JP2010278182A - 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】排ガス処理装置の圧力計への反応生成物の付着を抑制する。
【解決手段】排ガス処理装置100は、処理室(例えば、反応室1)の排気側に接続される排気配管2を有し、排気配管2の一部の区間は、複数系統に分岐された分岐区間3を構成している。分岐区間3の各々の系統3a、3bには、排気に含まれる反応生成物を捕集するトラップ4a、4bと、トラップ4a、4bの下流側に位置する圧力計5a、5bと、が設けられている。圧力計5a、5bの更に下流側には、分岐区間3の各々の系統3a、3bのうちの何れか選択された系統が排気を通す現用系となる一方で、その他の系統が排気を通さない待機系となるように、排気系統の切り替えを行うための切替部(例えば、切替バルブ6a、6b)が設けられている。
【選択図】図1
【解決手段】排ガス処理装置100は、処理室(例えば、反応室1)の排気側に接続される排気配管2を有し、排気配管2の一部の区間は、複数系統に分岐された分岐区間3を構成している。分岐区間3の各々の系統3a、3bには、排気に含まれる反応生成物を捕集するトラップ4a、4bと、トラップ4a、4bの下流側に位置する圧力計5a、5bと、が設けられている。圧力計5a、5bの更に下流側には、分岐区間3の各々の系統3a、3bのうちの何れか選択された系統が排気を通す現用系となる一方で、その他の系統が排気を通さない待機系となるように、排気系統の切り替えを行うための切替部(例えば、切替バルブ6a、6b)が設けられている。
【選択図】図1
Description
本発明は、排ガス処理装置及び排ガス処理方法に関する。
例えば、CVD(Chemical Vapor Deposition)装置、或いはドライエッチング装置といった半導体製造装置などには、処理室からガス排気を行う排ガス処理装置が設けられている。
処理室からの排気ガスには、反応ガスが含まれているため、排気配管或いは排気ポンプ内などに反応生成物が次第に析出し堆積することによって、排気配管が閉塞したり排気ポンプが故障したりして、好適に排気を行うことができなくなる。このような事態の発生を抑制するために、一般に、排気配管には反応生成物を捕集するトラップが設けられる。
しかし、このトラップが閉塞すると、やはり、排気を好適に行うことができなくなる。このため、排気配管には、トラップの閉塞を検出するための圧力計が設けられ、この圧力計による検出値に基づいてトラップの閉塞を検出できるように、排ガス処理装置は構成されている。なお、トラップが閉塞した場合には、トラップをメンテナンス或いは交換する。
特許文献1の真空排気装置の場合、反応生成物のトラップ(特許文献1では排ガス処理装置と記載)の上流側に圧力計が設けられている。特許文献2の排気処理装置の場合も同様に、反応生成物のトラップ(サイクロン、メンブレンフィルタ、ディプスフィルタ、及びケミカルトラップ)の上流側に圧力計が設けられている。
特許文献3の図13には、一の処理室からの排気路を2系統に分岐させ、その各々にトラップを設け、切替バルブによって2系統の排気路への排気ガスの導入切り替えを行うように構成した排気ガス処理機構が記載されている。特許文献3には、この構成により、一方のトラップのメンテナンスを実施中に、他方のトラップ装置を使用して反応生成物の捕集を行うことができ、処理効率を向上させることができる旨の記載がある。特許文献4、5、6にも、特許文献3と同様の技術が記載されている。なお、特許文献3〜6には、トラップの閉塞の検出については記載されていない。
特許文献1、2の技術では、トラップの閉塞を検出するための圧力計に反応生成物が付着することにより、圧力計の検出ポートが閉塞したり、或いは、圧力計のゼロ点がシフトしたりすることによる圧力計の誤作動を招いたりすることがあった。
本発明は、処理室の排気側に接続される排気配管を有し、前記排気配管の一部の区間は、複数系統に分岐された分岐区間を構成し、前記分岐区間の各々の系統には、排気ガスに含まれる反応生成物を捕集するトラップと、前記トラップの下流側に位置する圧力計と、が設けられ、前記圧力計の更に下流側には、前記分岐区間の各々の系統のうちの何れか選択された系統が排気ガスを通す現用系となる一方で、その他の系統が排気ガスを通さない待機系となるように、排気系統の切り替えを行うための切替部が設けられていることを特徴とする排ガス処理装置を提供する。
この排ガス処理装置によれば、切替部により、分岐区間の各々の系統のうちの何れか選択された系統が排気ガスを通す現用系となる一方で、その他の系統が排気ガスを通さない待機系となるように、排気系統の切り替えを行うことができる。また、そのような切り替え動作を行う切替部が圧力計の更に下流側に設けられているので、現用系のトラップが閉塞した場合には、待機系の圧力計による検出値が高まるため、待機系の圧力計により、現用系のトラップの閉塞を検出することができる。そして、トラップの閉塞を検出するための圧力計がトラップの下流側に配置されているので、圧力計の検出ポートへの反応生成物の侵入及び付着を抑制することができる。よって、圧力計の検出ポートが閉塞したり、或いは、圧力計のゼロ点がシフトしたりすることによる圧力計の誤作動を抑制することができる。加えて、切替バルブもトラップの下流側に配置されていることにより、切替バルブへの反応生成物の付着を抑制することができるので、切替バルブのシール性能(密閉性能)の劣化、並びに、動作不良を抑制することができる。
また、本発明は、本発明の排ガス処理装置の前記待機系の前記圧力計による検出値が所定の閾値以上となった場合に、前記現用系を通した排気が停止される一方で、それまで前記待機系となっていた系統からの排気が開始されるように、前記切替部による排気系統の切り替えを行うことを特徴とする排ガス処理方法を提供する。
本発明によれば、排ガス処理装置の圧力計への反応生成物の付着を抑制することができる。
以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。なお、すべての図面において、同様の構成要素には同一の符号を付し、適宜に説明を省略する。
〔第1の実施形態〕
図1は第1の実施形態に係る排ガス処理装置100の構成を示すブロック図である。
図1は第1の実施形態に係る排ガス処理装置100の構成を示すブロック図である。
本実施形態に係る排ガス処理装置100は、処理室(例えば、反応室1)の排気側に接続される排気配管2を有し、排気配管2の一部の区間は、複数系統に分岐された分岐区間3を構成し、分岐区間3の各々の系統3a、3bには、排気に含まれる反応生成物を捕集するトラップ4a、4bと、トラップの下流側に位置する圧力計5a、5bと、が設けられ、圧力計5a、5bの更に下流側には、分岐区間3の各々の系統3a、3bのうちの何れか選択された系統が排気を通す現用系となる一方で、その他の系統が排気を通さない待機系となるように、排気系統の切り替えを行うための切替部(例えば、切替バルブ6a、6b)が設けられている。
また、本実施形態に係る排ガス処理方法では、本実施形態に係る排ガス処理装置100の待機系の圧力計(例えば、圧力計5b)による検出値が所定の閾値以上となった場合に、現用系を通した排気が停止される一方で、それまで待機系となっていた系統(例えば、系統3b)からの排気が開始されるように、切替部(例えば、切替バルブ6a、6b)による排気系統の切り替えを行う。
以下、詳細に説明する。
また、本実施形態に係る排ガス処理方法では、本実施形態に係る排ガス処理装置100の待機系の圧力計(例えば、圧力計5b)による検出値が所定の閾値以上となった場合に、現用系を通した排気が停止される一方で、それまで待機系となっていた系統(例えば、系統3b)からの排気が開始されるように、切替部(例えば、切替バルブ6a、6b)による排気系統の切り替えを行う。
以下、詳細に説明する。
先ず、構成を説明する。
図1に示すように、第1の実施形態に係る排ガス処理装置100は、例えば、CVD装置或いはその他の半導体製造装置(全体図示略)の反応室(処理室)1からのガス排気を行う装置であり、排気配管2と、排気ポンプとしての真空ポンプ7と、トラップ4a、4bと、圧力計5a、5bと、切替バルブ6a、6bと、制御部10と、を備えて構成されている。
排気配管2は、反応室1の排気側に接続されている。この排気配管2の一部の区間は、複数系統(本実施形態の場合、例えば、2つの系統3a、3b)に分岐された分岐区間3を構成している。
分岐区間3の2つの系統3a、3bのうちの一方の系統3aには、排気に含まれる反応生成物を捕集するトラップ4aと、トラップ4aの下流側に位置する圧力計5aと、が設けられている。
同様に、分岐区間3の2つの系統3a、3bのうちの他方の系統3bには、反応生成物を捕集するトラップ4bと、トラップ4bの下流側に位置する圧力計5bと、が設けられている。
系統3aにおいて、圧力計5aの更に下流側には、切替バルブ6aが設けられている。同様に、系統3bにおいて、圧力計5bの更に下流側には、切替バルブ6bが設けられている。このように、本実施形態では、分岐区間3の各々の系統3a、3bに切替バルブ6a、6bが設けられている。これら切替バルブ6a、6bにより、分岐区間3の各々の系統3a、3bのうちの何れか選択された系統が排気ガスを通す現用系となる一方で、その他の系統が排気ガスを通さない待機系となるように、排気系統の切り替えを行うことができるようになっている。なお、各切替バルブ6a、6bは、例えば、電磁バルブであり、制御部10の制御下で動作する。
分岐区間3の各々の系統3a、3bは、例えば、切替バルブ6a、6bの更に下流側の合流点8において合流している。
真空ポンプ7は、反応室1からのガス排気を行う。この真空ポンプ7は、排気配管2において、例えば、分岐区間3の上流側に設けられている。真空ポンプ7により反応室1から排気されるガスは、排気配管2及び図示しない排気ダクトをこの順に介して排気される。
制御部10には、圧力計5a、5bによる圧力の検出値が入力される。制御部10は、これら入力される圧力の検出値に応じて、各切替バルブ6a、6bの動作制御を行う。なお、制御部10は、例えば、プログラマブルロジックコントローラ(PLC:Programmable Logic Controller)により構成することができる。
次に、動作を説明する。
先ず、初期状態では、制御部10の制御により、例えば、切替バルブ6a、6bのうち一方の切替バルブ(例えば、切替バルブ6a)が開、他方の切替バルブ(例えば、切替バルブ6b)が閉となっている。これにより、例えば、系統3aが排気ガスを通す現用系となり、系統3bが排気ガスを通さない待機系となっている。
この初期状態では、反応室1から真空ポンプ7により排気された排気ガスは、現用系となっている系統3aのトラップ4a及び切替バルブ6aをこの順に通って、合流点8を経て、図示しない排気ダクトへ排気される。従って、この初期状態では、現用系となっている系統3aのトラップ4aが、排気ガスに含まれる反応生成物を捕集する。
現用系となっている系統3aのトラップ4aが次第に閉塞してくると、待機系となっている系統3bの圧力計5bによる圧力の検出値が次第に高くなる。
この検出値が所定の閾値(例えば、15Torr(2kPa))以上となると、制御部10は、現用系(系統3a)を通した排気が停止される一方で、それまで待機系となっていた系統(系統3b)からの排気が開始されるように、切替バルブ6a、6bを切り替える。すなわち、制御部10は、切替バルブ6aを開から閉に、切替バルブ6bを閉から開に、それぞれ切り替える。この結果、それまで待機系であった系統3bが現用系となり、それまで現用系であった系統3aが待機系となる。すなわち、この状態では、反応室1から真空ポンプ7により排気された排気ガスは、現用系となっている系統3bのトラップ4b及び切替バルブ6bをこの順に通って、合流点8を経て、図示しない排気ダクトへ排気される。従って、この状態では、現用系となっている系統3bのトラップ4bが、排気ガスに含まれる反応生成物を捕集する。
現用系となっている系統3bのトラップ4bが次第に閉塞してくると、待機系となっている系統3aの圧力計5aによる圧力の検出値が次第に高くなるので、制御部10は、系統3bのトラップ4bが閉塞したことを認識することができる。
以上のような第1の実施形態によれば、トラップ4a、4bの閉塞を検出するための圧力計5a、5bがトラップ4a、4bの下流側に配置されているので、圧力計5a、5bの検出ポートへの反応生成物の侵入及び付着を抑制できる。よって、圧力計5a、5bの検出ポートが閉塞したり、或いは、圧力計5a、5bのゼロ点がシフトしたりすることによる圧力計5a、5bの誤作動を抑制することができる。
また、切替バルブ6a、6bにより、分岐区間3の各々の系統3a、3bのうちの何れか選択された系統が排気ガスを通す現用系となる一方で、その他の系統が排気ガスを通さない待機系となるように、排気系統の切り替えを行うことができるので、現用系と待機系の切替を行うことができる。
また、そのような切替動作を行う切替バルブ6a、6bが、圧力計5a、5bの更に下流側に設けられているので、待機系の圧力計(圧力計5b、5aの何れか一方)により、現用系のトラップ(トラップ4a、4bの何れか一方)の閉塞を検出することができる。
加えて、切替バルブ6a、6bもトラップ4a、4bの下流側に配置されていることにより、切替バルブ6a、6bへの反応生成物の付着を抑制することができるので、切替バルブ6a、6bのシール性能(密閉性能)の劣化、並びに、動作不良を抑制することができる。
また、切替部としての切替バルブ6a、6bの動作制御を行う制御部10を備え、制御部10は、待機系に設けられている圧力計(例えば、圧力計5b)による検出値が所定の閾値以上となった場合に、現用系を通した排気が停止される一方で、それまで待機系となっていた系統(例えば、系統3b)からの排気が開始されるように、切替バルブ6a、6bによる排気系統の切り替えを行うので、この切り替え動作を自動的に行うことができる。
また、排気配管2における分岐区間3の上流側に、反応室1からのガス排気を行う真空ポンプ7が設けられているので、現用系のトラップ(例えば、トラップ4a)が閉塞した場合に、待機系の圧力計(例えば、圧力計5b)の検出値が上昇する構成を好適に実現でき、圧力計によるトラップの閉塞の検出を好適に行うことができる。
〔第2の実施形態〕
図2は第2の実施形態に係る排ガス処理装置200の構成を示すブロック図である。
図2は第2の実施形態に係る排ガス処理装置200の構成を示すブロック図である。
上記の第1の実施形態では、分岐区間3が2系統に分岐している例を説明したが、分岐区間3は3系統以上に分岐していても良い。第2の実施形態では、分岐区間3が3系統に分岐している例を説明する。
図2に示すように、第2の実施形態に係る排ガス処理装置200の分岐区間3は、系統3cを更に備える点で、第1の実施形態に係る排ガス処理装置100の分岐区間3と相違する。その他の点では、第2の実施形態に係る排ガス処理装置200は、第1の実施形態に係る排ガス処理装置100と同様に構成されている。
系統3cは、系統3a、3bと同様に構成されている。すなわち、系統3cには、排気に含まれる反応生成物を捕集するトラップ4cと、トラップ4cの下流側に位置する圧力計5cと、が設けられている。更に、系統3cにおいて、圧力計5cの下流側には、切替バルブ6cが設けられている。このように、本実施形態でも、分岐区間3の各々の系統3a、3b、3cに切替バルブ6a、6b、6cが設けられている。本実施形態の場合、これら切替バルブ6a、6b、6cにより切替部が構成されている。なお、切替バルブ6cも、例えば、電磁バルブであり、制御部10の制御下で動作する。
分岐区間3の各々の系統3a、3b、3cは、例えば、切替バルブ6a、6b、6cの更に下流側の合流点8において合流している。
制御部10には、圧力計5a、5b、5cによる圧力の検出値が入力される。制御部10は、これら入力される圧力の検出値に応じて、各切替バルブ6a、6b、6cの動作制御を行う。
次に、動作を説明する。
先ず、初期状態では、制御部10の制御により、例えば、切替バルブ6a、6b、6cのうち、例えば何れか1つの切替バルブ(例えば、切替バルブ6a)が開、その他の切替バルブ(例えば、切替バルブ6b、6c)が閉となっている。これにより、例えば、系統3aが排気ガスを通す現用系となり、系統3b、3cが排気ガスを通さない待機系となっている。
この初期状態では、反応室1から真空ポンプ7により排気された排気ガスは、現用系となっている系統3aのトラップ4a及び切替バルブ6aをこの順に通って、合流点8を経て、図示しない排気ダクトへ排気される。従って、この初期状態では、現用系となっている系統3aのトラップ4aが、排気ガスに含まれる反応生成物を捕集する。
現用系となっている系統3aのトラップ4aが次第に閉塞してくると、待機系となっている系統3b、3cの圧力計5b、5cによる圧力の検出値が次第に高くなる。
例えば、このうち少なくとも何れか一方の検出値が所定の閾値(例えば、15Torr(2kPa))以上となると、制御部10は、現用系(系統3a)を通した排気が停止される一方で、それまで待機系となっていた系統(系統3b、3c)のうちの何れか1つの系統(例えば、系統3b)からの排気が開始されるように、切替バルブ6a、6bを切り替える。すなわち、制御部10は、切替バルブ6aを開から閉に、切替バルブ6bを閉から開に、それぞれ切り替える。この結果、それまで待機系であった系統3bが現用系となり、それまで現用系であった系統3aが待機系となる。すなわち、この状態では、反応室1から真空ポンプ7により排気された排気ガスは、現用系となっている系統3bのトラップ4b及び切替バルブ6bをこの順に通って、合流点8を経て、図示しない排気ダクトへ排気される。従って、この状態では、現用系となっている系統3bのトラップ4bが、排気ガスに含まれる反応生成物を捕集する。
現用系となっている系統3bのトラップ4bが次第に閉塞してくると、待機系となっている系統3a、3cの圧力計5a、5cによる圧力の検出値が次第に高くなる。
例えば、このうち少なくとも何れか一方の検出値が所定の閾値(例えば、15Torr(2kPa))以上となると、制御部10は、現用系(系統3b)を通した排気が停止される一方で、それまで待機系となっていた(それまで現用系となっていない)系統(系統3c)からの排気が開始されるように、切替バルブ6b、6cを切り替える。すなわち、制御部10は、切替バルブ6bを開から閉に、切替バルブ6cを閉から開に、それぞれ切り替える。この結果、それまで待機系であった系統3cが現用系となり、それまで現用系であった系統3bが待機系となる。すなわち、この状態では、反応室1から真空ポンプ7により排気された排気ガスは、現用系となっている系統3cのトラップ4c及び切替バルブ6cをこの順に通って、合流点8を経て、図示しない排気ダクトへ排気される。従って、この状態では、現用系となっている系統3cのトラップ4cが、排気ガスに含まれる反応生成物を捕集する。
現用系となっている系統3cのトラップ4cが次第に閉塞してくると、待機系となっている系統3a、3bの圧力計5a、5bによる圧力の検出値が次第に高くなるので、制御部10は、系統3cのトラップ4cが閉塞したことを認識することができる。
以上のような第2の実施形態によれば、上記の第1の実施形態と同様の効果が得られる。
なお、分岐区間3における系統の数は、4つ以上であっても良いのは勿論である。また、上記の第2の実施形態では、1つずつの系統が順次に現用系となる例を説明したが、複数の系統が一度に現用系となるようにしても良い。例えば、上記の第2の実施形態において、初期状態で複数の系統(例えば、系統3a、3b)が現用系、残りの系統(例えば、系統3c)が待機系となるようにしても良い。或いは、上記の第2の実施形態において、現用系となっている1つの系統(例えば、系統3a)のトラップ(例えば、トラップ4a)が閉塞したことによりその系統を待機系に切り替える際に、それまで待機系であった複数の系統(例えば、系統3b、3c)を現用系に切り替えても良い。
〔第3の実施形態〕
図3は第3の実施形態に係る排ガス処理装置300の構成を示すブロック図である。
図3は第3の実施形態に係る排ガス処理装置300の構成を示すブロック図である。
上記の第1及び第2の実施形態では、分岐区間3の各々の系統に切替バルブが設けられている例を説明したが、本実施形態では、分岐区間3の終点である合流点8に複数方向の流路切替を行う切替バルブ9が設けられている例を説明する。
図3に示すように、第3の実施形態に係る排ガス処理装置300は、切替バルブ6a、6b(図1)を備えていない代わりに切替バルブ9を備えている点でのみ第1の実施形態に係る排ガス処理装置100と相違し、その他の点では、第1の実施形態に係る排ガス処理装置300と同様に構成されている。
切替バルブ9は、系統3a又は3bの排気ガスが選択的に下流側に流れるように、流路切替を行う。本実施形態の場合、この切替バルブ9により切替部が構成されている。なお、切替バルブ9は、例えば、電磁バルブであり、制御部10の制御下で動作する。
次に、動作を説明する。
先ず、初期状態では、制御部10の制御により、切替バルブ9は、例えば、系統3a、3bのうち系統3aの排気ガスが選択的に下流側に流れる一方で、系統3bの排気ガスは下流側に流れないように、流路切替を行う。これにより、例えば、系統3aが排気ガスを通す現用系となり、系統3bが排気ガスを通さない待機系となっている。
この初期状態では、反応室1から真空ポンプ7により排気された排気ガスは、現用系となっている系統3aのトラップ4aと、合流点8の切替バルブ9と、をこの順に通って、図示しない排気ダクトへ排気される。従って、この初期状態では、現用系となっている系統3aのトラップ4aが、排気ガスに含まれる反応生成物を捕集する。
現用系となっている系統3aのトラップ4aが次第に閉塞してくると、待機系となっている系統3bの圧力計5bによる圧力の検出値が次第に高くなる。
この検出値が所定の閾値(例えば、15Torr(2kPa))以上となると、制御部10は、現用系(系統3a)を通した排気が停止される一方で、それまで待機系となっていた系統(系統3b)からの排気が開始されるように、切替バルブ9を切り替える。すなわち、制御部10は、系統3bの排気ガスが選択的に下流側に流れる一方で、系統3aの排気ガスは下流側に流れなくなるような流路切替を切替バルブ9に行わせる。この結果、それまで待機系であった系統3bが現用系となり、それまで現用系であった系統3aが待機系となる。すなわち、この状態では、反応室1から真空ポンプ7により排気された排気ガスは、現用系となっている系統3bのトラップ4bと、合流点8の切替バルブ9と、をこの順に通って、図示しない排気ダクトへ排気される。従って、この状態では、現用系となっている系統3bのトラップ4bが、排気ガスに含まれる反応生成物を捕集する。
現用系となっている系統3bのトラップ4bが次第に閉塞してくると、待機系となっている系統3aの圧力計5aによる圧力の検出値が次第に高くなるので、制御部10は、系統3bのトラップ4bが閉塞したことを認識することができる。
以上のような第3の実施形態によれば、上記の第1の実施形態と同様の効果が得られる他、バルブの数を低減できる分だけ省スペース化が図れる。
なお、第3の実施形態の場合も、分岐区間3の系統の数が3つ以上であっても良い。
上記の各実施形態では、排ガス処理装置100、200、300がCVD装置或いはその他の半導体製造装置の反応室1からのガス排気を行う例を説明したが、排ガス処理装置100、200、300は、半導体製造装置の他の一例としてのドライエッチング装置の処理室からのガス排気を行うのであっても良いし、半導体製造装置以外の装置の処理室からのガス排気を行うのであっても良い。
また、上記の各実施形態では、切替バルブ6a、6b、6cの切り替え動作を制御部10が自動的に行う例を説明したが、オペレータが圧力計5a、5b、5cによる検出値を確認して切替バルブ6a、6b、6cの切り替えを手動で行うようにしても良い。
また、上記の各実施形態では、排気配管2における分岐区間3の上流側に、反応室1からのガス排気を行う真空ポンプ7が設けられている例を説明したが、分岐区間3の下流側に真空ポンプ7を設けても良い。この場合、例えば、反応室1にはガスが継続的に導入される一方で、該反応室1からガスが継続的に排気される構成とすることにより、現用系のトラップ(例えば、トラップ4a)が閉塞した場合に待機系の圧力計(例えば、圧力計5b)の検出値が上昇する構成を実現でき、圧力計により現用系のトラップの閉塞を検出することができる。
1 反応室(処理室)
2 排気配管
3 分岐区間
3a 系統
3b 系統
3c 系統
4a トラップ
4b トラップ
4c トラップ
5a 圧力計
5b 圧力計
5c 圧力計
6a 切替バルブ(切替部を構成する)
6b 切替バルブ(切替部を構成する)
6c 切替バルブ(切替部を構成する)
7 真空ポンプ(排気ポンプ)
8 合流点
9 切替バルブ(切替部を構成する)
10 制御部
100 排ガス処理装置
200 排ガス処理装置
300 排ガス処理装置
2 排気配管
3 分岐区間
3a 系統
3b 系統
3c 系統
4a トラップ
4b トラップ
4c トラップ
5a 圧力計
5b 圧力計
5c 圧力計
6a 切替バルブ(切替部を構成する)
6b 切替バルブ(切替部を構成する)
6c 切替バルブ(切替部を構成する)
7 真空ポンプ(排気ポンプ)
8 合流点
9 切替バルブ(切替部を構成する)
10 制御部
100 排ガス処理装置
200 排ガス処理装置
300 排ガス処理装置
Claims (5)
- 処理室の排気側に接続される排気配管を有し、
前記排気配管の一部の区間は、複数系統に分岐された分岐区間を構成し、
前記分岐区間の各々の系統には、
排気ガスに含まれる反応生成物を捕集するトラップと、
前記トラップの下流側に位置する圧力計と、
が設けられ、
前記圧力計の更に下流側には、前記分岐区間の各々の系統のうちの何れか選択された系統が排気ガスを通す現用系となる一方で、その他の系統が排気ガスを通さない待機系となるように、排気系統の切り替えを行うための切替部が設けられていることを特徴とする排ガス処理装置。 - 前記切替部は、前記分岐区間の各々の系統に設けられている切替バルブであることを特徴とする請求項1に記載の排ガス処理装置。
- 前記切替部の動作制御を行う制御部を更に備え、
前記制御部は、
前記待機系に設けられている前記圧力計による検出値が所定の閾値以上となった場合に、前記現用系を通した排気が停止される一方で、それまで前記待機系となっていた系統からの排気が開始されるように、前記切替部による排気系統の切り替えを行うことを特徴とする請求項1又は2に記載の排ガス処理装置。 - 前記排気配管における前記分岐区間の上流側に、前記処理室からのガス排気を行う排気ポンプが設けられていることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の排ガス処理装置。
- 請求項1乃至4の何れか一項に記載の排ガス処理装置の前記待機系の前記圧力計による検出値が所定の閾値以上となった場合に、前記現用系を通した排気が停止される一方で、それまで前記待機系となっていた系統からの排気が開始されるように、前記切替部による排気系統の切り替えを行うことを特徴とする排ガス処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009128555A JP2010278182A (ja) | 2009-05-28 | 2009-05-28 | 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 |
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JP2009128555A JP2010278182A (ja) | 2009-05-28 | 2009-05-28 | 排ガス処理装置及び排ガス処理方法 |
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JP2010278182A true JP2010278182A (ja) | 2010-12-09 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2018092973A (ja) * | 2016-11-30 | 2018-06-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理方法および処理装置 |
-
2009
- 2009-05-28 JP JP2009128555A patent/JP2010278182A/ja active Pending
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