JP2010535361A - パルス状高調波紫外レーザのための方法および装置 - Google Patents
パルス状高調波紫外レーザのための方法および装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010535361A JP2010535361A JP2010520204A JP2010520204A JP2010535361A JP 2010535361 A JP2010535361 A JP 2010535361A JP 2010520204 A JP2010520204 A JP 2010520204A JP 2010520204 A JP2010520204 A JP 2010520204A JP 2010535361 A JP2010535361 A JP 2010535361A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- frequency conversion
- optical
- frequency
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/353—Frequency conversion, i.e. wherein a light beam is generated with frequency components different from those of the incident light beams
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/355—Non-linear optics characterised by the materials used
- G02F1/3551—Crystals
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/353—Frequency conversion, i.e. wherein a light beam is generated with frequency components different from those of the incident light beams
- G02F1/3532—Arrangements of plural nonlinear devices for generating multi-colour light beams, e.g. arrangements of SHG, SFG, OPO devices for generating RGB light beams
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/353—Frequency conversion, i.e. wherein a light beam is generated with frequency components different from those of the incident light beams
- G02F1/3534—Three-wave interaction, e.g. sum-difference frequency generation
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/805—Electrodes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
【選択図】 図4
Description
1.高純度酸化物粉末および化学薬品を計量し、適切な割合で混合する。
2.混合物をるつぼに装填し、炉内に入れる。
3.混合物を加熱して、液状に溶融させる。
4.しばらく後で、融液温度をその凝固点付近まで低下させる。
5.コールドフィンガ材料またはシード結晶を導入して結晶化を開始させる。
6.融液温度および装置の状態を変化させ、監視して、結晶成長を促進させる。
7.適切なときに、システムを室温まで下げる。
8.結晶をシステムから取り出す。
Claims (48)
- 可視光または近赤外周波数範囲の光出力を有する1つ以上の光源レーザと、
1つ以上の周波数変換段と、
を備える、1ps〜1μsの間の範囲のパルス幅を有するコヒーレントなパルス紫外光を生成するための装置であって、
前記1つ以上の周波数変換段の少なくとも1つが、非線形周波数変換デバイスと、反射器、集束素子、偏光制御光学系、波長分離器、または光ファイバ部品を含む1つ以上の光学素子とを含み、
前記周波数変換デバイスが、190〜350nmの間の波長を有する周波数変換光を生成するように構成されたハンタイト型アルミニウム複合ホウ化物の非線形光学材料を含み、前記ハンタイト型アルミニウム複合ホウ化物の非線形光学材料がRAl3B4O12によって表される組成を有し、Rが元素{Sc、La、Y、Lu}のうちの1つまたは複数を含み、前記ハンタイト型アルミニウム複合ホウ化物の非線形光学材料が190〜350nmの波長範囲で75%を超える光透過率を特徴とする、装置。 - 前記パルス幅が1ps〜300psの間の範囲である、請求項1に記載の装置。
- 前記パルス幅が300ps〜100nsの間の範囲である、請求項1に記載の装置。
- 前記パルス幅が100ns〜1μsの間の範囲である、請求項1に記載の装置。
- 前記周波数変換光が前記装置の出力光である、請求項1に記載の装置。
- 前記パルス紫外光のパルスレートが10MHz以上である、請求項1に記載の装置。
- 前記組成がY(1−x)LaxAl3B4O12(0≦x≦0.4)によって表される、請求項1に記載の装置。
- xが約0.25である、請求項7に記載の装置。
- x=0である、請求項7に記載の装置。
- 前記組成がLu(1−x)LaxAl3B4O12(0≦x≦0.4)によって表される、請求項1に記載の装置。
- 前記1つ以上の周波数変換段が単一周波数変換段を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記1つ以上の周波数変換段が第2高調波を発生する2つの周波数変換段を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記1つ以上の周波数変換段が、第2高調波を発生する単一段の後に、ハンタイト型アルミニウム複合ホウ化物の非線形光学材料を含み和周波を発生する単一段を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記1つ以上の周波数変換段が、第2高調波を発生する2段の後に、ハンタイト型アルミニウム複合ホウ化物の非線形光学材料を含み和周波を発生する単一段を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記1つ以上の光源レーザが公称角周波数ωを有する単一光源レーザを含み、前記装置の出力が公称角周波数:2ω、3ω、4ω、5ω、6ω、7ω、または8ωの1つ以上を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記ハンタイト型アルミニウム複合ホウ化物の非線形光学材料が、ブルースタ角に配向されかつ公称p偏光の光を受光するように構成された単結晶を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記ハンタイト型アルミニウム複合ホウ化物の非線形光学材料の入射ファセットまたは出射ファセットの少なくとも1つに対する光学反射防止コーティングをさらに含む、請求項1に記載の装置。
- 前記1つ以上の光源レーザの少なくとも1つがファイバレーザを含む、請求項1に記載の装置。
- 前記1つ以上の光源レーザの少なくとも1つがダイオード励起固体レーザを含む、請求項1に記載の装置。
- 前記1つ以上の光源レーザが、パルス幅1ps〜300psの複数のモード同期発振器パルスを包むようにパルスパケットをゲートする前置電力増幅器変調器を含むマスタ発振器電力増幅器アーキテクチャを備え、パルスパケットの各々が1ns〜1μsの間の持続時間を有し、もって毎秒10万〜1億個のパルスパケットを送出する、請求項1に記載の装置。
- 可視光または近赤外出力放射を提供するように構成された1つ以上の光源レーザと、
1つ以上の周波数変換段と、
を備える、コヒーレントなパルス紫外光を生成するための装置であって、
前記1つ以上の周波数変換段の少なくとも1つが、非線形周波数変換デバイスと、反射器、集束素子、偏光制御光学系、波長分離器、または光ファイバ部品を含む1つ以上の光学素子とを含み、
前記非線形周波数変換デバイスが、190〜350nmの間の波長を有する周波数変換光を生成する非線形光学材料を含み、動作中に5GW/cm2より高い局所ピーク強度を示す、装置。 - 前記周波数変換光が前記装置の出力光である、請求項21に記載の装置。
- 前記局所ピーク光強度が約5〜10GW/cm2の範囲である、請求項21に記載の装置。
- 前記局所ピーク光強度が約10〜20GW/cm2の範囲である、請求項21に記載の装置。
- 前記局所ピーク光強度が約20〜30GW/cm2の範囲である、請求項21に記載の装置。
- 前記局所ピーク光強度が約30〜50GW/cm2の範囲である、請求項21に記載の装置。
- 前記局所ピーク光強度が50GW/cm2より高い、請求項21に記載の装置。
- 前記非線形周波数変換デバイスがRAl3B4O12によって表される組成を有するハンタイト型アルミニウム複合ホウ化物材料を含み、式中、Rが元素{Sc、La、Y、Lu}のうちの1つまたは複数である、請求項21に記載の装置。
- 前記組成がY(1−x)LaxAl3B4O12(0≦x≦0.4)によって表される、請求項28に記載の装置。
- xが約0.25である、請求項29に記載の装置。
- x=0である、請求項29に記載の装置。
- 前記組成がLu(1−x)LaxAl3B4O12(0≦x≦0.4)によって表される、請求項28に記載の装置。
- 前記1つ以上の光源レーザが公称角周波数ωを有する単一光源レーザを含み、前記装置の出力が公称角周波数:2ω、3ω、4ω、5ω、6ω、7ω、または8ωの1つ以上を含む、請求項21に記載の装置。
- 可視光または近赤外出力放射を有する1つ以上の光源レーザと、
1つ以上の周波数変換段と、
を備える、コヒーレントなパルス紫外光を生成するための装置であって、
前記1つ以上の周波数変換段の少なくとも1つが、非線形周波数変換デバイスと、反射器、集束素子、偏光制御光学系、波長分離器、または光ファイバ部品を含む1つ以上の光学素子とを含み、
前記非線形周波数変換デバイスが、190〜350nmの間の波長を有する周波数変換光を生成するように構成された非線形光学材料を含み、前記非線形光学材料が約50MW/cm2より高い時間平均局所光強度で動作する、装置。 - 前記時間平均局所光強度が約50〜100MW/cm2の範囲である、請求項34に記載の装置。
- 前記時間平均局所光強度が約100〜250MW/cm2の範囲である、請求項34に記載の装置。
- 前記時間平均局所光強度が約250〜500MW/cm2の範囲である、請求項34に記載の装置。
- 前記時間平均局所光強度が約500MW/cm2より高い、請求項34に記載の装置。
- 前記周波数変換光が前記装置の出力光である、請求項34に記載の装置。
- 可視光または近赤外周波数範囲の放射を放出する1つ以上の光源レーザと、
1つ以上の周波数変換段と、
を備える、コヒーレントなパルス紫外光を生成するための装置であって、
前記1つ以上の周波数変換段の少なくとも1つが、非線形周波数変換デバイスを通過する光経路に沿って伝搬する光を受光するように構成された非線形周波数変換デバイスと、反射器、集束素子、偏光制御光学系、波長分離器、または光ファイバ部品を含む1つ以上の光学素子とを含み、
前記非線形周波数変換デバイスが、
第1側と、前記第1側に対向する第2側と、前記第1側から前記第2側まで延びる通路とを有し、前記通路が実装面を画定する熱伝導性マウントと、
伝搬軸に垂直な部品を有する対向ファセットと、対向ファセットの間で非線形光学結晶の外周に延在する外面とを有し、前記非線形光学結晶が前記熱伝導性マウントに実装される、非線形光学デバイスと、
前記熱伝導性マウントの前記実装面と前記非線形光学結晶の前記外面との間に配設される、金属材料を含有するはんだと、
を含む、装置。 - 前記非線形光学結晶が190〜350nmの間の波長を有する周波数変換光を生成し、前記非線形光学結晶が、動作中に50GW/cm2より高い平均光強度を示す、請求項40に記載の装置。
- 前記はんだが、前記熱伝導性マウントの前記実装面全体および前記非線形光学結晶の前記外面全体と接触する、請求項40に記載の装置。
- 水溶性または溶剤可溶性の湿潤剤またはフラックス剤をさらに含み、前記はんだが900K未満の融点によって特徴付けられる、請求項40に記載の装置。
- 前記非線形光学結晶がRAl3B4O12によって表される組成を有するハンタイト型アルミニウム複合ホウ化物材料を含み、ここでRが元素{Sc、La、Y、Lu}のうちの1つまたは複数である、請求項40に記載の装置。
- 前記組成がY(1−x)LaxAl3B4O12(0≦x≦0.4)によって表される、請求項44に記載の装置。
- xが約0.25である、請求項45に記載の装置。
- x=0である、請求項45に記載の装置。
- 前記組成がLu(1−x)LaxAl3B4O12(0≦x≦0.4)によって表される、請求項44に記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US95340207P | 2007-08-01 | 2007-08-01 | |
US97580407P | 2007-09-27 | 2007-09-27 | |
PCT/US2008/071836 WO2009018491A1 (en) | 2007-08-01 | 2008-07-31 | Method and apparatus for pulsed harmonic ultraviolet lasers |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013237843A Division JP2014059578A (ja) | 2007-08-01 | 2013-11-18 | パルス状高調波紫外レーザのための方法および装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010535361A true JP2010535361A (ja) | 2010-11-18 |
Family
ID=40304898
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010520204A Pending JP2010535361A (ja) | 2007-08-01 | 2008-07-31 | パルス状高調波紫外レーザのための方法および装置 |
JP2013237843A Pending JP2014059578A (ja) | 2007-08-01 | 2013-11-18 | パルス状高調波紫外レーザのための方法および装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013237843A Pending JP2014059578A (ja) | 2007-08-01 | 2013-11-18 | パルス状高調波紫外レーザのための方法および装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US7852549B2 (ja) |
EP (1) | EP2176929A4 (ja) |
JP (2) | JP2010535361A (ja) |
KR (1) | KR20100046196A (ja) |
CN (1) | CN101933201A (ja) |
WO (1) | WO2009018491A1 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011516393A (ja) * | 2008-04-11 | 2011-05-26 | ディープ フォトニクス コーポレーション | 非線形光学用の方法及び構造 |
JP2013156329A (ja) * | 2012-01-27 | 2013-08-15 | National Institutes Of Natural Sciences | レーザ装置 |
WO2015125635A3 (ja) * | 2014-02-19 | 2015-10-15 | スペクトロニクス株式会社 | 波長変換装置 |
JP2017510081A (ja) * | 2014-04-01 | 2017-04-06 | アイピージー フォトニクス コーポレーション | 垂直入射取付けの多結晶tm:ii−vi材料を有する中赤外線カーレンズモードロックレーザー及び、多結晶tm:ii−viカーレンズモードロックレーザーのパラメータを制御するための方法 |
JP2018513555A (ja) * | 2015-03-23 | 2018-05-24 | アイピージー フォトニクス コーポレーション | 高パワー連続波中赤外レーザー |
Families Citing this family (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2176929A4 (en) * | 2007-08-01 | 2011-08-31 | Deep Photonics Corp | METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING HARMONIC APPARATUS OF PULSED UV LASER |
US8630320B2 (en) * | 2007-08-31 | 2014-01-14 | Deep Photonics Corporation | Method and apparatus for a hybrid mode-locked fiber laser |
WO2011053816A1 (en) * | 2009-10-30 | 2011-05-05 | Deep Photonics Corporation | Method and system using phase modulation to reduce spectral broadening |
US20130256286A1 (en) * | 2009-12-07 | 2013-10-03 | Ipg Microsystems Llc | Laser processing using an astigmatic elongated beam spot and using ultrashort pulses and/or longer wavelengths |
JP4590578B1 (ja) * | 2010-04-01 | 2010-12-01 | レーザーテック株式会社 | 光源装置、マスク検査装置、及びコヒーレント光発生方法 |
US8711470B2 (en) * | 2010-11-14 | 2014-04-29 | Kla-Tencor Corporation | High damage threshold frequency conversion system |
US8467425B1 (en) * | 2011-02-22 | 2013-06-18 | Jefferson Science Associates, Llc | Method for generating high-energy and high repetition rate laser pulses from CW amplifiers |
JP5387626B2 (ja) * | 2011-07-20 | 2014-01-15 | ウシオ電機株式会社 | 蛍光ランプ |
US9678350B2 (en) * | 2012-03-20 | 2017-06-13 | Kla-Tencor Corporation | Laser with integrated multi line or scanning beam capability |
JP2013222173A (ja) * | 2012-04-19 | 2013-10-28 | Gigaphoton Inc | レーザ装置 |
US9293882B2 (en) | 2013-09-10 | 2016-03-22 | Kla-Tencor Corporation | Low noise, high stability, deep ultra-violet, continuous wave laser |
EP3832815A1 (en) * | 2014-08-27 | 2021-06-09 | Nuburu, Inc. | Applications, methods and systems for materials processing with visible raman laser |
KR102268480B1 (ko) * | 2014-09-18 | 2021-06-23 | 제넥스 디스인펙션 서비시즈 인코퍼레이티드 | 조절된 파워 플럭스를 갖는 펄스화된 광을 사용하는 룸 및 구역 살균 장치 및 펄스 간의 가시 광 보상을 갖는 광 시스템 |
EP3314633A4 (en) * | 2015-06-29 | 2019-04-10 | IPG Photonics Corporation | FIBER LASER-BASED SYSTEM FOR UNIFORM CRYSTALLIZATION OF AN AMORPHOUS SILICON SUBSTRATE |
US9859676B2 (en) * | 2015-12-18 | 2018-01-02 | Sharp Kabushiki Kaisha | Light source configured for stabilization relative to external operating conditions |
US10520789B2 (en) * | 2016-08-25 | 2019-12-31 | Coherent Kaiserslautern GmbH | Modular ultraviolet pulsed laser-source |
US10175555B2 (en) | 2017-01-03 | 2019-01-08 | KLA—Tencor Corporation | 183 nm CW laser and inspection system |
GB2563005B (en) | 2017-05-23 | 2021-04-21 | M Squared Lasers Ltd | Nonlinear crystal |
CN109557521B (zh) * | 2017-09-25 | 2020-10-02 | 北京振兴计量测试研究所 | 红外脉冲激光目标模拟装置 |
CN107946891B (zh) * | 2017-12-14 | 2019-09-17 | 湖北工业大学 | 一种大功率紫外固体激光器 |
CN108808428A (zh) * | 2018-07-06 | 2018-11-13 | 福建福晶科技股份有限公司 | 一种多波长输出激光*** |
JPWO2020246438A1 (ja) * | 2019-06-03 | 2020-12-10 | ||
US11126063B2 (en) * | 2019-11-07 | 2021-09-21 | Onyx Optics, Inc. | Nonlinear optical crystal with corrected phase matching angle |
CN116348814A (zh) * | 2020-10-11 | 2023-06-27 | 维林光电公司 | 紫外激光***、设备和方法 |
CN112017986A (zh) * | 2020-10-21 | 2020-12-01 | 季华实验室 | 半导体产品缺陷检测方法、装置、电子设备及存储介质 |
US11802945B2 (en) | 2021-03-10 | 2023-10-31 | Allegro Microsystems, Llc | Photonic ROIC having safety features |
US11581697B2 (en) | 2021-03-10 | 2023-02-14 | Allegro Microsystems, Llc | Detector system comparing pixel response with photonic energy decay |
US11815406B2 (en) | 2021-04-14 | 2023-11-14 | Allegro Microsystems, Llc | Temperature sensing of an array from temperature dependent properties of a PN junction |
US11601733B2 (en) | 2021-04-14 | 2023-03-07 | Allegro Microsystems, Llc | Temperature sensing of a photodetector array |
US11770632B2 (en) | 2021-04-14 | 2023-09-26 | Allegro Microsystems, Llc | Determining a temperature of a pixel array by measuring voltage of a pixel |
US11619914B2 (en) | 2021-06-03 | 2023-04-04 | Allegro Microsystems, Llc | Arrayed time to digital converter |
US11252359B1 (en) | 2021-06-21 | 2022-02-15 | Allegro Microsystems, Llc | Image compensation for sensor array having bad pixels |
JP2024526277A (ja) * | 2021-07-02 | 2024-07-17 | コーテックス フュージョン システムズ インコーポレイテッド | 量子トンネリングの二色性光制御を用いた核融合反応炉 |
US11600654B2 (en) | 2021-07-15 | 2023-03-07 | Allegro Microsystems, Llc | Detector array yield recovery |
US11885646B2 (en) | 2021-08-12 | 2024-01-30 | Allegro Microsystems, Llc | Programmable active pixel test injection |
US11585910B1 (en) | 2021-08-13 | 2023-02-21 | Allegro Microsystems, Llc | Non-uniformity correction of photodetector arrays |
US11933669B2 (en) | 2022-02-16 | 2024-03-19 | Allegro Microsystems, Llc | Optical system for improved reliability and performance |
US11722141B1 (en) | 2022-04-22 | 2023-08-08 | Allegro Microsystems, Llc | Delay-locked-loop timing error mitigation |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10186428A (ja) * | 1996-12-26 | 1998-07-14 | Sony Corp | レーザ光発生装置 |
JP2003080604A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-03-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 積層造形装置 |
JP2005533380A (ja) * | 2002-07-12 | 2005-11-04 | スペクトラ フィジックス インコーポレイテッド | 遠隔uvレーザシステム及び使用方法 |
WO2005111173A2 (en) * | 2004-04-14 | 2005-11-24 | Deep Photonics Corporation | Method and structure for non-linear optics |
JP2006030720A (ja) * | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Nikon Corp | 波長変換光学系 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5043308A (en) * | 1989-03-29 | 1991-08-27 | Amoco Corporation | Crystalline rare earth aluminum borates |
US5363388A (en) * | 1991-10-18 | 1994-11-08 | Cedars-Sinai Medical Center | Continuously tunable solid state ultraviolet coherent light source |
US6036321A (en) * | 1997-05-16 | 2000-03-14 | Spectra Physics Lasers, Inc. | Crystal isolation housing |
US6744552B2 (en) * | 1998-04-02 | 2004-06-01 | Michael Scalora | Photonic signal frequency up and down-conversion using a photonic band gap structure |
US6532100B1 (en) * | 1999-08-04 | 2003-03-11 | 3D Systems, Inc. | Extended lifetime frequency conversion crystals |
WO2002011252A2 (de) * | 2000-07-28 | 2002-02-07 | Daniel Kopf | Laser für anwendungen in der nichtlinearen optik |
WO2002028574A1 (en) * | 2000-10-02 | 2002-04-11 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Functional alloy particles |
US20030031215A1 (en) * | 2001-08-10 | 2003-02-13 | Kane Thomas J. | Compound light source employing passive Q-switching and nonlinear frequency conversion |
US6904066B2 (en) * | 2001-11-13 | 2005-06-07 | Yen-Chieh Huang | Optical parametric oscillator with distributed feedback grating or distributing Bragg reflector |
US6816536B2 (en) * | 2001-11-30 | 2004-11-09 | Spectra Physics, Inc. | Method and apparatus for in situ protection of sensitive optical materials |
EP1670933A4 (en) * | 2003-09-22 | 2008-01-23 | Snake Creek Lasers Llc | HIGH DENSITY PROCESSES FOR PRODUCING DIODE PUMP MICROLASERS |
EP1812823A4 (en) * | 2004-03-25 | 2009-08-05 | Imra America Inc | OPTICAL PARAMETRIC REINFORCEMENT, OPTICAL PARAMETRIC GENERATION AND OPTICAL PUMPING IN FIBER OPTICAL SYSTEMS |
JP4361043B2 (ja) * | 2005-09-20 | 2009-11-11 | アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社 | パタン検査装置 |
US7643529B2 (en) * | 2005-11-01 | 2010-01-05 | Cymer, Inc. | Laser system |
US7471705B2 (en) * | 2005-11-09 | 2008-12-30 | Lockheed Martin Corporation | Ultraviolet laser system and method having wavelength in the 200-nm range |
US7848012B2 (en) * | 2007-07-10 | 2010-12-07 | Deep Photonics Corporation | Method and apparatus for continuous wave harmonic laser |
EP2176929A4 (en) * | 2007-08-01 | 2011-08-31 | Deep Photonics Corp | METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING HARMONIC APPARATUS OF PULSED UV LASER |
-
2008
- 2008-07-31 EP EP08797003A patent/EP2176929A4/en not_active Withdrawn
- 2008-07-31 US US12/184,199 patent/US7852549B2/en active Active - Reinstated
- 2008-07-31 KR KR1020107003388A patent/KR20100046196A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-07-31 JP JP2010520204A patent/JP2010535361A/ja active Pending
- 2008-07-31 CN CN200880109916.3A patent/CN101933201A/zh active Pending
- 2008-07-31 WO PCT/US2008/071836 patent/WO2009018491A1/en active Application Filing
-
2010
- 2010-11-24 US US12/954,306 patent/US20110128613A1/en not_active Abandoned
-
2012
- 2012-09-26 US US13/627,887 patent/US8743453B2/en active Active
-
2013
- 2013-11-18 JP JP2013237843A patent/JP2014059578A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10186428A (ja) * | 1996-12-26 | 1998-07-14 | Sony Corp | レーザ光発生装置 |
JP2003080604A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-03-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 積層造形装置 |
JP2005533380A (ja) * | 2002-07-12 | 2005-11-04 | スペクトラ フィジックス インコーポレイテッド | 遠隔uvレーザシステム及び使用方法 |
WO2005111173A2 (en) * | 2004-04-14 | 2005-11-24 | Deep Photonics Corporation | Method and structure for non-linear optics |
JP2006030720A (ja) * | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Nikon Corp | 波長変換光学系 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011516393A (ja) * | 2008-04-11 | 2011-05-26 | ディープ フォトニクス コーポレーション | 非線形光学用の方法及び構造 |
JP2013156329A (ja) * | 2012-01-27 | 2013-08-15 | National Institutes Of Natural Sciences | レーザ装置 |
WO2015125635A3 (ja) * | 2014-02-19 | 2015-10-15 | スペクトロニクス株式会社 | 波長変換装置 |
JPWO2015125635A1 (ja) * | 2014-02-19 | 2017-03-30 | スペクトロニクス株式会社 | 波長変換装置 |
JP2017510081A (ja) * | 2014-04-01 | 2017-04-06 | アイピージー フォトニクス コーポレーション | 垂直入射取付けの多結晶tm:ii−vi材料を有する中赤外線カーレンズモードロックレーザー及び、多結晶tm:ii−viカーレンズモードロックレーザーのパラメータを制御するための方法 |
JP2018513555A (ja) * | 2015-03-23 | 2018-05-24 | アイピージー フォトニクス コーポレーション | 高パワー連続波中赤外レーザー |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2009018491A1 (en) | 2009-02-05 |
JP2014059578A (ja) | 2014-04-03 |
EP2176929A1 (en) | 2010-04-21 |
US20110128613A1 (en) | 2011-06-02 |
KR20100046196A (ko) | 2010-05-06 |
EP2176929A4 (en) | 2011-08-31 |
US7852549B2 (en) | 2010-12-14 |
US20090201954A1 (en) | 2009-08-13 |
CN101933201A (zh) | 2010-12-29 |
US20130135711A1 (en) | 2013-05-30 |
US8743453B2 (en) | 2014-06-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8743453B2 (en) | Method and apparatus for pulsed harmonic ultraviolet lasers | |
JP3997450B2 (ja) | 波長変換装置 | |
Schreiber et al. | Nonlinear integrated optical frequency converters with periodically poled Ti: LiNbO3 waveguides | |
US7848012B2 (en) | Method and apparatus for continuous wave harmonic laser | |
US8094368B2 (en) | Optical parametric oscillator | |
US7339722B2 (en) | Hybrid nonlinear optical conversion and optical parametric oscillation | |
KR102487511B1 (ko) | 다결정 매질에서의 무작위 위상 정합에 기초한 광학 파라메트릭 장치 | |
Peng et al. | DUV/VUV all-solid-state lasers: twenty years of progress and the future | |
WO1994024735A1 (en) | Optical parametric amplifiers and oscillators pumped by tunable laser sources | |
JPWO2009031278A1 (ja) | 波長変換装置、画像表示装置及び加工装置 | |
Brenier et al. | Bi-functional laser and non-linear optical crystals | |
Mei et al. | High-Repetition-Rate Terahertz Generation in QPM GaAs With a Compact Efficient 2-$\mu\text {m} $ KTP OPO | |
Kostyukova et al. | Barium Chalcogenide Crystals: A Review | |
Zhang et al. | Intra-cavity second harmonic generation with Nd: YVO4/BIBO laser at 542 nm | |
Xu et al. | MgO: PPLN frequency doubling optical chips for green light generation: from lab research to mass production | |
Simon et al. | Nonlinear optical frequency conversion techniques | |
Petrov et al. | Barium chalcogenides for nonlinear optics in the mid-IR: Properties and applications | |
Kai et al. | Low threshold and high conversion efficiency nanosecond mid-infrared KTA OPO | |
Kim et al. | Compact, wavelength-selectable, energy-ratio variable Nd: YAG laser at mid-ultraviolet for chemical warfare agent detection | |
Kanai et al. | Sub 100-fs, 5.2-$\mu $ m ZGP Parametric Amplifier Driven by a ps Ho: YAG Chirped Pulse Amplifier and its application to high harmonic generation | |
Wang et al. | Tunable narrow-band PPLN non-resonant optical parametric oscillator | |
Zakel et al. | Optical parametric oscillator based on cadmium germanium arsenide | |
Scholz et al. | A narrow-band continuous-wave laser source at 191 nm | |
CN117613649A (zh) | 一种频率转换光纤 | |
Kaymakanova et al. | Optical Processes and χ (2) Susceptibility Dispersion of LBO for Storage Media and Tunable Frequency Oscillator |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110801 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120614 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120619 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120823 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120830 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121212 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130716 |