JP2010278098A - 発光装置および表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】理想的な白色光を容易に再現することが可能な発光装置を提供する。
【解決手段】この半導体発光装置100は、赤色半導体レーザ素子10と、緑色半導体レーザ素子30と、青色半導体レーザ素子50とを備える。そして、緑色半導体レーザ素子30および青色半導体レーザ素子50の各々に形成される光導波路の幅(W2およびW3)が、赤色半導体レーザ素子10に形成される光導波路の幅W1よりも大きい(W1<W2かつW1<W3)関係を有している。
【選択図】図2
【解決手段】この半導体発光装置100は、赤色半導体レーザ素子10と、緑色半導体レーザ素子30と、青色半導体レーザ素子50とを備える。そして、緑色半導体レーザ素子30および青色半導体レーザ素子50の各々に形成される光導波路の幅(W2およびW3)が、赤色半導体レーザ素子10に形成される光導波路の幅W1よりも大きい(W1<W2かつW1<W3)関係を有している。
【選択図】図2
Description
本発明は、発光装置および表示装置に関し、特に、赤色、青色および緑色半導体レーザ素子を備えた発光装置および表示装置に関する。
近年、光源にレーザ光などを用いたディスプレイの開発が盛んに行われている。特に、小型ディスプレイ用の光源として半導体レーザ素子を用いることが期待されている。この場合、赤色(R)緑色(G)青色(B)の各色レーザ光を出射する半導体レーザを1つのパッケージに搭載することにより、光源の更なる小型化が可能となる。
そこで、従来では、赤色、緑色および青色のレーザ光を出射する半導体レーザ素子を搭載した半導体発光素子が提案されている(たとえば、特許文献1参照)。
上記特許文献1には、n型基板の表面上に、400nm帯の青色光を発振する青色半導体レーザ素子と、500nm帯の緑色光を発振する緑色半導体レーザ素子と、600nm帯の赤色光を発振する赤色半導体レーザ素子とが絶縁層を隔てて横方向に並ぶようにして形成された3波長半導体レーザ素子(半導体発光素子)が開示されている。この3波長半導体レーザ素子は、光の3原色に対応する赤色光(R)、緑色光(G)および青色光(B)を出射することにより、フルカラー表示装置の光源としての利用が可能とされている。なお、この3波長半導体レーザ素子は、各色に1つずつ半導体レーザ素子が設けられて構成されている。
ここで、フルカラー表示装置が理想的な白色光を再現するためには、RGB各色の光束(ルーメン)比で表した場合、R:G:B=約2:約7:約1となるように各々のレーザ素子の光出力を調整する必要がある。一例として、約650nmの赤色レーザ光と、約530nmの緑色レーザ光と、約480nmの青色レーザ光とを用いる場合、レーザ出力換算比で、R:G:B=約18.7:約8.1:約7.1に調整した場合に理想的な白色光が再現される。また、他の例として、約650nmの赤色レーザ光と、約550nmの緑色レーザ光と、約460nmの青色レーザ光とを用いる場合、レーザ出力換算比で、R:G:B=約18.7:約7:約16.7に調整した場合に理想的な白色光が再現される。
また、一般的に、赤色半導体レーザ素子はレーザ出力が得られやすい(得られる出力が大きい)レーザ素子である一方、赤色レーザ光(約600nm〜約800nm)よりも短波長域のレーザ光(約400nm〜約580nm帯域)を出射する緑色半導体レーザ素子や青色半導体レーザ素子は、赤色半導体レーザ素子と比較してレーザ出力が得られにくい(得られる出力が小さい)レーザ素子に分類される。したがって、フルカラー表示装置が理想的な白色光を再現するためには、緑色や青色半導体レーザ素子から確実に所定のレーザ出力が得られるように構成することが要求される。
しかしながら、上記特許文献1に開示された3波長半導体レーザ素子では、各色に1つずつ半導体レーザ素子が設けられている構成が開示されている一方、この3波長半導体レーザ素子に理想的な白色光を再現させるための具体的な構成については何ら開示も示唆もされていない。したがって、赤色半導体レーザ素子からレーザ出力が得られやすい一方、緑色半導体レーザ素子や青色半導体レーザ素子から確実に所定のレーザ出力が得られない場合には、この3波長半導体レーザ素子では、理想的な白色光源としてのレーザ出力比を有するように構成するのは困難であり、この場合には、理想的な白色光が再現できないという問題点がある。
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の1つの目的は、理想的な白色光を再現することが可能な発光装置および表示装置を提供することである。
上記目的を達成するために、この発明の第1の局面による発光装置は、赤色の光を発光する導波路型の赤色半導体発光素子と、緑色の光を発光する導波路型の緑色半導体発光素子と、青色の光を発光する導波路型の青色半導体発光素子とを備え、赤色半導体発光素子、緑色半導体発光素子および青色半導体発光素子のうちの少なくとも2つの半導体発光素子は、相対的に短い波長を発する半導体発光素子の導波路の幅が、相対的に長い波長を発する半導体発光素子の導波路の幅よりも大きく形成されている。
この発明の第1の局面による発光装置では、上記のように、赤色半導体発光素子、緑色半導体発光素子および青色半導体発光素子のうちの少なくとも2つの半導体発光素子において、相対的に短い波長を発する半導体発光素子の導波路の幅が、相対的に長い波長を発する半導体発光素子の導波路の幅よりも大きく形成されることによって、相対的に長い波長を発する半導体発光素子の出力よりも相対的に短い波長を発する半導体発光素子の出力が小さい場合であっても、相対的に短い波長を発する半導体発光素子の導波路の幅が、相対的に長い波長を発する半導体発光素子の導波路の幅よりも大きいので、相対的に長い波長を発する半導体発光素子のみならず、相対的に短い波長を発する半導体発光素子にも充分な光強度(光束)を有する出力を発揮させることができる。これにより、異なる波長の光を発振する半導体発光素子を組み合わせた発光装置において、理想的な白色光を再現することができる。
上記第1の局面による発光装置において、好ましくは、赤色半導体発光素子、緑色半導体発光素子および青色半導体発光素子のうちの少なくとも2つの半導体発光素子は、相対的に短い波長を発する半導体発光素子の出力が、相対的に長い波長を発する半導体発光素子の出力よりも小さい。このように、相対的に短い波長を発する緑色半導体発光素子や青色半導体発光素子の出力が、相対的に長い波長を発する赤色半導体発光素子の出力よりも小さくなる場合にも、上記第1の局面では、波長の短い発光素子の導波路の幅を大きくすることにより、波長の短い緑色半導体発光素子や青色半導体発光素子にも充分な光強度(光束)を有する出力を発揮させることができる。
上記第1の局面による発光装置において、好ましくは、緑色半導体発光素子の導波路の幅は、赤色半導体発光素子の導波路の幅よりも大きく形成されている。このように構成すれば、赤色半導体発光素子と比較して所定の出力が得られにくい緑色半導体発光素子においても高い強度(光束)の緑色光を取り出すことができるので、理想的な白色光を確実に再現することができる。
上記第1の局面による発光装置において、好ましくは、赤色半導体発光素子、緑色半導体発光素子および青色半導体発光素子は、単一のパッケージ内に配置されている。このように構成すれば、3つの半導体発光素子(発光点)が互いに接近した状態の発光装置を形成することができるので、発光点が互いに近づけられる分、白色光源の大きさを小さく形成することができる。
上記第1の局面による発光装置において、好ましくは、赤色半導体発光素子、緑色半導体発光素子および青色半導体発光素子の少なくとも1つの半導体発光素子は、横多重モード発振する半導体レーザ素子である。このように構成すれば、所定の出力が得られにくい半導体レーザ素子においても、容易に高出力化を行うことができるので、容易に高出力化が行える分、理想的な白色光を容易に再現することができる。
この発明の第2の局面による表示装置は、赤色の光を発光する導波路型の赤色半導体発光素子と、緑色の光を発光する導波路型の緑色半導体発光素子と、青色の光を発光する導波路型の青色半導体発光素子とを含み、赤色半導体発光素子、緑色半導体発光素子および青色半導体発光素子のうちの少なくとも2つの半導体発光素子において、相対的に短い波長を発する半導体発光素子の導波路の幅が、相対的に長い波長を発する半導体発光素子の導波路の幅よりも大きく形成されるように構成された光源と、光源を利用して光の変調を行う変調手段とを備える。
この発明の第2の局面による表示装置では、上記のように、赤色半導体発光素子、緑色半導体発光素子および青色半導体発光素子のうちの少なくとも2つの半導体発光素子において、相対的に短い波長を発する半導体発光素子の導波路の幅が、相対的に長い波長を発する半導体発光素子の導波路の幅よりも大きく形成されるように構成された光源を備えることによって、相対的に長い波長を発する半導体発光素子の出力よりも相対的に短い波長を発する半導体発光素子の出力が小さい場合であっても、相対的に短い波長を発する半導体発光素子の導波路の幅が、相対的に長い波長を発する半導体発光素子の導波路の幅よりも大きいので、相対的に長い波長を発する半導体発光素子のみならず、相対的に短い波長を発する半導体発光素子にも充分な光強度(光束)を有するレーザ出力を発揮させることができる。これにより、異なる波長の光を発振する半導体発光素子を組み合わせた光源において、理想的な白色光を再現することができる。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
(第1実施形態)
まず、図1および図2を参照して、本発明の第1実施形態による半導体発光装置100の構造について説明する。なお、半導体発光装置100は、本発明の「光源」の一例である。
まず、図1および図2を参照して、本発明の第1実施形態による半導体発光装置100の構造について説明する。なお、半導体発光装置100は、本発明の「光源」の一例である。
本発明の第1実施形態による半導体発光装置100では、図1に示すように、RGB3波長半導体レーザ素子部90が、AuSn半田などの導電性接着層1(図2参照)を介して台座910の上面上に固定されている。また、RGB3波長半導体レーザ素子部90は、図2に示すように、約655nmの発振波長を有する赤色半導体レーザ素子10と、約530nmの発振波長を有する緑色半導体レーザ素子30と、約480nmの波長を有する青色半導体レーザ素子50とが、AuSn半田などの導電性接着層2を介して基台80の上面上にB方向に沿って所定の間隔を隔てて固定されている。なお、赤色半導体レーザ素子10、緑色半導体レーザ素子30および青色半導体レーザ素子50は、それぞれ、本発明の「赤色半導体発光素子」、「緑色半導体発光素子」および「青色半導体発光素子」の一例である。また、赤色半導体レーザ素子10、緑色半導体レーザ素子30および青色半導体レーザ素子50は、各々が水平多重横モードのレーザ光を発振するブロードエリア型半導体レーザ素子として形成されている。
ここで、RGB3波長半導体レーザ素子部90によって白色光を得るためには、上記赤色光655nm、緑色光530nmおよび青色光480nmの半導体レーザを用いる場合、3つの半導体レーザ素子のワット換算の出力比を、赤色:緑色:青色=約24.5:約8.1:約7.2に調整することが要求される(光束(ルーメン)比は、赤色光:緑色光:青色光=約2:約7:約1に相当する)。すなわち、第1実施形態では、赤色半導体レーザ素子10、緑色半導体レーザ素子30および青色半導体レーザ素子50は、それぞれ、約2500mW、約800mWおよび約700mWの定格出力を有するように形成されている。
また、第1実施形態では、図2に示すように、赤色半導体レーザ素子10は、半導体素子層の内部(活性層14の部分)形成される光導波路(図2において破線に囲まれた領域)が約5μmの幅W1を有するように構成されるとともに、緑色半導体レーザ素子30および青色半導体レーザ素子50は、各々に形成される光導波路(破線で囲まれた領域)が約20μmの幅W2および約10μmの幅W3を有するように構成されている。すなわち、赤色半導体レーザ素子10よりも発振波長が短い緑色半導体レーザ素子30および青色半導体レーザ素子50における光導波路の幅(W2およびW3)が、赤色半導体レーザ素子10の光導波路の幅W1よりも大きく(W1<W2かつW1<W3)形成されている。
また、図2に示すように、赤色半導体レーザ素子10は、n型GaAs基板11の上面上に、SiドープGaAsからなるn型バッファ層12と、SiドープAlGaInPからなるn型クラッド層13と、AlGaInP障壁層およびGaInP井戸層が交互に積層された多重量子井戸(MQW)活性層14、および、ZnドープAlGaInPからなるp型クラッド層15とが形成されている。
また、p型クラッド層15は、凸部と、凸部の両側(B方向)に延びる平坦部とを有している。このp型クラッド層15の凸部によって、活性層14の部分に幅W1(約5μm)を有する光導波路を構成するためのリッジ20が形成されている。なお、リッジ20の底部の幅が光導波路の幅W1に相当する。また、p型クラッド層15のリッジ20以外の上面上を覆うように、SiO2からなる電流ブロック層16が形成されている。また、リッジ20および電流ブロック層16の上面を覆うように、Auなどからなるp側パッド電極17が形成されている。なお、リッジ20とp側パッド電極17との間には、p型クラッド層15よりも好ましくはバンドギャップが小さいコンタクト層やオーミック電極層などが形成されていてもよい。また、n型GaAs基板11の下面上に、n型GaAs基板11側からAuGe層、Ni層およびAu層の順に積層されたn側電極18が形成されている。
また、図2に示すように、緑色半導体レーザ素子30は、n型GaN基板31の上面上に、GeドープGaNからなるn型GaN層32と、n型AlGaNからなるn型クラッド層33と、InGaNからなる量子井戸層および障壁層が交互に積層されたMQWの活性層34と、p型AlGaNからなるp型クラッド層35とが形成されている。
また、p型クラッド層35は、凸部と、凸部の両側(B方向)に延びる平坦部とを有している。このp型クラッド層35の凸部によって、活性層34の部分に幅W2(約20μm)を有する光導波路を構成するためのリッジ40が形成されている。なお、リッジ40の底部の幅が光導波路の幅W2に相当する。また、p型クラッド層35のリッジ40以外の上面上を覆うように、SiO2からなる電流ブロック層36が形成されている。また、リッジ40および電流ブロック層36の上面を覆うように、Auなどからなるp側パッド電極37が形成されている。なお、リッジ40とp側パッド電極37との間には、p型クラッド層35よりも好ましくはバンドギャップが小さいコンタクト層やオーミック電極層などが形成されていてもよい。また、n型GaN基板31の下面上に、n型GaN基板31側からTi層、Pt層およびAu層の順に積層されたn側電極38が形成されている。
また、図2に示すように、青色半導体レーザ素子50は、n型GaN基板51の上面上に、GeドープGaNからなるn型GaN層52と、n型AlGaNからなるn型クラッド層53と、InGaNからなる量子井戸層および障壁層が交互に積層されたMQWの活性層54と、p型AlGaNからなるp型クラッド層55とが形成されている。
また、p型クラッド層55は、凸部と、凸部の両側(B方向)に延びる平坦部とを有している。このp型クラッド層55の凸部によって、活性層54の部分に幅W3(約10μm)を有する光導波路を構成するためのリッジ60が形成されている。なお、リッジ60の底部の幅が光導波路の幅W3に相当する。また、p型クラッド層55のリッジ60以外の上面上を覆うように、SiO2からなる電流ブロック層56が形成されている。また、リッジ60および電流ブロック層56の上面を覆うように、Au層などからなるp側パッド電極57が形成されている。なお、リッジ60とp側パッド電極57との間には、p型クラッド層55よりも好ましくはバンドギャップが小さいコンタクト層やオーミック電極層などが形成されていてもよい。また、n型GaN基板51の下面上に、n型GaN基板51側からTi層、Pt層およびAu層の順に積層されたn側電極58が形成されている。
また、図1に示すように、半導体発光装置100は、RGB3波長半導体レーザ素子部90を載置する台座910と、台座910と電気的に絶縁されるとともに底部905aを貫通する3つのリード端子901、902および903と、台座910および底部905aに電気的に導通する負極側リード端子(図示せず)とが設けられたステム905とを備えている。
また、赤色半導体レーザ素子10は、p側パッド電極17(図2参照)にワイヤボンディングされた金属線71を介してリード端子901に接続されている。また、緑色半導体レーザ素子30は、p側パッド電極37(図2参照)にワイヤボンディングされた金属線72を介してリード端子902に接続されている。また、青色半導体レーザ素子50は、p側パッド電極57(図2参照)にワイヤボンディングされた金属線73を介してリード端子903に接続されている。
また、各半導体レーザ素子(10、30および50)を載置する基台80は、AlNなどの導電性を有する材料からなり、導電性接着層1を介して台座910に電気的に接続されている。これにより、半導体発光装置100は、各半導体レーザ素子(10、30および50)のp側電極(17、37および57)が、互いに絶縁されたリード端子(901、902および903)側に接続されるとともに、n側電極(18、38および58)が共通の負極側リード端子(図示せず)に接続される状態(カソードコモン)に構成されている。
また、赤色半導体レーザ素子10、緑色半導体レーザ素子30および青色半導体レーザ素子50には、共振器方向の両端部に、光出射面(図1のA1側)と光反射面(図1のA2側)とがそれぞれ形成されている。また、各半導体レーザ素子の光出射面には、低反射率の誘電体多層膜が形成されているとともに、光反射面には、高反射率の誘電体多層膜が形成されている。ここで、誘電体多層膜としては、GaN,AlN、BN,Al2O3、SiO2、ZrO2、Ta2O5、Nb2O5、La2O3、SiN、AlONおよびMgF2や、これらの混成比の異なる材料であるTi3O5やNb2O3などからなる多層膜を用いることができる。
なお、赤色半導体レーザ素子10、緑色半導体レーザ素子30、および青色半導体レーザ素子50において、n型クラッド層と活性層との間に、光ガイド層やキャリアブロック層などが形成されていてもよい。また、n型クラッド層の活性層と反対側にコンタクト層などが形成されていてもよい。また、活性層とp型クラッド層との間に、光ガイド層やキャリアブロック層などが形成されていてもよい。また、p型クラッド層の活性層と反対側にコンタクト層などが形成されていてもよい。また、活性層は、単層または単一量子井戸構造などであってもよい。
次に、図1および図2を参照して、第1実施形態による半導体発光装置100の製造プロセスについて説明する。
第1実施形態による半導体発光装置100の製造プロセスでは、まず、図2に示すように、MOCVD法を用いて、n型GaAs基板11の上面上に、n型バッファ層12、n型クラッド層13、活性層14およびp型クラッド層15を順次形成する。その後、p型クラッド層15の上面上に、フォトリソグラフィによりレジストパターンを形成した後、そのレジストパターンをマスクとしてドライエッチングなどを行うことにより、p型クラッド層15にリッジ20(凸部)を形成する。
この際、第1実施形態では、活性層14の部分に約5μmの幅W1を有する光導波路が形成されるようにリッジ20を形成する。
その後、p型クラッド層15の凸部以外の平坦部の上面上およびリッジ20の両側面を覆うように電流ブロック層16を形成する。その後、真空蒸着法を用いて、電流ブロック層16上および電流ブロック層16が形成されていないp型クラッド層15上に、p側パッド電極17を形成する。その後、n型GaAs基板11の下面を研磨した後、n型GaAs基板11の下面上にn側電極18を形成して赤色半導体レーザ素子10のウェハを作製する。その後、所定の共振器長を有するようにウェハをバー状に劈開するとともに共振器方向に素子分割(チップ化)することにより、赤色半導体レーザ素子10(図1参照)のチップが形成される。
また、上記赤色半導体レーザ素子10と同様の製造プロセスにより、緑色半導体レーザ素子30および青色半導体レーザ素子50のチップがそれぞれ形成される。なお、緑色半導体レーザ素子30を形成する際は、活性層34の部分に約20μmの幅W2を有する光導波路が形成されるようにリッジ40を形成するとともに、青色半導体レーザ素子50を形成する際は、活性層54の部分に約10μmの幅W3を有する光導波路が形成されるようにリッジ60を形成する。
その後、図2に示すように、セラミック製のコレット(図示せず)を用いて、赤色半導体レーザ素子10と、緑色半導体レーザ素子30と、青色半導体レーザ素子50とを、基台80に対して押圧しながら導電性接着層2を介して固定することによりRGB3波長半導体レーザ素子部90を形成する。その後、RGB3波長半導体レーザ素子部90を、ステム905に設けられた台座910に対して押圧しながら導電性接着層1を介して接合する。これにより、基台80が台座910を介して負極側リード端子に電気的に接続される。
その後、図1に示すように、赤色半導体レーザ素子10のp側パッド電極17とリード端子901とを金属線71により接続する。また、緑色半導体レーザ素子30のp側パッド電極37とリード端子902とを金属線72により接続する。また、青色半導体レーザ素子50のp側パッド電極57とリード端子903とを金属線73により接続する。このようにして、第1実施形態による半導体発光装置100が形成される。
次に、図3および図4を参照して、本発明の第1実施形態による半導体発光装置100が搭載されたプロジェクタ装置200および250の構成について説明する。なお、プロジェクタ装置200および250は、本発明の「表示装置」の一例である。
まず、プロジェクタ装置200では、図3に示すように、RGB3波長半導体レーザ素子部90が実装された半導体発光装置100と、複数の光学部品からなる光学系210とを備えている。これにより、半導体発光装置100から出射されたレーザ光が、光学系210により変調された後、外部のスクリーン245などに投影されるように構成されている。なお、光学系210は、本発明の「変調手段」の一例である。
また、光学系210において、半導体発光装置100から出射されたレーザ光は、凹レンズと凸レンズとからなる分散角制御レンズ212により所定ビーム径を有する平行光に変換された後、フライアイインテグレータ213に入射される。また、フライアイインテグレータ213では、蝿の目状のレンズ群からなる2つのフライアイレンズが向き合うように構成されており、液晶パネル218、221および227に入射する際の光量分布が均一となるように分散角制御レンズ212から入射される光に対してレンズ作用を付与する。すなわち、フライアイインテグレータ213を透過した光は、液晶パネル218、221および227のサイズに対応したアスペクト比(たとえば16:9)の広がりをもって入射できるように調整されている。
また、フライアイインテグレータ213を透過した光は、コンデンサレンズ214によって集光される。また、コンデンサレンズ214を透過した光のうち、赤色光のみがダイクロイックミラー215によって反射される一方、緑色光および青色光はダイクロイックミラー215を透過する。
そして、赤色光は、ミラー216を経てレンズ217による平行化の後に液晶パネル2218に入射される。この液晶パネル218は、赤色用の駆動信号に応じて駆動されるとともに、その駆動状態に応じて赤色光を変調する。なお、レンズ217を透過した赤色光は、入射側偏光板(図示せず)を介して液晶パネル218に入射される。
また、ダイクロイックミラー219では、ダイクロイックミラー215を透過した光のうちの緑色光のみが反射される一方、青色光はダイクロイックミラー219を透過する。
そして、緑色光は、レンズ220による平行化の後に液晶パネル221に入射される。この液晶パネル221は、緑色用の駆動信号に応じて駆動されるとともに、その駆動状態に応じて緑色光を変調する。なお、レンズ220を透過した緑色光は、入射側偏光板(図示せず)を介して液晶パネル221に入射される。
また、ダイクロイックミラー219を透過した青色光は、レンズ222、ミラー223、レンズ224およびミラー225を経て、さらにレンズ226によって平行化がなされた後、液晶パネル227に入射される。この液晶パネル227は、青色用の駆動信号に応じて駆動されるとともに、その駆動状態に応じて青色光を変調する。なお、レンズ226を透過した青色光は、入射側偏光板(図示せず)を介して液晶パネル227に入射される。
その後、ダイクロイックプリズム228は、液晶パネル218、221、227によって変調されるとともに、出射側偏光板(図示せず)を介した赤色光、緑色光および青色光を合成して投写レンズ240へと入射させる。また、投写レンズ240は、投写光を被投写面(スクリーン245)上に結像させるためのレンズ群と、レンズ群の一部を光軸方向に変位させて投写画像のズームおよびフォーカスを調整するためのアクチュエータを内蔵している。このようにして、本発明の第1実施形態による半導体発光装置100が搭載されたプロジェクタ装置200が構成されている。
また、プロジェクタ装置250では、図4に示すように、RGB3波長半導体レーザ素子部90が実装された半導体発光装置100と光学系260とを備えている。これにより、半導体発光装置100からのレーザ光が、光学系260により変調された後、スクリーン245などに投影されるように構成されている。なお、光学系260は、本発明の「変調手段」の一例である。
また、光学系260において、半導体発光装置100から出射されたレーザ光は、それぞれ、レンズ282により平行光に変換された後、ライトパイプ284に入射される。
ライトパイプ284は内面が鏡面となっており、レーザ光は、ライトパイプ284の内面で反射を繰り返しながらライトパイプ284内を進行する。この際、ライトパイプ284内での多重反射作用によって、ライトパイプ284から出射される各色のレーザ光の強度分布が均一化される。また、ライトパイプ284から出射されたレーザ光は、リレー光学系285を介してデジタルマイクロミラーデバイス(DMD)素子286に入射される。
DMD素子286は、各画素位置の光の反射方向を、投写レンズ290に向かう第1の方向と投写レンズ290から逸れる第2の方向に切り替えることにより各画素の階調を表現する機能を有している。各画素位置に入射されるレーザ光のうち第1の方向に反射された光(ON光)は、投写レンズ290に入射されて被投写面(スクリーン245)に投写される。また、DMD素子286によって第2の方向に反射された光(OFF光)は、投写レンズ290には入射されずに光吸収体287によって吸収される。
また、光学系260では、半導体発光装置100を構成する赤・緑・青の各色レーザ光源は、色毎に時分割で駆動されるように構成されている。すなわち、赤色光が発光されているタイミングにおいて、DMD素子286は、赤色用の駆動信号に応じて駆動され、その駆動状態に応じて赤色光を変調する。同様に、緑色光または青色光が発光されているタイミングにおいて、DMD素子286は、緑色用または青色用の駆動信号に応じて駆動され、その駆動状態に応じて緑色光または青色光を変調する。このようにして、本発明の第1実施形態による半導体発光装置100が搭載されたプロジェクタ装置250が構成されている。
第1実施形態では、上記のように、緑色半導体レーザ素子30の導波路の幅W2および青色半導体レーザ素子50の導波路の幅W3を、赤色半導体レーザ素子10の導波路の幅W1よりもそれぞれ大きく形成することによって、赤色半導体レーザ素子10の出力よりも緑色半導体レーザ素子30や青色半導体レーザ素子50のレーザ出力が小さい場合であっても、緑色半導体レーザ素子30および青色半導体レーザ素子50の各々の導波路の幅が、赤色半導体レーザ素子10の導波路の幅よりも大きいので、赤色半導体レーザ素子10のみならず、緑色半導体レーザ素子30および青色半導体レーザ素子50にも充分な光強度(光束)を有するレーザ出力を発揮させることができる。これにより、半導体発光装置100において、理想的な白色光を再現することができる。
また、第1実施形態では、緑色半導体レーザ素子30の導波路の幅W2を、赤色半導体レーザ素子10の導波路の幅W1よりも大きく形成することによって、赤色半導体レーザ素子10と比較して所定の出力が得られにくい緑色半導体レーザ素子30からも高い強度(光束)の緑色光を取り出すことができるので、半導体発光装置100が理想的な白色光を確実に再現することができる。
また、第1実施形態では、赤色半導体レーザ素子10、緑色半導体レーザ素子30および青色半導体レーザ素子50を基台80の上面上に配置することによって、3つの半導体レーザ素子(発光点)が互いに接近した状態の半導体発光装置100を形成することができるので、発光点が互いに近づけられる分、白色光源の大きさを小さく形成することができる。
また、第1実施形態では、緑色半導体レーザ素子30および青色半導体レーザ素子50がブロードエリア型半導体レーザ素子であることによって、所定の出力が得られにくいこれらの半導体レーザ素子においても、容易に高出力化を行うことができるので、高出力化される分、理想的な白色光を容易に再現することができる。
(第2実施形態)
図3〜図7を参照して、第2実施形態について説明する。この第2実施形態では、上記第1実施形態と異なり、上記第1実施形態で用いた各々の半導体レーザ素子が、同一のパッケージ内に実装されていない状態でプロジェクタ装置の内部に搭載される場合について説明する。
図3〜図7を参照して、第2実施形態について説明する。この第2実施形態では、上記第1実施形態と異なり、上記第1実施形態で用いた各々の半導体レーザ素子が、同一のパッケージ内に実装されていない状態でプロジェクタ装置の内部に搭載される場合について説明する。
すなわち、図5に示すように、プロジェクタ装置200aでは、互いに別々のパッケージに設けられた赤色半導体レーザ素子10、緑色半導体レーザ素子30および青色半導体レーザ素子50がアレイ状に配置されて光源部201が構成されている。なお、各半導体レーザ素子から出射されるレーザ光は、上記第1実施形態におけるプロジェクタ装置200(図3参照)の光学系210により変調された後、外部のスクリーン245などに投影されるように構成されている。なお、プロジェクタ装置200aは、本発明の「表示装置」の一例である。
また、図6に示すように、プロジェクタ装置200bでは、光学系210(図5参照)のレイアウトが変更された光学系211を適用することにより、異なるパッケージ(異なる発光位置)に配置された赤色半導体レーザ素子10、緑色半導体レーザ素子30および青色半導体レーザ素子50の各々が出射するレーザ光をスクリーン245に投影するように構成されている。この場合、赤色、緑色および青色の各々の光源に対して、分散角制御レンズ212、フライアイインテグレータ213およびコンデンサレンズ214が用いられる。なお、プロジェクタ装置200bは、本発明の「表示装置」の一例であり、光学系211は、本発明の「変調手段」の一例である。
また、図7に示すように、プロジェクタ装置250aでは、図5に示したプロジェクタ装置200aにおける光源部201と同様に、互いに別々のパッケージに設けられた赤色半導体レーザ素子10、緑色半導体レーザ素子30および青色半導体レーザ素子50をアレイ状に配置して光源部202を構成している。また、光学系260aでは、図4に示した光学系260と異なり、赤色、緑色および青色の各々の光源に対して設けられたレンズ282を透過した光が集光レンズ283によって集光された後、ライトパイプ284に入射されるように構成されている。なお、その他の光学系260aの構成は、図4と同様である。各半導体レーザ素子からのレーザ光は、この光学系260aにより変調された後、スクリーン245に投影される。なお、プロジェクタ装置250aは、本発明の「表示装置」の一例であり、光学系260aは、本発明の「変調手段」の一例である。
第2実施形態では、上記のように、赤色半導体レーザ素子10、緑色半導体レーザ素子30および青色半導体レーザ素子50を互いに別々のパッケージに設けても、プロジェクタ装置の白色光源として容易に適用することができる。
(第3実施形態)
図8および図9を参照して、第3実施形態について説明する。この第3実施形態では、上記第1実施形態と異なり、1つの赤色半導体レーザ素子310と、緑色半導体レーザ素子330および青色半導体レーザ素子350からなるモノリシック型の2波長半導体レーザ素子部370とを基台380上に配置してRGB3波長半導体レーザ素子部390を構成する場合について説明する。なお、第3実施形態では、平坦な上部クラッド層(p型クラッド層)上に共振器方向に沿って延びるストライプ状の開口部を有する電流ブロック層を形成した利得導波型の半導体レーザ素子を、赤色、緑色および青色の各々の半導体レーザ素子に適用している。なお、赤色半導体レーザ素子310、緑色半導体レーザ素子330および青色半導体レーザ素子350は、それぞれ、本発明の「赤色半導体発光素子」、「緑色半導体発光素子」および「青色半導体発光素子」の一例である。
図8および図9を参照して、第3実施形態について説明する。この第3実施形態では、上記第1実施形態と異なり、1つの赤色半導体レーザ素子310と、緑色半導体レーザ素子330および青色半導体レーザ素子350からなるモノリシック型の2波長半導体レーザ素子部370とを基台380上に配置してRGB3波長半導体レーザ素子部390を構成する場合について説明する。なお、第3実施形態では、平坦な上部クラッド層(p型クラッド層)上に共振器方向に沿って延びるストライプ状の開口部を有する電流ブロック層を形成した利得導波型の半導体レーザ素子を、赤色、緑色および青色の各々の半導体レーザ素子に適用している。なお、赤色半導体レーザ素子310、緑色半導体レーザ素子330および青色半導体レーザ素子350は、それぞれ、本発明の「赤色半導体発光素子」、「緑色半導体発光素子」および「青色半導体発光素子」の一例である。
本発明の第3実施形態による半導体発光装置300では、図8に示すように、RGB3波長半導体レーザ素子部390が台座910の上面上に固定されている。また、RGB3波長半導体レーザ素子部390は、約635nmの発振波長を有する赤色半導体レーザ素子310と、約530nmの発振波長を有する緑色半導体レーザ素子330および約480nmの波長を有する青色半導体レーザ素子350が共通のn型GaN基板331上に集積化された2波長半導体レーザ素子部370とが、AuSn半田などの導電性接着層2を介して基台380の上面上に所定の間隔を隔てて固定されている。
ここで、RGB3波長半導体レーザ素子部390は、上記赤色光635nm、緑色光530nmおよび青色光480nmの各半導体レーザ素子におけるワット換算の出力比が、赤色:緑色:青色=約9.2:約8.1:約16.7に調整されて白色光が得られるように構成されている。すなわち、第3実施形態では、赤色半導体レーザ素子310、緑色半導体レーザ素子330および青色半導体レーザ素子350は、それぞれ、約900mW、約800mWおよび約1700mWの定格出力を有するように形成されている。
また、第3実施形態では、図9に示すように、赤色半導体レーザ素子310は、半導体素子層の内部(活性層14の部分)形成される光導波路(図9において破線で囲まれた領域)が約3μmの幅W4を有するように構成されるとともに、緑色半導体レーザ素子330および青色半導体レーザ素子350は、各々に形成される光導波路(破線に囲まれた領域)が約20μmの幅W5および約30μmの幅W6を有するように構成されている。すなわち、発振波長が短い緑色半導体レーザ素子330および青色半導体レーザ素子350における光導波路の幅(W5およびW6)が、赤色半導体レーザ素子310の光導波路の幅W4よりも大きく(W4<W5かつW4<W6)形成されている。
また、図9に示すように、赤色半導体レーザ素子310は、平坦なp型クラッド層15の表面上に、電流通路を形成するとともにA方向にストライプ状に延びる開口部316aを残してSiO2からなる電流ブロック層316が形成されている。なお、開口部316aによって、活性層14の部分に幅W4(約3μm)を有する光導波路が形成されるように構成されている。
また、図9に示すように、緑色半導体レーザ素子330および青色半導体レーザ素子350は、各々の平坦なp型クラッド層35および55の表面上に、A方向にストライプ状に延びる開口部376aおよび376bを残して電流ブロック層376が形成されている。なお、開口部376aによって活性層34の部分に幅W5(約20μm)を有する光導波路が形成されるとともに、開口部376bによって活性層54の部分に幅W6(約30μm)を有する光導波路が形成されるように構成されている。
なお、第3実施形態のように、利得導波型の半導体レーザ素子では、各々の半導体レーザ素子の電流ブロック層に設けられた開口部の幅が、各々の半導体レーザ素子の光導波路の幅に相当する。
また、図9に示すように、緑色半導体レーザ素子330の電流ブロック層376上には、p側パッド電極337が形成されるとともに、青色半導体レーザ素子350の電流ブロック層376上には、p側パッド電極357が形成されている。また、n型GaN基板331の下面上には、n型GaN基板331側からTi層、Pt層およびAu層の順に積層されたn側電極378が形成されている。
また、図8に示すように、基台380上のB1側に赤色半導体レーザ素子310が配置されるとともに、B2側に2波長半導体レーザ素子部370が配置されている。
また、赤色半導体レーザ素子310は、p側パッド電極317にワイヤボンディングされた金属線371を介してリード端子902に接続されている。また、2波長半導体レーザ素子部370の緑色半導体レーザ素子330は、p側パッド電極337にワイヤボンディングされた金属線372を介してリード端子903に接続されている。また、青色半導体レーザ素子350は、p側パッド電極357にワイヤボンディングされた金属線373を介してリード端子901に接続されている。なお、第3実施形態による半導体発光装置300のその他の構造は、上記第1実施形態と同様である。
次に、図8および図9を参照して、第3実施形態による半導体発光装置300の製造プロセスについて説明する。
第3実施形態による半導体発光装置300の製造プロセスでは、まず、図9に示すように、n型GaN基板331の上面上に、青色半導体レーザ素子350となるn型GaN層52、n型クラッド層53、活性層54およびp型クラッド層55を順次形成する。その後、n型GaN層52、n型クラッド層53、活性層54およびp型クラッド層55の一部をエッチングしてn型GaN基板331の一部を露出させて、その露出した部分の一部に、凹部8となる領域を残して緑色半導体レーザ素子330となるn型GaN層32、n型クラッド層33、活性層34およびp型クラッド層35を順次形成する。その後、開口部376aおよび376bを残して電流ブロック層376を形成する。
この際、第3実施形態では、活性層34の部分に約20μmの幅W5を有する光導波路が形成されるように開口部376aを形成するとともに、活性層54の部分に約30μmの幅W6を有する光導波路が形成されるように開口部376bを形成する。
その後、真空蒸着法を用いて、電流ブロック層376上と開口部376aおよび376b内を埋めるようにp側パッド電極337および357を形成する。このようにして、底部がn型GaN基板331に達する凹部8によりB方向に所定の間隔で隔てられた青色半導体レーザ素子350および緑色半導体レーザ素子330を作製する。
その後、n型GaN基板331の下面を研磨した後、n型GaN基板331の下面上にn側電極378を形成して2波長半導体レーザ素子部370のウェハを作製する。その後、所定の共振器長を有するようにウェハをバー状に劈開するとともに共振器方向に素子分割(チップ化)することにより、2波長半導体レーザ素子部370(図9参照)のチップが形成される。
なお、赤色半導体レーザ素子310の製造プロセスについては、p型クラッド層15の上面に開口部316aを残して電流ブロック層316を形成するプロセス以外は、上記第1実施形態における赤色半導体レーザ素子10の製造プロセスと同様である。また、この際、赤色半導体レーザ素子310の活性層14の部分に約3μmの幅W4を有する光導波路が形成されるようにp型クラッド層15の上面に開口部316aを形成する。
その後、図8に示すように、赤色半導体レーザ素子310と、2波長半導体レーザ素子部370とを基台380に対して押圧しながらAuSn半田などの導電性接着層2を介して固定することによりRGB3波長半導体レーザ素子部390を形成する。なお、第3実施形態のその他の製造プロセスは、上記第2実施形態と同様である。
第3実施形態では、上記のように、緑色半導体レーザ素子330および青色半導体レーザ素子350を共通のn型GaN基板331上に形成することによって、緑色半導体レーザ素子330および青色半導体レーザ素子350を別々の基板上に形成した後に、所定の間隔を隔ててパッケージ内(基台380上)に配置する場合と比較して、緑色半導体レーザ素子330および青色半導体レーザ素子350が共通のn型GaN基板331上に集積化された2波長半導体レーザ素子部370として形成されるので、集積化される分、2波長半導体レーザ素子部370のB方向の幅を小さくすることができる。これにより、2波長半導体レーザ素子部370をパッケージ内(基台380上)に容易に配置することができる。なお、第3実施形態のその他の効果は、上記第1実施形態と同様である。
(第4実施形態)
図10〜図13を参照して、第4実施形態について説明する。この第4実施形態では、緑色光および青色光を出射するモノリシック型の2波長半導体レーザ素子部470の表面上に、赤色半導体レーザ素子410を接合してRGB3波長半導体レーザ素子部490を構成する場合について説明する。なお、第4実施形態では、各々の半導体レーザ素子は、埋め込みヘテロ構造を有する半導体レーザ素子として形成されている。なお、赤色半導体レーザ素子410、緑色半導体レーザ素子430および青色半導体レーザ素子450は、それぞれ、本発明の「赤色半導体発光素子」、「緑色半導体発光素子」および「青色半導体発光素子」の一例である。また、図11は、図10の4000−4000線に沿った断面を示しており、図12は、図10の4100−4100線に沿った断面を示している。
図10〜図13を参照して、第4実施形態について説明する。この第4実施形態では、緑色光および青色光を出射するモノリシック型の2波長半導体レーザ素子部470の表面上に、赤色半導体レーザ素子410を接合してRGB3波長半導体レーザ素子部490を構成する場合について説明する。なお、第4実施形態では、各々の半導体レーザ素子は、埋め込みヘテロ構造を有する半導体レーザ素子として形成されている。なお、赤色半導体レーザ素子410、緑色半導体レーザ素子430および青色半導体レーザ素子450は、それぞれ、本発明の「赤色半導体発光素子」、「緑色半導体発光素子」および「青色半導体発光素子」の一例である。また、図11は、図10の4000−4000線に沿った断面を示しており、図12は、図10の4100−4100線に沿った断面を示している。
本発明の第4実施形態による半導体発光装置400では、図10に示すように、RGB3波長半導体レーザ素子部490が台座910の上面上に固定されている。また、RGB3波長半導体レーザ素子部490は、約635nmの発振波長を有する赤色半導体レーザ素子410と、約520nmの発振波長を有する緑色半導体レーザ素子430および約460nmの波長を有する青色半導体レーザ素子450が共通のn型GaN基板431上に集積化された2波長半導体レーザ素子部470とが、AuSn半田などの導電性接着層2を介して基台480の上面上に所定の間隔を隔てて固定されている。
ここで、RGB3波長半導体レーザ素子部490は、上記赤色光635nm、緑色光520nmおよび青色光460nmの各半導体レーザ素子におけるワット換算の出力比が、赤色:緑色:青色=約24.5:約9.9:約7.2に調整されて白色光が得られるように構成されている。すなわち、第4実施形態では、赤色半導体レーザ素子410、緑色半導体レーザ素子430および青色半導体レーザ素子450は、それぞれ、約2500mW、約1000mWおよび約700mWの定格出力を有するように形成されている。
また、第4実施形態では、図11に示すように、赤色半導体レーザ素子410は、半導体素子層の内部(活性層14の部分)形成される光導波路が約5μmの幅W7を有するように構成されるとともに、緑色半導体レーザ素子430および青色半導体レーザ素子450は、各々に形成される光導波路が約15μmの幅W8および約10μmの幅W9を有するように構成されている。すなわち、緑色半導体レーザ素子330および青色半導体レーザ素子350における光導波路の幅(W8およびW9)が、赤色半導体レーザ素子410の光導波路の幅W7よりも大きく(W7<W8かつW7<W9)形成されている。
なお、第4実施形態のように、埋め込みヘテロ構造を有する半導体レーザ素子では、各々の半導体レーザ素子の活性層の幅が、各々の半導体レーザ素子の光導波路の幅に相当する。
また、図11に示すように、RGB3波長半導体レーザ素子部490は、2波長半導体レーザ素子部470の表面上に形成されたSiO2からなる絶縁膜481と、AuSn半田などからなる導電性接着層3とを介して赤色半導体レーザ素子410が接合されている。また、RGB3波長半導体レーザ素子部490は、図10に示すように、基台480上のB方向の略中央部から若干B2側に寄せられた位置に配置されている。
また、図13に示すように、絶縁膜481は、青色半導体レーザ素子450のp側パッド電極457のA1方向の一部の領域(ワイヤボンド領域457a)および緑色半導体レーザ素子430のp側パッド電極437の一部の領域が外部に露出するように形成されている。また、青色半導体レーザ素子450のA2方向の端部近傍の所定領域には、絶縁膜481を覆うようにAuからなる電極層482が形成されている。これにより、図12に示すように、赤色半導体レーザ素子410は、電極層482とC方向に対向する領域において、p側パッド電極417の一部が導電性接着層3を介して電極層482と電気的に接続されている。また、図13に示すように、電極層482は、B1方向の端部領域(ワイヤボンド領域482a)が赤色半導体レーザ素子410の側方において外部に露出するように形成されている。
また、図10に示すように、赤色半導体レーザ素子410は、電極層482のワイヤボンド領域482aにワイヤボンディングされた金属線471を介してリード端子901に接続されている。また、2波長半導体レーザ素子部470の緑色半導体レーザ素子430(図11参照)は、p側パッド電極437のワイヤボンド領域437aにワイヤボンディングされた金属線472を介してリード端子903に接続されている。また、青色半導体レーザ素子450(図11参照)は、p側パッド電極457のワイヤボンド領域457aにワイヤボンディングされた金属線473を介してリード端子902に接続されている。なお、第4実施形態による半導体発光装置400のその他の構造は、上記第3実施形態と同様である。
次に、図10、図11および図13を参照して、第4実施形態による半導体発光装置400の製造プロセスについて説明する。
第4実施形態による半導体発光装置400の製造プロセスでは、上記第1および第2実施形態と同様の製造プロセスにより、チップ化された赤色半導体レーザ素子410とウェハ状態の2波長半導体レーザ素子部470とをそれぞれ作製する。
なお、第4実施形態では、各々の素子の形成において半導体層の積層後にドライエッチングを行う際、p型クラッド層から開始したエッチングをn型クラッド層の途中まで進行させる。これにより、赤色半導体レーザ素子410の形成では、約5μmの幅W7(図11参照)を有する光導波路が形成されるように活性層14が形成される。また、緑色半導体レーザ素子430および青色半導体レーザ素子450の形成では、約15μmの幅W8(図11参照)および約10μmの幅W9(図11参照)を有する光導波路が形成されるようにそれぞれの素子の活性層が形成される。
したがって、各々の素子のn型クラッド層の上面、活性層の側面およびp型クラッド層の側面を覆うように、電流ブロック層416および476が形成される。その後、真空蒸着法を用いて、電流ブロック層上および電流ブロック層が形成されていないp型クラッド層上に、p側パッド電極417、437および457が形成される。
その後、2波長半導体レーザ素子部470の形成では、図13に示すように、p側パッド電極457のワイヤボンド領域457a(B1側)とp側パッド電極437のワイヤボンド領域437a(B2側)とを残して電流ブロック層476(図12参照)の上面をA方向に覆うように絶縁膜481を形成する。その後、青色半導体レーザ素子450が形成された側のp側パッド電極457を除く絶縁膜481の上面に、ワイヤボンド領域482aを有する電極層482を形成する。
その後、図11に示すように、2波長半導体レーザ素子部470が形成されたウェハと、赤色半導体レーザ素子410とを対向させながら導電性接着層3を用いて接合することにより、ウェハ状態のRGB3波長半導体レーザ素子部490が形成される。その後、所定の共振器長を有するようにRGB3波長半導体レーザ素子部490が形成されたウェハを劈開(バー状劈開)するとともに共振器方向に素子分割(チップ化)することにより、RGB3波長半導体レーザ素子部490のチップが形成される。
その後、図10に示すように、RGB3波長半導体レーザ素子部490を基台480に対して押圧しながら導電性接着層(図示せず)を介して固定することによりRGB3波長半導体レーザ素子部490を形成する。その後、金属線により、電極層(ワイヤボンド領域)とリード端子とをそれぞれ接続する。このようにして、第4実施形態による半導体発光装置400が形成される。
第4実施形態では、上記のように、赤色半導体レーザ素子410を2波長半導体レーザ素子部470の表面上に接合することによって、赤色半導体レーザ素子410と2波長半導体レーザ素子部470とを単に直線的に配置する(たとえば基台480上に横一列方向に並べる)場合と比較して、赤色半導体レーザ素子410と2波長半導体レーザ素子部470とがC方向に接合される分、各々のレーザ素子の発光部が横方向(B方向)に近づけられるので、発光点をパッケージ(基台480)の中央領域に集めることができる。これにより、RGB3波長半導体レーザ素子部490から出射される3本のレーザ出射光をプロジェクタ装置内の光学系の光軸に集めることができるので、半導体発光装置400と光学系との調整を容易に行うことができる。なお、第4実施形態のその他の効果は、上記第1実施形態と同様である。
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
たとえば、上記第1〜第4実施形態では、本発明の「赤色半導体発光素子」として赤色半導体レーザ素子、「緑色半導体発光素子」として緑色半導体レーザ素子、および、「青色半導体発光素子」として青色半導体レーザ素子を用いた例について示したが、本発明はこれに限らず、赤色半導体発光素子として赤色スーパールミネッセントダイオード、緑色半導体発光素子として緑色スーパールミネッセントダイオード、および、青色半導体発光素子として青色スーパールミネッセントダイオードを用いてもよい。あるいは、3つの半導体発光素子のうちの1つまたは2つを半導体レーザ素子とするとともに、残りをスーパールミネッセントダイオードとしてもよい。
また、上記第1実施形態では、RGB3波長半導体レーザ素子部90を構成する赤色半導体レーザ素子10、緑色半導体レーザ素子30および青色半導体レーザ素子50の光導波路(発光点領域)の幅を、それぞれ、W1(5μm)、W2(20μm)およびW3(10μm)に形成した例について示したが、本発明はこれに限らず、W1<W2かつW1<W3の関係を満たすように各々の光導波路の幅を形成してもよい。また、上記第1実施形態以外の実施形態においても、各実施形態中で例示した光導波路の幅以外であっても、上記と同様の関係を有するように、赤色半導体レーザ素子、緑色半導体レーザ素子および青色半導体レーザ素子の各々の光導波路の幅を形成すればよい。
また、上記第1〜第4実施形態の各々の実施形態におけるRGB3波長半導体レーザ素子部を構成する各半導体レーザ素子の定格出力、発振波長および導波路の幅の関係を、他の実施形態におけるRGB3波長半導体レーザ素子部に適用してもよい。
また、上記第4実施形態では、緑色半導体レーザ素子430と青色半導体レーザ素子450とが集積されたモノリシック型の2波長半導体レーザ素子部470上に赤色半導体レーザ素子410を接合した例について示したが、本発明はこれに限らず、上記第3実施形態の緑色半導体レーザ素子330上に赤色半導体レーザ素子410を接合してもよく、また、上記第3実施形態の青色半導体レーザ素子350上に赤色半導体レーザ素子410を接合してもよい。
また、上記第1および第2実施形態では、表示装置の一例として、白色光源を出射する半導体発光装置100を搭載したプロジェクタ装置に本発明を適用した例について示したが、本発明はこれに限らず、白色光源を出射する半導体発光装置100を搭載した表示装置であれば、プロジェクタ装置以外の、たとえば、リアプロジェクションテレビ装置や、液晶表示装置などの他の表示装置に本発明を適用してもよい。
また、上記第1〜第4実施形態では、各々の半導体レーザ素子をブロードエリア型の半導体レーザ素子によって構成した例について示したが、本発明はこれに限らず、緑色または青色の波長の短いレーザ素子をブロードエリア型半導体レーザ素子とするとともに、たとえば、赤色などの波長の長いレーザ素子を水平基本横モード発振する半導体レーザ素子としてもよい。
また、上記第1〜第4実施形態では、RGB3波長半導体レーザ素子部が接合される基台(80、380および480)を、AlNからなる基板により構成した例について示したが、本発明はこれに限らず、基台を、FeやCuなどからなる熱伝導率の良好な導電材料を用いて構成してもよい。
10、310、410 赤色半導体レーザ素子(赤色半導体発光素子)
30、330、430 緑色半導体レーザ素子(緑色半導体発光素子)
50、350、450 青色半導体レーザ素子(青色半導体発光素子)
100 半導体発光装置(光源)
200、200a、200b、250、250a プロジェクタ装置(表示装置)
210、211、260、260a 光学系(変調手段)
30、330、430 緑色半導体レーザ素子(緑色半導体発光素子)
50、350、450 青色半導体レーザ素子(青色半導体発光素子)
100 半導体発光装置(光源)
200、200a、200b、250、250a プロジェクタ装置(表示装置)
210、211、260、260a 光学系(変調手段)
Claims (6)
- 赤色の光を発光する導波路型の赤色半導体発光素子と、
緑色の光を発光する導波路型の緑色半導体発光素子と、
青色の光を発光する導波路型の青色半導体発光素子とを備え、
前記赤色半導体発光素子、前記緑色半導体発光素子および前記青色半導体発光素子のうちの少なくとも2つの半導体発光素子は、相対的に短い波長を発する前記半導体発光素子の導波路の幅が、相対的に長い波長を発する前記半導体発光素子の導波路の幅よりも大きく形成されている、発光装置。 - 前記赤色半導体発光素子、前記緑色半導体発光素子および前記青色半導体発光素子のうちの少なくとも2つの半導体発光素子は、相対的に短い波長を発する前記半導体発光素子の出力が、相対的に長い波長を発する前記半導体発光素子の出力よりも小さい、請求項1に記載の発光装置。
- 前記緑色半導体発光素子の導波路の幅は、前記赤色半導体発光素子の導波路の幅よりも大きく形成されている、請求項1または2に記載の発光装置。
- 前記赤色半導体発光素子、前記緑色半導体発光素子および前記青色半導体発光素子は、単一のパッケージ内に配置されている、請求項1〜3のいずれか1項に記載の発光装置。
- 前記赤色半導体発光素子、前記緑色半導体発光素子および前記青色半導体発光素子の少なくとも1つの半導体発光素子は、横多重モード発振する半導体レーザ素子である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の発光装置。
- 赤色の光を発光する導波路型の赤色半導体発光素子と、緑色の光を発光する導波路型の緑色半導体発光素子と、青色の光を発光する導波路型の青色半導体発光素子とを含み、前記赤色半導体発光素子、前記緑色半導体発光素子および前記青色半導体発光素子のうちの少なくとも2つの半導体発光素子において、相対的に短い波長を発する前記半導体発光素子の導波路の幅が、相対的に長い波長を発する前記半導体発光素子の導波路の幅よりも大きく形成されるように構成された光源と、
前記光源を利用して光の変調を行う変調手段とを備える、表示装置。
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JP2013004847A (ja) * | 2011-06-20 | 2013-01-07 | Panasonic Corp | 光照射装置 |
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JP2016015525A (ja) * | 2015-10-28 | 2016-01-28 | シャープ株式会社 | 窒化物半導体レーザ素子 |
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-
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013004847A (ja) * | 2011-06-20 | 2013-01-07 | Panasonic Corp | 光照射装置 |
JP2015087693A (ja) * | 2013-11-01 | 2015-05-07 | セイコーエプソン株式会社 | 発光装置およびプロジェクター |
JP2016015525A (ja) * | 2015-10-28 | 2016-01-28 | シャープ株式会社 | 窒化物半導体レーザ素子 |
JP2017224866A (ja) * | 2017-09-27 | 2017-12-21 | シャープ株式会社 | 窒化物半導体レーザ素子 |
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