JP2010280832A - 硬化性樹脂組成物及び光学フィルム - Google Patents
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Abstract
【課題】 耐擦傷性、耐摩耗性が良好な硬化物を得ることができる硬化性樹脂組成物、該樹脂組成物を硬化して得られるハードコート層を有する光学フィルムを提供すること。
【解決手段】無機微粒子（ａ）、無機微粒子（ｂ）及び硬化性樹脂（ｃ）を含有する硬化性樹脂組成物であり、無機微粒子（ａ）は、６以上のモース硬度、１０μｍ以下の平均粒子径を有し、無機微粒子（ｂ）は、５未満のモース硬度、１０μｍ以下の平均粒子径を有し、無機微粒子（ａ）のモース硬度と無機微粒子（ｂ）のモース硬度との積が、６以上、４０未満であり、硬化性樹脂組成物中の無機微粒子（ａ）と無機微粒子（ｂ）との合計の含有量が、０．０１〜６０重量％であり、無機微粒子（ａ）と無機微粒子（ｂ）との混合比が、１：０．００１〜１：１０であり、硬化性樹脂（ｃ）は、熱硬化性樹脂または活性エネルギー線硬化性樹脂であることを特徴とする硬化性樹脂組成物による。
【選択図】 なし
【解決手段】無機微粒子（ａ）、無機微粒子（ｂ）及び硬化性樹脂（ｃ）を含有する硬化性樹脂組成物であり、無機微粒子（ａ）は、６以上のモース硬度、１０μｍ以下の平均粒子径を有し、無機微粒子（ｂ）は、５未満のモース硬度、１０μｍ以下の平均粒子径を有し、無機微粒子（ａ）のモース硬度と無機微粒子（ｂ）のモース硬度との積が、６以上、４０未満であり、硬化性樹脂組成物中の無機微粒子（ａ）と無機微粒子（ｂ）との合計の含有量が、０．０１〜６０重量％であり、無機微粒子（ａ）と無機微粒子（ｂ）との混合比が、１：０．００１〜１：１０であり、硬化性樹脂（ｃ）は、熱硬化性樹脂または活性エネルギー線硬化性樹脂であることを特徴とする硬化性樹脂組成物による。
【選択図】 なし
Description
本発明は、ハードコート層に用いられる硬化性樹脂組成物及びこの樹脂組成物を硬化して得られるハードコート層を有する光学フィルムに関する。
従来、各種ディスプレイに用いられるプラスチックフィルムなどの光学フィルムに表面硬度を向上させる目的でハードコート層を設けている。ハードコート層には、熱硬化性樹脂組成物や活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が用いられてきた（例えば、特許文献１参照）。この硬化性樹脂組成物を用いて製造されたハードコート層は、撥水性、撥油性、防汚性が良好である。しかしながら、このハードコート層は、耐摩耗性能が低いという問題があった。
そこで、耐摩耗性能を改善するために、粒径が異なる２種類の無機微粒子を添加した硬化性樹脂組成物が開発された（例えば、特許文献２参照）。しかしながら、この硬化性樹脂組成物を用いて製造されたハードコート層の耐摩耗性能は、実用的な耐久性の点で、不充分であり、また耐擦傷性は、低いという問題が新たに生じていた。
これらの問題点を改良した硬化性樹脂組成物及びそれを用いたハードコート層を有する光学フィルム等の開発が望まれている。
これらの問題点を改良した硬化性樹脂組成物及びそれを用いたハードコート層を有する光学フィルム等の開発が望まれている。
本発明は、耐擦傷性、耐摩耗性が良好な硬化物を得ることができる硬化性樹脂組成物を提供することを課題の一つとし、また、この硬化性樹脂組成物を硬化して得られたハードコート層を有する光学フィルムを提供することを課題の一つとする。
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った。その結果、硬化性樹脂と、モース硬度が異なる２種類の無機微粒子とを混合し、その硬化性樹脂組成物を硬化することで得られる光学フィルムが、耐擦傷性、耐摩耗性に優れることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は下記の構成を有する。
即ち、本発明は下記の構成を有する。
［１］ 無機微粒子（ａ）、無機微粒子（ｂ）及び硬化性樹脂（ｃ）を含有する硬化性樹脂組成物であり、無機微粒子（ａ）は、６以上のモース硬度、１０μｍ以下の平均粒子径を有し、無機微粒子（ｂ）は、５未満のモース硬度、１０μｍ以下の平均粒子径を有し、無機微粒子（ａ）のモース硬度と無機微粒子（ｂ）のモース硬度との積が、６以上、４０未満であり、硬化性樹脂組成物中の無機微粒子（ａ）と無機微粒子（ｂ）との合計の含有量が、０．０１〜６０重量％であり、無機微粒子（ａ）と無機微粒子（ｂ）との混合比が、１：０．００１〜１：１０であり、硬化性樹脂（ｃ）は、熱硬化性樹脂及び活性エネルギー線硬化性樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする硬化性樹脂組成物。
［２］ 前記無機微粒子（ａ）が、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、フッ化マグネシウム及び酸化鉄からなる群から選ばれる少なくとも１種であり、前記無機微粒子（ｂ）が、酸化亜鉛、酸化銅、酸化アンチモン、氷晶石、蛍石、燐灰石、方解石、石膏及びタルクからなる群から選ばれる少なくとも１種である前記［１］項記載の硬化性樹脂組成物。
［３］ シロキサン骨格を有する化合物（ｄ）をさらに０．０１〜１０重量％含有する、前記［１］項または前記［２］項記載の硬化性樹脂組成物。
［４］ 前記シロキサン骨格を有する化合物（ｄ）が、式（１）で表される構成単位、式（２）で表される構成単位、式（３）で表される構成単位、式（４）で表される構成単位からなる構造を含有することを特徴とする前記［３］項記載の硬化性樹脂組成物。
式（１）〜式（４）において、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４は、それぞれ独立して、水素またはメチルであり、ここで、ｏは、式（１）で表される構成単位の化合物（ｄ）中のモル分率（％）を表し、ｐは、式（２）で表される構成単位の化合物（ｄ）中のモル分率（％）を表し、ｑは、式（３）で表される構成単位の化合物（ｄ）中のモル分率（％）を表し、ｒは、式（４）で表される構成単位の化合物（ｄ）中のモル分率（％）を表し、それぞれ０＜ｏ＜１００、０＜ｐ＜１００、０＜ｑ＜１００、０≦ｒ＜１００、ｏ＋ｐ＋ｑ＋ｒ＝１００の関係であり、αは、式（Ｉ）で表されるフッ素含有シルセスキオキサンを有する基であり、βは、式（II）で表されるシリコーン成分を有する基であり、γは、任意の付加重合性単量体由来の基であり、Ｘ３は、構造中に１つ以上の（メタ）アクリロイルを有する構成単位である。
式（Ｉ）において、Ｒｆ １〜Ｒｆ ７は、それぞれ独立して、３，３，３−トリフルオロプロピル、３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル、トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル、ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル、ヘンイコサフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロドデシル、ペンタコサフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロテトラデシル、（３−ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピル、ペンタフルオロフェニルプロピル、ペンタフルオロフェニル、またはα，α，α−トリフルオロメチルフェニルを示し、
式（II）において、Ｒ１６およびＲ１７は、それぞれ独立して、メチル、フェニルまたは３，３，３−トリフルオロプロピルであり；Ｒ１８およびＲ１９は、それぞれ独立してメチルまたはフェニルであり；Ｒ１５はメチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、またはフェニルであり、Ｓは、１〜１０００の整数である。
［５］ 前記［１］〜［４］のいずれか１項記載の硬化性樹脂組成物を硬化させたハードコート層と基材とが積層されてなる積層体。
［６］ 前記基材が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリウレタン、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ポリイミド、ポリエーテルスルホンからなる群から選ばれる１種である前記［５］項記載の積層体。
［７］ 前記ハードコート層が、０．１〜５０μｍの膜厚であり、基材が、０．１〜１ｍｍの膜厚である前記［５］項または前記［６］項記載の積層体。
［８］ 前記［５］〜［７］のいずれか１項項記載の積層体からなる光学フィルム。
［９］ 前記［８］項記載の光学フィルムを含むタッチパネル。
［２］ 前記無機微粒子（ａ）が、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、フッ化マグネシウム及び酸化鉄からなる群から選ばれる少なくとも１種であり、前記無機微粒子（ｂ）が、酸化亜鉛、酸化銅、酸化アンチモン、氷晶石、蛍石、燐灰石、方解石、石膏及びタルクからなる群から選ばれる少なくとも１種である前記［１］項記載の硬化性樹脂組成物。
［３］ シロキサン骨格を有する化合物（ｄ）をさらに０．０１〜１０重量％含有する、前記［１］項または前記［２］項記載の硬化性樹脂組成物。
［４］ 前記シロキサン骨格を有する化合物（ｄ）が、式（１）で表される構成単位、式（２）で表される構成単位、式（３）で表される構成単位、式（４）で表される構成単位からなる構造を含有することを特徴とする前記［３］項記載の硬化性樹脂組成物。
式（１）〜式（４）において、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４は、それぞれ独立して、水素またはメチルであり、ここで、ｏは、式（１）で表される構成単位の化合物（ｄ）中のモル分率（％）を表し、ｐは、式（２）で表される構成単位の化合物（ｄ）中のモル分率（％）を表し、ｑは、式（３）で表される構成単位の化合物（ｄ）中のモル分率（％）を表し、ｒは、式（４）で表される構成単位の化合物（ｄ）中のモル分率（％）を表し、それぞれ０＜ｏ＜１００、０＜ｐ＜１００、０＜ｑ＜１００、０≦ｒ＜１００、ｏ＋ｐ＋ｑ＋ｒ＝１００の関係であり、αは、式（Ｉ）で表されるフッ素含有シルセスキオキサンを有する基であり、βは、式（II）で表されるシリコーン成分を有する基であり、γは、任意の付加重合性単量体由来の基であり、Ｘ３は、構造中に１つ以上の（メタ）アクリロイルを有する構成単位である。
式（Ｉ）において、Ｒｆ １〜Ｒｆ ７は、それぞれ独立して、３，３，３−トリフルオロプロピル、３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル、トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル、ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル、ヘンイコサフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロドデシル、ペンタコサフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロテトラデシル、（３−ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピル、ペンタフルオロフェニルプロピル、ペンタフルオロフェニル、またはα，α，α−トリフルオロメチルフェニルを示し、
式（II）において、Ｒ１６およびＲ１７は、それぞれ独立して、メチル、フェニルまたは３，３，３−トリフルオロプロピルであり；Ｒ１８およびＲ１９は、それぞれ独立してメチルまたはフェニルであり；Ｒ１５はメチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、またはフェニルであり、Ｓは、１〜１０００の整数である。
［５］ 前記［１］〜［４］のいずれか１項記載の硬化性樹脂組成物を硬化させたハードコート層と基材とが積層されてなる積層体。
［６］ 前記基材が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリウレタン、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ポリイミド、ポリエーテルスルホンからなる群から選ばれる１種である前記［５］項記載の積層体。
［７］ 前記ハードコート層が、０．１〜５０μｍの膜厚であり、基材が、０．１〜１ｍｍの膜厚である前記［５］項または前記［６］項記載の積層体。
［８］ 前記［５］〜［７］のいずれか１項項記載の積層体からなる光学フィルム。
［９］ 前記［８］項記載の光学フィルムを含むタッチパネル。
本発明の硬化性樹脂組成物を用いることで、耐摩耗性が良好な硬化物を得ることができる。また、この硬化性樹脂組成物から得られた光学フィルムは良好な耐擦傷性、耐摩耗性を有する。
＜硬化性樹脂組成物＞
本発明の硬化性樹脂組成物は、無機微粒子（ａ）、無機微粒子（ｂ）及び硬化性樹脂（ｃ）を含有する硬化性樹脂組成物である。
無機微粒子（ａ）は、６以上のモース硬度、１０μｍ以下の平均粒子径を有し、無機微粒子（ｂ）は、５未満のモース硬度、１０μｍ以下の平均粒子径を有し、無機微粒子（ａ）のモース硬度と無機微粒子（ｂ）のモース硬度との積が、６以上、４０未満であり、硬化性樹脂組成物中の無機微粒子（ａ）と無機微粒子（ｂ）との合計の含有量が、０．０１〜６０重量％であり、無機微粒子（ａ）と無機微粒子（ｂ）との混合比が、１：０．００１〜１：１０である。
硬化性樹脂（ｃ）は、熱硬化性樹脂、活性エネルギー線硬化性樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種である。
本発明の硬化性樹脂組成物は、無機微粒子（ａ）、無機微粒子（ｂ）及び硬化性樹脂（ｃ）を含有する硬化性樹脂組成物である。
無機微粒子（ａ）は、６以上のモース硬度、１０μｍ以下の平均粒子径を有し、無機微粒子（ｂ）は、５未満のモース硬度、１０μｍ以下の平均粒子径を有し、無機微粒子（ａ）のモース硬度と無機微粒子（ｂ）のモース硬度との積が、６以上、４０未満であり、硬化性樹脂組成物中の無機微粒子（ａ）と無機微粒子（ｂ）との合計の含有量が、０．０１〜６０重量％であり、無機微粒子（ａ）と無機微粒子（ｂ）との混合比が、１：０．００１〜１：１０である。
硬化性樹脂（ｃ）は、熱硬化性樹脂、活性エネルギー線硬化性樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種である。
＜無機微粒子（ａ）＞
無機微粒子（ａ）は、６以上のモース硬度と、１０μｍ以下の平均粒子径を有していれば、特に問題なく使用できる。モース硬度は、６以上、９以下が好ましく、７以上、９以下が特に好ましい。平均粒子径は、好ましくは、１ｎｍ〜１０μｍであり、より好ましくは、１０ｎｍ〜１μｍであり、特に好ましくは、１０ｎｍ〜５００ｎｍである。前記無機微粒子（ａ）としては、酸化アルミニウム（モース硬度９）、酸化ケイ素（モース硬度７）、ルチル型酸化チタン（モース硬度７〜７．５）、酸化スズ（モース硬度６〜７）、酸化ジルコニウム（モース硬度６）、酸化セリウム（モース硬度６）、フッ化マグネシウム（モース硬度６）及び酸化鉄（モース硬度６）が例示できる。なかでも、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化スズが好ましく、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化スズが特に好ましい。これらは、１種単独で利用してもよいし、２種以上を混合して利用してもよい。２種以上を組み合わせる場合、無機微粒子（ａ）のモース硬度は平均のモース硬度とする。平均のモース硬度は、無機微粒子（ａ）全量に対する、それぞれの無機微粒子の重量比とそれぞれのモース硬度との積を足した値として算出することができる。
無機微粒子（ａ）は、６以上のモース硬度と、１０μｍ以下の平均粒子径を有していれば、特に問題なく使用できる。モース硬度は、６以上、９以下が好ましく、７以上、９以下が特に好ましい。平均粒子径は、好ましくは、１ｎｍ〜１０μｍであり、より好ましくは、１０ｎｍ〜１μｍであり、特に好ましくは、１０ｎｍ〜５００ｎｍである。前記無機微粒子（ａ）としては、酸化アルミニウム（モース硬度９）、酸化ケイ素（モース硬度７）、ルチル型酸化チタン（モース硬度７〜７．５）、酸化スズ（モース硬度６〜７）、酸化ジルコニウム（モース硬度６）、酸化セリウム（モース硬度６）、フッ化マグネシウム（モース硬度６）及び酸化鉄（モース硬度６）が例示できる。なかでも、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化スズが好ましく、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化スズが特に好ましい。これらは、１種単独で利用してもよいし、２種以上を混合して利用してもよい。２種以上を組み合わせる場合、無機微粒子（ａ）のモース硬度は平均のモース硬度とする。平均のモース硬度は、無機微粒子（ａ）全量に対する、それぞれの無機微粒子の重量比とそれぞれのモース硬度との積を足した値として算出することができる。
＜無機微粒子（ｂ）＞
無機微粒子（ｂ）は、５未満のモース硬度と、１０μｍ以下の平均粒子径を有していれば、特に問題なく利用できる。モース硬度は、１以上、５未満が好ましく、２以上、４以下がより好ましく、３以上、４以下が特に好ましい。平均粒子径は、好ましくは、１ｎｍ〜１０μｍであり、より好ましくは、１０ｎｍ〜１μｍであり、特に好ましくは、１０ｎｍ〜５００ｎｍである。前記無機微粒子（ｂ）としては、酸化亜鉛（モース硬度４）、酸化銅（モース硬度４．５）、酸化アンチモン（モース硬度３）、氷晶石（モース硬度２．５〜３）、蛍石（モース硬度４）、燐灰石（モース硬度５）、方解石（モース硬度３）、石膏（モース硬度２）及びタルク（モース硬度１）が例示できる。なかでも、酸化亜鉛、酸化アンチモン、氷晶石、蛍石が好ましく、酸化亜鉛、酸化アンチモン、氷晶石が特に好ましい。これらは、１種単独で利用してもよいし、２種以上を混合して利用してもよい。２種以上を組み合わせる場合、無機微粒子（ｂ）のモース硬度は平均のモース硬度とする。平均のモース硬度は、無機微粒子（ｂ）全量に対する、それぞれの無機微粒子の重量比とそれぞれのモース硬度との積を足した値として算出することができる。
無機微粒子（ｂ）は、５未満のモース硬度と、１０μｍ以下の平均粒子径を有していれば、特に問題なく利用できる。モース硬度は、１以上、５未満が好ましく、２以上、４以下がより好ましく、３以上、４以下が特に好ましい。平均粒子径は、好ましくは、１ｎｍ〜１０μｍであり、より好ましくは、１０ｎｍ〜１μｍであり、特に好ましくは、１０ｎｍ〜５００ｎｍである。前記無機微粒子（ｂ）としては、酸化亜鉛（モース硬度４）、酸化銅（モース硬度４．５）、酸化アンチモン（モース硬度３）、氷晶石（モース硬度２．５〜３）、蛍石（モース硬度４）、燐灰石（モース硬度５）、方解石（モース硬度３）、石膏（モース硬度２）及びタルク（モース硬度１）が例示できる。なかでも、酸化亜鉛、酸化アンチモン、氷晶石、蛍石が好ましく、酸化亜鉛、酸化アンチモン、氷晶石が特に好ましい。これらは、１種単独で利用してもよいし、２種以上を混合して利用してもよい。２種以上を組み合わせる場合、無機微粒子（ｂ）のモース硬度は平均のモース硬度とする。平均のモース硬度は、無機微粒子（ｂ）全量に対する、それぞれの無機微粒子の重量比とそれぞれのモース硬度との積を足した値として算出することができる。
＜無機微粒子（ａ）と無機微粒子（ｂ）との組み合わせ＞
本発明において、モース硬度とは、１０種の標準鉱物を選定し、対象鉱物がどの標準物質によってはじめて傷がつくかによって示す硬さの尺度である。
本発明において、無機微粒子（ａ）のモース硬度と無機微粒子（ｂ）のモース硬度との積が、６以上、４０未満であることが必要であり、この範囲であれば、耐摩耗性が良好となる。耐摩耗性の観点から、前記積が１８以上、３６以下の範囲となることが好ましい。
硬化性樹脂組成物中の無機微粒子（ａ）と無機微粒子（ｂ）との合計の含有量は、０．０１〜６０重量％であり、この範囲であれば、耐摩耗性が良好となる。耐摩耗性の観点から、好ましくは、０．０５〜５０重量％であり、特に好ましくは、０．２〜４０重量％である。また、無機微粒子（ａ）と無機微粒子（ｂ）との混合比は、１：０．００１〜１：１０であり、この範囲であれば、耐摩耗性が良好となる。耐摩耗性の観点から、好ましくは、１：０．０１〜１：５であり、特に好ましくは、１：０．０１〜１：１である。
本発明において、モース硬度とは、１０種の標準鉱物を選定し、対象鉱物がどの標準物質によってはじめて傷がつくかによって示す硬さの尺度である。
本発明において、無機微粒子（ａ）のモース硬度と無機微粒子（ｂ）のモース硬度との積が、６以上、４０未満であることが必要であり、この範囲であれば、耐摩耗性が良好となる。耐摩耗性の観点から、前記積が１８以上、３６以下の範囲となることが好ましい。
硬化性樹脂組成物中の無機微粒子（ａ）と無機微粒子（ｂ）との合計の含有量は、０．０１〜６０重量％であり、この範囲であれば、耐摩耗性が良好となる。耐摩耗性の観点から、好ましくは、０．０５〜５０重量％であり、特に好ましくは、０．２〜４０重量％である。また、無機微粒子（ａ）と無機微粒子（ｂ）との混合比は、１：０．００１〜１：１０であり、この範囲であれば、耐摩耗性が良好となる。耐摩耗性の観点から、好ましくは、１：０．０１〜１：５であり、特に好ましくは、１：０．０１〜１：１である。
＜硬化性樹脂（ｃ）＞
硬化性樹脂（ｃ）としては、熱硬化性樹脂、活性エネルギー線硬化性樹脂などが利用でき、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく利用できる。これらは、１種単独で利用してもよいし、２種以上を混合して利用してもよい。
硬化性樹脂（ｃ）としては、熱硬化性樹脂、活性エネルギー線硬化性樹脂などが利用でき、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく利用できる。これらは、１種単独で利用してもよいし、２種以上を混合して利用してもよい。
＜熱硬化性樹脂＞
熱硬化性樹脂としては、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが利用できる。熱硬化性樹脂を用いる場合には、酸発生剤などの硬化剤を添加することが好ましい。
硬化剤としては、カルボン酸、アミン、酸無水物化合物、酸発生剤、ルイス酸を放出するオニウム塩である複塩又はその誘導体などが利用でき、好ましくはルイス酸を放出するオニウム塩である複塩又はその誘導体などが利用できる。
熱硬化性樹脂としては、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂などが利用できる。熱硬化性樹脂を用いる場合には、酸発生剤などの硬化剤を添加することが好ましい。
硬化剤としては、カルボン酸、アミン、酸無水物化合物、酸発生剤、ルイス酸を放出するオニウム塩である複塩又はその誘導体などが利用でき、好ましくはルイス酸を放出するオニウム塩である複塩又はその誘導体などが利用できる。
＜活性エネルギー線硬化性樹脂＞
活性エネルギー線硬化性樹脂としては、（メタ）アクリレートモノマー、不飽和ポリエステル樹脂、ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂、エポキシ（メタ）アクリレート樹脂、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂などのラジカル重合が可能な不飽和結合を有する樹脂などが利用できる。
活性エネルギー線硬化性樹脂としては、（メタ）アクリレートモノマー、不飽和ポリエステル樹脂、ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂、エポキシ（メタ）アクリレート樹脂、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂などのラジカル重合が可能な不飽和結合を有する樹脂などが利用できる。
前記（メタ）アクリレートモノマーとしては、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物が挙げられる。例えば、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコール（メタ）アクリレート、プロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレンポリトリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンテトラエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンペンタエトキシトリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、テトラメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。また、シルセスキオキサン骨格を有する化合物で、官能基に（メタ）アクリレートを有する化合物も挙げられる。
前記不飽和ポリエステル樹脂としては、多価アルコールと不飽和多塩基酸（及び必要に応じて飽和多塩基酸）とのエステル化反応による縮合生成物（不飽和ポリエステル）を、重合性モノマーに溶解したものが挙げられる。
前記不飽和ポリエステルとしては、無水マレイン酸などの不飽和酸とエチレングリコールなどのジオールとを重縮合させて製造できる。具体的にはフマル酸、マレイン酸、イタコン酸などの重合性不飽和結合を有する多塩基酸またはその無水物を酸成分とし、これとエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物などの多価アルコールをアルコール成分として反応させ、また、必要に応じてフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、アジピン酸、セバシン酸などの重合性不飽和結合を有していない多塩基酸又はその無水物も酸成分として加えて製造されるものが挙げられる。
前記不飽和ポリエステルとしては、無水マレイン酸などの不飽和酸とエチレングリコールなどのジオールとを重縮合させて製造できる。具体的にはフマル酸、マレイン酸、イタコン酸などの重合性不飽和結合を有する多塩基酸またはその無水物を酸成分とし、これとエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物などの多価アルコールをアルコール成分として反応させ、また、必要に応じてフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、アジピン酸、セバシン酸などの重合性不飽和結合を有していない多塩基酸又はその無水物も酸成分として加えて製造されるものが挙げられる。
前記ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂としては、（１）飽和多塩基酸及び／または不飽和多塩基酸と多価アルコールから得られる末端カルボキシルのポリエステルにα，β−不飽和カルボン酸エステルを含有するエポキシ化合物を反応して得られる（メタ）アクリレート、（２）飽和多塩基酸及び／または不飽和多塩基酸と多価アルコールから得られる末端カルボキシルのポリエステルに水酸基含有アクリレートを反応させて得られる（メタ）アクリレート、（３）飽和多塩基酸及び／または不飽和多塩基酸と多価アルコールから得られる末端水酸基のポリエステルに（メタ）アクリル酸を反応して得られる（メタ）アクリレートが挙げられる。
ポリエステル（メタ）アクリレートの原料として用いられる飽和多塩基酸としては、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、アジピン酸、セバシン酸などの重合性不飽和結合を有していない多塩基酸またはその無水物が挙げられ、重合性不飽和多塩基酸としては、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸などの重合性不飽和結合を有している多塩基酸またはその無水物が挙げられる。さらに多価アルコール成分としては、前記不飽和ポリエステルと同様である。
ポリエステル（メタ）アクリレートの原料として用いられる飽和多塩基酸としては、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロフタル酸、アジピン酸、セバシン酸などの重合性不飽和結合を有していない多塩基酸またはその無水物が挙げられ、重合性不飽和多塩基酸としては、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸などの重合性不飽和結合を有している多塩基酸またはその無水物が挙げられる。さらに多価アルコール成分としては、前記不飽和ポリエステルと同様である。
エポキシ（メタ）アクリレート樹脂としては、グリシジルを有する化合物と、アクリル酸などの重合性不飽和結合を有するカルボキシル化合物のカルボキシルとの開環反応により生成する重合性不飽和結合を持った化合物（ビニルエステル）を、重合性モノマーに溶解したものが挙げられる。前記ビニルエステルとしては、公知の方法により製造されるものであり、エポキシ樹脂に不飽和一塩基酸、例えばアクリル酸またはメタクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレートが挙げられる。また、各種エポキシ樹脂をビスフェノール（例えばＡ型）またはアジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸（ハリダイマー２７０Ｓ：ハリマ化成（株））などの二塩基酸で反応させ、可撓性を付与してもよい。原料としてのエポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル及びその高分子量同族体、ノボラック型グリシジルエーテル類などが挙げられる。
前記ウレタン（メタ）アクリレート樹脂としては、例えば、ポリイソシアネートとポリヒドロキシ化合物あるいは多価アルコール類とを反応させた後、更に水酸基含有（メタ）アクリル化合物及び必要に応じて水酸基含有アリルエーテル化合物を反応させることによって得ることができるラジカル重合性不飽和基含有オリゴマーが挙げられる。
前記ポリイソシアネートとしては、具体的には２，４−トリレンジイソシアネートおよびその異性体、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ナフタリンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、バノックＤ−７５０、クリスボンＮＫ（商品名；大日本インキ化学工業（株）製）、デスモジュールＬ（商品名；住友バイエルウレタン（株）製）、コロネートＬ（商品名；日本ポリウレタン工業（株）製）、タケネートＤ１０２（商品名；三井武田ケミカル（株）製）、イソネート１４３Ｌ（商品名；三菱化学（株）製）などが挙げられる。
前記ポリヒドロキシ化合物としては、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオールなどが挙げられ、具体的にはグリセリン−エチレンオキシド付加物、グリセリン−プロピレンオキシド付加物、グリセリン−テトラヒドロフラン付加物、グリセリン−エチレンオキシド−プロピレンオキシド付加物、トリメチロールプロパン−エチレンオキシド付加物、トリメチロールプロパン−プロピレンオキシド付加物、トリメチロールプロパン−テトラヒドロフラン付加物、トリメチロールプロパン−エチレンオキシド−プロピレンオキシド付加物、ジペンタエスリトール−エチレンオキシド付加物、ジペンタエスリトール−プロピレンオキシド付加物、ジペンタエスリトール−テトラヒドロフラン付加物、ジペンタエスリトール−エチレンオキシド−プロピレンオキシド付加物などが挙げられる。
前記多価アルコール類としては、具体的には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、ビスフェノールＡとプロピレンオキシドまたはエチレンオキシドとの付加物、１，２，３，４−テトラヒドロキシブタン、グリセリン、トリメチロールプロパン、１，３−ブタンジオール、１，２−シクロヘキサングリコール、１，３−シクロヘキサングリコール、１，４−シクロヘキサングリコール、パラキシレングリコール、ビシクロヘキシル−４，４−ジオール、２，６−デカリングリコール、２，７−デカリングリコールなどが挙げられる。
前記水酸基含有（メタ）アクリル化合物としては、特に限定されるものではないが、水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルが好ましく、具体的には、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌルサンノジ（メタ）アクリレート、ペンタエスリトールトリ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
前記ポリイソシアネートとしては、具体的には２，４−トリレンジイソシアネートおよびその異性体、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ナフタリンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、バノックＤ−７５０、クリスボンＮＫ（商品名；大日本インキ化学工業（株）製）、デスモジュールＬ（商品名；住友バイエルウレタン（株）製）、コロネートＬ（商品名；日本ポリウレタン工業（株）製）、タケネートＤ１０２（商品名；三井武田ケミカル（株）製）、イソネート１４３Ｌ（商品名；三菱化学（株）製）などが挙げられる。
前記ポリヒドロキシ化合物としては、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオールなどが挙げられ、具体的にはグリセリン−エチレンオキシド付加物、グリセリン−プロピレンオキシド付加物、グリセリン−テトラヒドロフラン付加物、グリセリン−エチレンオキシド−プロピレンオキシド付加物、トリメチロールプロパン−エチレンオキシド付加物、トリメチロールプロパン−プロピレンオキシド付加物、トリメチロールプロパン−テトラヒドロフラン付加物、トリメチロールプロパン−エチレンオキシド−プロピレンオキシド付加物、ジペンタエスリトール−エチレンオキシド付加物、ジペンタエスリトール−プロピレンオキシド付加物、ジペンタエスリトール−テトラヒドロフラン付加物、ジペンタエスリトール−エチレンオキシド−プロピレンオキシド付加物などが挙げられる。
前記多価アルコール類としては、具体的には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、ビスフェノールＡとプロピレンオキシドまたはエチレンオキシドとの付加物、１，２，３，４−テトラヒドロキシブタン、グリセリン、トリメチロールプロパン、１，３−ブタンジオール、１，２−シクロヘキサングリコール、１，３−シクロヘキサングリコール、１，４−シクロヘキサングリコール、パラキシレングリコール、ビシクロヘキシル−４，４−ジオール、２，６−デカリングリコール、２，７−デカリングリコールなどが挙げられる。
前記水酸基含有（メタ）アクリル化合物としては、特に限定されるものではないが、水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルが好ましく、具体的には、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌルサンノジ（メタ）アクリレート、ペンタエスリトールトリ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
活性エネルギー線硬化性樹脂を用いる場合には、活性エネルギー線でラジカルを発生する活性エネルギー線重合開始剤などの硬化剤を添加することが好ましい。用いられる活性エネルギー線重合開始剤の具体例としては、紫外線や可視光線の照射によりラジカルを発生する化合物であれば特に限定しない。活性エネルギー線重合開始剤として用いられる化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４,４′-ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２,４-ジエチルチオキサントン、２-エチルアントラキノン、アセトフェノン、２-ヒドロキシ-２-メチルプロピオフェノン、２-ヒドロキシ-２-メチル-４′-イソプロピルプロピオフェノン、１-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２,２-ジエトキシアセトフェノン、２,２-ジメトキシ-２-フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２-メチル-１-［４-（メチルチオ）フェニル］-２-モルホリノプロパン-１-オン、２-ベンジル-２-ジメチルアミノ-１-（４-モルホリノフェニル）-ブタノン、１,４-ジメチルアミノ安息香酸エチル、４-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４,４′-ジ（ｔ-ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３,４,４′-トリ（ｔ-ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２,４,６-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２-（４′-メトキシスチリル）-４,６-ビス（トリクロロメチル）-ｓ-トリアジン、２-（３′,４′-ジメトキシスチリル）-４,６-ビス（トリクロロメチル）-ｓ-トリアジン、２-（２′,４′-ジメトキシスチリル）-４,６-ビス（トリクロロメチル）-ｓ-トリアジン、２-（２′-メトキシスチリル）-４,６-ビス（トリクロロメチル）-ｓ-トリアジン、２-（４′-ペンチルオキシスチリル）-４,６-ビス（トリクロロメチル）-ｓ-トリアジン、４-［ｐ-Ｎ,Ｎ-ジ（エトキシカルボニルメチル）］-２,６-ジ（トリクロロメチル）-ｓ-トリアジン、１,３-ビス（トリクロロメチル）-５-（２′-クロロフェニル）-ｓ-トリアジン、１,３-ビス（トリクロロメチル）-５-（４′-メトキシフェニル）-ｓ-トリアジン、２-（ｐ-ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２-（ｐ-ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２-メルカプトベンゾチアゾール、３,３′-カルボニルビス（７-ジエチルアミノクマリン）、２-（ｏ-クロロフェニル）-４,４′,５,５′-テトラフェニル-１,２′-ビイミダゾール、２,２′-ビス（２-クロロフェニル）-４,４′,５,５′-テトラキス（４-エトキシカルボニルフェニル）-１,２′-ビイミダゾール、２,２′-ビス（２,４-ジクロロフェニル）-４,４′,５,５′-テトラフェニル-１,２′-ビイミダゾール、２,２′-ビス（２,４-ジブロモフェニル）-４,４′,５,５′-テトラフェニル-１,２′-ビイミダゾール、２,２′-ビス（２,４,６-トリクロロフェニル）-４,４′,５,５′-テトラフェニル-１,２′-ビイミダゾール、３-（２-メチル-２-ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３,６-ビス（２-メチル-２-モルホリノプロピオニル）-９-ｎ-ドデシルカルバゾール、１-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（η5-２,４-シクロペンタジエン-１-イル）-ビス（２,６-ジフルオロ-３-（１Ｈ-ピロール-１-イル）-フェニル）チタニウムなどである。これらの化合物は単独で使用してもよく、２つ以上を混合して使用することも有効である。３,３′,４,４′-テトラ（ｔ-ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３,３′,４,４′-テトラ（ｔ-ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３,３′-ジ（メトキシカルボニル）-４,４′-ジ（ｔ-ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３,４′-ジ（メトキシカルボニル）-４,３′-ジ（ｔ-ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４,４′-ジ（メトキシカルボニル）-３,３′-ジ（ｔ-ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどが好ましい。
＜シロキサン骨格を有する化合物＞
本発明の硬化性樹脂組成物には、シロキサン骨格を有する化合物（ｄ）をさらに含有させてもよい。シロキサン骨格を有する化合物（ｄ）を含有させることで、耐擦傷性、耐摩耗性、撥水撥油性、汚防性、滑り性という特性が良好になる。シロキサン骨格を有する化合物（ｄ）は、式（１）で表される構成単位、式（２）で表される構成単位、式（３）で表される構成単位、式（４）で表される構成単位からなる構造を含有していればよい。
本発明の硬化性樹脂組成物には、シロキサン骨格を有する化合物（ｄ）をさらに含有させてもよい。シロキサン骨格を有する化合物（ｄ）を含有させることで、耐擦傷性、耐摩耗性、撥水撥油性、汚防性、滑り性という特性が良好になる。シロキサン骨格を有する化合物（ｄ）は、式（１）で表される構成単位、式（２）で表される構成単位、式（３）で表される構成単位、式（４）で表される構成単位からなる構造を含有していればよい。
式（１）〜式（４）において、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４は、それぞれ独立して、水素またはメチルである。ここで、ｏは、式（１）で表される構成単位の化合物（ｄ）中のモル分率（％）を表し、ｐは、式（２）で表される構成単位の化合物（ｄ）中のモル分率（％）を表し、ｑは、式（３）で表される構成単位の化合物（ｄ）中のモル分率（％）を表し、ｒは、式（４）で表される構成単位の化合物（ｄ）中のモル分率（％）を表し、それぞれ０＜ｏ＜１００、０＜ｐ＜１００、０＜ｑ＜１００、０≦ｒ＜１００、ｏ＋ｐ＋ｑ＋ｒ＝１００の関係である。αは、式（Ｉ）で表されるフッ素含有シルセスキオキサンを有する基であり、βは、式（II）で表されるシリコーン成分を有する基であり、γは、任意の付加重合性単量体由来の基であり、Ｘ３は、構造中に１つ以上の（メタ）アクリロイルを有する基である。
前記化合物は、ブロック共重合体であっても、ランダム共重合体であってもよいが、好ましくはランダム共重合体である。また、前記化合物は架橋構造を有していても、グラフト共重合体であってもよい。
式（Ｉ）において、Ｒｆ １〜Ｒｆ ７は、それぞれ独立して、３，３，３−トリフルオロプロピル、３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル、トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル、ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル、ヘンイコサフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロドデシル、ペンタコサフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロテトラデシル、（３−ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピル、ペンタフルオロフェニルプロピル、ペンタフルオロフェニル、またはα，α，α−トリフルオロメチルフェニルを示し、好ましくは、３，３，３−トリフルオロプロピル、３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル、より好ましくは、３，３，３−トリフルオロプロピルである。
式（II）において、Ｒ１６およびＲ１７は、それぞれ独立して、メチル、フェニルまたは３，３，３−トリフルオロプロピルである。Ｒ１８およびＲ１９は、それぞれ独立してメチルまたはフェニルである。Ｒ１５はメチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、またはフェニルである。Ｒ１６〜Ｒ１９はメチルが好ましく、Ｒ１５はブチルが好ましい。Ｓは、１〜１０００の整数であり、１〜５００が好ましく、１〜２００が特に好ましい。
＜積層体、光学フィルム及びその製造方法＞
積層体および光学フィルムは、本発明の硬化性樹脂組成物を基材上の片面に塗布等により層を形成し、硬化性樹脂組成物の層を硬化させるのに必要なエネルギー（熱、活性エネルギー線等）を照射し、硬化させることで製造できる。硬化性樹脂組成物を硬化させた層が、ハードコート層となり、基材の耐擦傷性、耐摩耗性を向上することができる。基材が光学フィルムの場合、光学フィルムの両面にハードコート層を形成させてもよい。
下記の方法で、硬化性樹脂組成物から光学フィルムを製造することができる。
本発明のハードコート層を有する積層体は、本発明の硬化性樹脂組成物の膜を形成する工程と、この膜を硬化させる工程とによって得られる。膜の形成は、例えば塗布によって行うことができ、膜の硬化は、通常は乾燥工程、加熱工程、活性エネルギー線照射工程の少なくとも１工程によって行うことができる。
塗布する方法は、特に制限されないが、スピンコート法、ロールコート法、スリットコート法、ディッピング法、スプレーコート法、グラビアコート法、リバースコート法、ロッドコート法、バーコート法、ダイコート法、キスコート法、リバースキスコート法、エアナイフコート法、カーテンコート法などが利用できる。
塗布される基材の例としては、白板ガラス、青板ガラス、シリカコート青板ガラスなどの透明ガラス基板；ポリカーボネート、ポリエステル、アクリル樹脂、塩化ビニール樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド、ポリイミド、トリアセテート、ジアセテートなどの合成樹脂製シート、フィルム；ノルボルネン系樹脂を含むシクロオレフィン系樹脂（商品名；ゼオノア、ゼオネックス、日本ゼオン株式会社、商品名；アートン、ＪＳＲ株式会社）、メタクリルスチレン、ポリサルフォン、脂環式アクリル樹脂、ポリアリレートなどの光学用途に用いる透明樹脂基板；アルミニウム板、銅板、ニッケル板、ステンレス板などの金属基板；その他セラミック板、光電変換素子を有する半導体基板；ウレタンゴム、スチレンゴムなどが挙げられる。
これらの基材は前処理をされていてもよく、前処理の例としては、シランカップリング剤などによる薬品処理、サンドブラスト処理、コロナ放電処理、紫外線処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着などが挙げられる。
塗布された溶液の乾燥は、室温〜約２００℃の環境下で行うことができる。
活性エネルギー線重合開始剤を用いる場合は、塗布乾燥後に、活性エネルギー線源により、光活性エネルギー線または電子線を照射して硬化させることができる。
活性エネルギー線源としては特に制限はないが、用いる活性エネルギー線重合開始剤の性質に応じて、例えば低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク、気体レーザー、固体レーザー、電子線照射装置などが挙げられる。
積層体および光学フィルムは、本発明の硬化性樹脂組成物を基材上の片面に塗布等により層を形成し、硬化性樹脂組成物の層を硬化させるのに必要なエネルギー（熱、活性エネルギー線等）を照射し、硬化させることで製造できる。硬化性樹脂組成物を硬化させた層が、ハードコート層となり、基材の耐擦傷性、耐摩耗性を向上することができる。基材が光学フィルムの場合、光学フィルムの両面にハードコート層を形成させてもよい。
下記の方法で、硬化性樹脂組成物から光学フィルムを製造することができる。
本発明のハードコート層を有する積層体は、本発明の硬化性樹脂組成物の膜を形成する工程と、この膜を硬化させる工程とによって得られる。膜の形成は、例えば塗布によって行うことができ、膜の硬化は、通常は乾燥工程、加熱工程、活性エネルギー線照射工程の少なくとも１工程によって行うことができる。
塗布する方法は、特に制限されないが、スピンコート法、ロールコート法、スリットコート法、ディッピング法、スプレーコート法、グラビアコート法、リバースコート法、ロッドコート法、バーコート法、ダイコート法、キスコート法、リバースキスコート法、エアナイフコート法、カーテンコート法などが利用できる。
塗布される基材の例としては、白板ガラス、青板ガラス、シリカコート青板ガラスなどの透明ガラス基板；ポリカーボネート、ポリエステル、アクリル樹脂、塩化ビニール樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド、ポリイミド、トリアセテート、ジアセテートなどの合成樹脂製シート、フィルム；ノルボルネン系樹脂を含むシクロオレフィン系樹脂（商品名；ゼオノア、ゼオネックス、日本ゼオン株式会社、商品名；アートン、ＪＳＲ株式会社）、メタクリルスチレン、ポリサルフォン、脂環式アクリル樹脂、ポリアリレートなどの光学用途に用いる透明樹脂基板；アルミニウム板、銅板、ニッケル板、ステンレス板などの金属基板；その他セラミック板、光電変換素子を有する半導体基板；ウレタンゴム、スチレンゴムなどが挙げられる。
これらの基材は前処理をされていてもよく、前処理の例としては、シランカップリング剤などによる薬品処理、サンドブラスト処理、コロナ放電処理、紫外線処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着などが挙げられる。
塗布された溶液の乾燥は、室温〜約２００℃の環境下で行うことができる。
活性エネルギー線重合開始剤を用いる場合は、塗布乾燥後に、活性エネルギー線源により、光活性エネルギー線または電子線を照射して硬化させることができる。
活性エネルギー線源としては特に制限はないが、用いる活性エネルギー線重合開始剤の性質に応じて、例えば低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク、気体レーザー、固体レーザー、電子線照射装置などが挙げられる。
ハードコート層の厚みは、特に限定されないが、一般に０．１〜５０μｍの膜厚であり、好ましくは、０．１〜２５μｍであり、より好ましくは、０．１〜１０μｍである。また、基材が光学フィルム場合、その厚みは、特に限定されないが、一般に０．１〜１ｍｍの膜厚であり、好ましくは、０．１〜５００μｍ、より好ましくは、２０〜３００μｍである。
光学フィルムとして用いられる場合、基材は、光学フィルムに用いられる素材であれば、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリウレタン、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ポリイミド、及びポリエーテルスルホンが挙げられる。これらの中でも、ディスプレイ、タッチパネルの用途に適している点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロースが好ましい。これらのフィルムは、市販品を購入して用いてもよい。例えば、膜厚１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムとしては、東レ（株）製「ルミラー１００−Ｕ３４（商品名）」が利用できる。
＜添加剤＞
本発明の光学フィルムを製造する際には、硬化性樹脂組成物に酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤を添加することにより、酸化劣化を防止し着色の少ない光学フィルムとすることができる。酸化防止剤の例はフェノール系、硫黄系、およびリン系の酸化防止剤である。酸化防止剤を使用するときの好ましい配合割合は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物に対する酸化防止剤の重量比で、好ましくは０．０００１〜０．１重量％であり、より好ましくは０．０１〜０．１重量％である。
本発明の光学フィルムを製造する際には、硬化性樹脂組成物に酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤を添加することにより、酸化劣化を防止し着色の少ない光学フィルムとすることができる。酸化防止剤の例はフェノール系、硫黄系、およびリン系の酸化防止剤である。酸化防止剤を使用するときの好ましい配合割合は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物に対する酸化防止剤の重量比で、好ましくは０．０００１〜０．１重量％であり、より好ましくは０．０１〜０．１重量％である。
酸化防止剤の具体例は、モノフェノール類（２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−エチルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートなど）、ビスフェノール類（２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−｛β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなど）、高分子型フェノール類（１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３’−ビス−（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、１，３，５−トリス（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−トリアジンー２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、トコフェノールなど）、硫黄系酸化防止剤（ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリルル−３，３’−チオジプロピオネートなど）、ホスファイト類（リフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（オクタデシル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビ（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビ（２，４−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、ビス［２−ｔ−ブチル−６−メチル−４−｛２−（オクタデシルオキシカルボニル）エチル｝フェニル］ヒドロゲンホスファイトなど）、およびオキサホスファフェナントレンオキサイド類（９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、１０−デシロキシ−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイドなど）である。これらの酸化防止剤はそれぞれ単独で使用できるが、フェノール系／硫黄系またはフェノール系／リン系と組み合わせて使用することが特に好ましい。市販のフェノール系の酸化防止剤としては、チバ・ジャパン（株）製ＩＲＧＡＮＯＸ １０１０（商品名）やＩＲＧＡＦＯＳ １６８（商品名）をそれぞれ単独で利用することができ、また、これらを混合して利用することもできる。
本発明の光学フィルムを製造する際には、耐光性を向上させるために、硬化性樹脂組成物に紫外線吸収剤を配合してもよい。紫外線吸収剤としては、一般のプラスチック用紫外線吸収剤を使用でき、その好ましい配合割合は、特に限定されない。硬化性樹脂組成物に対する紫外線吸収剤の重量比で、好ましくは０．０００１〜０．１重量％であり、より好ましくは０．００１〜０．１重量％である。
紫外線吸収剤の具体例は、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート等のサリチル酸類、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−｛（２’−ヒドロキシ−３’，３’’，４’’，５’’，６’’−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル｝ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール類、およびビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［｛３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドリキシフェニル｝メチル］ブチルマロネート等のヒンダートアミン類である。
本発明の光学フィルムを製造する際には、硬化性樹脂組成物に溶媒を添加してもよい。用いられる溶媒の例には、炭化水素系溶媒（ベンゼン、トルエンなど）、エーテル系溶媒（ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテル、アニソール、ジメトキシベンゼンなど）、ハロゲン化炭化水素系溶媒（塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼンなど）、ケトン系溶媒（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど）、アルコール系溶媒（メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブチルアルコール、ｔ-ブチルアルコールなど）、ニトリル系溶媒（アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなど）、エステル系溶媒（酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、カーボネート系溶媒（エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートなど）、アミド系溶媒（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド）、ハイドロクロロフルオロカーボン系溶媒（ＨＣＦＣ−１４１ｂ、ＨＣＦＣ−２２５）、ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣｓ）系溶媒（炭素数２〜４、５および６以上のＨＦＣｓ）、パーフルオロカーボン系溶媒（パーフルオロペンタン、パーフルオロヘキサン）、脂環式ハイドロフルオロカーボン系溶媒（フルオロシクロペンタン、フルオロシクロブタン）、酸素含有フッ素系溶媒（フルオロエーテル、フルオロポリエーテル、フルオロケトン、フルオロアルコール）、芳香族系フッ素溶媒（α,α,α-トリフルオロトルエン、ヘキサフルオロベンゼン）、水が含まれる。これらを単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
用いられる溶媒の量は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物に対する溶媒の重量比で、好ましくは０〜９０重量％であり、より好ましくは３０〜８０重量％である。
用いられる溶媒の量は、特に限定されないが、硬化性樹脂組成物に対する溶媒の重量比で、好ましくは０〜９０重量％であり、より好ましくは３０〜８０重量％である。
また、活性エネルギー線増感剤、重合禁止剤、重合開始助剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、硬化助剤など、任意の成分をさらに含有させてもよい。
本発明のハードコート層と基材との密着性を向上させる硬化助剤としては、例えば、１分子中にチオールを２個以上有する化合物が挙げられる。より具体的には、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４−ジメチルメルカプトベンゼン、ブタンジオールビスグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ブタンジオールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコネート、トリスヒドロキシエチルトリスチオプロピオネート、１,４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン（商品名；カレンズＭＴ ＢＤ１、昭和電工株式会社製）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）（商品名；カレンズＭＴ ＰＥ１、昭和電工株式会社製）、１，３，５−トリス（３−メルカプトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ,５Ｈ）−トリオン（商品名；カレンズＭＴ ＮＲ１、昭和電工株式会社製）などが挙げられる。
＜用途＞
本発明の光学フィルムは、ＬＣＤ、プラズマディスプレイパネル、有機ＥＬディスプレイ等のディスプレイ、家電製品等のタッチパネル、ガラス等の保護フィルムに用いることができる。特に、耐摩耗性が要求されるタッチパネル用途に好適である。
本発明の光学フィルムは、ＬＣＤ、プラズマディスプレイパネル、有機ＥＬディスプレイ等のディスプレイ、家電製品等のタッチパネル、ガラス等の保護フィルムに用いることができる。特に、耐摩耗性が要求されるタッチパネル用途に好適である。
本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施例によって限定されない。
本発明では、次の測定方法を利用した。
１）無機微粒子のモース硬度、平均粒子径
無機微粒子のモース硬度は、（株）ニチカ製モース硬度計を使用し、測定対象の無機微粒子で標準物質を擦り、引っ掻き傷の有無で硬さを測定することができる。また、無機微粒子の平均粒子径は、大塚電子（株）製粒径測定装置（ＥＬＳ−５００ＳＤ）を使用し、動的光散乱法にて測定する。酢酸２−メトキシ−１−メチルエチル（ＰＧＭＥＡ）で測定対象の無機微粒子を０．１重量％に希釈、分散し、得られた分散液を前記装置で測定することで、キュムラント法により平均粒子径が算出できる。
２）膜厚
・ハードコート層の膜厚
（株）ニコン製デジマイクロ「ＭＦ−５０１＋カウンタＴＣ−１０１」にて塗工面と未塗工面の膜厚を測定し、その膜厚差から算出した。
・基材の膜厚
（株）ニコン製デジマイクロ「ＭＦ−５０１＋カウンタＴＣ−１０１」にて基材の膜厚を測定した。
３）耐擦傷性及び耐摩耗性
（株）井元製作所製耐摩耗試験機「ＩＭＣ−１５５７型」を使用した。測定条件は垂直荷重１ｋｇ、往復速度３０回／分、往復距離１００ｍｍ、往復回数１０００回、摩耗布取付部形状は直径１０ｍｍ。摩耗布としてスチールウール（＃００００）を使用した。
１０００回往復後の塗膜表面の擦り傷を目視で評価した（耐擦傷性評価）。
また、耐磨耗試験前後の塗工フィルムを日本電色工業（株）製ヘーズメーター「ＮＤＨ５０００」を用いて、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に基づき、ヘーズを測定。耐摩耗性評価として、耐磨耗試験前後のヘーズ差を算出した。
１）無機微粒子のモース硬度、平均粒子径
無機微粒子のモース硬度は、（株）ニチカ製モース硬度計を使用し、測定対象の無機微粒子で標準物質を擦り、引っ掻き傷の有無で硬さを測定することができる。また、無機微粒子の平均粒子径は、大塚電子（株）製粒径測定装置（ＥＬＳ−５００ＳＤ）を使用し、動的光散乱法にて測定する。酢酸２−メトキシ−１−メチルエチル（ＰＧＭＥＡ）で測定対象の無機微粒子を０．１重量％に希釈、分散し、得られた分散液を前記装置で測定することで、キュムラント法により平均粒子径が算出できる。
２）膜厚
・ハードコート層の膜厚
（株）ニコン製デジマイクロ「ＭＦ−５０１＋カウンタＴＣ−１０１」にて塗工面と未塗工面の膜厚を測定し、その膜厚差から算出した。
・基材の膜厚
（株）ニコン製デジマイクロ「ＭＦ−５０１＋カウンタＴＣ−１０１」にて基材の膜厚を測定した。
３）耐擦傷性及び耐摩耗性
（株）井元製作所製耐摩耗試験機「ＩＭＣ−１５５７型」を使用した。測定条件は垂直荷重１ｋｇ、往復速度３０回／分、往復距離１００ｍｍ、往復回数１０００回、摩耗布取付部形状は直径１０ｍｍ。摩耗布としてスチールウール（＃００００）を使用した。
１０００回往復後の塗膜表面の擦り傷を目視で評価した（耐擦傷性評価）。
また、耐磨耗試験前後の塗工フィルムを日本電色工業（株）製ヘーズメーター「ＮＤＨ５０００」を用いて、ＪＩＳ Ｋ ７１０５に基づき、ヘーズを測定。耐摩耗性評価として、耐磨耗試験前後のヘーズ差を算出した。
実施例１
無機微粒子（ａ）として、モース硬度が７の平均粒子径３０ｎｍ（カタログ値）の酸化ケイ素（シーアイ化成（株））５．０重量％、無機微粒子（ｂ）として、モース硬度が４の平均粒子径３０ｎｍ（カタログ値）の酸化亜鉛（シーアイ化成（株））２．５重量％、硬化性樹脂（ｃ）として、活性エネルギー線硬化性樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（東亜合成（株）；アロニックス（商品名） Ｍ−３０５）１７．４重量％、希釈溶媒として、酢酸２−メトキシ−１−メチルエチル（ＰＧＭＥＡ）７５．１重量％からなる樹脂組成物を分散・混合し、硬化性樹脂組成物を得た。上記硬化性樹脂組成物１０ｇに硬化剤（チバ・ジャパン（株）；イルガキュア（登録商標）１８４）０．１３ｇを加えコーティング液とした。
得られたコーティング液を、Ｒ．Ｄ．スペシャリティーズ社製コーティングロッド（＃１２）を用いて、東洋紡（株）製ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：１００μｍ、コスモシャイン（商品名） Ａ４３００）上に塗布した。
得られた塗膜を、８０℃の高温チャンバーで１分間乾燥させ、岩崎電気（株）製高圧水銀ランプ（Ｈ０８−Ｌ４１、定格 １６０Ｗ／ｃｍ）が付属したコンベア式ＵＶ照射装置を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ2、露光量５００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線を照射し、膜厚５μｍの透明な皮膜を得た。露光量は、岩崎電気（株）製照度計（ＵＶＰＦ−Ａ１／ＰＤ−３６５）で測定した。ハードコート層の膜厚は塗工面と未塗工面をそれぞれ測定し、その差から算出した。
得られたハードコートフィルムを前述の耐摩耗性試験機にて、擦り傷、ヘーズを測定し、耐擦傷性、耐摩耗性を評価した。評価結果は表１に示す。
無機微粒子（ａ）として、モース硬度が７の平均粒子径３０ｎｍ（カタログ値）の酸化ケイ素（シーアイ化成（株））５．０重量％、無機微粒子（ｂ）として、モース硬度が４の平均粒子径３０ｎｍ（カタログ値）の酸化亜鉛（シーアイ化成（株））２．５重量％、硬化性樹脂（ｃ）として、活性エネルギー線硬化性樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（東亜合成（株）；アロニックス（商品名） Ｍ−３０５）１７．４重量％、希釈溶媒として、酢酸２−メトキシ−１−メチルエチル（ＰＧＭＥＡ）７５．１重量％からなる樹脂組成物を分散・混合し、硬化性樹脂組成物を得た。上記硬化性樹脂組成物１０ｇに硬化剤（チバ・ジャパン（株）；イルガキュア（登録商標）１８４）０．１３ｇを加えコーティング液とした。
得られたコーティング液を、Ｒ．Ｄ．スペシャリティーズ社製コーティングロッド（＃１２）を用いて、東洋紡（株）製ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：１００μｍ、コスモシャイン（商品名） Ａ４３００）上に塗布した。
得られた塗膜を、８０℃の高温チャンバーで１分間乾燥させ、岩崎電気（株）製高圧水銀ランプ（Ｈ０８−Ｌ４１、定格 １６０Ｗ／ｃｍ）が付属したコンベア式ＵＶ照射装置を用いて、照度２００ｍＷ／ｃｍ2、露光量５００ｍＪ／ｃｍ2で紫外線を照射し、膜厚５μｍの透明な皮膜を得た。露光量は、岩崎電気（株）製照度計（ＵＶＰＦ−Ａ１／ＰＤ−３６５）で測定した。ハードコート層の膜厚は塗工面と未塗工面をそれぞれ測定し、その差から算出した。
得られたハードコートフィルムを前述の耐摩耗性試験機にて、擦り傷、ヘーズを測定し、耐擦傷性、耐摩耗性を評価した。評価結果は表１に示す。
実施例２
無機微粒子（ａ）として、モース硬度が９の平均粒子径３０ｎｍ（カタログ値）の酸化アルミニウム（シーアイ化成（株））３．５重量％、無機微粒子（ｂ）として、モース硬度が３の平均粒子径５０ｎｍ（カタログ値）の氷晶石（シーアイ化成（株））３．５重量％、硬化性樹脂（ｃ）として、活性エネルギー線硬化性樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（東亜合成（株）；アロニックス（商品名） Ｍ−３０５）２０．０重量％、トリプロピレングリコールジアクリレート（新中村化学工業（株）；ＮＫエステル（商品名） ＡＰＧ−２００）７．０重量％、希釈溶媒として酢酸２−メトキシ−１−メチルエチル（ＰＧＭＥＡ）６６．０重量％からなる樹脂組成物を分散・混合し、硬化性樹脂組成物を得た。上記硬化性樹脂組成物１０ｇに硬化剤（チバ・ジャパン（株）；イルガキュア（登録商標）１８４）０．１７ｇを加えコーティング液とした。
得られたコーティング液を、実施例１と同様の操作を行い、ハードコート層膜厚５μｍのハードコートフィルムを製造した。得られたハードコートフィルムの耐摩耗性試験及び耐擦傷性試験を行った。評価結果は表１に示す。
無機微粒子（ａ）として、モース硬度が９の平均粒子径３０ｎｍ（カタログ値）の酸化アルミニウム（シーアイ化成（株））３．５重量％、無機微粒子（ｂ）として、モース硬度が３の平均粒子径５０ｎｍ（カタログ値）の氷晶石（シーアイ化成（株））３．５重量％、硬化性樹脂（ｃ）として、活性エネルギー線硬化性樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（東亜合成（株）；アロニックス（商品名） Ｍ−３０５）２０．０重量％、トリプロピレングリコールジアクリレート（新中村化学工業（株）；ＮＫエステル（商品名） ＡＰＧ−２００）７．０重量％、希釈溶媒として酢酸２−メトキシ−１−メチルエチル（ＰＧＭＥＡ）６６．０重量％からなる樹脂組成物を分散・混合し、硬化性樹脂組成物を得た。上記硬化性樹脂組成物１０ｇに硬化剤（チバ・ジャパン（株）；イルガキュア（登録商標）１８４）０．１７ｇを加えコーティング液とした。
得られたコーティング液を、実施例１と同様の操作を行い、ハードコート層膜厚５μｍのハードコートフィルムを製造した。得られたハードコートフィルムの耐摩耗性試験及び耐擦傷性試験を行った。評価結果は表１に示す。
比較例１
無機微粒子として、モース硬度が７の平均粒子径３０ｎｍ（カタログ値）の酸化ケイ素（シーアイ化成（株））７．５重量％、活性エネルギー線硬化性樹脂として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（東亜合成（株）；アロニックス（商品名） Ｍ−３０５）１７．４重量％、希釈溶剤として、酢酸２−メトキシ−１−メチルエチル（ＰＧＭＥＡ）７５．１重量％からなる樹脂組成物を分散・混合し、硬化性樹脂組成物を得た。この硬化性樹脂組成物の組成以外は、実施例１と同様の操作を行い、ハードコートフィルムを製造した。得られたハードコートフィルムの耐摩耗性試験及び耐擦傷性試験を行った。評価結果は表１に示す。
無機微粒子として、モース硬度が７の平均粒子径３０ｎｍ（カタログ値）の酸化ケイ素（シーアイ化成（株））７．５重量％、活性エネルギー線硬化性樹脂として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（東亜合成（株）；アロニックス（商品名） Ｍ−３０５）１７．４重量％、希釈溶剤として、酢酸２−メトキシ−１−メチルエチル（ＰＧＭＥＡ）７５．１重量％からなる樹脂組成物を分散・混合し、硬化性樹脂組成物を得た。この硬化性樹脂組成物の組成以外は、実施例１と同様の操作を行い、ハードコートフィルムを製造した。得られたハードコートフィルムの耐摩耗性試験及び耐擦傷性試験を行った。評価結果は表１に示す。
比較例２
無機微粒子として、モース硬度が９の平均粒子径３０ｎｍ（カタログ値）の酸化アルミニウム（シーアイ化成（株））７．０重量％、活性エネルギー線硬化性樹脂として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（東亜合成（株）；アロニックス（商品名） Ｍ−３０５）２０．０重量％、トリプロピレングリコールジアクリレート（新中村化学工業（株）；ＮＫエステル（商品名） ＡＰＧ−２００）７．０重量％、希釈溶媒として酢酸２−メトキシ−１−メチルエチル（ＰＧＭＥＡ）６６．０重量％からなる樹脂組成物を分散・混合し、硬化性樹脂組成物を得た。この硬化性樹脂組成物の組成以外は、実施例２と同様の操作を行い、ハードコートフィルムを製造した。得られたハードコートフィルムの耐摩耗性試験及び耐擦傷性試験を行った。評価結果は表１に示す。
無機微粒子として、モース硬度が９の平均粒子径３０ｎｍ（カタログ値）の酸化アルミニウム（シーアイ化成（株））７．０重量％、活性エネルギー線硬化性樹脂として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（東亜合成（株）；アロニックス（商品名） Ｍ−３０５）２０．０重量％、トリプロピレングリコールジアクリレート（新中村化学工業（株）；ＮＫエステル（商品名） ＡＰＧ−２００）７．０重量％、希釈溶媒として酢酸２−メトキシ−１−メチルエチル（ＰＧＭＥＡ）６６．０重量％からなる樹脂組成物を分散・混合し、硬化性樹脂組成物を得た。この硬化性樹脂組成物の組成以外は、実施例２と同様の操作を行い、ハードコートフィルムを製造した。得られたハードコートフィルムの耐摩耗性試験及び耐擦傷性試験を行った。評価結果は表１に示す。
本発明の硬化性樹脂組成物からなる光学フィルムは、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、タッチパネルフィルム、フラットパネルディスプレイ用フィルム基板、液晶ディスプレイ用プラスチックフィルム基板、有機ＥＬ表示用基板、電子ペーパー用基板、太陽電池用基板、光ディスク基板、透明導電フィルム基板、ＴＦＴ基板として利用できる。
Claims (9)
- 無機微粒子（ａ）、無機微粒子（ｂ）及び硬化性樹脂（ｃ）を含有する硬化性樹脂組成物であり、無機微粒子（ａ）は、６以上のモース硬度、１０μｍ以下の平均粒子径を有し、無機微粒子（ｂ）は、５未満のモース硬度、１０μｍ以下の平均粒子径を有し、無機微粒子（ａ）のモース硬度と無機微粒子（ｂ）のモース硬度との積が、６以上、４０未満であり、硬化性樹脂組成物中の無機微粒子（ａ）と無機微粒子（ｂ）との合計の含有量が、０．０１〜６０重量％であり、無機微粒子（ａ）と無機微粒子（ｂ）との混合比が、１：０．００１〜１：１０であり、硬化性樹脂（ｃ）は、熱硬化性樹脂及び活性エネルギー線硬化性樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする硬化性樹脂組成物。
- 前記無機微粒子（ａ）が、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、フッ化マグネシウム及び酸化鉄からなる群から選ばれる少なくとも１種であり、前記無機微粒子（ｂ）が、酸化亜鉛、酸化銅、酸化アンチモン、氷晶石、蛍石、燐灰石、方解石、石膏及びタルクからなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１記載の硬化性樹脂組成物。
- シロキサン骨格を有する化合物（ｄ）をさらに０．０１〜１０重量％含有する、請求項１または請求項２記載の硬化性樹脂組成物。
- 前記シロキサン骨格を有する化合物（ｄ）が、式（１）で表される構成単位、式（２）で表される構成単位、式（３）で表される構成単位、式（４）で表される構成単位からなる構造を含有することを特徴とする請求項３記載の硬化性樹脂組成物。
式（１）〜式（４）において、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４は、それぞれ独立して、水素またはメチルであり、ここで、ｏは、式（１）で表される構成単位の化合物（ｄ）中のモル分率（％）を表し、ｐは、式（２）で表される構成単位の化合物（ｄ）中のモル分率（％）を表し、ｑは、式（３）で表される構成単位の化合物（ｄ）中のモル分率（％）を表し、ｒは、式（４）で表される構成単位の化合物（ｄ）中のモル分率（％）を表し、それぞれ０＜ｏ＜１００、０＜ｐ＜１００、０＜ｑ＜１００、０≦ｒ＜１００、ｏ＋ｐ＋ｑ＋ｒ＝１００の関係であり、αは式（Ｉ）で表されるフッ素含有シルセスキオキサンを有する基であり、βは式（II）で表されるシリコーン成分を有する基であり、γは任意の付加重合性単量体由来の基であり、Ｘ３は構造中に１つ以上の（メタ）アクリロイルを有する基である。
式（Ｉ）において、Ｒｆ １〜Ｒｆ ７は、それぞれ独立して、３，３，３−トリフルオロプロピル、３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル、トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル、ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル、ヘンイコサフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロドデシル、ペンタコサフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロテトラデシル、（３−ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピル、ペンタフルオロフェニルプロピル、ペンタフルオロフェニル、またはα，α，α−トリフルオロメチルフェニルを示し、
式（II）において、Ｒ１６およびＲ１７は、それぞれ独立して、メチル、フェニルまたは３，３，３−トリフルオロプロピルであり；Ｒ１８およびＲ１９は、それぞれ独立してメチルまたはフェニルであり；Ｒ１５はメチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、またはフェニルであり、Ｓは、１〜１０００の整数である。 - 請求項１〜４のいずれか１項記載の硬化性樹脂組成物を硬化させたハードコート層と基材とが積層されてなる積層体。
- 前記基材が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリウレタン、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ポリイミド、ポリエーテルスルホンからなる群から選ばれる１種である請求項５記載の積層体。
- 前記ハードコート層が、０．１〜５０μｍの膜厚であり、基材が、０．１〜１ｍｍの膜厚である請求項６記載の積層体。
- 請求項５〜７のいずれか１項記載の積層体からなる光学フィルム。
- 請求項８記載の光学フィルムを含むタッチパネル。
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