JP2010275144A

JP2010275144A - Near infrared ray absorption glass for plasma display, glass substrate for plasma display, and protection plate for plasma display

Info

Publication number: JP2010275144A
Application number: JP2009128695A
Authority: JP
Inventors: Shuichi Akata; 修一赤田; Yoshio Okada; 祥史郎岡田; Makoto Fukawa; 真府川; Koji Sasaki; 宏二佐々木
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2009-05-28
Filing date: 2009-05-28
Publication date: 2010-12-09

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide near-infrared ray absorption glass for plasma display which sufficiently absorbs near-infrared rays while suppressing deterioration of visible light transmittance and red color purity, to provide a glass substrate for plasma display, and to provide a protection plate for plasma display. <P>SOLUTION: The near-infrared ray absorption glass is oxide glass containing each element of Si, Al, Ca, Mg, Na and Fe, and in the glass, the content of each element is as follows, by mass on each oxide basis; SiO<SB>2</SB>: 65-75%, Al<SB>2</SB>O<SB>3</SB>: 0.8-3%; CaO: 5-12%, MgO: 0.2-10%, Na<SB>2</SB>O: 10-20%, and Fe<SB>2</SB>O<SB>3</SB>: 0.56-1.59%. In Fe, divalent Fe is contained, and the content of the divalent Fe in the glass is 0.33-0.48 mass% on FeO basis. Near-infrared ray absorption glass in which the ratio of the divalent Fe is 40-65 mol% based on the total moles of Fe element is used as the glass substrate 10 of the protection plate 1. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラス、プラズマディスプレイ用ガラス基板およびプラズマディスプレイ用保護板に関する。 The present invention relates to a near-infrared absorbing glass for plasma display, a glass substrate for plasma display, and a protective plate for plasma display.

プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す。）からは、可視光線と同時に、近赤外線、電磁波等も放射される。たとえば、近赤外線は、家電製品用の近赤外線リモコンを誤作動させる。そのため、ＰＤＰの前面（視認側）には、近赤外線（８００〜１０００ｎｍ）を吸収し得るプラズマディスプレイ用保護板の設置が必要となっている。 A plasma display panel (hereinafter referred to as PDP) emits near-infrared rays, electromagnetic waves and the like simultaneously with visible rays. For example, near infrared rays cause a near infrared remote control for home appliances to malfunction. Therefore, it is necessary to install a protective plate for plasma display that can absorb near infrared rays (800 to 1000 nm) on the front surface (viewing side) of the PDP.

プラズマディスプレイ用保護板に近赤外線吸収能を付与する方法としては、下記の方法が知られている。
（１）シアニン系またはジイモニウム系の近赤外線吸収色素を含む近赤外線吸収層を有する近赤外線吸収フィルムをプラズマディスプレイ用保護板に設ける方法。
（２）プラズマディスプレイ用保護板において、ガラス基板や各種フィルムを貼り合わせている粘着剤層に、フタロシアニン系の近赤外線吸収色素を含ませる方法。 The following methods are known as methods for imparting near-infrared absorbing ability to a protective plate for plasma display.
(1) A method of providing a near-infrared absorbing film having a near-infrared absorbing layer containing a cyanine-based or diimonium-based near-infrared absorbing pigment on a protective plate for a plasma display.
(2) A method of including a phthalocyanine-based near-infrared absorbing dye in the pressure-sensitive adhesive layer to which a glass substrate or various films are bonded in the protective plate for plasma display.

しかし、（１）の方法には、シアニン系およびジイモニウム系の近赤外線吸収色素の耐久性が低いという問題がある。
（２）の方法には、フタロシアニン系の近赤外線吸収色素が高価であるという問題がある。 However, the method (1) has a problem that the durability of cyanine-based and diimonium-based near-infrared absorbing dyes is low.
The method (2) has a problem that phthalocyanine-based near-infrared absorbing dyes are expensive.

近赤外線吸収色素を用いることなく、ＰＤＰから放射される近赤外線を吸収または反射する方法としては、下記の方法が提案されている。
（３）プラズマディスプレイ用保護板のガラス基板、またはＰＤＰ本体の前面ガラス基板に、Ｆｅを含ませる方法（特許文献１、２）。 The following method has been proposed as a method of absorbing or reflecting near infrared rays emitted from the PDP without using a near infrared absorbing dye.
(3) A method of including Fe in the glass substrate of the plasma display protection plate or the front glass substrate of the PDP main body (Patent Documents 1 and 2).

（３）の方法において、Ｆｅのうち、近赤外線の吸収に特に有効な成分は、２価のＦｅである。よって、近赤外線吸収能を高めるためには、２価のＦｅの量を増やせばよいことも知られている（特許文献２、３）。 In the method (3), among Fe, a component particularly effective for absorbing near infrared rays is divalent Fe. Therefore, it is also known that the amount of divalent Fe may be increased in order to increase the near infrared absorption ability (Patent Documents 2 and 3).

特開２００６−２６５０２４号公報JP 2006-265024 A 特開２００７−１６１５４９号公報JP 2007-161549 A 国際公開第２００７／１１１０７９号パンフレットInternational Publication No. 2007/1111079 Pamphlet

２価のＦｅの量を増やすと波長６１０ｎｍ付近の可視光（赤色）も吸収され、可視光の透過率が低下し、かつディスプレイの赤色の純度が低下し、ディスプレイの画像の色の鮮やかさが失われるという問題がある。また、２価のＦｅの量を増やすと、ガラス自体の熱伝導率が低下することから、ガラス製造時にガラス内で温度分布が発生し、ガラス組成のムラやひずみが発生する問題がある。
逆に、２価のＦｅの量を少なくして波長６１０ｎｍ付近の光の透過率を高くした場合に、近赤外線領域、特に可視光領域と近接する８２０ｎｍ付近の光の透過率が高くなるという問題がある。 When the amount of divalent Fe is increased, visible light (red) in the vicinity of a wavelength of 610 nm is also absorbed, the visible light transmittance is decreased, the red purity of the display is decreased, and the vividness of the image on the display is reduced. There is a problem of being lost. Further, when the amount of divalent Fe is increased, the thermal conductivity of the glass itself is lowered, so that there is a problem that temperature distribution occurs in the glass during glass production, and unevenness or distortion of the glass composition occurs.
Conversely, when the amount of divalent Fe is reduced to increase the light transmittance near the wavelength of 610 nm, the light transmittance near 820 nm close to the near infrared region, particularly the visible light region, is increased. There is.

前記の問題点を解決するために、本発明は、可視光の透過率および赤色純度の低下を抑えつつ、近赤外線を充分に吸収できる近赤外線吸収ガラス、ディスプレイ用ガラス基板およびプラズマディスプレイ用保護板を提供する。 In order to solve the above-described problems, the present invention provides a near-infrared absorbing glass, a glass substrate for display, and a protective plate for plasma display that can sufficiently absorb near-infrared while suppressing a decrease in visible light transmittance and red purity. I will provide a.

本発明のプラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラスは、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｎａ、Ｆｅの各元素を含有する酸化物ガラスであり、
Ｓｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｎａ、Ｆｅのガラス中の含有量が、下記成分基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ_２：６５〜７５％、
Ａｌ_２Ｏ_３：０．８〜３％、
ＣａＯ：５〜１２％、
ＭｇＯ：０．２〜１０％、
Ｎａ_２Ｏ：１０〜２０％、
Ｆｅ_２Ｏ_３：０．５６〜１．５９％であり、
Ｆｅには２価のＦｅが含まれ、該２価のＦｅのガラス中の含有量が、ＦｅＯ基準の質量百分率表示で、０．３３〜０．４８％であり、
Ｆｅ元素全量のうちの２価のＦｅの割合が、４０〜６５モル％であることを特徴とする。 Near-infrared absorbing glass for plasma display of the present invention is an oxide glass containing each element of Si, Al, Ca, Mg, Na, Fe,
The content of Si, Al, Ca, Mg, Na, Fe in the glass is a mass percentage display based on the following components,
SiO _2: 65~75%,
Al ₂ O _3: 0.8~3%,
CaO: 5-12%,
MgO: 0.2 to 10%,
Na ₂ O: 10~20%,
Fe ₂ O ₃ : 0.56 to 1.59%,
Fe contains divalent Fe, and the content of the divalent Fe in the glass is 0.33 to 0.48% in terms of mass percentage based on FeO,
The proportion of divalent Fe in the total amount of Fe element is 40 to 65 mol%.

本発明のプラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラスにおける、波長６１０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ_６１０）と波長８２０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ_８２０）との比（Ｔ_６１０／Ｔ_８２０）は、３．０以上であることが好ましい。 In a plasma display for near-infrared-absorbing glass of the present invention, the ratio of the light transmittance of the wavelength of 610nm and _{(T 610)} the light transmittance of the wavelength of 820nm and _{_{_{(T 820) (T 610 /}}} T 820) is 3.0 The above is preferable.

本発明のプラズマディスプレイ用ガラス基板は、本発明のプラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラスからなることを特徴とする。
本発明のプラズマディスプレイ用ガラス基板は、波長６１０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ_６１０）は６０％以上であり、波長８２０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ_８２０）は２２％以下であることが好ましい。
本発明のプラズマディスプレイ用ガラス基板は、厚さが１〜１０ｍｍであることが好ましい。 The glass substrate for plasma display of the present invention is characterized by comprising the near infrared absorbing glass for plasma display of the present invention.
The glass substrate for plasma display of the present invention preferably has a light transmittance (T ₆₁₀ ) at a wavelength of 610 nm of 60% or more and a light transmittance (T ₈₂₀ ) at a wavelength of 820 nm of 22% or less.
The glass substrate for plasma display of the present invention preferably has a thickness of 1 to 10 mm.

本発明のプラズマディスプレイ用保護板は、本発明のプラズマディスプレイ用ガラス基板を備えたことを特徴とする。
本発明のプラズマディスプレイ用保護板は、ディスプレイ用ガラス基板のＰＤＰ側の面に、銀を主成分とする層を有する電磁波遮蔽膜が配置されたものであることが好ましい。 The protective plate for plasma display of the present invention is characterized by comprising the glass substrate for plasma display of the present invention.
The protective plate for plasma display of the present invention is preferably such that an electromagnetic wave shielding film having a layer mainly composed of silver is disposed on the surface of the glass substrate for display on the PDP side.

本発明の近赤外線吸収ガラス、ディスプレイ用ガラス基板およびプラズマディスプレイ用保護板によれば、可視光の透過率、特に赤色光の透過率の低下を抑えつつ、近赤外線を充分に吸収できる。 According to the near-infrared absorbing glass, the glass substrate for display, and the protective plate for plasma display of the present invention, near-infrared rays can be sufficiently absorbed while suppressing a decrease in visible light transmittance, particularly red light transmittance.

本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第１の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 1st Embodiment of the protection plate for plasma displays of this invention. 本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第２の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 2nd Embodiment of the protection plate for plasma displays of this invention. 本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第３の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 3rd Embodiment of the protection plate for plasma displays of this invention. 本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第４の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 4th Embodiment of the protection plate for plasma displays of this invention. 本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第５の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 5th Embodiment of the protective plate for plasma displays of this invention. 本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第６の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 6th Embodiment of the protection plate for plasma displays of this invention. 本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第７の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 7th Embodiment of the protective plate for plasma displays of this invention. 本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第８の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 8th Embodiment of the protective plate for plasma displays of this invention. 本発明のプラズマディスプレイ用保護板の第９の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 9th Embodiment of the protective plate for plasma displays of this invention. 例３６、例３７のプラズマディスプレイ用保護板の透過率を示すグラフである。42 is a graph showing the transmittance of the plasma display protection plate of Example 36 and Example 37. FIG.

＜プラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラス＞
本発明のプラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラス（以下、近赤外線吸収ガラスと記す。）は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｎａ、Ｆｅの各元素を含有する酸化物ガラスである。 <Near-infrared absorbing glass for plasma display>
The near-infrared absorbing glass for plasma display of the present invention (hereinafter referred to as near-infrared absorbing glass) is an oxide glass containing Si, Al, Ca, Mg, Na, and Fe elements.

Ｓｉのガラス中の含有量は、ＳｉＯ_２基準の質量百分率表示で、６５〜７５％であり、６７〜７３％が好ましく、６８〜７２％がより好ましい。以下、ＳｉＯ_２基準のＳｉ含有量を、ＳｉＯ_２含有量と記す。
ＳｉＯ_２含有量が６５％以上であれば、耐候性が良好となる。ＳｉＯ_２含有量が７５％以下であれば、粘性が低くなり、溶融性が良好となる。 The content of Si in the glass is 65 to 75% in terms of mass percentage based on SiO ₂ , preferably 67 to 73%, and more preferably 68 to 72%. Hereinafter, the SiO ₂ -based Si content is referred to as SiO ₂ content.
When the SiO ₂ content is 65% or more, the weather resistance is good. If SiO ₂ content of 75% or less, the viscosity is lowered, a good meltability.

Ａｌのガラス中の含有量は、Ａｌ_２Ｏ_３基準の質量百分率表示で、０．８〜３％であり、１．０〜２．４％が好ましく、１．２〜２．２％がより好ましい。以下、Ａｌ_２Ｏ_３基準のＡｌ含有量を、Ａｌ_２Ｏ_３含有量と記す。
Ａｌ_２Ｏ_３含有量が０．８％以上であれば、耐候性が良好となる。Ａｌ_２Ｏ_３含有量が３％以下であれば、粘性が低くなり、溶融性が良好となる。 The content of Al in the glass is expressed in terms of mass percentage based on Al ₂ O ₃ and is 0.8 to 3%, preferably 1.0 to 2.4%, more preferably 1.2 to 2.2%. preferable. Hereinafter, the Al content of _Al 2 _{O 3} basis, referred to as content of _Al 2 _{O 3.}
When the Al ₂ O ₃ content is 0.8% or more, the weather resistance is good. If the Al ₂ O ₃ content is 3% or less, the viscosity becomes low and the meltability becomes good.

Ｃａのガラス中の含有量は、ＣａＯ基準の質量百分率表示で、５〜１２％であり、６．５〜１１％が好ましく、７〜１０％がより好ましい。以下、ＣａＯ基準のＣａ含有量を、ＣａＯ含有量と記す。
ＣａＯ含有量が５％以上であれば、溶融性が良好となる。ＣａＯ含有量が１２％以下であれば、失透しにくくなり、フロート法でガラスに成形する際の安定性がよくなる。 The content of Ca in the glass is 5 to 12% in terms of mass percentage based on CaO, preferably 6.5 to 11%, and more preferably 7 to 10%. Hereinafter, the Ca content based on CaO is referred to as CaO content.
If the CaO content is 5% or more, the meltability will be good. If the CaO content is 12% or less, devitrification is difficult, and the stability when formed into glass by the float process is improved.

Ｍｇのガラス中の含有量は、ＭｇＯ基準の質量百分率表示で、０．２〜１０％であり、０．４〜９％が好ましく、１〜６％がより好ましい。以下、ＭｇＯ基準のＭｇ含有量を、ＭｇＯ含有量と記す。
ＭｇＯ含有量が０．２％以上であれば、溶融性が良好となる。ＭｇＯ含有量が１０％以下であれば、失透しにくくなり、フロート法でガラスに成形する際の安定性がよくなる。 The content of Mg in the glass is expressed as a mass percentage based on MgO, and is 0.2 to 10%, preferably 0.4 to 9%, and more preferably 1 to 6%. Hereinafter, the Mg content based on MgO is referred to as MgO content.
If the MgO content is 0.2% or more, the meltability will be good. If the MgO content is 10% or less, devitrification becomes difficult, and the stability at the time of forming into glass by the float process is improved.

また、Ｃａの含有量とＭｇの含有量については、これらの含有量の比率が２価のＦｅの吸光度に影響する。ＣａＯ含有量とＭｇＯ含有量との質量比（ＣａＯ／ＭｇＯ）が、小さければ小さいほど、２価のＦｅの波長６１０ｎｍにおける光の吸光度が下がり、波長８２０ｎｍにおける光の吸光度が上がる。すなわち、ＣａＯ／ＭｇＯが小さいほど、本発明の近赤外線吸収ガラスの波長６１０ｎｍにおける光の透過率を高くでき、波長８２０ｎｍにおける光の透過率を低くできる。そして、ＣａＯ／ＭｇＯは、３０以下であることが好ましく、０．８〜２．５がより好ましく、１．３〜１．８がさらに好ましい。ＣａＯ／ＭｇＯが３０以下であれば、２価のＦｅの量を増やして近赤外線吸収能を高めても、可視光の透過率の低下を抑えることができる。前記可視光の中でも特に赤色の波長領域（波長６１０ｎｍ付近）での光の透過率の低下を抑え、透過する光の赤色純度の低下を抑えることができる。ＣａＯ／ＭｇＯが０．８以上であれば、ガラスが失透しにくくなり、フロート法でガラスに成形する際の安定性がよくなる。 Moreover, about content of Ca and content of Mg, the ratio of these content influences the light absorbency of bivalent Fe. The smaller the mass ratio of CaO content to MgO content (CaO / MgO), the lower the light absorbance at a wavelength of 610 nm and the light absorbance at a wavelength of 820 nm. That is, the smaller the CaO / MgO, the higher the light transmittance at a wavelength of 610 nm of the near-infrared absorbing glass of the present invention, and the lower the light transmittance at a wavelength of 820 nm. And CaO / MgO is preferably 30 or less, more preferably 0.8 to 2.5, and still more preferably 1.3 to 1.8. If CaO / MgO is 30 or less, even if the amount of bivalent Fe is increased and the near-infrared absorptivity is improved, the fall of the transmittance | permeability of visible light can be suppressed. Among the visible light, it is possible to suppress a decrease in light transmittance particularly in a red wavelength region (a wavelength near 610 nm), and to suppress a decrease in red purity of transmitted light. If CaO / MgO is 0.8 or more, the glass is less likely to devitrify, and stability when formed into glass by the float process is improved.

Ｎａのガラス中の含有量は、Ｎａ_２Ｏ基準の質量百分率表示で、１０〜２０％であり、１１〜１８％が好ましく、１２〜１６％がより好ましい。以下、Ｎａ_２Ｏ基準のＮａ含有量をＮａ_２Ｏ含有量と記す。
Ｎａ_２Ｏ含有量が１０％以上であれば、溶融性が良好となる。Ｎａ_２Ｏ含有量が１０％以下であれば、耐候性が良好となる。 Content of Na in the glass is 10 to 20% in terms of mass percentage based on Na ₂ O, preferably 11 to 18%, and more preferably 12 to 16%. Hereinafter, the Na Na ₂ O content reference referred to as the content of Na ₂ O.
If the Na ₂ O content is 10% or more, the meltability will be good. When the Na ₂ O content is 10% or less, the weather resistance is good.

Ｆｅのガラス中の含有量は、Ｆｅ_２Ｏ_３基準の質量百分率表示で、０．５６〜１．５９％であり、０．６６〜１．０９％が好ましく、０．７０〜０．９０％がより好ましい。以下、Ｆｅ_２Ｏ_３基準のＦｅ含有量を、全Ｆｅ_２Ｏ_３含有量と記す。
全Ｆｅ_２Ｏ_３含有量が０．５６％以上であれば、近赤外線吸収能が充分に高くなる。全Ｆｅ_２Ｏ_３含有量が１．５９％以下であれば、可視光の透過率の低下が抑えられ、また溶融性が良好となる。 The content of Fe in the glass is expressed in terms of mass percentage based on Fe ₂ O ₃ , and is 0.56 to 1.59%, preferably 0.66 to 1.09%, and 0.70 to 0.90%. Is more preferable. Hereinafter, the Fe content based on Fe ₂ O ₃ is referred to as the total Fe ₂ O ₃ content.
If the total Fe ₂ O ₃ content is 0.56% or more, the near-infrared absorption ability is sufficiently high. If less 1.59% total Fe ₂ O ₃ content, decrease in transmittance of visible light is suppressed, also the melting property will be good.

Ｆｅのうち、近赤外線の吸収に特に有効な成分は、２価のＦｅ（Ｆｅ^２＋）である。
２価のＦｅのガラス中の含有量は、ＦｅＯ基準の質量百分率表示で、０．３３〜０．４８％であり、０．３５〜０．４５％が好ましく、０．３６〜０．４０％がより好ましい。以下、ＦｅＯ基準の２価のＦｅ含有量をＦｅＯ含有量と記す。
ＦｅＯ含有量を０．３３％以上とすることで必要な近赤外線吸収能を付与できる。また、ＦｅＯ含有量が０．４８％を超えると波長６１０ｎｍの光の吸収が大きくなりすぎるため、プラズマディスプレイの画像の赤色の純度が低下する不具合がある。また、ＦｅＯ含有量が０．４８％を超えると、ガラスの熱伝導率が低下する。このことからガラス製造時に、ガラス内で温度分布が発生し、その結果ガラスの組成にムラが発生する。そしてこの組成のムラが、ひずみ（リーム）となる不具合がある。 Among Fe, a particularly effective component for absorbing near infrared rays is divalent Fe (Fe ²⁺ ).
The content of divalent Fe in the glass is expressed in terms of mass percentage based on FeO, and is 0.33 to 0.48%, preferably 0.35 to 0.45%, and 0.36 to 0.40%. Is more preferable. Hereinafter, the FeO-based divalent Fe content is referred to as FeO content.
Necessary near-infrared absorbing ability can be imparted by setting the FeO content to 0.33% or more. Further, when the FeO content exceeds 0.48%, the absorption of light having a wavelength of 610 nm is excessively increased, so that the red purity of the plasma display image is lowered. On the other hand, if the FeO content exceeds 0.48%, the thermal conductivity of the glass decreases. For this reason, a temperature distribution is generated in the glass during glass production, and as a result, unevenness occurs in the composition of the glass. And this nonuniformity of composition has the fault which becomes distortion (ream).

Ｆｅ元素全量のうちの２価のＦｅの割合は、４０〜６５モル％であり、４５〜６０モル％が好ましく、５０〜５５モル％がより好ましい。以下、Ｆｅ元素全量のうちの２価のＦｅの割合を、Ｒｅｄｏｘと記す。
Ｒｅｄｏｘが４０モル％以上であれば、全Ｆｅ_２Ｏ_３含有量を抑えつつ、近赤外線吸収能を高めることができる。Ｒｅｄｏｘが６０モル％以下であれば、ガラス成形時の還元剤の量を減らすことができ、製造コストが抑えられる。 The proportion of divalent Fe in the total amount of Fe element is 40 to 65 mol%, preferably 45 to 60 mol%, and more preferably 50 to 55 mol%. Hereinafter, the proportion of divalent Fe in the total amount of Fe element is referred to as Redox.
If Redox is 40 mol% or more, while suppressing the total _Fe 2 _{O 3} content, it is possible to enhance the near infrared absorptivity. If Redox is 60 mol% or less, the quantity of the reducing agent at the time of glass forming can be reduced, and the manufacturing cost can be suppressed.

本発明の近赤外線吸収ガラスは、必要に応じて、他の元素（Ｋ、Ｌｉ、Ｔｉ、Ｃｅ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｂ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓ、Ｆ、Ｃｌ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｅ、Ｍｏ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｌａ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｗ、Ａｕ等。）を含んでいてもよい。 The near-infrared absorbing glass of the present invention may contain other elements (K, Li, Ti, Ce, Ba, Sr, B, Zn, Zr, Sn, S, F, Cl, V, Cr, Mn, as necessary. Co, Ni, Cu, Se, Mo, Ag, In, Te, La, Pr, Nd, Ho, Er, W, Au, etc.).

本発明の近赤外線吸収ガラスは、２価のＦｅの量を特定の範囲とすることで、波長６１０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ_６１０）を高く、かつ波長８２０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ_８２０）を低くできる。通常、２価のＦｅを含有させることで、波長８２０ｎｍの光を含む近赤外線領域の光の透過率を抑えることができるが、波長６１０ｎｍの光の透過率も低下させてしまう。これは、近赤外線領域の波長と、可視光領域のうち赤色の波長である６１０ｎｍとが近接していることで発生する問題である。しかし、２価のＦｅの量を特定の範囲とすることで、近赤外線領域の波長と可視光領域の波長の境界付近（近赤外線側である波長８２０ｎｍにおける光と可視光側である波長６１０ｎｍにおける光との間）での透過率の差を大きくできる。すなわち、近赤外線領域におけるＴ_８２０を低く、赤色の領域におけるＴ_６１０を高くできる。 The near-infrared absorbing glass of the present invention has a high light transmittance (T ₆₁₀ ) at a wavelength of 610 nm and a light transmittance (T ₈₂₀ ) at a wavelength of 820 nm by setting the amount of divalent Fe within a specific range. Can be lowered. Usually, by containing divalent Fe, the transmittance of light in the near infrared region including light having a wavelength of 820 nm can be suppressed, but the transmittance of light having a wavelength of 610 nm is also lowered. This is a problem that occurs when the wavelength in the near-infrared region is close to 610 nm, which is the red wavelength in the visible light region. However, by setting the amount of divalent Fe within a specific range, near the boundary between the wavelength in the near infrared region and the wavelength in the visible light region (light at a wavelength of 820 nm on the near infrared side and wavelength at 610 nm on the visible light side) The difference in transmittance between the light and the light can be increased. That is, a low _{T 820} in the near infrared region can increase the _{T 610} in the red region.

本発明の近赤外線吸収ガラスにおけるＴ_６１０／Ｔ_８２０は、３．０以上が好ましく、３．５以上がより好ましい。Ｔ_６１０／Ｔ_８２０が３．０以上であれば、近赤外線の吸収と可視光の透過および赤色純度とを、高いレベルで両立できる。Ｔ_６１０／Ｔ_８２０の値は、大きければ大きいほどよいが、製造の困難性の問題から上限値は８であることが好ましく、６であることがより好ましい。 _T610 / _T820 in the near-infrared absorbing glass of the present invention is preferably 3.0 or more, and more preferably 3.5 or more. If _T610 / _T820 is 3.0 or more, near infrared absorption, visible light transmission, and red purity can be achieved at a high level. The larger the value of T ₆₁₀ / T _820, the better. However, the upper limit is preferably 8 and more preferably 6 because of the difficulty of production.

本発明の近赤外線吸収ガラスは、たとえば、下記の工程（ａ）〜（ｄ）を経て製造される。
（ａ）各元素源、還元剤、清澄剤等を、目標とするガラス組成となるような割合にて混合してガラス原料を調製する。
（ｂ）該ガラス原料を溶融窯内に投入し、所定の温度にて溶融させ溶融ガラスとする。
（ｃ)該溶融ガラスを、フロート法等の公知の成形法により所定の厚さの板となるように成形する。
（ｄ）成形されたガラスリボンを徐冷した後、所定の大きさに切断し、板状のガラスを得る。 The near-infrared absorbing glass of the present invention is produced, for example, through the following steps (a) to (d).
(A) A glass raw material is prepared by mixing each element source, a reducing agent, a refining agent, and the like at a ratio that provides a target glass composition.
(B) The glass raw material is put into a melting furnace and melted at a predetermined temperature to obtain molten glass.
(C) The molten glass is formed into a plate having a predetermined thickness by a known forming method such as a float method.
(D) After slowly cooling the formed glass ribbon, it is cut into a predetermined size to obtain plate-like glass.

以上説明した本発明の近赤外線吸収ガラスにあっては、ガラス中のＣａＯ／ＭｇＯを適正範囲におさめているため、ガラス中の２価のＦｅの量を増やして近赤外線吸収能を高めても、可視光の透過率の低下および赤色純度の低下を抑えることができる。 In the near-infrared absorbing glass of the present invention described above, since CaO / MgO in the glass is kept in an appropriate range, even if the amount of divalent Fe in the glass is increased to increase the near-infrared absorbing ability. In addition, a decrease in visible light transmittance and a decrease in red purity can be suppressed.

本発明の近赤外線吸収ガラスは、近赤外線を吸収し、かつ波長６１０ｎｍの赤色の可視光の透過率を高くできることから、ディスプレイ用ガラス基板に用いることが好ましい。本発明の近赤外線吸収ガラスをディスプレイ用ガラス基板に用いると、ディスプレイの画像の赤色純度を高くできることから好ましい。ディスプレイの中でも特に、プラズマディスプレイは近赤外線を発生することから、プラズマディスプレイ用ガラス基板として用いると、近赤外線を吸収し、かつ画像の赤色純度を高くできるため好ましい。
以下、本発明の近赤外線吸収ガラスを、プラズマディスプレイ用ガラス基板として用いた例について説明する。 The near-infrared absorbing glass of the present invention preferably absorbs near-infrared light and can increase the transmittance of red visible light having a wavelength of 610 nm, and therefore is preferably used for a glass substrate for display. When the near-infrared absorbing glass of the present invention is used for a glass substrate for a display, it is preferable because the red purity of an image on the display can be increased. Among the displays, since a plasma display generates near infrared rays, it is preferable to use it as a glass substrate for plasma display because it absorbs near infrared rays and can increase the red purity of an image.
Hereinafter, the example which used the near-infrared absorption glass of this invention as a glass substrate for plasma displays is demonstrated.

＜プラズマディスプレイ用ガラス基板＞
本発明のプラズマディスプレイ用ガラス基板（以下、ガラス基板と記す。）は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるため、可視光の透過率、特に赤色光の透過率の低下を抑えつつ、近赤外線を充分に吸収できる。また、本発明のガラス基板は、ガラス中に赤外線吸収機能を有する成分を含んでいることから、熱、光、湿気等により近赤外線吸収機能がほとんど劣化しない。 <Glass substrate for plasma display>
Since the glass substrate for plasma display of the present invention (hereinafter referred to as a glass substrate) comprises the near-infrared absorbing glass of the present invention, the near-infrared light is suppressed while suppressing a decrease in the transmittance of visible light, particularly the transmittance of red light. Can be absorbed sufficiently. Moreover, since the glass substrate of this invention contains the component which has an infrared absorption function in glass, a near-infrared absorption function hardly deteriorates with a heat | fever, light, moisture, etc.

本発明のガラス基板の厚さは、１〜１０ｍｍであることが好ましく、２〜５ｍｍであることがより好ましい。厚さが１ｍｍ以上であれば、物理的な強度が充分である。また、厚さが１ｍｍ以上であることで、単位面積あたりの２価のＦｅ量を充分な量とすることができるため、近赤外線吸収能が充分なものとなる。また、厚さを１０ｍｍ以下とすることで、ガラス基板が重くなりすぎず実用性に優れる。また、厚さが１０ｍｍ以下であることで、単位面積あたりの２価のＦｅ量が適度な量となるため、赤色光の透過が充分なものとなる。 The thickness of the glass substrate of the present invention is preferably 1 to 10 mm, and more preferably 2 to 5 mm. If the thickness is 1 mm or more, the physical strength is sufficient. Moreover, since the amount of bivalent Fe per unit area can be made into sufficient quantity because thickness is 1 mm or more, near-infrared absorptivity becomes sufficient. Moreover, by making the thickness 10 mm or less, the glass substrate does not become too heavy and is excellent in practicality. Further, when the thickness is 10 mm or less, the amount of divalent Fe per unit area becomes an appropriate amount, so that red light is sufficiently transmitted.

本発明のガラス基板におけるＴ_８２０は、２２％以下が好ましく、２０％以下がより好ましく、１７％以下がさらに好ましい。本発明のガラス基板のＴ_８２０が２２％以下であると、ＰＤＰから発生する近赤外線を充分に遮蔽できる。近赤外線を２２％超透過させると、近赤外線により通信しているリモコンの誤動作が発生する等の不具合がある。 _T820 in the glass substrate of the present invention is preferably 22% or less, more preferably 20% or less, and even more preferably 17% or less. If _{T 820} of the glass substrate of the present invention is less than 22%, it can be sufficiently shielded near infrared rays generated from the PDP. If the near-infrared light is transmitted more than 22%, there is a malfunction such as a malfunction of a remote controller communicating with the near-infrared light.

本発明のガラス基板におけるＴ_６１０は、６０％以上が好ましく、６３％以上がより好ましく、６５％以上がさらに好ましい。本発明のガラス基板のＴ_６１０が、６０％以上であることで、赤色光の透過を十分なものとすることができるため、画像全体の明るさを落とすことなくプラズマディスプレイの画像の赤色を充分表示できる。 _{T 610} in the glass substrate of the present invention is preferably 60% or more, more preferably at least 63%, more preferably 65% or more. T ₆₁₀ of the glass substrate of the present invention, it is 60% or more, it is possible to the transmission of red light with sufficient, the red plasma display image without reducing the overall brightness of sufficient Can be displayed.

本発明のガラス基板におけるＴ_６１０／Ｔ_８２０は、３．０以上が好ましく、３．５以上がより好ましい。Ｔ_６１０／Ｔ_８２０が３．０以上であれば、近赤外線の吸収と可視光の透過および赤色純度とを、高いレベルで両立できる。Ｔ_６１０／Ｔ_８２０の値は、大きければ大きいほどよいが、製造の困難性の問題から上限値は８であることが好ましく、６であることがより好ましい。 _T610 / _T820 in the glass substrate of the present invention is preferably 3.0 or more, and more preferably 3.5 or more. If _T610 / _T820 is 3.0 or more, near infrared absorption, visible light transmission, and red purity can be achieved at a high level. The larger the value of T ₆₁₀ / T _820, the better. However, the upper limit is preferably 8 and more preferably 6 because of the difficulty of production.

本発明のガラス基板は、プラズマディスプレイ用保護板のガラス基板、ＰＤＰ本体の前面ガラス基板、広告用途等のために外部環境におかれ、太陽光等の熱線を遮断し、プラズマディスプレイの温度上昇を防ぐことが可能な保護板等として用いることができる。
以下、本発明のガラス基板を、プラズマディスプレイ用保護板のガラス基板として用いた例について説明する。 The glass substrate of the present invention is placed in an external environment for plasma display protective plate glass substrate, PDP front glass substrate, advertising use, etc., blocking heat rays such as sunlight, and increasing the temperature of the plasma display. It can be used as a protective plate that can be prevented.
Hereinafter, the example which used the glass substrate of this invention as a glass substrate of the protection plate for plasma displays is demonstrated.

＜プラズマディスプレイ用保護板＞
本発明のプラズマディスプレイ用保護板（以下、保護板と記す。）は、本発明のガラス基板を備えたものである。 <Protective plate for plasma display>
The protective plate for plasma display of the present invention (hereinafter referred to as protective plate) comprises the glass substrate of the present invention.

本発明の保護板においては、ガラス基板そのものが近赤外線吸収機能を有する。ガラス中に近赤外線吸収機能を有する成分を含んでいることから、本発明の保護板は、熱、光、湿気等により近赤外線吸収機能がほとんど劣化しない。すなわち、たとえば有機染料を含む樹脂層を積層することにより近赤外線吸収機能が付与された場合に比べて、耐候性等の耐久性に優れる。また、本発明のガラス基板は優れた近赤外線吸収機能を有すると同時に、波長６１０ｎｍの赤色光の透過にも優れる。以上のことから、本発明の保護板は、近赤外線遮吸収能、赤色光透過性および耐久性の全てを同時に満たすことができる。保護板は、近赤外線吸収機能だけでなく、電磁波遮蔽機能、反射防止機能、色調補正機能等の機能を有することが好ましい。 In the protective plate of the present invention, the glass substrate itself has a near infrared absorption function. Since the glass has a component having a near-infrared absorbing function, the protective plate of the present invention hardly deteriorates in the near-infrared absorbing function due to heat, light, moisture and the like. That is, for example, durability such as weather resistance is excellent as compared with a case where a near-infrared absorbing function is provided by laminating a resin layer containing an organic dye. In addition, the glass substrate of the present invention has an excellent near-infrared absorption function, and at the same time, is excellent in transmission of red light having a wavelength of 610 nm. From the above, the protective plate of the present invention can satisfy all of the near-infrared shielding ability, red light transmittance and durability at the same time. The protective plate preferably has not only a near-infrared absorbing function but also functions such as an electromagnetic wave shielding function, an antireflection function, and a color tone correction function.

保護板としては、ＰＤＰ側の面に、銀を主成分とする層（以下、銀層と記す。）を有する電磁波遮蔽膜が配置された保護板が好ましく挙げられる（たとえば、後述の図７、図８の構成の保護板）。前記の構成の保護板においては、ＰＤＰ側から、電磁波遮蔽膜、ガラス基板がこの順に配置される。この構成の保護板がＰＤＰの視認側に装着された場合、ＰＤＰ側から入射した外光の一部は、電磁波遮蔽膜において反射する。電磁波遮蔽膜に銀層が含まれる場合、その反射光が赤色光（６５０ｎｍ付近の不要な赤色光）を多く含むおそれがあり、プラズマディスプレイの外観を損ねるという問題があった。しかし、本発明の保護板の構成においては、電磁波遮蔽膜よりも視認側に本発明のガラス基板が配置されている。本発明のガラス基板は、波長６１０ｎｍにおける光の透過率は高いが、そこから長波長になるにしたがって急峻に透過率が下がり、波長６５０ｎｍにおける光の吸収は大きくなる。したがって、電磁波遮蔽膜で反射された波長６５０ｎｍの光の多くは、本発明のガラス基板において吸収される。したがって、視聴者にはその一部しか到達しないため、反射色の赤色が低減されるという効果を奏する。特に、銀層を有する電磁波遮蔽膜が、高屈折率の金属酸化物層と銀層とがこの順に（２ｎ＋１）層積層された膜である場合、ｎが小さい、具体的にはｎ＝１〜３であるときには、電磁波遮蔽性能を充分なものとするために、銀層１層あたりの厚さを厚くする必要がある。銀層１層あたりの厚さが厚くなると、波長６５０ｎｍの光の反射量がより多くなる傾向があるが、前記の保護板の構成であれば、ｎが１〜３であっても、電磁波遮蔽膜における波長６５０ｎｍの反射光をガラス基板が吸収できるため、本発明の保護板の反射色が赤くなるという外観不良を低減できる。 As the protective plate, a protective plate in which an electromagnetic wave shielding film having a layer containing silver as a main component (hereinafter referred to as a silver layer) is disposed on the surface on the PDP side is preferably exemplified (for example, FIG. FIG. 8 shows a protective plate having the structure of FIG. In the protective plate having the above-described configuration, the electromagnetic wave shielding film and the glass substrate are arranged in this order from the PDP side. When the protective plate having this configuration is mounted on the viewing side of the PDP, a part of the external light incident from the PDP side is reflected by the electromagnetic wave shielding film. When the electromagnetic wave shielding film includes a silver layer, the reflected light may contain a lot of red light (unnecessary red light near 650 nm), and there is a problem that the appearance of the plasma display is impaired. However, in the structure of the protective plate of this invention, the glass substrate of this invention is arrange | positioned on the visual recognition side rather than the electromagnetic wave shielding film. The glass substrate of the present invention has a high light transmittance at a wavelength of 610 nm, but the transmittance sharply decreases as the wavelength becomes longer from there, and the light absorption at a wavelength of 650 nm increases. Therefore, most of the light having a wavelength of 650 nm reflected by the electromagnetic wave shielding film is absorbed by the glass substrate of the present invention. Therefore, since only a part of the viewer reaches the viewer, the red color of the reflected color is reduced. In particular, when the electromagnetic wave shielding film having a silver layer is a film in which (2n + 1) layers of a metal oxide layer and a silver layer having a high refractive index are laminated in this order, n is small, specifically, n = 1 to 1. When it is 3, it is necessary to increase the thickness per silver layer in order to obtain sufficient electromagnetic wave shielding performance. When the thickness per silver layer increases, the amount of reflection of light having a wavelength of 650 nm tends to increase. However, with the configuration of the protective plate, even if n is 1 to 3, electromagnetic wave shielding Since the glass substrate can absorb the reflected light having a wavelength of 650 nm in the film, it is possible to reduce the appearance defect that the reflection color of the protective plate of the present invention becomes red.

以下の第１〜第９の実施形態においては、低反射層が形成された側が視認側であり、その反対側がＰＤＰ側となる。 In the following first to ninth embodiments, the side on which the low reflection layer is formed is the viewing side, and the opposite side is the PDP side.

（第１の実施形態）
図１に、第１の実施形態の保護板を示す。保護板１は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面に透明粘着剤層１２を介して貼り合わされた電磁波遮蔽フィルム１４と、電磁波遮蔽フィルム１４の表面（ただし、該表面の周縁部を除く。）に着色粘着剤層１６を介して貼り合わされた低反射フィルム１８と、電磁波遮蔽フィルム１４の表面の周縁部、保護板１の周側面およびガラス基板１０の裏面の周縁部に導電性粘着剤層２０を介して貼り合わされた金属箔２２とを有するものである。 (First embodiment)
FIG. 1 shows a protective plate according to the first embodiment. The protective plate 1 includes a glass substrate 10 made of the near-infrared absorbing glass of the present invention, an electromagnetic wave shielding film 14 bonded to the surface of the glass substrate 10 via a transparent adhesive layer 12, and the surface of the electromagnetic wave shielding film 14 (however, The low reflection film 18 bonded to the surface of the electromagnetic wave shielding film 14, the peripheral edge portion of the surface of the electromagnetic wave shielding film 14, the peripheral side surface of the protective plate 1, and the back surface of the glass substrate 10. And the metal foil 22 bonded to the peripheral edge portion of the adhesive via the conductive adhesive layer 20.

透明粘着剤層１２は、透明粘着剤からなる層である。透明粘着剤層１２は、紫外線遮蔽能を有していてもよい。粘着剤としては、市販されている粘着剤が挙げられる。たとえば、アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、酢酸ビニル共重合体、スチレン−アクリル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、スチレン−ブタジエン共重合体系ゴム、ブチルゴム、シリコーン樹脂等の粘着剤が挙げられる。粘着剤には、紫外線吸収剤が配合されていてもよい。 The transparent adhesive layer 12 is a layer made of a transparent adhesive. The transparent adhesive layer 12 may have an ultraviolet shielding ability. Examples of the adhesive include commercially available adhesives. For example, acrylic ester copolymer, polyvinyl chloride, epoxy resin, polyurethane, vinyl acetate copolymer, styrene-acrylic copolymer, polyester, polyamide, polyolefin, styrene-butadiene copolymer rubber, butyl rubber, silicone resin, etc. The pressure-sensitive adhesive can be mentioned. The adhesive may contain an ultraviolet absorber.

電磁波遮蔽フィルム１４は、樹脂フィルム２４の表面に銅からなる導電性メッシュ層２６を形成したものであり、電磁波遮蔽能を有する。導電性メッシュ層２６は、たとえば、樹脂フィルム２４の表面に銅箔を貼り合わせた後、メッシュ状に加工することにより形成される。樹脂フィルム２４としては、ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと記す。）フィルム等が挙げられる。 The electromagnetic wave shielding film 14 is obtained by forming a conductive mesh layer 26 made of copper on the surface of a resin film 24 and has an electromagnetic wave shielding ability. The conductive mesh layer 26 is formed, for example, by bonding a copper foil to the surface of the resin film 24 and then processing it into a mesh shape. Examples of the resin film 24 include a polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as PET) film.

着色粘着剤層１６は、色調補正能を有する粘着剤からなる層である。透明粘着剤層が紫外線遮蔽能を有さない場合、着色粘着剤層１６は、さらに紫外線遮蔽能を有する。粘着剤としては、市販されている粘着剤が挙げられる。粘着剤には、着色剤が配合され、さらに紫外線吸収剤が配合されていてもよい。 The colored adhesive layer 16 is a layer made of an adhesive having color tone correction ability. When the transparent pressure-sensitive adhesive layer does not have ultraviolet shielding ability, the colored pressure-sensitive adhesive layer 16 further has ultraviolet shielding ability. Examples of the adhesive include commercially available adhesives. The pressure-sensitive adhesive may contain a colorant and may further contain an ultraviolet absorber.

低反射フィルム１８は、樹脂フィルム２８の表面に低反射層３０を形成したものであり、反射抑制能を有する。低反射層３０としては、スパッタリング法またはウエットコーティング法によって形成された、ＳｉＯ_２、含フッ素樹脂等の低屈折率の材料からなる膜等が挙げられる。樹脂フィルム２４としては、ＰＥＴフィルム等が挙げられる。 The low reflection film 18 is obtained by forming the low reflection layer 30 on the surface of the resin film 28 and has a reflection suppressing ability. Examples of the low reflection layer 30 include a film made of a low refractive index material such as SiO ₂ or a fluorine-containing resin, formed by a sputtering method or a wet coating method. An example of the resin film 24 is a PET film.

導電性粘着剤層２０は、導電性フィラー（ニッケル粉、銀粉、銅粉、カーボン粉等。）または導電性高分子を含む粘着剤からなる層である。粘着剤としては、市販されている粘着剤が挙げられる。
金属箔２２としては、アルミニウム箔、銅箔等が挙げられる。 The conductive adhesive layer 20 is a layer made of an adhesive containing a conductive filler (nickel powder, silver powder, copper powder, carbon powder, etc.) or a conductive polymer. Examples of the adhesive include commercially available adhesives.
Examples of the metal foil 22 include aluminum foil and copper foil.

（第２の実施形態）
図２に、第２の実施形態の保護板を示す。保護板２は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面に着色粘着剤層１６を介して貼り合わされた低反射フィルム１８と、ガラス基板１０の裏面に透明粘着剤層１２を介して貼り合わされた電磁波遮蔽フィルム１４と、電磁波遮蔽フィルム１４の表面（ただし、該表面の周縁部を除く。）に透明粘着剤層３２を介して貼り合わされた樹脂フィルム３４とを有するものである。
なお、第２の実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については図１と同じ符号を付して説明を省略する。 (Second Embodiment)
FIG. 2 shows a protective plate according to the second embodiment. The protective plate 2 includes a glass substrate 10 made of the near-infrared absorbing glass of the present invention, a low reflection film 18 bonded to the surface of the glass substrate 10 via a colored adhesive layer 16, and a transparent adhesive on the back surface of the glass substrate 10. The electromagnetic wave shielding film 14 bonded via the agent layer 12 and the resin film 34 bonded via the transparent adhesive layer 32 to the surface of the electromagnetic wave shielding film 14 (excluding the peripheral portion of the surface). I have it.
Note that in the second embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals as those in FIG. 1 and description thereof is omitted.

透明粘着剤層３２は、透明粘着剤からなる層である。透明粘着剤層３２は、紫外線吸収能を有していてもよい。粘着剤としては、市販されている粘着剤が挙げられる。粘着剤には、紫外線吸収剤が配合されていてもよい。
樹脂フィルム３４としては、ＰＥＴフィルム等が挙げられる。 The transparent adhesive layer 32 is a layer made of a transparent adhesive. The transparent adhesive layer 32 may have an ultraviolet absorbing ability. Examples of the adhesive include commercially available adhesives. The adhesive may contain an ultraviolet absorber.
An example of the resin film 34 is a PET film.

（第３の実施形態）
図３に、第３の実施形態の保護板を示す。保護板３は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面に着色粘着剤層１６を介して貼り合わされた低反射フィルム１８と、ガラス基板１０の裏面に透明粘着剤層１２を介して貼り合わされた電磁波遮蔽フィルム３６とを有するものである。
なお、第３の実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については図１と同じ符号を付して説明を省略する。 (Third embodiment)
FIG. 3 shows a protection plate according to the third embodiment. The protective plate 3 includes a glass substrate 10 made of the near-infrared absorbing glass of the present invention, a low reflection film 18 bonded to the surface of the glass substrate 10 via a colored adhesive layer 16, and a transparent adhesive on the back surface of the glass substrate 10. It has the electromagnetic wave shielding film 36 bonded through the agent layer 12.
Note that in the third embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals as in FIG. 1 and description thereof is omitted.

電磁波遮蔽フィルム３６は、樹脂フィルム３８の表面に銀からなる導電性メッシュ層４０を形成したものであり、電磁波遮蔽能を有する。導電性メッシュ層４０は、たとえば、樹脂フィルム３８の表面に、銀ペーストをメッシュ状に印刷し、銀ペーストを焼成することにより形成される。樹脂フィルム３８としては、ＰＥＴフィルム等が挙げられる。 The electromagnetic wave shielding film 36 is obtained by forming a conductive mesh layer 40 made of silver on the surface of the resin film 38 and has an electromagnetic wave shielding ability. The conductive mesh layer 40 is formed, for example, by printing a silver paste in a mesh shape on the surface of the resin film 38 and baking the silver paste. An example of the resin film 38 is a PET film.

（第４の実施形態）
図４に、第４の実施形態の保護板を示す。保護板４は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面に形成された低反射層４２と、ガラス基板１０の裏面に着色粘着剤層４４を介して貼り合わされた電磁波遮蔽フィルム３６とを有するものである。
なお、第４の実施形態において、第１の実施形態および第３の実施形態と同じ構成については図１、図３と同じ符号を付して説明を省略する。 (Fourth embodiment)
FIG. 4 shows a protection plate according to the fourth embodiment. The protective plate 4 is bonded to the glass substrate 10 made of the near-infrared absorbing glass of the present invention, the low reflection layer 42 formed on the surface of the glass substrate 10, and the back surface of the glass substrate 10 via the colored adhesive layer 44. And an electromagnetic wave shielding film 36.
Note that in the fourth embodiment, identical symbols are assigned to the same configurations as those in the first embodiment and third embodiment, and description thereof is omitted.

低反射層４２は、ガラス基板１０の表面に直接形成されたものであり、反射抑制能を有する。低反射層３０としては、スパッタリング法またはウエットコーティング法によって形成されたＳｉＯ_２等の低屈折率の材料からなる膜等が挙げられる。 The low reflection layer 42 is formed directly on the surface of the glass substrate 10 and has a reflection suppressing ability. Examples of the low reflection layer 30 include a film made of a material having a low refractive index such as SiO ₂ formed by a sputtering method or a wet coating method.

着色粘着剤層４４は、色調補正機能と紫外線遮蔽機能とを併せ持つ粘着剤からなる層である。粘着剤としては、市販されている粘着剤が挙げられる。粘着剤には、着色剤、紫外線吸収剤が配合される。 The colored adhesive layer 44 is a layer made of an adhesive having both a color tone correcting function and an ultraviolet shielding function. Examples of the adhesive include commercially available adhesives. A colorant and an ultraviolet absorber are blended in the adhesive.

（第５の実施形態）
図５に、第５の実施形態の保護板を示す。保護板５は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面に形成された導電性メッシュ層４６と、導電性メッシュ層４６の表面（ただし、該表面の周縁部を除く。）に着色粘着剤層４４を介して貼り合わされた低反射フィルム１８と、導電性メッシュ層４６の表面の周縁部、保護板１の周側面およびガラス基板１０の裏面の周縁部に導電性粘着剤層２０を介して貼り合わされた金属箔２２とを有するものである。
なお、第５の実施形態において、第１の実施形態および第４の実施形態と同じ構成については図１、図４と同じ符号を付して説明を省略する。 (Fifth embodiment)
FIG. 5 shows a protective plate of the fifth embodiment. The protective plate 5 includes a glass substrate 10 made of the near-infrared absorbing glass of the present invention, a conductive mesh layer 46 formed on the surface of the glass substrate 10, and a surface of the conductive mesh layer 46 (however, a peripheral portion of the surface) The conductive film layer is electrically conductive to the peripheral portion of the surface of the conductive mesh layer 46, the peripheral side surface of the protective plate 1, and the peripheral portion of the back surface of the glass substrate 10. And the metal foil 22 bonded through the adhesive layer 20.
Note that in the fifth embodiment, identical symbols are assigned to the same configurations as those in the first embodiment and fourth embodiment, and description thereof is omitted.

導電性メッシュ層４６は、ガラス基板１０の表面に直接形成されたものであり、電磁波遮蔽能を有する。導電性メッシュ層４６は、たとえば、ガラス基板１０の表面に、銅ペーストをメッシュ状に印刷し、銅ペーストを焼成することにより形成される。 The conductive mesh layer 46 is directly formed on the surface of the glass substrate 10 and has electromagnetic wave shielding ability. The conductive mesh layer 46 is formed, for example, by printing a copper paste in a mesh shape on the surface of the glass substrate 10 and firing the copper paste.

（第６の実施形態）
図６に、第６の実施形態の保護板を示す。保護板６は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面に透明粘着剤層１２を介して貼り合わされた電磁波遮蔽フィルム４８と、電磁波遮蔽フィルム４８の表面（ただし、該表面の周縁部を除く。）に着色粘着剤層１６を介して貼り合わされた低反射フィルム１８と、電磁波遮蔽フィルム４８の表面の周縁部、保護板１の周側面およびガラス基板１０の裏面の周縁部に導電性粘着剤層２０を介して貼り合わされた金属箔２２とを有するものである。
なお、第５の実施形態において、第１の実施形態と同じ構成については図１と同じ符号を付して説明を省略する。 (Sixth embodiment)
FIG. 6 shows a protection plate of the sixth embodiment. The protective plate 6 includes a glass substrate 10 made of the near-infrared absorbing glass of the present invention, an electromagnetic wave shielding film 48 bonded to the surface of the glass substrate 10 via the transparent adhesive layer 12, and the surface of the electromagnetic wave shielding film 48 (however, , Excluding the peripheral portion of the surface) through the colored adhesive layer 16, the peripheral portion of the surface of the electromagnetic shielding film 48, the peripheral side surface of the protective plate 1, and the back surface of the glass substrate 10. And the metal foil 22 bonded to the peripheral edge portion of the adhesive via the conductive adhesive layer 20.
Note that in the fifth embodiment, identical symbols are assigned to the same configurations as in the first embodiment and descriptions thereof are omitted.

電磁波遮蔽フィルム４８は、樹脂フィルム５０の表面にスパッタリング法で透明導電層５２を形成したものであり、電磁波遮蔽能を有する。透明導電層５２としては、低抵抗タイプおよび高抵抗タイプが挙げられる。 The electromagnetic shielding film 48 is obtained by forming the transparent conductive layer 52 on the surface of the resin film 50 by a sputtering method, and has an electromagnetic shielding ability. Examples of the transparent conductive layer 52 include a low resistance type and a high resistance type.

低抵抗タイプの透明導電層（シート抵抗：２Ω／□以下）は、電磁波遮蔽機能と近赤外線遮蔽能とを併せ持つものであり、たとえば、金属酸化物層（ＩｎとＳｎとの酸化物、ＴｉとＺｎとの酸化物、ＡｌとＺｎとの酸化物、Ｎｂの酸化物等。）と、金属層（Ａｇ、Ａｇ合金等。）とをスパッタリング法にて交互に形成し、金属層の数がｎであり、金属酸化物層の数がｎ＋１（ただし、ｎは１以上の整数である。）である積層膜である。低抵抗タイプの透明導電層は、一般的に近赤外線遮蔽能が高いが、本発明の近赤外線吸収ガラスと併用することで、より高度に近赤外線吸収能を高めることができる。なお。低抵抗タイプの透明導電層は、ＰＤＰからの電磁波の不要輻射レベルが高い場合に用いることが好ましい。 The low resistance type transparent conductive layer (sheet resistance: 2Ω / □ or less) has both an electromagnetic wave shielding function and a near infrared shielding function. For example, a metal oxide layer (an oxide of In and Sn, Ti and Zn oxide, Al and Zn oxide, Nb oxide, etc.) and metal layers (Ag, Ag alloy, etc.) are alternately formed by sputtering, and the number of metal layers is n. And the number of metal oxide layers is n + 1 (where n is an integer of 1 or more). The low-resistance type transparent conductive layer generally has a high near-infrared shielding ability, but the near-infrared absorption ability can be enhanced to a higher degree by using it together with the near-infrared absorbing glass of the present invention. Note that. The low resistance type transparent conductive layer is preferably used when the unnecessary radiation level of electromagnetic waves from the PDP is high.

高抵抗タイプの透明導電層（シート抵抗：２Ω／□超）は、低抵抗タイプに比べ電磁波遮蔽能および近赤外線遮蔽能が劣るが、簡便に、かつ低コストで形成できるものであり、たとえば、Ｚｎの酸化物層と、金属層（Ａｇ、Ａｇ合金等。）とをスパッタリング法にて交互に形成し、金属層の数が２であり、金属酸化物層の数が３である積層膜、またはＣＶＤ法で形成されたＳｎの酸化物層からなる単層膜である。高抵抗タイプの透明導電層と本発明の近赤外線吸収ガラスとを併用することで、保護板の近赤外線吸収能は、プラズマディスプレイ用として充分なレベルとすることができる。なお、高抵抗タイプの透明導電層は、ＰＤＰからの電磁波の不要輻射レベルが低い場合に用いることが好ましい。
樹脂フィルム５０としては、ＰＥＴフィルム等が挙げられる。 The high resistance type transparent conductive layer (sheet resistance: more than 2Ω / □) is inferior in electromagnetic wave shielding ability and near infrared ray shielding ability compared to the low resistance type, but can be formed easily and at low cost. A laminated film in which Zn oxide layers and metal layers (Ag, Ag alloy, etc.) are alternately formed by sputtering, the number of metal layers is 2, and the number of metal oxide layers is 3, Alternatively, it is a single layer film made of an Sn oxide layer formed by a CVD method. By using the high-resistance type transparent conductive layer in combination with the near-infrared absorbing glass of the present invention, the near-infrared absorbing ability of the protective plate can be set to a sufficient level for a plasma display. The high resistance type transparent conductive layer is preferably used when the unnecessary radiation level of the electromagnetic wave from the PDP is low.
Examples of the resin film 50 include a PET film.

（第７の実施形態）
図７に、第７の実施形態の保護板を示す。保護板７は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面に着色粘着剤層１６を介して貼り合わされた低反射フィルム１８と、ガラス基板１０の裏面に透明粘着剤層１２を介して貼り合わされた電磁波遮蔽フィルム４８と、電磁波遮蔽フィルム４８の表面（ただし、該表面の周縁部を除く。）に透明粘着剤層３２を介して貼り合わされた樹脂フィルム３４とを有するものである。
なお、第７の実施形態において、第１の実施形態、第２の実施形態および第６の実施形態と同じ構成については図１、図２、図７と同じ符号を付して説明を省略する。 (Seventh embodiment)
FIG. 7 shows a protective plate according to the seventh embodiment. The protective plate 7 includes a glass substrate 10 made of the near-infrared absorbing glass of the present invention, a low reflective film 18 bonded to the surface of the glass substrate 10 via a colored adhesive layer 16, and a transparent adhesive on the back surface of the glass substrate 10. An electromagnetic wave shielding film 48 bonded via the adhesive layer 12, and a resin film 34 bonded via the transparent adhesive layer 32 to the surface of the electromagnetic wave shielding film 48 (excluding the peripheral portion of the surface). I have it.
Note that in the seventh embodiment, identical symbols are assigned to the same configurations as those in the first embodiment, second embodiment, and sixth embodiment, and description thereof is omitted. .

（第８の実施形態）
図８に、第８の実施形態の保護板を示す。保護板８は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面に形成された低反射層４２と、ガラス基板１０の裏面に着色粘着剤層４４を介して貼り合わされた電磁波遮蔽フィルム４８とを有するものである。
なお、第８の実施形態において、第１の実施形態、第４の実施形態および第６の実施形態と同じ構成については図１、図４、図７と同じ符号を付して説明を省略する。 (Eighth embodiment)
FIG. 8 shows a protective plate according to the eighth embodiment. The protective plate 8 is bonded to the glass substrate 10 made of the near-infrared absorbing glass of the present invention, the low reflection layer 42 formed on the surface of the glass substrate 10, and the back surface of the glass substrate 10 via the colored adhesive layer 44. And an electromagnetic wave shielding film 48.
Note that in the eighth embodiment, identical symbols are assigned to the same configurations as those in the first embodiment, fourth embodiment, and sixth embodiment, and descriptions thereof are omitted. .

（第９の実施形態）
図９に、第９の実施形態の保護板を示す。保護板９は、本発明の近赤外線吸収ガラスからなるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面に形成された透明導電層５４と、透明導電層５４の表面（ただし、該表面の周縁部を除く。）に着色粘着剤層４４を介して貼り合わされた低反射フィルム１８と、透明導電層５４の表面の周縁部、保護板１の周側面およびガラス基板１０の裏面の周縁部に導電性粘着剤層２０を介して貼り合わされた金属箔２２とを有するものである。
なお、第９の実施形態において、第１の実施形態および第５の実施形態と同じ構成については図１、図５と同じ符号を付して説明を省略する。 (Ninth embodiment)
FIG. 9 shows a protection plate according to the ninth embodiment. The protective plate 9 includes a glass substrate 10 made of the near-infrared absorbing glass of the present invention, a transparent conductive layer 54 formed on the surface of the glass substrate 10, and a surface of the transparent conductive layer 54 (excluding the peripheral portion of the surface). The conductive adhesive is applied to the peripheral portion of the surface of the transparent conductive layer 54, the peripheral side surface of the protective plate 1, and the peripheral portion of the back surface of the glass substrate 10 with the low-reflection film 18 bonded through the colored adhesive layer 44. And a metal foil 22 bonded through a layer 20.
Note that in the ninth embodiment, identical symbols are assigned to the same configurations as in the first embodiment and fifth embodiment, and descriptions thereof are omitted.

透明導電層５４は、ガラス基板１０の表面に直接形成されたものであり、電磁波遮蔽能を有する。透明導電層５４としては、上述した透明導電層５２と同様に、低抵抗タイプおよび高抵抗タイプが挙げられる。 The transparent conductive layer 54 is formed directly on the surface of the glass substrate 10 and has electromagnetic wave shielding ability. Examples of the transparent conductive layer 54 include a low resistance type and a high resistance type, similar to the transparent conductive layer 52 described above.

以上説明した本発明の保護板にあっては、本発明の近赤外線吸収ガラスをガラス基板として用いているため、可視光の透過率および赤色純度の低下を抑えつつ、近赤外線を充分に吸収できる。したがって、本発明の保護板は、ＰＤＰより発せられる不要な近赤外線を充分に遮蔽でき、かつＰＤＰからの可視光、特には赤色の光を充分高く透過でき、プラズマディスプレイの画像における赤色の純度を高くできる。したがって、プラズマディスプレイに表示される画像を、きれいな画像とすることができる。 In the protective plate of the present invention described above, since the near-infrared absorbing glass of the present invention is used as a glass substrate, it is possible to sufficiently absorb near-infrared while suppressing a decrease in visible light transmittance and red purity. . Therefore, the protective plate of the present invention can sufficiently shield unnecessary near infrared rays emitted from the PDP, and can transmit visible light from the PDP, in particular, red light sufficiently high, and can improve the purity of red in the image of the plasma display. Can be high. Therefore, the image displayed on the plasma display can be a beautiful image.

以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されない。
例１〜１２、１４、１５、１７、１８、２０、２２、２３、２５〜３０、３４、３６は実施例であり、例１３、１６、１９、２１、２４、３１〜３３、３５、３７は比較例である。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
Examples 1-12, 14, 15, 17, 18, 20, 22, 23, 25-30, 34, 36 are examples, and examples 13, 16, 19, 21, 24, 31-33, 35, 37 Is a comparative example.

（２価の鉄の濃度）
ガラスサンプルの小片を酸分解、溶液化した後、指示薬を滴下して発光させ、吸光光度法により２価の鉄の濃度を測定した。該濃度および全Ｆｅ_２Ｏ_３含有量に基づいて、ＦｅＯ含有量、Ｒｅｄｏｘを求めた。 (Concentration of divalent iron)
After a small piece of the glass sample was acid-decomposed and made into a solution, an indicator was dropped to emit light, and the concentration of divalent iron was measured by absorptiometry. Based on the concentration and the total Fe ₂ O ₃ content, the FeO content and Redox were determined.

（光の透過率）
ガラスサンプルを研削、研磨して厚さを２．８ｍｍに整え、表面を鏡面状に仕上げたものについて、積分球付の分光光度計（島津製作所社製、ＵＶ３１００ＰＣ）を用いて、Ｔ_６１０およびＴ_８２０を測定した。 (Light transmittance)
Grinding glass samples polished established a thickness 2.8 mm, for those finished surface mirror-finished, spectrophotometer with integrating sphere (manufactured by Shimadzu Corporation, UV3100PC) _{using, T 610} and T ₈₂₀ was measured.

（失透温度）
ガラスサンプルを、様々な温度に保持した電気炉内で加熱し、急冷した後に光学顕微鏡で観察して失透の有無を調べた。失透が確認された最低温度を失透温度とした。失透温度が１１００℃以上では、ガラス成形が困難となる。 (Devitrification temperature)
The glass samples were heated in an electric furnace maintained at various temperatures, quenched, and then observed with an optical microscope to check for devitrification. The lowest temperature at which devitrification was confirmed was defined as the devitrification temperature. When the devitrification temperature is 1100 ° C. or higher, glass forming becomes difficult.

〔例１〜３５〕
ケイ砂、長石、苦灰石、炭酸カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸カリウム、ソーダ灰、芒硝、酸化第二鉄、コークスを、表１、表２に示す組成が得られるように調合したガラス原料を、酸素濃度２％の雰囲気下、白金るつぼ中で溶融した。溶融ガラスをカーボン板上に流し出してから徐冷し、ガラスサンプルを得た。ガラスサンプルについて、光の透過率および失透温度を測定した。結果を表１、表２に示す。 [Examples 1-35]
Glass raw materials prepared by blending silica sand, feldspar, dolomite, calcium carbonate, magnesium hydroxide, potassium carbonate, soda ash, mirabilite, ferric oxide and coke so that the compositions shown in Tables 1 and 2 are obtained. Then, it was melted in a platinum crucible in an atmosphere having an oxygen concentration of 2%. The molten glass was poured onto a carbon plate and then slowly cooled to obtain a glass sample. The glass sample was measured for light transmittance and devitrification temperature. The results are shown in Tables 1 and 2.

〔例３６〕
例２と同じ組成となるようにフロート法で厚さ２．８ｍｍのガラス基板を製造した。該ガラス基板を用いて、以下の方法で図１に示す構成の保護板１を製造し、透過率を測定した。結果を図１０に示す。 [Example 36]
A glass substrate having a thickness of 2.8 mm was produced by a float process so as to have the same composition as in Example 2. Using the glass substrate, the protective plate 1 having the configuration shown in FIG. 1 was produced by the following method, and the transmittance was measured. The results are shown in FIG.

テトラアザポルフィリン系色素（山田化学社製、商品名「ＴＡＰ−１８」）の０．０３００ｇ、キノフタロン系色素（三井化学社製、商品名「ＭＳ−ＹｅｌｌｏｗＨＤ−１３７」）の０．００３１ｇからなる色調補正色素と、紫外線吸収剤（チバスペシャリティケミカルズ社製のトリアジン系化合物、商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ４７９」）の２．００００ｇとをメチルエチルケトンの１２ｇに溶解させた。この中に、アクリル系粘着剤（東洋インキ社製、商品名「ＮＣＫ１０１」、酸価：０ｍｇＫＯＨ／ｇ、濃度：３７％）の６８ｇおよび架橋剤（日本ポリウレタン社製、商品名「コロネートＨＬ」）の０．５ｇを溶解させて着色粘着剤組成物を調製した。 It consists of 0.0300 g of a tetraazaporphyrin-based dye (manufactured by Yamada Chemical Co., Ltd., trade name “TAP-18”) and 0.0031 g of a quinophthalone dye (manufactured by Mitsui Chemicals, trade name “MS-Yellow HD-137”). 2.0000 g of a color tone correction dye and an ultraviolet absorber (a triazine compound manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name “TINUVIN 479”) were dissolved in 12 g of methyl ethyl ketone. Among them, 68 g of an acrylic pressure-sensitive adhesive (trade name “NCK101” manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., acid value: 0 mg KOH / g, concentration: 37%) and a crosslinking agent (trade name “Coronate HL” manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) Was dissolved to prepare a colored pressure-sensitive adhesive composition.

ＰＥＴフィルムからなる樹脂フィルム２８の一方の面に低反射層３０が形成された低反射フィルム１８（日本油脂社製の反射防止フィルム、商品名「リアルックＲＬ７８００」、１００×１００ｍｍ、厚さ：１００μｍ）を用意した。
低反射フィルム１８の樹脂フィルム２８側の表面に、乾燥塗膜の厚さが２５μｍとなるように、前記着色粘着剤組成物をアプリケーターにて塗布して、着色粘着層１６付きの低反射フィルム１８を得た。 Low reflection film 18 in which a low reflection layer 30 is formed on one surface of a resin film 28 made of PET film (Antireflection film manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd., trade name “Realak RL7800”, 100 × 100 mm, thickness: 100 μm) Prepared.
The colored adhesive composition is applied to the surface of the low reflective film 18 on the resin film 28 side with an applicator so that the thickness of the dried coating film becomes 25 μm, and the low reflective film 18 with the colored adhesive layer 16 is applied. Got.

メチルエチルケトンの１２ｇの中に、アクリル系粘着剤（東洋インキ社製、商品名「ＮＣＫ１０１」、酸価：０ｍｇＫＯＨ／ｇ、濃度：３７％）の６８ｇおよび架橋剤（日本ポリウレタン社製、商品名「コロネートＨＬ」）の０．５ｇを溶解させて透明粘着剤組成物を調製した。 In 12 g of methyl ethyl ketone, 68 g of acrylic pressure-sensitive adhesive (trade name “NCK101” manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., acid value: 0 mgKOH / g, concentration: 37%) and a crosslinking agent (trade name “Coronate manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.” HL ") was dissolved to prepare a transparent adhesive composition.

銅からなる導電性メッシュ層２６とＰＥＴフィルムからなる樹脂フィルム２４とが接着層（図示略）を介して積層された電磁波遮蔽フィルム１４（大日本印刷社製のメッシュフィルム、商品名「ＡＲ５０ＧＡ０Ｔ−７５Ｐ３００Ｌ１０」、１００×１００ｍｍ）の樹脂フィルム２４側の表面に、前記透明粘着剤組成物を塗布し透明粘着剤層１２を形成した。 Electromagnetic wave shielding film 14 in which conductive mesh layer 26 made of copper and resin film 24 made of PET film are laminated via an adhesive layer (not shown) (mesh film manufactured by Dai Nippon Printing Co., Ltd., trade name “AR50GA0T-75”) The transparent pressure-sensitive adhesive composition 12 was formed on the surface of the resin film 24 side of (P300 L10 ”, 100 × 100 mm) to form the transparent pressure-sensitive adhesive layer 12.

前記電磁波遮蔽フィルム１４の透明粘着剤層１２と、１００×１００ｍｍの前記ガラス基板１０とを貼り合わせた。ついで、電磁波遮蔽フィルム１４の導電性メッシュ層２６表面と、低反射フィルム１８の着色粘着層１６とが接触するように貼り合わせた。最後に、貼り合わせたものをオートクレーブ内に入れて、温度：６０℃、圧力：１ＭＰａ、時間：３０分の条件で加熱、加圧処理を施して保護板１を作製した。 The transparent adhesive layer 12 of the electromagnetic wave shielding film 14 and the glass substrate 10 of 100 × 100 mm were bonded together. Subsequently, it bonded together so that the electroconductive mesh layer 26 surface of the electromagnetic wave shielding film 14 and the colored adhesion layer 16 of the low reflection film 18 might contact. Finally, the bonded product was put in an autoclave and heated and pressurized under conditions of temperature: 60 ° C., pressure: 1 MPa, time: 30 minutes, and protective plate 1 was produced.

〔例３７〕
下記の点を変更した以外は、例３６と同様にして、図２に示す構成と同様の保護板２を製造し、透過率を測定した。結果を図１０に示す。
ガラス基板１０として厚さ２．８ｍｍの市販のソーダライムガラスを用いた。
電磁波遮蔽フィルム１４をガラス基板１０のＰＤＰ側に貼り合わせた。
電磁波遮蔽フィルム１４の表面に、前記透明粘着剤組成物に近赤外線吸収色素を加えた組成物からなる透明粘着剤層３２と、ＰＥＴフィルムからなる樹脂フィルム３４とを有する保護フィルムを貼り合わせた。
低反射フィルム１８をガラス基板１０の視認側に直接貼り合わせた。 [Example 37]
A protective plate 2 having the same configuration as that shown in FIG. 2 was produced in the same manner as in Example 36 except that the following points were changed, and the transmittance was measured. The results are shown in FIG.
A commercial soda lime glass having a thickness of 2.8 mm was used as the glass substrate 10.
The electromagnetic wave shielding film 14 was bonded to the PDP side of the glass substrate 10.
A protective film having a transparent pressure-sensitive adhesive layer 32 made of a composition obtained by adding a near-infrared absorbing dye to the transparent pressure-sensitive adhesive composition and a resin film 34 made of a PET film was bonded to the surface of the electromagnetic wave shielding film 14.
The low reflection film 18 was directly bonded to the viewing side of the glass substrate 10.

本発明の近赤外線吸収ガラスは、可視光の透過率および赤色純度の低下を抑えつつ、近赤外線を充分に吸収できるため、プラズマディスプレイ用保護板のガラス基板等として有用である。 The near-infrared absorbing glass of the present invention can sufficiently absorb near-infrared light while suppressing a decrease in visible light transmittance and red purity, and thus is useful as a glass substrate for a protective plate for plasma display.

１保護板
２保護板
３保護板
４保護板
５保護板
６保護板
７保護板
８保護板
９保護板
１０ガラス基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Protective plate 2 Protective plate 3 Protective plate 4 Protective plate 5 Protective plate 6 Protective plate 7 Protective plate 8 Protective plate 9 Protective plate 10 Glass substrate

Claims

Ｓｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｎａ、Ｆｅの各元素を含有する酸化物ガラスであり、
Ｓｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｎａ、Ｆｅのガラス中の含有量が、下記成分基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ_２：６５〜７５％、
Ａｌ_２Ｏ_３：０．８〜３％、
ＣａＯ：５〜１２％、
ＭｇＯ：０．２〜１０％、
Ｎａ_２Ｏ：１０〜２０％、
Ｆｅ_２Ｏ_３：０．５６〜１．５９％であり、
Ｆｅには２価のＦｅが含まれ、該２価のＦｅのガラス中の含有量が、ＦｅＯ基準の質量百分率表示で、０．３３〜０．４８％であり、
Ｆｅ元素全量のうちの２価のＦｅの割合が、４０〜６５モル％である、プラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラス。 It is an oxide glass containing each element of Si, Al, Ca, Mg, Na, Fe,
The content of Si, Al, Ca, Mg, Na, Fe in the glass is a mass percentage display based on the following components,
SiO _2: 65~75%,
Al ₂ O _3: 0.8~3%,
CaO: 5-12%,
MgO: 0.2 to 10%,
Na ₂ O: 10~20%,
Fe ₂ O ₃ : 0.56 to 1.59%,
Fe contains divalent Fe, and the content of the divalent Fe in the glass is 0.33 to 0.48% in terms of mass percentage based on FeO,
Near-infrared absorbing glass for plasma display, wherein the proportion of divalent Fe in the total amount of Fe element is 40 to 65 mol%.

波長６１０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ_６１０）と波長８２０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ_８２０）との比（Ｔ_６１０／Ｔ_８２０）が、３．０以上である、請求項１に記載のプラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラス。 Light transmittance at a wavelength of 610nm is _{(T 610)} and the light transmittance of the wavelength 820nm ratio of _{_{_{(T 820) (T 610 /}}} T 820), is 3.0 or more, the plasma display according to claim 1 Near infrared absorbing glass.

請求項１または２に記載のプラズマディスプレイ用近赤外線吸収ガラスからなる、プラズマディスプレイ用ガラス基板。 The glass substrate for plasma displays which consists of the near-infrared absorption glass for plasma displays of Claim 1 or 2.

波長６１０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ_６１０）が６０％以上であり、波長８２０ｎｍにおける光の透過率（Ｔ_８２０）が２２％以下である、請求項３に記載のプラズマディスプレイ用ガラス基板。 The glass substrate for a plasma display according to claim 3, wherein the light transmittance (T ₆₁₀ ) at a wavelength of 610 nm is 60% or more, and the light transmittance (T ₈₂₀ ) at a wavelength of 820 nm is 22% or less.

厚さが１〜１０ｍｍである、請求項３または４に記載のプラズマディスプレイ用ガラス基板。 The glass substrate for plasma displays of Claim 3 or 4 whose thickness is 1-10 mm.

請求項３〜５のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用ガラス基板を備えた、プラズマディスプレイ用保護板。 The protective plate for plasma displays provided with the glass substrate for plasma displays in any one of Claims 3-5.

プラズマディスプレイ用ガラス基板のプラズマディスプレイパネル側の面に、銀を主成分とする層を有する電磁波遮蔽膜が配置された、請求項６に記載のプラズマディスプレイ用保護板。 The protective plate for plasma display according to claim 6, wherein an electromagnetic wave shielding film having a layer mainly composed of silver is disposed on a surface of the glass substrate for plasma display on the plasma display panel side.