを印加するための回路構成を示す。ここで、エミッタ1と導電性材料4が同電位の状態でエミッタ‐ターゲット間に高電圧VETを印加すると、図3に示すように、電気力線がエミッタ1の先端部へ集中するのが緩和される。そして、より高い電界強度が印加された導電性部材4へイオンが流れるため、エミッタ1へのイオン流入量が少なくなる。
なお、電気力線の数は、ターゲット・エミッタ間の距離、印加電圧、エミッタ1と導電性材料4の幾何学的位置関係等によって変動する。
本発明にかかる電界放出型電子源では、エミッタを囲む導電性材料は、エミッタに比べて前記仕事関数φの高い材料が好ましい。本発明によれば、導電性材料の電界強度がエミッタに比して強いので、導電性材料の仕事関数が低いと、エミッタからの電子放出よりも導電性材料からの電子放出が優勢となる可能性があるが、導電性材料として、エミッタに比べて仕事関数の高い材料を用いることで、そのような可能性をなくすことができる。
また、導電性材料は、イオン衝突によるスパッタを生じない材料が好適であり、原子番号の大きい材料或いは共有結合性の強い材料が好ましい。なぜなら、イオンは数10keVのエネルギーを有しているため、スパッタにより更なるイオンの発生が起こり得るからである。
本発明の電界放出型電子源は、図1の構造に限らず、図4に示すように、エミッタ1の上方周囲に針状の導電性材料4を複数配置した構造でもよい。この場合、エミッタ1は、その上方円周上に配置した導電性材料4からなる円の中心位置に配置されている。そして、導電性材料4は、ターゲット3とエミッタ1との間の距離よりもターゲット3と当該導電性材料4との間の距離が短くなるように配置されている。
従って、この構造の電界放出型電子源においても、電界が図の矢印方向に印加されると、導電性材料4の電界強度はエミッタ1のそれよりも強くなる。このため、より高い電界強度を印加された導電性材料4へイオンが流れるので、エミッタ1へのイオン流入量が少なくなり、エミッタ1における電子放出部の消滅が抑えられる。
以上のように、図2及び図4の電界放出型電子源においては、エミッタ1を導電性材料4で取り囲み、導電性材料4は、ターゲット3とエミッタ1との間の距離よりもターゲット3と導電性材料4との間の距離が短くなるように配置されることで、導電性材料4に印加される電界強度がエミッタ1に印加される電界よりも強くなる。このため、X線発生ターゲットで発生したイオンは、エミッタ1に向かうよりも多く導電性材料4に向かうので、エミッタ1の先端部におけるイオン衝撃頻度は従来の電界放出型X線管に比して圧倒的に小さくなる。これにより、実用に供し得る寿命を有する電界放出型X線管が得られる。
また、別の実施形態として、図2又は図4の電界放出型電子源において、エミッタへのイオン衝突の頻度に応じて、導電性材料へのイオンの引き込み量を調節可能とする。図5は、その構成例を示す。
これは、図2及び図4のようにエミッタ1と導電性材料4を同電位とする構成においても、エミッタへのイオン衝突が問題となる場合に対処するものである。具体的には、例えば図2の電界放出型電子源において、エミッタ1と導電性材料4との間に、図5に示すようにエミッタ1と導電性材料4の間に電位差を設ける調節用可変電源6が接続される。
この電源6は、前述した導電性材料4に印加される電界強度がエミッタ1に印加される電界強度よりも強いという電界強度の関係が反転しない(すなわち、エミッタ1に印加される電界強度が、導電性材料4に印加される電界強度よりも強くならない)範囲で、電圧を印加するように調節される。こうして導電性材料4の電位をエミッタ1の電位より低くする程度を調整することで、導電性材料4へのイオンの引き込み量を調整することができ、ひいてはエミッタへのイオンの衝突を更に減少又は微調整することができる。
図6(A)に示すように、図2の電界放出型電子源を用いたX線管でエミッタ1にカーボンナノ構造の電子放出素子を用い、導電体材料4としてステンレス鋼を用いた。筒状の導電体材料4の開口径は8mm、その上面からターゲット3、エミッタ1の先端までの距離はそれぞれ1mmとした。これらはガラス管6内に封入され、内部は高真空状態に保持された。また、比較のため、図6(B)に示すように導電性材料4を設置しないX線管も用意した。
図6(A)(B)の各X線管において、エミッタ1とターゲット3の間に10kVの電圧を印加して、各X線管におけるターゲットからの放出電流を測定した。その結果を図7に示す。
図7のグラフにおいて、放出電流が0.6から0.7[mA]の間でほぼ一定であるのは、図6(A)のX線管であり、放出電流がこれより小さい0.5[mA]から低下していくのは、図6(B)のX線管である。このグラフに示されるように、図6(A)の導電性材料4を配置したX線管の寿命は100時間を超えた(実際は2000時間以上可能である)のに対し、図6(B)に示したX線管(導電性材料を含まない)の寿命は、40〜50時間程度であった。
従って、図6(A)(B)のX線管における劣化の顕著な違いがわかる。すなわち、図6(A)のX線管では、導電性材料4を備えたことにより、図6(B)のX線管と比較して寿命が大幅に向上することが実証された。
以上のように、実施形態としてX線管に用いた場合を説明したが、本発明は、電界放出電子源を利用する全ての装置、例えば、X線管のほかに電子線管の電子線源部、走査型電子顕微鏡及び透過型電子顕微鏡の電子源部、電子線励起型蛍光灯の電子源部、電子線マイクロプローブアナライザの電子線源部、カソードルミネッセンス装置の電子線源部等に、好適に用いられる。
1…エミッタ、2…電圧源、3…ターゲット、4…導電性材料、5…孔、6…調節電源、7…ガラス管。
Claims (4)
- 電界が印加されることにより電子を放出する電界放出型電子源において、
ターゲットに対し電子流を放出するエミッタの周囲に導電性材料を、前記ターゲットと前記エミッタとの間の距離よりも前記ターゲットと前記導電性材料との間の距離が短くなるように配置し、前記ターゲットと前記導電性材料との間に、前記ターゲットと前記エミッタとの間に印加するのと同じ電圧を印加することを特徴とする電界放出型電子源。 - 電界が印加されることにより電子を放出する電界放出型電子源において、
ターゲットに対し電子流を放出するエミッタの周囲に導電性材料を、前記ターゲットと前記エミッタとの間の距離よりも前記ターゲットと前記導電性材料との間の距離が短くなるように配置して、前記エミッタに印加される電界よりも前記導電性材料に印加される電界の強度が大きくなるように構成すると共に、前記エミッタと前記導電性材料との間に、前記電界の強度の関係が反転しない範囲で電圧を印加する調節用電源を備えたことを特徴とする電界放出型電子源。 - 請求項1又は2に記載の電界放出型電子源において、前記導電性材料は、前記エミッタに比べて仕事関数の高い材料であることを特徴とする電界放出型電子源。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の電界放出型電子源において、前記導電性材料は、イオン衝突によるスパッタを生じない材料であることを特徴とする電界放出型電子源。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009178302A JP2011034734A (ja) | 2009-07-30 | 2009-07-30 | 電界放出型電子源 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009178302A JP2011034734A (ja) | 2009-07-30 | 2009-07-30 | 電界放出型電子源 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011034734A true JP2011034734A (ja) | 2011-02-17 |
Family
ID=43763630
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009178302A Pending JP2011034734A (ja) | 2009-07-30 | 2009-07-30 | 電界放出型電子源 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011034734A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103137400A (zh) * | 2011-11-30 | 2013-06-05 | 高砂热学工业株式会社 | 电场发射型x射线产生装置 |
JP2017510052A (ja) * | 2014-02-10 | 2017-04-06 | ルクスブライト・アーベー | X線管用の電子エミッタ |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03159045A (ja) * | 1989-11-17 | 1991-07-09 | Jeol Ltd | 電界放出型電子銃 |
JP2006086001A (ja) * | 2004-09-15 | 2006-03-30 | Shimadzu Corp | X線管装置 |
WO2008120412A1 (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Advantest Corporation | 電子銃及び電子ビーム露光装置 |
-
2009
- 2009-07-30 JP JP2009178302A patent/JP2011034734A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03159045A (ja) * | 1989-11-17 | 1991-07-09 | Jeol Ltd | 電界放出型電子銃 |
JP2006086001A (ja) * | 2004-09-15 | 2006-03-30 | Shimadzu Corp | X線管装置 |
WO2008120412A1 (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Advantest Corporation | 電子銃及び電子ビーム露光装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103137400A (zh) * | 2011-11-30 | 2013-06-05 | 高砂热学工业株式会社 | 电场发射型x射线产生装置 |
KR20130061067A (ko) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | 다카사고네츠가쿠고오교 가부시키가이샤 | 전계 방출형 x선 발생 장치 |
JP2013114964A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 電界放出型x線発生装置 |
TWI570761B (zh) * | 2011-11-30 | 2017-02-11 | Takasago Thermal Engineering Co Ltd | Electric field release type X ray generator |
CN103137400B (zh) * | 2011-11-30 | 2017-06-30 | 高砂热学工业株式会社 | 电场发射型x射线产生装置 |
KR101970834B1 (ko) * | 2011-11-30 | 2019-04-19 | 다카사고네츠가쿠고오교 가부시키가이샤 | 전계 방출형 x선 발생 장치 |
JP2017510052A (ja) * | 2014-02-10 | 2017-04-06 | ルクスブライト・アーベー | X線管用の電子エミッタ |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10741353B2 (en) | Electron emitting construct configured with ion bombardment resistant | |
US8300769B2 (en) | Microminiature X-ray tube with triode structure using a nano emitter | |
US20010019601A1 (en) | X-ray generator | |
JP2019021606A (ja) | 電子集束改善用x線管 | |
JP5099756B2 (ja) | 電子線発生装置およびその制御方法 | |
US10453643B2 (en) | Shielded, transmission-target, x-ray tube | |
EP2869327B1 (en) | X-ray tube | |
JP2007095689A (ja) | 冷電子源によるx線発生装置 | |
US11183357B2 (en) | MBFEX tube | |
JP2007522622A (ja) | 焦点制御付き陰極ヘッド | |
KR101689361B1 (ko) | 의료용 전자가속기의 삼극관 전자총 전원공급장치 | |
JP5370967B2 (ja) | X線管 | |
JP2011034734A (ja) | 電界放出型電子源 | |
KR101776476B1 (ko) | 엑스선 이오나이저 | |
KR102027407B1 (ko) | 탄소나노튜브 실을 이용한 필드 에미터 및 냉음극 구조 | |
RU2581833C1 (ru) | Источник электронов с автоэлектронным эмиттером и рентгеновская трубка с таким источником электронов | |
JP2005243331A (ja) | X線管 | |
KR100665881B1 (ko) | 탄소나노튜브 기반의 엑스-선관의 전자빔 발생용 음극 모듈 | |
KR20110045937A (ko) | 탄소나노튜브 실을 이용한 엑스레이 발생 장치 | |
KR101615337B1 (ko) | 탄소나노튜브 실을 포함한 엑스레이 소스 및 이를 이용한 엑스레이 발생장치 | |
CN111328176B (zh) | 悬浮栅阴极结构、电子枪、电子加速器及辐照装置 | |
JP2022013777A (ja) | 複数のグリッドを有するx線源 | |
KR101324480B1 (ko) | 마이크로 포커스 엑스 레이 튜브 | |
KR101675470B1 (ko) | 근접 방사선 치료용으로 사용할 수 있는 탄소나노튜브 실을 포함한 엑스레이 소스 및 이를 이용한 엑스레이 발생장치 | |
KR101214404B1 (ko) | X―선관에서 발생되는 전자 빔 성형을 위한 게이트―집속 전극 일체형 전극구조 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120709 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130708 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130716 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20131126 |