JP2011023434A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ワークステージに形成した貫通孔を介してマスク・アライメントマークとワーク・アライメントマークを検出する露光装置において、ワークステージの貫通孔内に配置した光透過性窓部材を弾性体によって支持して、ワークに対して窓部材が弾性的に当接することを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
同公報の位置決め装置においては、露光チャック(ワークステージ)に光通路として貫通孔が形成され、この貫通孔の下側からワークに形成されているアライメントマークを照明し、このワークを透過する照明光により照明されたアライメントマークを、ガラス基板の上方に配置したマーク検出部(アライメント顕微鏡)により検出する。ワークを透過する照明光として、ガラス基板の場合は可視光を使用しても良いが、シリコンウエハの場合は赤外線が使われる。
図において、光照射部1は、内部に露光光を放射する光源であるランプ2と、このランプ2からの光を反射する反射鏡3を備える。なお、光源はランプ以外の、例えばLEDであっても良い。
マスクMを保持するマスクステージ4に対して投影レンズ5を介して下方にワークステージ6が対向配置され、該ワークステージ6には、ワークWの下面に形成されたワークマークWAMを検出するための貫通孔7が形成されている。
該ワークマークWAMは、マスクMに形成されたマスクマークMAMとの位置合せのため、通常は一つのワークWにおいて2ヶ所以上形成される。そして、前記貫通孔7もワークマークWAMと同じ数だけ形成される。
そして、ワークステージ6には、該ワークステージ6をXY方向(図面左右手前奥方向)、Z方向(図面上下方向)およびθ方向(光軸を中心とした回転方向)に移動させる、ワークステージ移動機構11が制御部12を介して取り付けられている。
通常は、貫通孔7内に段差を形成する凹部7Aを設け、該凹部7A内に窓部材13が載置される。
したがって、ワークWは、露光処理中、貫通孔7が形成されている部分では、ワークステージ6にも窓部材13にも接触していない。
このようなワークWの局所的な温度上昇により、その温度が上がった部分だけレジストが変質することがある。レジストがポジレジストの場合、温度が上がると現像液で溶けやすくなり、パターンの幅が設計値よりも細くなることがある。
また、ネガレジストの場合は、温度が上がると硬化し現像液により溶けにくくなり、パターンの幅が設計値よりも太くなることがある。
いずれの場合においても、形成する回路パターンの不良の原因となるという問題を有していた。
また、そのためには、従来から形成されていたワークステージの貫通孔の中に配置されていた光透過性窓部材を、弾性体を介して支持するだけであり、窓部材の高精度の加工が不要となり、装置のコストアップもわずかで済む。
ワークステージ6の貫通孔7の上部には、大きさが該貫通孔7の径よりも大きく、ワークステージ6の厚みよりも浅い凹部7Aが形成されている。例えば、ワークステージの厚さは約30mmで、貫通孔7の径は15mmであり、凹部7Aの深さは15mmである。
図1(A)に示すように、ワークステージ6の貫通孔7内に配置された光透過性窓部材13は、凹部7Aに設けた弾性体15によって支持され、該窓部材13は、ワーク6が載置されていない状態では、弾性体15によりワークステージ6の上面より僅かに、例えば、100μmだけ突出するように支持されている。
すなわち、ワークステージ6上にワークWが載置保持された状態では、窓部材13もワークWに弾性的に当接している。
図3において、まず、ワークステージ6上にワークWがない状態でマスクMに対して光照射部1からの露光光を照射する。マスクマークMAMは、貫通孔7が形成された位置に結像する。このマスクマークMAM像を、アライメント顕微鏡10により、と貫通孔7を介して検出し、その位置座標を制御部に記憶する。
このとき、図1(A)に示すように、貫通孔7の上部に設けられた窓部材13は、弾性体15によりその表面がワークステージ6の表面よりもやや上に突出している。
再び、図3を参照して、アライメント顕微鏡10により、ワークWの裏面に形成されているワークマークWAMを、窓部材13と貫通孔7を介して検出する。検出したワークマークWAMと、記憶しているマスクマークMAMとを、あらかじめ設定された位置関係に移動させることにより、マスクMとワークWの位置合せを行う。この位置合せの動作は、ワークステージ移動機能がワークステージ6を移動させることにより、ワークWを移動させて行う。
露光光の照射によりワークWに生じた熱は、ワークWがワークステージ6に接している部分では、該ワークステージ6に伝わって放熱される。また、貫通孔7が形成されている部分では、ワークWの熱は、裏面に当接している窓部材13を経てワークステージ6に伝わって放熱される。
また、貫通孔の上部に設ける窓部材を構成するガラス板は、照明光や露光光を透過する必要があり、材質は必要に応じて適宜選択する。石英であれば比較的短い波長まで透過することができる。短波長の光を透過させる必要がない場合は、一般的な青板ガラスを使用しても良い。
図2は、その第2の実施例を示す図である。本実施例においては、光透過性窓部材13をワークステージ6に吊り下げるようにして設けている。ワークステージ6の下面に板ばね16を取り付け、この板ばね16に光透過性窓部材13を取り付ける。
図3(A)に示すように、ワークステージ6にワークWがない場合は、板ばね16は縮んでおり光透過性窓部材13の表面は、ワークステージ6の表面よりも上昇している。
図3(B)に示すように、ワークステージ6にワークWが置かれると、該ワークWの裏面に窓部材13が当接し、ワークWがステージ6に吸着保持されることにより、板ばね16が伸びて、光透過性窓部材13は表面がワークWに当接した状態で、貫通孔7の中に下降するものである。
4 マスクステージ
M マスク
5 投影レンズ
6 ワークステージ
W ワーク
7 貫通孔
10 アライメント顕微鏡
13 光透過性窓部材
15 弾性体
Claims (1)
- 光照射部と、マスク・アライメントマークを有するマスクを保持するマスクステージと、ワーク・アライメントマークを有するワークを保持するワークステージと、該ワークステージに形成された貫通孔と、該貫通孔を介して前記マスク・アライメントマークと前記ワーク・アライメントマークを検出するアライメントマーク顕微鏡とを備えた露光装置において、
前記貫通孔には光透過性窓部材が配置され、該窓部材は弾性体により上記貫通孔内で上下動可能に支持され、前記ワークに対して弾性的に当接することを特徴とする露光装置。
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Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62160723A (ja) * | 1986-01-10 | 1987-07-16 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | アライメント装置 |
JPH01164032A (ja) * | 1987-12-21 | 1989-06-28 | Olympus Optical Co Ltd | 半導体露光装置のアライメント装置 |
JPH09115812A (ja) * | 1995-10-20 | 1997-05-02 | Ushio Inc | 裏面にアライメント・マークが設けられたワークの投影露光方法および装置 |
JPH10284412A (ja) * | 1997-04-10 | 1998-10-23 | Nikon Corp | 外部と光を授受するステージ装置及び投影露光装置 |
JP2000237983A (ja) * | 1999-02-22 | 2000-09-05 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 基板チャック装置 |
JP2001109168A (ja) * | 1999-10-08 | 2001-04-20 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 基板位置決め装置 |
JP2006332587A (ja) * | 2005-04-26 | 2006-12-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2009037026A (ja) * | 2007-08-02 | 2009-02-19 | Ushio Inc | 帯状ワークの露光装置及び帯状ワークの露光装置におけるフォーカス調整方法 |
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62160723A (ja) * | 1986-01-10 | 1987-07-16 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | アライメント装置 |
JPH01164032A (ja) * | 1987-12-21 | 1989-06-28 | Olympus Optical Co Ltd | 半導体露光装置のアライメント装置 |
JPH09115812A (ja) * | 1995-10-20 | 1997-05-02 | Ushio Inc | 裏面にアライメント・マークが設けられたワークの投影露光方法および装置 |
JPH10284412A (ja) * | 1997-04-10 | 1998-10-23 | Nikon Corp | 外部と光を授受するステージ装置及び投影露光装置 |
JP2000237983A (ja) * | 1999-02-22 | 2000-09-05 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 基板チャック装置 |
JP2001109168A (ja) * | 1999-10-08 | 2001-04-20 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 基板位置決め装置 |
JP2006332587A (ja) * | 2005-04-26 | 2006-12-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2009037026A (ja) * | 2007-08-02 | 2009-02-19 | Ushio Inc | 帯状ワークの露光装置及び帯状ワークの露光装置におけるフォーカス調整方法 |
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