JP2010269504A - Transparent electroconductive laminated film, transparent electroconductive laminated sheet and touch panel - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent electroconductive film which does not cause glare phenomenon and interference fringe, is superior visibility and superior pen sliding durability in an electrode film used in a touch panel or the like used with a display such as a highly precise liquid crystal display. <P>SOLUTION: In the transparent electroconductive laminated film 10, a transparent electroconductive thin film layer 13 is laminated on a cured resin layer 12 mainly composed of a curable resin on at least one side surface of a substrate 11 made of a transparent plastic film. In the transparent conductive laminated film 10, the ratio of an image definition by a transmission method in the case of use of an optical comb of 0.125 mm to an image definition by a transmission method in the case of use of an optical comb of 2.0 mm satisfies formula (1) 0.70≤value in comb width of 0.125 mm/value in comb width 2 mm≤0.93. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は透明プラスチックフィルムからなる基材の少なくとも片面上に、硬化型樹脂を主たる構成成分とする硬化物層を設けた上に、透明導電性薄膜層を積層した透明導電性積層フィルムに関するものである。特に高精細な液晶ディスプレイ等の表示体の前面に用いるタッチパネル用の透明電極として用いた場合、視認性を向上させ、ペン摺動耐久性に優れる透明導電性積層フィルムに関するものである。   The present invention relates to a transparent conductive laminated film in which a cured product layer comprising a curable resin as a main constituent component is provided on at least one surface of a substrate made of a transparent plastic film, and a transparent conductive thin film layer is laminated. is there. In particular, when used as a transparent electrode for a touch panel used on the front surface of a display such as a high-definition liquid crystal display, the present invention relates to a transparent conductive laminated film that improves visibility and is excellent in pen sliding durability.

透明プラスチックフィルムからなる基材上に、透明でかつ抵抗が小さい薄膜を積層した透明導電性フィルムは、その導電性を利用した用途、例えば、液晶ディスプレイやエレクトロルミネッセンス（ＥＬと略記される場合がある）ディスプレイなどのようなフラットパネルディスプレイや、抵抗膜式タッチパネルの透明電極など、電気、電子分野の用途に広く使用されている。   A transparent conductive film obtained by laminating a transparent thin film with low resistance on a substrate made of a transparent plastic film is used for applications utilizing the conductivity, for example, a liquid crystal display or electroluminescence (EL may be abbreviated as EL). ) Widely used in electrical and electronic fields such as flat panel displays such as displays and transparent electrodes of resistive touch panels.

近年、タッチパネルは入力インターフェイスとして幅広く認知され、特に携帯情報端末やデジタルビデオカメラ、デジタルカメラなどの携帯端末には操作キーを省くため表示ディスプレイにタッチパネルを搭載するケースが増えている。一方、これらの携帯端末に用いられる液晶ディスプレイ等の表示体の高精細化はますます進んでおり、このような表示体の前面に組み込まれるタッチパネル用の電極フィルムは視認性を低下させないことが強く望まれている。   In recent years, touch panels are widely recognized as input interfaces, and in particular, portable terminals such as portable information terminals, digital video cameras, and digital cameras are increasingly equipped with touch panels on display displays in order to omit operation keys. On the other hand, high definition display devices such as liquid crystal displays used in these mobile terminals have been increasingly advanced, and the electrode film for touch panels incorporated in the front surface of such display devices does not deteriorate visibility. It is desired.

従来の液晶ディスプレイ等に用いられるタッチパネル用の電極フィルムでは、表示体の視認性の劣化を少々犠牲にしながら、タッチパネル自体による視認性の劣化（特にニュートンリング）の抑制に重きを置かれていた。   In an electrode film for a touch panel used in a conventional liquid crystal display or the like, emphasis has been placed on suppressing the deterioration of visibility (particularly Newton's ring) due to the touch panel itself while sacrificing the deterioration of the visibility of the display body.

このような透明導電性フィルムとして特許文献１〜３が開示されている。しかし、特許文献１〜３の透明導電性フィルムは高精細な表示体でのギラツキ（又はスパークル）を抑制することを意識しながらも、アンチニュートンリング性を追及している。このため、可視光領域の光の波長と比べると非常に大きな粒子径を持つ粒子を添加している。その結果、各波長での光の散乱効率の差が大きくなり、色分離が生じた虹色の輝きが生じてしまう（ギラツキ又はスパークルと呼ばれる）。このため、ギラツキを最優先で抑制するという観点から、ギラツキ抑制効果は不十分であった。   Patent Documents 1 to 3 are disclosed as such transparent conductive films. However, the transparent conductive films of Patent Documents 1 to 3 pursue anti-Newton ring properties while being conscious of suppressing glare (or sparkle) in a high-definition display. For this reason, particles having a very large particle diameter compared to the wavelength of light in the visible light region are added. As a result, the difference in light scattering efficiency at each wavelength becomes large, and a rainbow-colored brilliance with color separation occurs (referred to as glare or sparkle). For this reason, the glare suppression effect was inadequate from a viewpoint of suppressing glare with top priority.

一方、このようなギラツキ現象を生じさせないためにはフィルム中への粒子の添加を無くせばよいが、フィルム表面の塗工層の厚み斑により線状の虹色斑（干渉縞）が問題となる。さらに抵抗膜式のタッチパネルでは、ペンで何度も入力を繰り返すため、ペン摺動耐久性優れた透明導電性フィルムが望まれる。 On the other hand, in order to prevent such a glare phenomenon from occurring, it is sufficient to eliminate the addition of particles to the film, but linear rainbow spots (interference fringes) are a problem due to the uneven thickness of the coating layer on the film surface. . Furthermore, in a resistive film type touch panel, a transparent conductive film excellent in pen sliding durability is desired because input is repeated many times with a pen.

特開２００７−１０３３４８号公報JP 2007-103348 A 特公表２００５／５２９５６号公報Special Publication No. 2005/52956 特許３６８８１３６号公報Japanese Patent No. 3688136

すなわち、本発明の目的は、上記の従来の問題点に鑑み、透明導電性積層フィルム中に含まれる粒子サイズ、分散性を制御し、高精細な液晶ディスプレイ等に使用した際に視認性が良好な透明導電性積層フィルムを提供することにある。さらに、抵抗膜式のタッチパネルに用いた際、ペン摺動耐久性に優れた透明導電性積層フィルムを提供することにある。   That is, in view of the above-mentioned conventional problems, the object of the present invention is to control the particle size and dispersibility contained in the transparent conductive laminated film and to have good visibility when used in a high-definition liquid crystal display or the like. It is in providing a transparent conductive laminated film. Furthermore, it is providing the transparent conductive laminated film excellent in pen sliding durability, when using for a resistive film type touch panel.

本発明は、上記のような状況に鑑みなされたものであって、上記の課題を解決することができた透明導電性積層フィルムとは、以下の構成よりなる。
１． 透明プラスチックフィルムからなる基材の少なくとも片面に、硬化型樹脂を主たる構成成分とする硬化物層を設け、更にその上に透明導電性薄膜層を積層した透明導電性積層フィルムであって、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９９９年版）によって規定される０．１２５ｍｍの光学くしを使った場合の透過法の像鮮明度と２．０ｍｍの光学くしを使った場合の透過法の像鮮明度の比が下記（１）式を満たすことを特徴とする透明導電性積層フィルム。
０．７０≦０．１２５ｍｍ幅くしの値／２ｍｍ幅くしの値≦０．９３ （１）
２． 前記硬化物層中には粒子が含有され、該粒子の平均粒子径が０．１〜１．５μｍ、硬化型樹脂に対する含有量が２〜３０質量％であることを特徴とする前記１記載の透明導電性積層フィルム。
３． 前記透明導電性積層フィルムのヘイズが１．５〜１０％であることを特徴とする前記１又は２に記載の透明導電性積層フィルム。
４． 前記透明導電性薄膜層の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０４〜０．１５μｍであることを特徴とする前記１〜３のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。
５． 前記透明導電性薄膜層の表面の表面張力が３０〜６０ｄｙｎｅ／ｃｍであることを特徴とする前記１〜４のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。
６． 前記硬化物層中にＨＬＢが２以上１２以下の界面活性剤が硬化型樹脂に対して０．０１〜２．００質量％含有されていることを特徴とする前記１〜５のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。
７． 前記硬化物層と前記透明導電性薄膜との付着力が、１．０Ｎ／１５ｍｍ以上２．０Ｎ／１５ｍｍ以下であることを特徴とする前記１〜６のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。
８． 透明導電性薄膜層が酸化スズの含有率が０．５〜６０質量％であるインジウム−スズ複合酸化物であることを特徴とする前記１〜７のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。
９． 前記透明導電性薄膜層面の反対面に、ハードコート層が積層されていることを特徴とする１〜８のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。
１０． 前記ハードコート層が防眩性を有することを特徴とする前記９記載の透明導電性積層フィルム。
１１． 前記ハードコート層が低反射処理を施されていることを特徴とする前記９又は１０記載の透明導電性積層フィルム。
１２． 前記１〜１１のいずれかに記載の透明導電性積層フィルムの透明導電性薄膜層面の反対面に、粘着剤を介して透明樹脂シートが貼り合わされていることを特徴とする透明導電性積層シート。
１３． 前記透明導電性薄膜層を有する一対のパネル板を透明導電性薄膜層が対向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネルであって、少なくとも一方のパネル板が前記１〜１２のいずれかに記載の透明導電性積層フィルムもしくは透明導電性積層シートを含むことを特徴とするタッチパネル。 This invention is made | formed in view of the above situations, Comprising: The transparent conductive laminated film which was able to solve said subject consists of the following structures.
1. A transparent conductive laminated film in which a cured product layer comprising a curable resin as a main constituent component is provided on at least one surface of a substrate made of a transparent plastic film, and a transparent conductive thin film layer is further laminated thereon, JIS K7105 The ratio of the image clarity of the transmission method when using an optical comb of 0.125 mm and the image clarity of the transmission method when using an optical comb of 2.0 mm defined by (1999) is (1) The transparent conductive laminated film characterized by satisfy | filling Formula.
0.70 ≦ 0.125 mm width comb value / 2 mm width comb value ≦ 0.93 (1)
2. 2. The cured product layer contains particles, the average particle diameter of the particles is 0.1 to 1.5 μm, and the content with respect to the curable resin is 2 to 30% by mass. Transparent conductive laminated film.
3. 3. The transparent conductive laminated film according to 1 or 2 above, wherein the transparent conductive laminated film has a haze of 1.5 to 10%.
4). 4. The transparent conductive laminated film according to any one of 1 to 3, wherein a center line average roughness (Ra) of the surface of the transparent conductive thin film layer is 0.04 to 0.15 μm.
5). 5. The transparent conductive laminated film according to any one of 1 to 4, wherein the surface tension of the transparent conductive thin film layer is 30 to 60 dyne / cm.
6). 6. The cured product layer according to any one of 1 to 5 above, wherein a surfactant having an HLB of 2 or more and 12 or less is contained in an amount of 0.01 to 2.00% by mass relative to the curable resin. Transparent conductive laminated film.
7). 7. The transparent conductive laminated film according to any one of 1 to 6, wherein an adhesive force between the cured product layer and the transparent conductive thin film is 1.0 N / 15 mm or more and 2.0 N / 15 mm or less. .
8). 8. The transparent conductive laminated film according to any one of 1 to 7, wherein the transparent conductive thin film layer is an indium-tin composite oxide having a tin oxide content of 0.5 to 60% by mass.
9. The transparent conductive laminated film according to any one of 1 to 8, wherein a hard coat layer is laminated on the opposite surface of the transparent conductive thin film layer surface.
10. 10. The transparent conductive laminated film according to 9 above, wherein the hard coat layer has an antiglare property.
11. 11. The transparent conductive laminated film as described in 9 or 10 above, wherein the hard coat layer is subjected to a low reflection treatment.
12 The transparent conductive laminated sheet by which the transparent resin sheet is bonded together through the adhesive on the opposite surface of the transparent conductive thin film layer surface of the transparent conductive laminated film in any one of said 1-11.
13. A touch panel in which a pair of panel plates having the transparent conductive thin film layer are arranged via a spacer so that the transparent conductive thin film layers face each other, and at least one of the panel plates is any one of the above 1 to 12 A touch panel comprising the transparent conductive laminated film or the transparent conductive laminated sheet described above.

本発明の透明導電性積層フィルムは、透明プラスチックフィルムからなる基材の少なくとも片面上に、硬化型樹脂を主たる構成成分とする硬化物層を設けた上に、透明導電性薄膜層を積層した透明導電性積層フィルムであり、硬化物層中の粒子のサイズと分散性を制御することにより、視認性の低下を抑制できる。さらに、透明導電性薄膜層表面の滑り性を制御しているため、タッチパネル用の電極として使用した場合、ペン摺動耐久性を向上できる。   The transparent conductive laminated film of the present invention is a transparent laminate in which a transparent conductive thin film layer is laminated on a cured material layer mainly composed of a curable resin on at least one surface of a substrate made of a transparent plastic film. It is an electroconductive laminated film, and a visibility fall can be suppressed by controlling the size and dispersibility of the particles in the cured product layer. Furthermore, since the sliding property of the surface of the transparent conductive thin film layer is controlled, the pen sliding durability can be improved when used as an electrode for a touch panel.

本発明の透明導電性積層フィルムを用いた、タッチパネルの説明図である。It is explanatory drawing of a touch panel using the transparent conductive laminated film of this invention. 本発明の透明導電性積層フィルムを用いた、ガラス基板を使用しないタッチパネルの説明図である。It is explanatory drawing of the touch panel which does not use a glass substrate using the transparent conductive laminated film of this invention.

本発明の透明導電性積層フィルムは、透明プラスチックフィルムからなる基材の少なくとも片面上に、硬化型樹脂を主たる構成成分とする硬化物層を設けた上に、透明導電性薄膜層を積層した構成を有する。   The transparent conductive laminated film of the present invention has a structure in which a transparent conductive thin film layer is laminated on a cured material layer mainly composed of a curable resin on at least one surface of a substrate made of a transparent plastic film. Have

本発明の透明導電性積層フィルムは、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９９９年版）によって規定される０．１２５ｍｍの光学くしを使った場合の透過法の像鮮明度と２．０ｍｍの光学くしを使った場合の透過法の像鮮明度の比が下記（１）式を満たす必要がある。
０．７０≦０．１２５ｍｍ幅くしの値／２ｍｍ幅くしの値≦０．９３ （１）
本発明においては、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９９９年版）によって規定される０．１２５ｍｍの光学くしを使った場合の透過法の像鮮明度と２．０ｍｍの光学くしを使った場合の透過法の像鮮明度の比がギラツキ現象と対応することを見出した。
すなわち、像鮮明度の値は透明導電性フィルムのヘイズ、添加粒子の粒径、凝集状態に依存する。０．１２５ｍｍの光学くしを使った場合、添加粒子の粒径（１．５μｍ以下の領域）、凝集状態に強く影響されるのに対して、２．０ｍｍの光学くしを使った場合、添加粒子の粒径、凝集状態にほとんど影響されない。
本発明の透明導電性積層フィルムにおいて、高精細なディスプレイにおいてギラツキ現象および干渉縞を生じさせないためには、０．１２５ｍｍの光学くしを使った場合の透過法の像鮮明度と２．０ｍｍの光学くしを使った場合の透過法の像鮮明度の比が０．７０以上０．９３以下である必要がある。０．７０未満の場合には、添加した粒子が凝集し、光の散乱が大きくなっていることを意味する。その結果、高精細な液晶ディスプレイ等の表示体の前面に設置した場合、色分離によるギラツキ現象が生じ、視認性が低下する。一方、０．９３を越える場合には、０．１２５ｍｍの光学くしと２．０ｍｍの光学くしでの光の散乱が同程度であり、光の散乱効果がなくなり、干渉縞を抑制することが困難となる。さらに好ましい透過法の像鮮明度の比の範囲は、０．８０以上０．９３以下である。 The transparent conductive laminated film of the present invention has an image sharpness of a transmission method when a 0.125 mm optical comb defined by JIS K7105 (1999 edition) is used, and a transmission when a 2.0 mm optical comb is used. The ratio of the image definition of the method must satisfy the following formula (1).
0.70 ≦ 0.125 mm width comb value / 2 mm width comb value ≦ 0.93 (1)
In the present invention, the image clarity of the transmission method when a 0.125 mm optical comb defined by JIS K7105 (1999 edition) is used, and the image clarity of the transmission method when a 2.0 mm optical comb is used. It was found that this ratio corresponds to the glare phenomenon.
That is, the value of the image definition depends on the haze of the transparent conductive film, the particle size of the additive particles, and the aggregation state. When the 0.125 mm optical comb is used, the particle size of the added particles (region of 1.5 μm or less) and the aggregation state are strongly influenced, whereas when the 2.0 mm optical comb is used, the added particles It is hardly influenced by the particle size and the aggregation state of the particles.
In the transparent conductive laminated film of the present invention, in order not to cause glare phenomenon and interference fringes in a high-definition display, the image clarity of the transmission method when using the 0.125 mm optical comb and 2.0 mm optical When the comb is used, the ratio of image clarity of the transmission method needs to be 0.70 or more and 0.93 or less. If it is less than 0.70, it means that the added particles are aggregated and light scattering is increased. As a result, when it is installed on the front surface of a display body such as a high-definition liquid crystal display, a glare phenomenon due to color separation occurs, and the visibility decreases. On the other hand, if it exceeds 0.93, the light scattering between the 0.125 mm optical comb and the 2.0 mm optical comb is comparable, the light scattering effect is lost, and interference fringes are difficult to suppress. It becomes. A more preferable range of the image clarity ratio in the transmission method is 0.80 or more and 0.93 or less.

また、本発明の透明導電性積層フィルムのヘイズは１．５〜１０％が好ましい。ヘイズが１．５％未満の場合には干渉縞を抑制することが困難となる。一方、ヘイズが１０％を越える場合、フィルムの白色度が高くなり、表示が鮮明に見えづらくなる。   The haze of the transparent conductive laminated film of the present invention is preferably 1.5 to 10%. When the haze is less than 1.5%, it is difficult to suppress interference fringes. On the other hand, when the haze exceeds 10%, the whiteness of the film increases and the display becomes difficult to see clearly.

また、本発明の透明導電性積層フィルムの透明導電性薄膜層の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、０．０４〜０．１５μｍが好ましい。０．０４μｍ未満の場合、透明導電性薄膜層表面の滑り性が低く、ペン摺動耐久試験後に透明導電性薄膜層に削れが生じる。一方、０．１５μｍを越える場合には透明導電性薄膜層表面が粗くなりすぎて、ペン摺動耐久試験後に粒子が削れ落ちやすくなる。   Moreover, as for the centerline average roughness (Ra) of the surface of the transparent conductive thin film layer of the transparent conductive laminated film of this invention, 0.04-0.15 micrometer is preferable. When the thickness is less than 0.04 μm, the surface of the transparent conductive thin film layer has low slip, and the transparent conductive thin film layer is scraped after the pen sliding durability test. On the other hand, when it exceeds 0.15 μm, the surface of the transparent conductive thin film layer becomes too rough, and the particles are likely to be scraped off after the pen sliding durability test.

また、本発明において硬化物層を設ける際には、粒子の分散性を向上させるために、公知の添加剤、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤などのレベリング剤を添加することが好ましい。しかしながらレベリング剤は透明導電性薄膜層を積層後に硬化物層／透明導電性薄膜層界面および、または透明導電性薄膜層表面にブリードアウトするため、透明導電性薄膜層の表面の表面張力を３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上６０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下に制御することが重要である。透明導電性薄膜層の表面の表面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ未満の場合は透明導電性薄膜層と硬化物層との密着性が不十分となる。一方、透明導電性薄膜層の表面の表面張力が６０ｄｙｎｅ／ｃｍを超えると透明導電性薄膜層の面の滑り性が低下し、ペン摺動耐久性が悪くなる。   In addition, when a cured product layer is provided in the present invention, a known additive, for example, a leveling agent such as a silicone surfactant or a fluorine surfactant is added to improve the dispersibility of the particles. Is preferred. However, since the leveling agent bleeds out to the cured product layer / transparent conductive thin film layer interface and / or the surface of the transparent conductive thin film layer after laminating the transparent conductive thin film layer, the surface tension of the surface of the transparent conductive thin film layer is reduced to 30 dyne / It is important to control to not less than cm and not more than 60 dyne / cm. When the surface tension of the surface of the transparent conductive thin film layer is less than 30 dyne / cm, the adhesion between the transparent conductive thin film layer and the cured product layer becomes insufficient. On the other hand, when the surface tension of the surface of the transparent conductive thin film layer exceeds 60 dyne / cm, the slipperiness of the surface of the transparent conductive thin film layer is lowered, and the pen sliding durability is deteriorated.

以下、本発明を詳細に説明する。
（透明プラスチックフィルムからなる基材）
本発明で用いる透明プラスチックフィルムからなる基材とは、有機高分子をフィルム状に溶融押出し又は溶液押出しをしてフィルム状に成形し、必要に応じ、長手方向及び／又は幅方向に延伸、熱固定、熱弛緩処理を施したフィルムである。有機高分子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ナイロン６、ナイロン４、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルサルファン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアリレート、セルロースプロピオネート、ポリ塩化ビニール、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイド、ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、ノルボルネン系ポリマーなどが挙げられる。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
(Base material made of transparent plastic film)
The substrate made of a transparent plastic film used in the present invention is formed by forming an organic polymer into a film by melt extrusion or solution extrusion into a film, and if necessary, stretching in the longitudinal direction and / or the width direction, A film that has been fixed and heat-relaxed. Organic polymers include polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, polypropylene terephthalate, nylon 6, nylon 4, nylon 66, nylon 12, polyimide, polyamideimide, polyethersulfan, polyetheretherketone , Polycarbonate, polyarylate, cellulose propionate, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyether imide, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polystyrene, syndiotactic polystyrene, norbornene-based polymer, and the like.

これらの有機高分子のなかで、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、シンジオタクチックポリスチレン、ノルボルネン系ポリマー、ポリカーボネート、ポリアリレートなどが好適である。また、これらの有機高分子は他の有機重合体の単量体を少量共重合してもよいし、他の有機高分子をブレンドしてもよい。   Among these organic polymers, polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, syndiotactic polystyrene, norbornene polymer, polycarbonate, polyarylate and the like are preferable. These organic polymers may be copolymerized with a small amount of other organic polymer monomers, or may be blended with other organic polymers.

本発明で用いる透明プラスチックフィルムからなる基材の厚みは、１０〜３００μｍであることが好ましく、より好ましくは７０〜２６０μｍである。プラスチックフィルムの厚みが１０μｍ未満では機械的強度が不足し、透明導電性積層フィルムの加工工程でハンドリングが難しくなるため好ましくない。一方、厚みが３００μｍを越えると、タッチパネルの厚みが厚くなりすぎるため、モバイル機器などには適さない。   It is preferable that the thickness of the base material which consists of a transparent plastic film used by this invention is 10-300 micrometers, More preferably, it is 70-260 micrometers. If the thickness of the plastic film is less than 10 μm, the mechanical strength is insufficient, and handling becomes difficult in the processing step of the transparent conductive laminated film, which is not preferable. On the other hand, if the thickness exceeds 300 μm, the thickness of the touch panel becomes too thick, which is not suitable for mobile devices.

本発明で用いる透明プラスチックフィルムからなる基材は、本発明の目的を損なわない範囲で、前記フィルムをコロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、オゾン処理などの表面活性化処理を施してもよい。
（硬化物層） The substrate made of a transparent plastic film used in the present invention is a range that does not impair the purpose of the present invention, such as corona discharge treatment, glow discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, electron beam irradiation treatment, ozone treatment, etc. A surface activation treatment may be performed.
(Cured product layer)

また、本発明で用いる透明プラスチックフィルムからなる基材には、透明導電性薄膜層との密着性向上、耐薬品性の付与、オリゴマーなどの低分子量物の析出防止、ギラツキ防止を目的として、硬化型樹脂を主たる構成成分とする硬化物層を設ける。   In addition, the substrate made of a transparent plastic film used in the present invention is cured for the purpose of improving adhesion with the transparent conductive thin film layer, imparting chemical resistance, preventing precipitation of low molecular weight substances such as oligomers, and preventing glare. A cured product layer containing a mold resin as a main constituent is provided.

前記の硬化型樹脂は、加熱、紫外線照射、電子線照射などのエネルギー印加により硬化する樹脂であれば特に限定されなく、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。生産性の観点からは、紫外線硬化型樹脂を主成分とする硬化型樹脂が好ましい。   The curable resin is not particularly limited as long as it is a resin that is cured by application of energy such as heating, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, etc., and silicone resin, acrylic resin, methacrylic resin, epoxy resin, melamine resin, polyester resin, urethane Resin etc. are mentioned. From the viewpoint of productivity, a curable resin containing an ultraviolet curable resin as a main component is preferable.

このような紫外線硬化型樹脂としては、例えば、多価アルコールのアクリル酸又はメタクリル酸エステルのような多官能性のアクリレート樹脂、ジイソシアネート、多価アルコール及びアクリル酸又はメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステルなどから合成されるような多官能性のウレタンアクリレート樹脂などを挙げることができる。必要に応じて、これらの多官能性の樹脂に単官能性の単量体、例えば、ビニルピロリドン、メチルメタクリレート、スチレンなどを加えて共重合させることができる。   Examples of such ultraviolet curable resins are synthesized from polyfunctional acrylate resins such as acrylic acid or methacrylic acid ester of polyhydric alcohol, diisocyanate, polyhydric alcohol and hydroxyalkyl ester of acrylic acid or methacrylic acid. Such polyfunctional urethane acrylate resins can be mentioned. If necessary, a monofunctional monomer such as vinyl pyrrolidone, methyl methacrylate, or styrene can be added to these polyfunctional resins for copolymerization.

紫外線硬化型樹脂は、通常、光重合開始剤を添加して使用される。光重合開始剤としては、紫外線を吸収してラジカルを発生する公知の化合物を特に限定なく使用することができ、このような光重合開始剤としては、例えば、各種ベンゾイン類、フェニルケトン類、ベンゾフェノン類などを挙げることができる。光重合開始剤の添加量は、紫外線硬化型樹脂１００質量部に対して、１〜５質量部とすることが好ましい。   The ultraviolet curable resin is usually used by adding a photopolymerization initiator. As the photopolymerization initiator, known compounds that absorb ultraviolet rays and generate radicals can be used without any particular limitation. Examples of such photopolymerization initiators include various benzoins, phenyl ketones, and benzophenones. And the like. The addition amount of the photopolymerization initiator is preferably 1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet curable resin.

塗布液中の樹脂成分の濃度は、コーティング法に応じた粘度などを考慮して適切に選択することができる。例えば、塗布液中に紫外線硬化型樹脂、光重合開始剤の合計量が占める割合は、通常は２０〜８０質量％である。また、この塗布液には、必要に応じて、粒子の分散性を向上させるために、公知の添加剤、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤などのレベリング剤を添加することが好ましい。しかしながらレベリング剤は透明導電性薄膜層を積層後に硬化物層／透明導電性薄膜層界面および、または透明導電性薄膜層表面にブリードアウトするため、透明導電性薄膜層の表面の表面張力を３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上６０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下に制御することが重要である。透明導電性薄膜層の表面の表面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ未満の場合は透明導電性薄膜層と硬化物層との密着性が不十分となる。一方、透明導電性薄膜層の表面の表面張力が６０ｄｙｎｅ／ｃｍを超えると透明導電性薄膜層の面の滑り性が低下し、ペン摺動耐久性が悪くなる。   The concentration of the resin component in the coating solution can be appropriately selected in consideration of the viscosity according to the coating method. For example, the proportion of the total amount of the ultraviolet curable resin and the photopolymerization initiator in the coating solution is usually 20 to 80% by mass. In addition, a known additive, for example, a leveling agent such as a silicone-based surfactant or a fluorine-based surfactant may be added to the coating solution as necessary in order to improve the dispersibility of the particles. preferable. However, since the leveling agent bleeds out to the cured product layer / transparent conductive thin film layer interface and / or the surface of the transparent conductive thin film layer after laminating the transparent conductive thin film layer, the surface tension of the surface of the transparent conductive thin film layer is reduced to 30 dyne / It is important to control to not less than cm and not more than 60 dyne / cm. When the surface tension of the surface of the transparent conductive thin film layer is less than 30 dyne / cm, the adhesion between the transparent conductive thin film layer and the cured product layer becomes insufficient. On the other hand, when the surface tension of the surface of the transparent conductive thin film layer exceeds 60 dyne / cm, the slipperiness of the surface of the transparent conductive thin film layer is lowered, and the pen sliding durability is deteriorated.

シリコーン系界面活性剤としては、ジメチルシリコーン、アミノシラン、アクリルシラン、ビニルベンジルシラン、ビニルベンジシルアミノシラン、グリシドシラン、メルカプトシラン、ジメチルシラン、ポリジメチルシロキサン、ポリアルコキシシロキサン、ハイドロジエン変性シロキサン、ビニル変性シロキサン、ビトロキシ変性シロキサン、アミノ変性シロキサン、カルボキシル変性シロキサン、ハロゲン化変性シロキサン、エポキシ変性シロキサン、メタクリロキシ変性シロキサン、メルカプト変性シロキサン、フッ素変性シロキサン、アルキル基変性シロキサン、フェニル変性シロキサン、アルキレンオキシド変性シロキサンなどが挙げられる。   Silicone surfactants include dimethyl silicone, amino silane, acrylic silane, vinyl benzyl silane, vinyl benzilyl amino silane, glycid silane, mercapto silane, dimethyl silane, polydimethyl siloxane, polyalkoxy siloxane, hydrodiene modified siloxane, vinyl modified siloxane, Vitroxy modified siloxane, amino modified siloxane, carboxyl modified siloxane, halogenated modified siloxane, epoxy modified siloxane, methacryloxy modified siloxane, mercapto modified siloxane, fluorine modified siloxane, alkyl group modified siloxane, phenyl modified siloxane, alkylene oxide modified siloxane, etc. .

フッ素系界面活性剤としては、４フッ化エチレン、パーフルオロアルキルアンモニウム塩、パーフルオロアルキルスルホン酸アミド、パーフルオロアルキルスルホン酸ナトリウム、パーフルオロアルキルカリウム塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキルアミノスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルアルキル化合物、パーフルオロアルキルアルキルベタイン、パーフルオロアルキルハロゲン化物などが挙げられる。   Fluorosurfactants include ethylene tetrafluoride, perfluoroalkyl ammonium salt, perfluoroalkyl sulfonic acid amide, sodium perfluoroalkyl sulfonate, perfluoroalkyl potassium salt, perfluoroalkyl carboxylate, perfluoroalkyl sulfone. Acid salts, perfluoroalkyl ethylene oxide adducts, perfluoroalkyl trimethyl ammonium salts, perfluoroalkyl amino sulfonates, perfluoroalkyl phosphate esters, perfluoroalkyl alkyl compounds, perfluoroalkyl alkyl betaines, perfluoroalkyl halides, etc. Is mentioned.

界面活性剤の含有量は、硬化物層を構成する樹脂に対して０．０１質量％以上２．００質量％以下であることが重要である。界面活性剤の含有量が少ない場合には、粒子の分散性が不十分であり、逆に、界面活性剤の含有量が多い場合には透明導電性薄膜層との密着性が低下してしまう。   It is important that the content of the surfactant is 0.01% by mass or more and 2.00% by mass or less with respect to the resin constituting the cured product layer. When the surfactant content is low, the dispersibility of the particles is insufficient, and conversely, when the surfactant content is high, the adhesion with the transparent conductive thin film layer is reduced. .

本発明において、界面活性剤のＨＬＢは２以上１２以下であることが重要である。ＨＬＢの下限値は好ましくは３であり、特に好ましくは４である。一方、ＨＬＢの上限値は好ましくは１１であり、特に好ましくは１０である。ＨＬＢが低すぎる界面活性剤を使用した場合には、透明導電性薄膜層の密着性が悪くなる。逆に、ＨＬＢが高すぎる界面活性剤を使用した場合には、透明導電性薄膜層の面の滑り性が不足し、ペン摺動耐久性が悪くなる。   In the present invention, it is important that the HLB of the surfactant is 2 or more and 12 or less. The lower limit value of HLB is preferably 3, particularly preferably 4. On the other hand, the upper limit value of HLB is preferably 11, particularly preferably 10. When a surfactant having an HLB too low is used, the adhesion of the transparent conductive thin film layer is deteriorated. On the other hand, when a surfactant having an HLB that is too high is used, the sliding property of the surface of the transparent conductive thin film layer is insufficient, and the pen sliding durability is deteriorated.

なお、ＨＬＢとは、アメリカのＡｔｌａｓ Ｐｏｗｄｅｒ社のＷ．Ｃ．Ｇｒｉｆｆｉｎが、Ｈｙｄｏｒｏｐｈｉｌ Ｌｙｏｐｈｉｌｅ Ｂａｌａｎｃｅと名付けて、界面活性剤の分子中に含まれる親水基と親油基のバランスを特性値として指標化した値である。なお、ＨＬＢは低いほど親油性が、逆に高いほど親水性が高くなることを意味する。   Note that HLB means W.A. of Atlas Powder, Inc. of the United States. C. Griffin named Hydrophile Lyophile Balance and is a value obtained by indexing the balance between the hydrophilic group and the lipophilic group contained in the surfactant molecule as a characteristic value. The lower the HLB, the more lipophilic, and the higher the HLB, the higher the hydrophilicity.

本発明において、調製された塗布液は透明プラスチックフィルムからなる基材上にコーティングされる。コーティング法には特に限定されなく、バーコート法、グラビアコート法、リバースコート法などの従来から知られている方法を使用することができる。   In the present invention, the prepared coating solution is coated on a substrate made of a transparent plastic film. The coating method is not particularly limited, and conventionally known methods such as a bar coating method, a gravure coating method, and a reverse coating method can be used.

また、硬化物層の厚みは１〜１０μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは２〜７μｍ、特に好ましくは３〜６μｍである。硬化物層の厚みが１μｍ未満の場合には、粒子が硬化物層から突出しやすくなり、硬化物層表面でのレンズ効果が大きく、ギラツキ現象が生じやすくなる。一方、硬化物層の厚みが１０μｍを超える場合には、硬化物層内部での光散乱の回数が増加し、透明導電性積層フィルムの透明性が低下する傾向がある。   Moreover, it is preferable that the thickness of a hardened | cured material layer is the range of 1-10 micrometers, More preferably, it is 2-7 micrometers, Especially preferably, it is 3-6 micrometers. When the thickness of the cured product layer is less than 1 μm, the particles easily protrude from the cured product layer, the lens effect on the surface of the cured product layer is large, and a glare phenomenon is likely to occur. On the other hand, when the thickness of a hardened | cured material layer exceeds 10 micrometers, the frequency | count of light scattering inside hardened | cured material layer increases, and there exists a tendency for the transparency of a transparent conductive laminated film to fall.

硬化物層に含有させる粒子としては特に限定はないが、無機粒子（例えば、シリカ、炭酸カルシウムなど）、耐熱性有機粒子（例えば、シリコン粒子、ＰＴＦＥ粒子、ポリイミド粒子など）、架橋高分子粒子（架橋ＰＳ粒子、架橋アクリル系粒子など）が例示される。これらの粒子の平均粒子径（電子顕微鏡法による）は、０．１〜１．５μｍが好ましく、０．３〜１．２μｍであることがより好ましい。平均粒子径が０．１μｍ未満の場合、可視光領域における光の散乱効果がなくなり、干渉縞の打ち消し効果がなくなる。一方、平均粒子径１．５μｍを超えると、各波長での散乱効率の差が大きくなり、高精細な液晶ディスプレイ等の表示体の前面に設置した場合、ギラツキ現象が生じるために視認性が低下する場合がある。   The particles to be contained in the cured product layer are not particularly limited, but inorganic particles (for example, silica, calcium carbonate, etc.), heat resistant organic particles (for example, silicon particles, PTFE particles, polyimide particles, etc.), crosslinked polymer particles ( Cross-linked PS particles, cross-linked acrylic particles, etc.). The average particle diameter (by electron microscopy) of these particles is preferably from 0.1 to 1.5 μm, and more preferably from 0.3 to 1.2 μm. When the average particle diameter is less than 0.1 μm, the light scattering effect in the visible light region is lost, and the interference fringe canceling effect is lost. On the other hand, when the average particle diameter exceeds 1.5 μm, the difference in scattering efficiency at each wavelength increases, and when installed on the front surface of a display body such as a high-definition liquid crystal display, the visibility deteriorates due to the glare phenomenon. There is a case.

添加する粒子の量は、前記樹脂１００質量部に対し、２〜３０質量部の範囲が好ましい。２質量部未満では防眩性が低下し、干渉縞が問題となる。一方、３０質量部を超えるとヘイズが高くなり、視認性が低下する。好ましくは３〜２５質量部であり、特に好ましくは５〜２０質量部である。   The amount of particles to be added is preferably in the range of 2 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin. If it is less than 2 parts by mass, the antiglare property is lowered and interference fringes become a problem. On the other hand, when it exceeds 30 mass parts, a haze will become high and visibility will fall. Preferably it is 3-25 mass parts, Most preferably, it is 5-20 mass parts.

また、透明導電性薄膜層と硬化物層との付着力を向上するために、硬化物層を更に表面処理することが有効である。具体的な方法としては、グロー放電又はコロナ放電を照射する放電処理法を用いて、カルボニル基、カルボキシル基、水酸基を増加させる方法、酸又はアルカリで処理する化学薬品処理法を用いて、アミノ基、水酸基、カルボニル基などの極性基を増加させる方法、などが挙げられる。   In order to improve the adhesion between the transparent conductive thin film layer and the cured product layer, it is effective to further treat the cured product surface. Specific methods include a discharge treatment method that irradiates glow discharge or corona discharge, a method of increasing carbonyl group, carboxyl group, hydroxyl group, a chemical treatment method of treating with acid or alkali, and an amino group. And a method of increasing polar groups such as a hydroxyl group and a carbonyl group.

（透明導電性薄膜層）
本発明における透明導電性薄膜の構成成分としては、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物などが挙げられる。これらのうち、環境安定性や回路加工性の観点から、インジウム−スズ複合酸化物が好適である。 (Transparent conductive thin film layer)
The constituent components of the transparent conductive thin film in the present invention include indium oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin composite oxide, tin-antimony composite oxide, zinc-aluminum composite oxide, indium-zinc composite oxide, and the like. Is mentioned. Of these, indium-tin composite oxides are preferable from the viewpoints of environmental stability and circuit processability.

インジウムに対するスズの含有量としては、０．５〜６０質量％が好ましい。０．５質量％未満であると透明導電性薄膜層の環境安定性が低下しやすくなる。一方、スズの含有量が６０質量％を超えると透明導電性薄膜層の導電性が悪くなり、好ましくない。   As content of tin with respect to indium, 0.5-60 mass% is preferable. If it is less than 0.5% by mass, the environmental stability of the transparent conductive thin film layer tends to be lowered. On the other hand, when the content of tin exceeds 60% by mass, the conductivity of the transparent conductive thin film layer is deteriorated, which is not preferable.

本発明において透明導電性薄膜層を積層して、透明導電性積層フィルムの表面抵抗値を好ましくは５０〜２０００Ω／□、更に好ましくは１００〜１５００Ω／□とすることによって、透明導電性積層フィルムとしてタッチパネルなどに使用できる。表面抵抗値が５０Ω／□未満であったり、２０００Ω／□を超える場合、タッチパネルの位置認識精度が悪くなり、好ましくない。   In the present invention, a transparent conductive thin film layer is laminated, and the surface resistance value of the transparent conductive laminated film is preferably 50 to 2000 Ω / □, more preferably 100 to 1500 Ω / □. Can be used for touch panels. When the surface resistance value is less than 50Ω / □ or exceeds 2000Ω / □, the position recognition accuracy of the touch panel is deteriorated, which is not preferable.

透明導電性薄膜層の膜厚は、４〜８００ｎｍの範囲が好ましく、更に好ましくは１０〜１２５ｎｍである。透明導電性薄膜層の膜厚が４ｎｍ未満の場合、連続した薄膜になりにくく、良好な導電性が得られにくくなる。一方、透明導電性薄膜層の膜厚が８００ｎｍよりも厚い場合、透明性が低下しやすくなる。   The thickness of the transparent conductive thin film layer is preferably in the range of 4 to 800 nm, more preferably 10 to 125 nm. When the film thickness of the transparent conductive thin film layer is less than 4 nm, it is difficult to form a continuous thin film, and it is difficult to obtain good conductivity. On the other hand, when the film thickness of the transparent conductive thin film layer is thicker than 800 nm, the transparency tends to decrease.

透明導電性薄膜層の層構造は、単層構造でもよいし、２層以上の積層構造でもよい。２層以上の積層構造を有する透明導電性薄膜層の場合、各層を構成する前記の金属酸化物は同一でもよいし、異なっていてもよい。   The layer structure of the transparent conductive thin film layer may be a single layer structure or a laminated structure of two or more layers. In the case of a transparent conductive thin film layer having a laminated structure of two or more layers, the metal oxides constituting each layer may be the same or different.

本発明における透明導電性薄膜層の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法などが知られており、必要とする膜厚に応じて、前記の方法を適宜用いることができる。
例えば、スパッタリング法の場合、酸化物ターゲットを用いた通常のスパッタリング法、あるいは、金属ターゲットを用いた反応性スパッタリング法等が用いられる。この時、反応性ガスとして、酸素、窒素、等を導入したり、オゾン添加、プラズマ照射、イオンアシスト等の手段を併用したりしてもよい。また、本発明の目的を損なわない範囲で、基板に直流、交流、高周波などのバイアスを印加してもよい。 As a method for forming a transparent conductive thin film layer in the present invention, a vacuum deposition method, a sputtering method, a CVD method, an ion plating method, a spray method, and the like are known, and depending on the required film thickness, The method can be used as appropriate.
For example, in the case of the sputtering method, a normal sputtering method using an oxide target, a reactive sputtering method using a metal target, or the like is used. At this time, oxygen, nitrogen, or the like may be introduced as a reactive gas, or means such as ozone addition, plasma irradiation, or ion assist may be used in combination. In addition, a bias such as direct current, alternating current, and high frequency may be applied to the substrate as long as the object of the present invention is not impaired.

また、透明導電性積層フィルムの透過率、カラー、反射率を変える目的で、透明導電性薄膜層と硬化物層の間に屈折率の異なる層を少なくとも２層以上設けることが好ましい。屈折率の異なる層として、例えば２層を設ける場合には、透明プラスチックフィルム側から屈折率が１．６０以上２．５０以下の層、屈折率が１．３０以上１．６０以下の層を積層することが好ましい。   In order to change the transmittance, color, and reflectance of the transparent conductive laminated film, it is preferable to provide at least two layers having different refractive indexes between the transparent conductive thin film layer and the cured product layer. For example, when two layers having different refractive indexes are provided, a layer having a refractive index of 1.60 to 2.50 and a layer having a refractive index of 1.30 to 1.60 are laminated from the transparent plastic film side. It is preferable to do.

屈折率が１．６０以上２．５０以下の層は、無機物、有機物と無機物の混合物からなる層である。無機物としては、Ｉｎ２Ｏ３、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５などの透明金属酸化物が一般的に用いられる。 A layer having a refractive index of 1.60 or more and 2.50 or less is a layer made of an inorganic substance, a mixture of an organic substance and an inorganic substance. As the inorganic substance, transparent metal oxides such as In 2 O 3 , TiO 2 , and Nb 2 O 5 are generally used.

有機物と無機物の混合物からなる層としては、電離放射線による硬化樹脂と金属酸化物を含み、屈折率が１．６０〜１．８０の範囲にある（以下、この層を高屈折層と称する）。前記の層の屈折率が１．６０未満の場合、反射防止性能に優れる透明導電性積層フィルムが得られにくくなる。また、前記の層の屈折率が１．８０を超える場合には、層を形成することが難しくなる。好ましい屈折率は、下限が１．７０であり、上限が１．８０である。   The layer composed of a mixture of an organic substance and an inorganic substance contains a cured resin and a metal oxide by ionizing radiation and has a refractive index in the range of 1.60 to 1.80 (hereinafter, this layer is referred to as a high refractive layer). When the refractive index of the said layer is less than 1.60, it becomes difficult to obtain the transparent conductive laminated film excellent in antireflection performance. Moreover, when the refractive index of the said layer exceeds 1.80, it becomes difficult to form a layer. A preferable refractive index has a lower limit of 1.70 and an upper limit of 1.80.

前記金属酸化物としては、屈折率が１．６０〜１．８０の範囲にある層が得られるものであればよく、特に限定されないが、透明導電性積層フィルムの透過率をさらに、向上させるために、その上に設けられる層との密着性に優れることが好ましい。このような点から、前記金属酸化物としては、上記条件を満たすものであればよく、特に限定はないが、例えば低屈折層がシロキサン系ポリマーの場合、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、酸化錫などを好ましく挙げることができる。これらの金属酸化物は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。   The metal oxide is not particularly limited as long as a layer having a refractive index in the range of 1.60 to 1.80 can be obtained. In order to further improve the transmittance of the transparent conductive laminated film. Moreover, it is preferable that the adhesiveness with the layer provided on it is excellent. From this point, the metal oxide is not particularly limited as long as the above conditions are satisfied. For example, when the low refractive layer is a siloxane-based polymer, antimony-doped tin oxide (ATO), tin oxide Etc. can be mentioned preferably. These metal oxides may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

屈折率が１．３０以上１．６０以下の層も、有機物、無機物、又は有機物と無機物の混合物からなる。無機物としては一般にＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３などの透明金属酸化物が用いられる。 The layer having a refractive index of 1.30 or more and 1.60 or less is also made of an organic material, an inorganic material, or a mixture of an organic material and an inorganic material. In general, transparent metal oxides such as SiO 2 and Al 2 O 3 are used as the inorganic substance.

有機物としては、透明導電性薄膜層との密着性という観点から、シロキサン系ポリマー、ポリウレタン、ポリエステル、アクリルのうち少なくとも１種類を含むものであって、屈折率が１．３０〜１．５５の範囲にあるものが好ましい。前記の屈折率が範囲外となる場合には、色表示性に優れる透明導電性積層フィルムが得られにくくなる。   The organic material includes at least one of siloxane-based polymer, polyurethane, polyester, and acryl from the viewpoint of adhesion to the transparent conductive thin film layer, and has a refractive index of 1.30 to 1.55. Are preferred. When the refractive index is out of the range, it becomes difficult to obtain a transparent conductive laminated film having excellent color display properties.

（ハードコート層）
また、タッチパネルとした際の最外層（ペン入力面）の耐擦傷性を、さらに改善させるために、透明プラスチックフィルムの透明導電性薄膜層を形成させた表面の反対面（タッチパネルとした際の最外層のペン入力面）に、ハードコート層を設けることが好ましい。前記ハードコート層の硬度は、鉛筆硬度で２Ｈ以上であることが好ましい。２Ｈ未満の硬度では、透明導電性積層フィルムのハードコート層としては耐擦傷性の点で不十分である。 (Hard coat layer)
In addition, in order to further improve the scratch resistance of the outermost layer (pen input surface) when the touch panel is used, the surface opposite to the surface on which the transparent conductive thin film layer of the transparent plastic film is formed (the most when the touch panel is used). It is preferable to provide a hard coat layer on the pen input surface of the outer layer. The hard coat layer preferably has a pencil hardness of 2H or more. When the hardness is less than 2H, the hard coat layer of the transparent conductive laminated film is insufficient in terms of scratch resistance.

前記のハードコート層の厚みは０．５〜１０μｍであることが好ましい。厚みが０．５μｍ未満では、耐擦傷性が不十分となりやすく、１０μｍよりも厚い場合には生産性の観点から好ましくない。   The thickness of the hard coat layer is preferably 0.5 to 10 μm. If the thickness is less than 0.5 μm, the scratch resistance tends to be insufficient, and if it is thicker than 10 μm, it is not preferable from the viewpoint of productivity.

前記のハードコート層に用いられる硬化型樹脂組成物は、アクリレート系の官能基を有する樹脂が好ましく、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能性化合物の（メタ）アクリート等のオリゴマー又はプレポリマーなどが挙げられる。   The curable resin composition used for the hard coat layer is preferably a resin having an acrylate functional group, such as a relatively low molecular weight polyester resin, polyether resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd. Examples include oligomers or prepolymers such as (meth) acrylates of polyfunctional compounds such as resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and polyhydric alcohols.

また、反応性希釈剤としては、エチル（メタ）アクリート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用できる。   Reactive diluents include monofunctional monomers such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone, and polyfunctional monomers such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate. , Hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) ) Those containing a relatively large amount of acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, etc. can be used.

本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を混合することが好ましい。   In the present invention, it is preferable to mix urethane acrylate as an oligomer and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate as a monomer.

また、前記ハードコート層に用いられる硬化型樹脂組成物としては、ポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートとの混合物が特に好適である。ポリエステルアクリレートは塗膜が非常に硬くてハードコート層として適している。しかしながら、ポリエステルアクリレート単独の塗膜では耐衝撃性が低く脆くなりやすいという問題がある。そこで、塗膜に耐衝撃性及び柔軟性を与えるために、ポリウレタンアクリレートを併用することが好ましい。すなわち、ポリエステルアクリレートにポリウレタンアクリレートを併用することで、塗膜はハードコート層としての硬度を維持しながら、耐衝撃性及び柔軟性という機能を具備することができる。   Moreover, as a curable resin composition used for the hard coat layer, a mixture of polyester acrylate and polyurethane acrylate is particularly suitable. Polyester acrylate has a very hard coating and is suitable as a hard coat layer. However, a coating film of polyester acrylate alone has a problem that it has low impact resistance and tends to be brittle. Therefore, in order to give impact resistance and flexibility to the coating film, it is preferable to use polyurethane acrylate together. That is, by using polyurethane acrylate together with polyester acrylate, the coating film can have functions of impact resistance and flexibility while maintaining the hardness as a hard coat layer.

両者の配合割合は、ポリエステルアクリレート樹脂１００質量部に対し、ポリウレタンアクリレート樹脂を３０質量部以下とするのが好ましい。ポリウレタンアクリレート樹脂の配合割合が３０質量部を超えると、塗膜が柔らかくなりすぎて耐衝撃性が不十分となる傾向がある。   The blending ratio of both is preferably 30 parts by mass or less of the polyurethane acrylate resin with respect to 100 parts by mass of the polyester acrylate resin. When the blending ratio of the polyurethane acrylate resin exceeds 30 parts by mass, the coating film becomes too soft and the impact resistance tends to be insufficient.

前記の硬化型樹脂組成物の硬化方法は、通常の硬化方法、すなわち、加熱、電子線又は紫外線の照射によって硬化する方法を用いることができる。例えば、電子線硬化の場合は、コックロフトワルトン型、ハンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用される。また、紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハイライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。   The curing method of the curable resin composition may be a normal curing method, that is, a method of curing by heating, electron beam or ultraviolet irradiation. For example, in the case of electron beam curing, 50 to 1000 keV emitted from various electron beam accelerators such as a Cockloft Walton type, a handicograph type, a resonant transformation type, an insulating core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type. Preferably, an electron beam having an energy of 100 to 300 keV is used. In the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays emitted from light rays such as an ultra-high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp can be used.

さらに、電離放射線硬化の場合には、前記の硬化型樹脂組成物中に光重合開始剤や光増感剤を含有させることが好ましい。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類などが挙げられる。また、光増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等が好ましい。   Furthermore, in the case of ionizing radiation curing, it is preferable to include a photopolymerization initiator or a photosensitizer in the curable resin composition. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, tetramethylthiuram monosulfide, and thioxanthones. Moreover, as a photosensitizer, n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, etc. are preferable.

ハードコート層に防眩性を付与するためには、硬化型樹脂中にＣａＣＯ３やＳｉＯ２などの無機粒子を分散させる方法、あるいはハードコート層の表面に凹凸形状を形成させる方法が有効である。例えば、凹凸を形成するためには、硬化型樹脂組成物を含む塗液を塗工後、表面に凸形状を有する賦形フィルムをラミネートし、この賦形フィルム上から紫外線を照射し硬化型樹脂を硬化させた後に、賦形フィルムのみを剥離することにより得られる。 In order to impart antiglare properties to the hard coat layer, it is effective to disperse inorganic particles such as CaCO 3 and SiO 2 in the curable resin, or to form an uneven shape on the surface of the hard coat layer. . For example, in order to form unevenness, after applying a coating liquid containing a curable resin composition, a surface-shaped film having a convex shape is laminated, and ultraviolet rays are irradiated on the shaped film to curable resin. After curing, it is obtained by peeling only the shaped film.

前記の賦型フィルムには、離型性を有するポリエチレンテレフタレート（以後、ＰＥＴと略す）等の基材フィルム上に所望の凸形状を設けたもの、あるいは、ＰＥＴ等の基材フィルム上に繊細な凸層を形成したもの等を用いることができる。その凸層の形成は、例えば、無機粒子とバインダー樹脂からなる樹脂組成物を用いて基材フィルム上に塗工することにより得ることができる。   The moldable film has a desired convex shape on a base film such as polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET) having releasability, or a fine film on a base film such as PET. What formed the convex layer etc. can be used. Formation of the convex layer can be obtained, for example, by coating on a base film using a resin composition comprising inorganic particles and a binder resin.

前記バインダー樹脂としては、例えば、ポリイソシアネートで架橋されたアクリルポリオールを用い、無機粒子としては、ＣａＣＯ３やＳｉＯ２などを用いることができる。また、この他にＰＥＴ製造時にＳｉＯ２等の無機粒子を練込んだマットタイプのＰＥＴも用いることができる。 As the binder resin, for example, an acrylic polyol cross-linked with polyisocyanate can be used, and as the inorganic particles, CaCO 3 , SiO 2 or the like can be used. In addition, mat-type PET in which inorganic particles such as SiO 2 are kneaded at the time of PET production can also be used.

この賦型フィルムを紫外線硬化型樹脂の塗膜にラミネートした後紫外線を照射して塗膜を硬化する場合、賦型フィルムがＰＥＴを基材としたフィルムの場合、該フィルムに紫外線の短波長側が吸収され、紫外線硬化型樹脂の硬化が不足するという欠点がある。したがって、紫外線硬化型樹脂の塗膜にラミネートする賦型フィルムの全光線透過率が２０％以上のものを使用することが必要である。   When this shaped film is laminated on a coating film of an ultraviolet curable resin and then the coating film is cured by irradiating with ultraviolet rays, when the shaping film is a PET-based film, the ultraviolet light has a short wavelength side. There is a drawback that the UV curable resin is absorbed and insufficiently cured. Therefore, it is necessary to use a moldable film that is laminated on the UV curable resin coating film having a total light transmittance of 20% or more.

また、タッチパネルに用いた際に可視光線の透過率をさらに向上させるために、ハードコート層上に低反射処理を施してもよい。この低反射処理は、ハードコート層の屈折率とは異なる屈折率を有する材料を単層もしくは２層以上に積層することが好ましい。   Moreover, in order to further improve the visible light transmittance when used in a touch panel, a low reflection treatment may be performed on the hard coat layer. In this low reflection treatment, a material having a refractive index different from that of the hard coat layer is preferably laminated in a single layer or two or more layers.

単層構造の場合、ハードコート層よりも小さな屈折率を有する材料を用いるのが好ましい。また、２層以上の多層構造とする場合は、ハードコート層と隣接する層は、ハードコート層よりも大きな屈折率を有する材料を用い、この上の層にはこれよりも小さな屈折率を有する材料を選ぶのがよい。このような低反射処理を構成する材料としては、有機材料でも無機材料でも上記の屈折率の関係を満足すれば特に限定されない。例えば、ＣａＦ２、ＭｇＦ２ 、ＮａＡｌＦ４ 、ＳｉＯ２ 、ＴｈＦ４ 、ＺｒＯ２ 、Ｎｄ２Ｏ３ 、ＳｎＯ２ 、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２ 、ＺｎＳ、Ｉｎ２Ｏ３ 、などの誘電体を用いるのが好ましい。 In the case of a single layer structure, it is preferable to use a material having a refractive index smaller than that of the hard coat layer. In the case of a multilayer structure of two or more layers, a material having a higher refractive index than that of the hard coat layer is used for the layer adjacent to the hard coat layer, and the upper layer has a lower refractive index. It is better to choose the material. The material constituting such a low reflection treatment is not particularly limited as long as the above refractive index relationship is satisfied, whether it is an organic material or an inorganic material. For example, it is preferable to use a dielectric such as CaF 2 , MgF 2 , NaAlF 4 , SiO 2 , ThF 4 , ZrO 2 , Nd 2 O 3 , SnO 2 , TiO 2 , CeO 2 , ZnS, In 2 O 3 . .

この低反射処理は、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法などのドライコーティングプロセスでも、グラビア方式、リバース方式、ダイ方式などのウェットコーティングプロセスでもよい。   This low reflection treatment may be a dry coating process such as a vacuum deposition method, a sputtering method, a CVD method, or an ion plating method, or a wet coating process such as a gravure method, a reverse method, or a die method.

さらに、この低反射処理層の積層に先立って、前処理として、コロナ放電処理、プラズマ処理、スパッタエッチング処理、電子線照射処理、紫外線照射処理、プライマ処理、易接着処理などの公知の表面処理をハードコート層に施してもよい。   Furthermore, prior to the lamination of the low reflection treatment layer, as a pretreatment, known surface treatments such as corona discharge treatment, plasma treatment, sputter etching treatment, electron beam irradiation treatment, ultraviolet irradiation treatment, primer treatment, and easy adhesion treatment are performed. It may be applied to the hard coat layer.

本発明の透明導電性積層フィルムを用い、透明導電性薄膜層を形成していない面と粘着剤を介して透明樹脂シートと積層することで、タッチパネルの固定電極に用いる透明導電性積層シートが得られる。すなわち、タッチパネルの固定電極の基板をガラスから透明樹脂シートに変更することで、軽量かつ割れにくいタッチパネルを作製することができる。   Using the transparent conductive laminated film of the present invention, a transparent conductive laminated sheet used for a fixed electrode of a touch panel is obtained by laminating with a transparent resin sheet via a surface on which a transparent conductive thin film layer is not formed and an adhesive. It is done. That is, by changing the substrate of the fixed electrode of the touch panel from glass to a transparent resin sheet, a touch panel that is light and difficult to break can be produced.

前記の粘着剤は、透明性を有するものであれば特に限定はないが、例えばアクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤などが好適である。この粘着剤の厚さは特に限定はないが、通常１〜１００μｍの範囲に設定するのが望ましい。粘着剤の厚みが１μｍ未満の厚さの場合、実用上問題のない接着性を得るのが難しく、１００μｍを越える厚さでは生産性の観点から好ましくない。   The pressure-sensitive adhesive is not particularly limited as long as it has transparency, but for example, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a silicone pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive and the like are suitable. The thickness of this pressure-sensitive adhesive is not particularly limited, but it is usually desirable to set it in the range of 1 to 100 μm. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive is less than 1 μm, it is difficult to obtain adhesiveness having no practical problem, and a thickness exceeding 100 μm is not preferable from the viewpoint of productivity.

この粘着剤を介して貼合わせる透明樹脂シートは、ガラスと同等の機械的強度を付与するために使用するものであり、厚さは０．０５〜５ｍｍの範囲が好ましい。前記透明樹脂シートの厚みが０．０５ｍｍ未満では、機械的強度がガラスに比べ不足する。一方、厚さが５ｍｍを越える場合には、厚すぎてタッチパネルに用いるには不適当である。また、この透明樹脂シートの材質は、前記の透明プラスチックフィルムと同様のものを使用することができる。   The transparent resin sheet to be bonded via this pressure-sensitive adhesive is used for imparting mechanical strength equivalent to that of glass, and the thickness is preferably in the range of 0.05 to 5 mm. When the thickness of the transparent resin sheet is less than 0.05 mm, the mechanical strength is insufficient as compared with glass. On the other hand, when the thickness exceeds 5 mm, it is too thick to be used for a touch panel. Moreover, the material similar to the said transparent plastic film can be used for the material of this transparent resin sheet.

図１に、本発明の透明導電性積層フィルムを用いた、タッチパネルの例を示す。これは、透明導電性薄膜層を有する一対のパネル板を、透明導電性薄膜層が対向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネルにおいて、一方のパネル板に本発明の透明導電性積層フィルムを用いたものである。   FIG. 1 shows an example of a touch panel using the transparent conductive laminated film of the present invention. This is a touch panel in which a pair of panel plates each having a transparent conductive thin film layer are arranged via a spacer so that the transparent conductive thin film layers face each other. Is used.

このタッチパネルは、ペンにより文字を入力した時に、ペンからの押圧により、対向した透明導電性薄膜層同士が接触し、電気的にＯＮの状態になり、タッチパネル上でのペンの位置を検出することができる。このペン位置を連続的かつ正確に検出することで、ペンの軌跡から文字を認識することができる。この際、ペン接触側の可動電極が本発明の透明導電性積層フィルムを用いると、ペン摺動耐久性に優れるため、長期にわたって安定なタッチパネルとすることができる。   This touch panel detects the position of the pen on the touch panel when the characters are input by the pen and the transparent conductive thin film layers facing each other come into contact with each other by pressing from the pen. Can do. By detecting the pen position continuously and accurately, characters can be recognized from the pen trajectory. At this time, when the movable electrode on the pen contact side uses the transparent conductive laminated film of the present invention, since the pen sliding durability is excellent, a stable touch panel can be obtained over a long period of time.

なお、本発明の透明導電性積層フィルム及び透明導電性積層シートを使用して得た、ガラス基板を用いないプラスチック製のタッチパネルの断面図を図２に示した。このプラスチック製のタッチパネルは、ガラスを用いていないため、非常に軽量であり、かつ、衝撃により割れたりすることがない。   In addition, sectional drawing of the plastic touchscreen which does not use a glass substrate obtained using the transparent conductive laminated film and transparent conductive laminated sheet of this invention was shown in FIG. Since this plastic touch panel does not use glass, it is very lightweight and does not break due to impact.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。なお、透明導電性積層フィルムの性能は、下記の方法により測定した。
（１）全光線透過率、ヘイズ
ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準拠し、日本電色工業（株）製、ＮＤＨ−１００１ＤＰを用いて、全光線透過率を測定した。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited at all by these Examples. In addition, the performance of the transparent conductive laminated film was measured by the following method.
(1) Total light transmittance, haze Based on JIS-K7136, the total light transmittance was measured using NDH-1001DP by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.

（２）表面抵抗値
ＪＩＳ−Ｋ７１９４に準拠し、４端子法にて表面抵抗値を測定した。測定器は、三菱油化（株）製、Ｌｏｔｅｓｔ ＡＭＣＰ−Ｔ４００を用いた。 (2) Surface resistance value Based on JIS-K7194, the surface resistance value was measured by the 4-terminal method. As a measuring instrument, Lotest AMCP-T400 manufactured by Mitsubishi Oil Chemical Co., Ltd. was used.

（３）カラーｂ値
ＪＩＳ−Ｋ７１０５に準拠し、色差計（日本電色工業製、ＺＥ−２０００）を用いて、標準の光Ｃ／２でカラーｂ値を測定した。 (3) Color b value Based on JIS-K7105, the color b value was measured with standard light C / 2 using a color difference meter (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., ZE-2000).

（４）ギラツキ評価
富士通社製ＦＭＶ−ＢＩＢＬＯＬＯＯＸ Ｔ７０Ｍ／Ｔを用いて画面を緑色表示にしてフィルムをその前においてギラツキを目視によって評価した。
○： ギラツキが全く気にならない
△： ギラツキが少し気になる
×： ギラツキが気になる (4) Glitter evaluation The screen was displayed in green using FMV-BIBLOOX T70M / T manufactured by Fujitsu Ltd., and the glare was visually evaluated before the film.
○: I don't care about glare △: I'm worried about glare a little: I'm worried about glare

（５）像鮮明度
ＪＩＳ−Ｋ７１０５（１９９９年版）に準拠し、スガ試験機社製ＩＣＭ−１Ｔを用いて、光学くしが０．１２５ｍｍ、２．０ｍｍでの像鮮明度を測定した。 (5) Image sharpness Based on JIS-K7105 (1999 edition), image sharpness was measured at 0.125 mm and 2.0 mm with an optical comb using ICM-1T manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.

（６）ペン摺動耐久性試験
ポリアセタール製のペン（先端の形状：０．８ｍｍＲ）に５Ｎの荷重をかけ、１０万回（往復５万回）の直線摺動試験をタッチパネルに行った。この時の摺動距離は３０ｍｍ、摺動速度は６０ｍｍ／秒とした。この摺動耐久性試験後に、摺動部が白化しているかを目視によって観察した。
○： 摺動部位が全く白化していない
△： 摺動部位が少し白化
×： 摺動部位が白化 (6) Pen sliding durability test A 5 N load was applied to a polyacetal pen (tip shape: 0.8 mmR), and a linear sliding test was performed 100,000 times (50,000 round trips) on the touch panel. The sliding distance at this time was 30 mm, and the sliding speed was 60 mm / second. After this sliding durability test, it was visually observed whether the sliding portion was whitened.
○: The sliding part is not whitened. Δ: The sliding part is slightly whitened. X: The sliding part is whitened.

（７）付着力測定
４０μｍ厚のアイオノマーフィルムを、ポリエステル系接着剤を用いて、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムにラミネートし、付着力測定用積層体を作製した。この付着力測定用積層体のアイオノマー面と透明導電性積層フィルムの透明導電性薄膜層の面を対向させ、１３０℃でヒートシールした。この積層体を付着力測定用積層体と透明導電性積層フィルムとを１８０度剥離法で剥離し、この剥離力を付着力とした。この時の剥離速度は１０００ｍｍ／分とした。 (7) Adhesive force measurement A 40 μm-thick ionomer film was laminated to a 75 μm-thick polyethylene terephthalate film using a polyester-based adhesive to produce a laminate for measuring an adhesive force. The ionomer surface of the laminate for measuring adhesion force and the surface of the transparent conductive thin film layer of the transparent conductive laminated film were opposed to each other and heat sealed at 130 ° C. The laminate was peeled from the laminate for measuring adhesive force and the transparent conductive laminated film by a 180-degree peeling method, and this peeling force was defined as the adhesive force. The peeling speed at this time was 1000 mm / min.

（８）粒子の平均粒子径
粒子を走査型電子顕微鏡（日立製作所製、Ｓ２５００）で観察し、粒子の大きさに応じて適宜倍率を変え、写真撮影したものを拡大コピーした。次いで、ランダムに選んだ少なくとも２００個以上の粒子について、各粒子の外周を黒色のペンでトレースし塗り潰した。画像解析装置にてこれらのトレース像から粒子の円相当径を測定し、それらの平均値を平均粒子径とした。
（９）表面粗さ
ガラス板上に透明導電性積層フィルムを密着させ、ＪＩＳ Ｂ０６０１に準拠し、二次元表面粗さ測定機（東京精密株式会社製、サーフコム３００Ｂ）を用いて、カットオフ０．０８ｍｍ、測定長０．４ｍｍ、触針の荷重４ｍＮ、触針速度０．３ｍｍ／分、触針径２μｍ、縦倍率：５万倍の条件で中心線平均粗さ（Ｒａ）を測定した。 (8) Average particle diameter of particles The particles were observed with a scanning electron microscope (S2500, manufactured by Hitachi, Ltd.), the magnification was appropriately changed according to the size of the particles, and the photographed image was enlarged and copied. Subsequently, for at least 200 particles randomly selected, the outer periphery of each particle was traced with a black pen and painted. The equivalent circle diameters of the particles were measured from these trace images with an image analyzer, and the average value thereof was taken as the average particle diameter.
(9) Surface Roughness A transparent conductive laminated film is brought into close contact with a glass plate, and is cut off using a two-dimensional surface roughness measuring machine (manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., Surfcom 300B) in accordance with JIS B0601. Centerline average roughness (Ra) was measured under the conditions of 08 mm, measurement length 0.4 mm, stylus load 4 mN, stylus speed 0.3 mm / min, stylus diameter 2 μm, and vertical magnification: 50,000 times.

（１０）表面張力
作製した試料の透明導電性薄膜層の表面に蒸留水の水滴と、ヨウ化メチレンの液滴のフィルム表面との静的接触角を接触角計ＣＡ−Ｘ型（協和界面科学（株）製）で測定した。水及びヨウ化メチレンの前記接触角より、Ｏｗｅｎｓらの方法［Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，Ｖｏｌ．１３，ｐｐ．１７４１−１７４７（１９６９）］に準じて、表面張力（極性力成分及び分散力成分の和）を算出した。 (10) Surface tension The static contact angle between the water droplets of distilled water and the film surface of methylene iodide droplets on the surface of the transparent conductive thin film layer of the prepared sample is a contact angle meter CA-X (Kyowa Interface Science). (Made by Co., Ltd.). From the contact angles of water and methylene iodide, the method of Owens et al. [J. Appl. Polym. Sci. , Vol. 13, pp. 1741-1747 (1969)], the surface tension (the sum of the polar force component and the dispersion force component) was calculated.

（１１）干渉縞
透明導電性積層フィルムの透明導電性薄膜層の表面の反対面に黒インクを塗り、三波長の蛍光灯下で干渉縞を目視によって評価した。
○： 干渉縞が全く気にならない
△： 干渉縞が少し気になる
×： 干渉縞が気になる (11) Interference fringes Black ink was applied to the surface opposite to the surface of the transparent conductive thin film layer of the transparent conductive laminated film, and the interference fringes were visually evaluated under a three-wavelength fluorescent lamp.
○: I don't care about interference fringes. △: I'm worried about interference fringes a little.

〔実施例１〕
光重合開始剤含有紫外線硬化型アクリル系樹脂（大日精化工業社製、セイカビームＥＸＦ−０１Ｊ）１００質量部に、平均粒子径０．５μｍのシリカ粒子１０質量部、溶剤としてトルエン／ＭＥＫ（８０／２０：質量比）の混合溶媒を、固形分濃度が５０質量％になるように加え、撹拌して均一に溶解し塗布液を調製した。 [Example 1]
100 parts by mass of a photopolymerization initiator-containing ultraviolet curable acrylic resin (Daiichi Seika Kogyo Co., Ltd., Seika Beam EXF-01J), 10 parts by mass of silica particles having an average particle size of 0.5 μm, and toluene / MEK (80 / 20: mass ratio) was added so that the solid content concentration was 50% by mass, and the mixture was stirred and dissolved uniformly to prepare a coating solution.

両面に易接着層を有する二軸配向透明ＰＥＴフィルム（東洋紡績社製、Ａ４３４０、厚み１８８μｍ）に、塗膜の厚みが５μｍになるように、調製した塗布液を、マイヤーバーを用いて塗布した。８０℃で１分間乾燥を行った後、紫外線照射装置（アイグラフィックス社製、ＵＢ０４２−５ＡＭ−Ｗ型）を用いて紫外線を照射（光量：３００ｍＪ／ｃｍ２）し、塗膜を硬化させた。 The prepared coating solution was applied to a biaxially oriented transparent PET film (Toyobo Co., Ltd., A4340, thickness 188 μm) having an easy-adhesion layer on both sides using a Meyer bar so that the coating thickness was 5 μm. . After drying at 80 ° C. for 1 minute, the coating film was cured by irradiating with ultraviolet rays (light quantity: 300 mJ / cm 2 ) using an ultraviolet ray irradiation device (UB042-5AM-W type, manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.). .

また、この硬化物層を積層した二軸配向透明ＰＥＴフィルムを真空暴露するために、真空チェンバー中で巻き返し処理を行った。このときの圧力は０．００２Ｐａであり、暴露時間は２０分とした。また、センターロールの温度は４０℃とした。   Moreover, in order to expose the biaxially oriented transparent PET film on which the cured product layer was laminated in a vacuum, a rewinding process was performed in a vacuum chamber. The pressure at this time was 0.002 Pa, and the exposure time was 20 minutes. The temperature of the center roll was 40 ° C.

次に、この硬化物層上に透明導電性薄膜層としてインジウム−スズ複合酸化物からなる透明導電性薄膜層を成膜した。このとき、スパッタリング前の圧力を０．０００１Ｐａとし、ターゲットとして酸化スズを３６質量％含有した酸化インジウム（住友金属鉱山社製、密度６．９ｇ／ｃｍ３）に用いて、２Ｗ／ｃｍ２のＤＣ電力を印加した。また、Ａｒガスを１３０ｓｃｃｍ、Ｏ２ガスを表面抵抗値が最小となるＯ２流速を流し、０．４Ｐａの雰囲気下でＤＣマグネトロンスパッタリング法を用いて成膜した。また、センターロール温度は０℃として、スパッタリングを行った。 Next, a transparent conductive thin film layer made of indium-tin composite oxide was formed as a transparent conductive thin film layer on the cured product layer. At this time, the pressure before sputtering was 0.0001 Pa, and the target was indium oxide containing 36% by mass of tin oxide (manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., density: 6.9 g / cm 3 ). DC of 2 W / cm 2 Power was applied. Further, Ar gas was flowed at 130 sccm, O 2 gas was flowed at an O 2 flow rate at which the surface resistance value was minimized, and a film was formed by DC magnetron sputtering in an atmosphere of 0.4 Pa. The center roll temperature was 0 ° C. and sputtering was performed.

また、雰囲気の酸素分圧をスパッタプロセスモニター（ＬＥＹＢＯＬＤ ＩＮＦＩＣＯＮ社製、ＸＰＲ２）にて常時観測しながら、インジウム−スズ複合酸化物薄膜層中の酸化度が一定になるように酸素ガスの流量計及びＤＣ電源にフィートバックした。以上のようにして、厚さ２２ｎｍのインジウム−スズ複合酸化物からなる透明導電性薄膜層を堆積させた。   In addition, while constantly monitoring the oxygen partial pressure of the atmosphere with a sputtering process monitor (manufactured by LEYBOLD INFICON, XPR2), an oxygen gas flow meter and a flowmeter so that the degree of oxidation in the indium-tin composite oxide thin film layer becomes constant I went back to DC power. As described above, a transparent conductive thin film layer made of an indium-tin composite oxide having a thickness of 22 nm was deposited.

＜タッチパネルの作製＞
この透明導電性積層フィルムを一方のパネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基板上にプラズマＣＶＤ法で厚みが２０ｎｍのインジウム−スズ複合酸化物薄膜（酸化スズ含有量：１０質量％）からなる透明導電性薄膜基板（日本曹達社製、Ｓ５００）を用いた。この２枚のパネル板を透明導電性薄膜層が対向するように、直径３０μｍのエポキシビーズを介して、配置しタッチパネルを作製した。 <Production of touch panel>
Using this transparent conductive laminated film as one panel plate, from the indium-tin composite oxide thin film (tin oxide content: 10 mass%) having a thickness of 20 nm on the glass substrate by plasma CVD as the other panel plate A transparent conductive thin film substrate (Nippon Soda Co., Ltd., S500) was used. The two panel plates were arranged via epoxy beads having a diameter of 30 μm so that the transparent conductive thin film layers were opposed to each other, thereby manufacturing a touch panel.

〔実施例２〕
硬化物層に平均粒子径１．２μｍのシリカ粒子を添加する以外は実施例１と同様にして透明導電性積層フィルムを作製した。 [Example 2]
A transparent conductive laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that silica particles having an average particle diameter of 1.2 μm were added to the cured product layer.

〔実施例３〕
硬化物層に平均粒子径０．３μｍのシリカ粒子を添加する以外は実施例１と同様にして透明導電性積層フィルムを作製した。 Example 3
A transparent conductive laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that silica particles having an average particle diameter of 0.3 μm were added to the cured product layer.

〔実施例４〕
硬化物層に添加する粒子の量を２０質量部に変更する以外は実施例１と同様にして透明導電性積層フィルムを作製した。 Example 4
A transparent conductive laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount of particles added to the cured product layer was changed to 20 parts by mass.

〔実施例５〕
実施例１の塗工液にシリコーン系界面活性剤 ０．０３２４質量％（ダウコーニング製、ペインタッド５７；ＨＬＢ＝６．７）を添加する以外は実施例１と同様にして透明導電性積層フィルムを作製した。
〔実施例６〕
実施例１の塗工液にシリコーン系界面活性剤 ０．０３２４質量％（日本ユニカー製、ＦＺ−２１０５；ＨＬＢ＝１１）を添加する以外は実施例１と同様にして透明導電性積層フィルムを作製した。
〔実施例７〕
実施例１の塗工液にシリコーン系界面活性剤 ０．０３２４質量％（日本ユニカー製、ＦＺ−２１３６；ＨＬＢ＝３）を添加する以外は実施例１と同様にして透明導電性積層フィルムを作製した。
〔実施例８〕
実施例５の界面活性剤の量を０．０２質量％に変更する以外は実施例１と同様にして透明導電性積層フィルムを作製した。
〔実施例９〕
実施例５の界面活性剤の量を１．５質量％に変更する以外は実施例１と同様にして透明導電性積層フィルムを作製した。
〔実施例１０〕
実施例１の塗工液にシリコーン系界面活性剤 ０．０３２４質量％（日本ユニカー製、ＦＺ−２１１０；ＨＬＢ＝１）を添加する以外は実施例１と同様にして透明導電性積層フィルムを作製した。
〔実施例１１〕
実施例１の塗工液にシリコーン系界面活性剤 ０．０３２４質量％（東芝シリコーン製、ＴＳＦ４４４０；ＨＬＢ＝１４）を添加する以外は実施例１と同様にして透明導電性積層フィルムを作製した。 Example 5
A transparent conductive laminated film was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.0324% by mass of a silicone surfactant (Dow Corning, Paintad 57; HLB = 6.7) was added to the coating liquid of Example 1. Produced.
Example 6
A transparent conductive laminated film is produced in the same manner as in Example 1 except that 0.0324% by mass of a silicone-based surfactant (manufactured by Nihon Unicar, FZ-2105; HLB = 11) is added to the coating liquid of Example 1. did.
Example 7
A transparent conductive laminated film is produced in the same manner as in Example 1 except that 0.0324% by mass of a silicone-based surfactant (manufactured by Nihon Unicar, FZ-2136; HLB = 3) is added to the coating liquid of Example 1. did.
Example 8
A transparent conductive laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount of the surfactant in Example 5 was changed to 0.02% by mass.
Example 9
A transparent conductive laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount of the surfactant in Example 5 was changed to 1.5% by mass.
Example 10
A transparent conductive laminated film is produced in the same manner as in Example 1 except that 0.0324% by mass of a silicone-based surfactant (manufactured by Nihon Unicar, FZ-2110; HLB = 1) is added to the coating liquid of Example 1. did.
Example 11
A transparent conductive laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that 0.0324% by mass of a silicone-based surfactant (TSF4440; HLB = 14, manufactured by Toshiba Silicone) was added to the coating liquid of Example 1.

〔実施例１２〕
実施例１において、二軸配向透明ＰＥＴフィルムからなる基材／硬化物層からなる積層体の、硬化物層面の反対面にハードコート層樹脂としてポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートとの混合物からなる紫外線硬化型樹脂（大日精化工業社製、ＥＸＧ）を乾燥後の膜厚が５μｍになるようにグラビアリバース法により塗布し、溶剤を乾燥させた。この後、１６０Ｗの紫外線照射装置の下を１０ｍ／分の速度で通過させ、紫外線硬化型樹脂を硬化させ、ハードコート層を形成させた。 Example 12
In Example 1, an ultraviolet curable type comprising a mixture of a polyester acrylate and a polyurethane acrylate as a hard coat layer resin on the opposite side of the cured product layer surface of a laminate comprising a base material / cured product layer comprising a biaxially oriented transparent PET film. Resin (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., EXG) was applied by a gravure reverse method so that the film thickness after drying was 5 μm, and the solvent was dried. Then, it passed under a 160 W ultraviolet irradiation device at a speed of 10 m / min to cure the ultraviolet curable resin and form a hard coat layer.

このハードコート層／二軸配向透明ＰＥＴフィルムからなる基材／硬化物層からなる積層体の硬化物層上に、実施例１と同様にしてインジウム−スズ複合酸化物薄膜層を成膜した。さらに、この透明導電性積層フィルムを用いて、実施例１と同様にしてタッチパネルを作製した。   An indium-tin composite oxide thin film layer was formed in the same manner as in Example 1 on the cured product layer of the laminate comprising the hard coat layer / biaxially oriented transparent PET film and the cured product layer. Furthermore, a touch panel was produced in the same manner as in Example 1 using this transparent conductive laminated film.

〔実施例１３〕
実施例１と同様にして、二軸配向透明ＰＥＴフィルムからなる基材／硬化物層からなる積層体を作製した。次に、この積層体の硬化物層面の反対面にも同様の硬化物層を積層した。 Example 13
In the same manner as in Example 1, a laminate composed of a substrate / cured material layer composed of a biaxially oriented transparent PET film was produced. Next, the same hardened | cured material layer was laminated | stacked also on the opposite surface of the hardened | cured material layer surface of this laminated body.

この硬化物層／基材／硬化物層からなる積層体の硬化物層上に、実施例１と同様にしてインジウム−スズ複合酸化物薄膜を透明導電性薄膜層として成膜した。さらに、この透明導電性積層フィルムを一方のパネル板として用い、実施例１と同様にしてタッチパネルを作製した。 An indium-tin composite oxide thin film was formed as a transparent conductive thin film layer in the same manner as in Example 1 on the cured product layer of the laminate comprising the cured product layer / base material / cured product layer. Furthermore, using this transparent conductive laminated film as one panel plate, a touch panel was prepared in the same manner as in Example 1.

〔実施例１４〕
実施例１３と同様にして硬化物層／基材／硬化物層／透明導電性薄膜層からなる積層体を作製し、次いで、この硬化物層上に順次ＴｉＯ２薄膜層（屈折率：２．３０、膜厚１５ｎｍ）、ＳｉＯ２薄膜層（屈折率：１．４６、膜厚２９ｎｍ）、ＴｉＯ２薄膜層（屈折率：２．３０、膜厚１０９ｎｍ）、ＳｉＯ２薄膜層（屈折率：１．４６、膜厚８７ｎｍ）を積層することで反射防止処理層を形成した。ＴｉＯ２薄膜層を形成するには、チタンをターゲットに用いて、直流マグネトロンスパッタリング法で、真空度を０．２７Ｐａとし、ガスとしてＡｒガスを５００ｓｃｃｍ、Ｏ２ガスを８０ｓｃｃｍの流速で流した。また、基板の背面には表面温度が０℃の冷却ロールを設けて、透明プラスチックフィルムを冷却した。このときのターゲットには７．８Ｗ／ｃｍ２の電力を供給し、ダイナミックレートは２３ｎｍ・ｍ／分であった。 Example 14
A laminate comprising a cured product layer / base material / cured product layer / transparent conductive thin film layer was produced in the same manner as in Example 13, and then a TiO 2 thin film layer (refractive index: 2.. 30, film thickness 15 nm), SiO 2 thin film layer (refractive index: 1.46, film thickness 29 nm), TiO 2 thin film layer (refractive index: 2.30, film thickness 109 nm), SiO 2 thin film layer (refractive index: 1). .46, film thickness 87 nm) to form an antireflection treatment layer. In order to form a TiO 2 thin film layer, titanium was used as a target, the degree of vacuum was 0.27 Pa, and Ar gas was flowed at a flow rate of 500 sccm and O 2 gas was flowed at a flow rate of 80 sccm by a direct current magnetron sputtering method. Further, a cooling roll having a surface temperature of 0 ° C. was provided on the back surface of the substrate to cool the transparent plastic film. At this time, a power of 7.8 W / cm 2 was supplied to the target, and the dynamic rate was 23 nm · m / min.

ＳｉＯ２薄膜を形成するには、シリコンをターゲットに用いて、直流マグネトロンスパッタリング法で、真空度を０．２７Ｐａ、ガスとしてＡｒガスを５００ｓｃｃｍ、Ｏ２ガスを８０ｓｃｃｍの流速で流した。また、基板の背面には０℃の冷却ロールを設けて、透明プラスチックフィルムを冷却した。このときのターゲットには７．８Ｗ／ｃｍ２の電力を供給し、ダイナミックレートは２３ｎｍ・ｍ／分であった。さらに、この透明導電性積層フィルムを一方のパネル板として用い、実施例１と同様にしてタッチパネルを作製した。 In order to form the SiO 2 thin film, silicon was used as a target, and the degree of vacuum was 0.27 Pa, Ar gas was flowed at a rate of 500 sccm, and O 2 gas was flowed at a flow rate of 80 sccm by a direct current magnetron sputtering method. Further, a 0 ° C. cooling roll was provided on the back surface of the substrate to cool the transparent plastic film. At this time, a power of 7.8 W / cm 2 was supplied to the target, and the dynamic rate was 23 nm · m / min. Furthermore, using this transparent conductive laminated film as one panel plate, a touch panel was prepared in the same manner as in Example 1.

〔実施例１５〕
実施例１で作製した透明導電性積層フィルムを、アクリル系粘着剤を介して、厚みが１．０ｍｍのポリカーボネート製のシートに貼り付けて、透明導電性積層シートを作製した。この透明導電性積層シートを固定電極として用い、さらに実施例１３の透明導電性積層フィルムを用いて、タッチパネルを作製した。 Example 15
The transparent conductive laminate film produced in Example 1 was attached to a polycarbonate sheet having a thickness of 1.0 mm via an acrylic pressure-sensitive adhesive to produce a transparent conductive laminate sheet. A touch panel was prepared using the transparent conductive laminated sheet as a fixed electrode and further using the transparent conductive laminated film of Example 13.

〔実施例１６〕
ＴｉＯ２ 含有アクリル系ハードコート剤［ＪＳＲ（株）製、商品名「デソライトＺ７２５２Ｄ」、固形分濃度４５質量％、ＴｉＯ２ ：アクリル樹脂＝７５：２５（質量比）］を、固形分濃度が３質量％になるように、メチルイソブチルケトンとイソプロピルアルコールとの質量比１：１の混合溶媒で希釈して、コート剤を調製した。
実施例１３と同様な方法で作製した硬化物層／二軸延伸ＰＥＴフィルム／硬化物層の硬化物層上に、このコート剤を、完全硬化後の厚さが７０ｎｍになるように塗布し、８０℃で１分間乾燥したのち、これに紫外線を光量８０ｍＪ／ｃｍ２で照射して、ハーフキュア状態に硬化させ、高屈折層を形成した。 Example 16
TiO 2 -containing acrylic hard coating agent [manufactured by JSR Corporation, trade name “Desolite Z7252D”, solid content concentration 45% by mass, TiO 2 : acrylic resin = 75: 25 (mass ratio)], solid content concentration 3 A coating agent was prepared by diluting with a mixed solvent of methyl isobutyl ketone and isopropyl alcohol at a mass ratio of 1: 1 so that the mass% was reached.
This coating agent was applied on the cured layer of a cured product layer / biaxially stretched PET film / cured product layer produced in the same manner as in Example 13 so that the thickness after complete curing was 70 nm, After drying at 80 ° C. for 1 minute, this was irradiated with ultraviolet rays at a light intensity of 80 mJ / cm 2 to be cured into a half-cured state, thereby forming a highly refractive layer.

さらに、フッ素含有シロキサン系コーティング剤（信越化学工業（株）製、商品名「Ｘ−１２−２１３８Ｈ」、固形分濃度：３質量％）に光重合開始剤含有アクリル系樹脂（大日精化工業社製、セイカビームＥＸＦ−０１Ｊ）を全固形分濃度が６質量％になるように添加した。この低屈折率層形成用塗布液を、加熱処理後の厚さが２０ｎｍになるように、上記の高屈折率層上に塗布し、８０℃で１分間乾燥を行った。次いで、紫外線照射装置（アイグラフィックス社製、ＵＢ０４２−５ＡＭ−Ｗ型）を用いて紫外線を照射（光量：３００ｍＪ／ｃｍ２）し、さらに、１５０℃で１分間加熱処理して、屈折率１．４８の低屈折率層を形成した。次いで、実施例１と同様の方法で透明導電性薄膜層を形成し、透明導電性積層フィルムを得た。さらに、この透明導電性積層フィルムを用いて、実施例１と同様にしてタッチパネルを製作した。 Further, a fluorine-containing siloxane-based coating agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “X-12-2138H”, solid content concentration: 3 mass%) and a photopolymerization initiator-containing acrylic resin (Daiichi Seika Kogyo Co., Ltd.) Manufactured by Seika Beam EXF-01J) was added so that the total solid concentration was 6% by mass. This coating solution for forming a low refractive index layer was applied on the high refractive index layer so that the thickness after the heat treatment was 20 nm, and dried at 80 ° C. for 1 minute. Subsequently, ultraviolet rays were irradiated (light quantity: 300 mJ / cm 2 ) using an ultraviolet ray irradiation device (UB042-5AM-W type, manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), and further heat-treated at 150 ° C. for 1 minute to have a refractive index of 1 A low refractive index layer of .48 was formed. Next, a transparent conductive thin film layer was formed in the same manner as in Example 1 to obtain a transparent conductive laminated film. Furthermore, a touch panel was produced in the same manner as in Example 1 using this transparent conductive laminated film.

〔実施例１７〕
透明導電性薄膜層を形成するためのターゲットを酸化スズを３質量％含有した酸化インジウム（住友金属鉱山社製、密度７．１ｇ／ｃｍ３）に変更する以外は実施例１と同様にして透明導電性積層フィルムを作製した。 Example 17
Transparent to Example 1 except that the target for forming the transparent conductive thin film layer is changed to indium oxide containing 3% by mass of tin oxide (manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd., density 7.1 g / cm 3 ). A conductive laminated film was produced.

〔比較例１〕
硬化物層に平均粒子径２．０μｍのシリカ粒子を添加する以外は実施例１と同様にして透明導電性積層フィルムを作製した。
〔比較例２〕
硬化物層に平均粒子径０．０５μｍのシリカ粒子を添加する以外は実施例１と同様にして透明導電性積層フィルムを作製した。 [Comparative Example 1]
A transparent conductive laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that silica particles having an average particle size of 2.0 μm were added to the cured product layer.
[Comparative Example 2]
A transparent conductive laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that silica particles having an average particle diameter of 0.05 μm were added to the cured product layer.

〔比較例３〕
硬化物層にシリカ粒子を添加しない以外は実施例１と同様にして透明導電性積層フィルムを作製した。
〔比較例４〕
硬化物層に添加する粒子の量を４０質量部に変更する以外は実施例１と同様にして透明導電性積層フィルムを作製した。
〔比較例５〕
硬化物層に添加する粒子の量を１質量部に変更する以外は実施例１と同様にして透明導電性積層フィルムを作製した。
〔比較例６〕
硬化物層の厚みを０．３μｍに変更する以外は実施例１と同様にして透明導電性積層フィルムを作製した。 [Comparative Example 3]
A transparent conductive laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that silica particles were not added to the cured product layer.
[Comparative Example 4]
A transparent conductive laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount of particles added to the cured product layer was changed to 40 parts by mass.
[Comparative Example 5]
A transparent conductive laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the amount of particles added to the cured product layer was changed to 1 part by mass.
[Comparative Example 6]
A transparent conductive laminated film was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the cured product layer was changed to 0.3 μm.

表１の結果より、本願発明の範囲を満足する実施例１〜１７記載の透明導電性積層フィルムは、高精細な液晶ディスプレイの前面に配置してもギラツキ現象、干渉縞が生じず、視認性に優れるものであった。また、抵抗膜式タッチパネル用の電極フィルムとして用いた場合、ペン摺動耐久性に優れるものであった。
一方、本願発明の範囲を外れる比較例１〜６に記載の透明導電性積層フィルムは、高精細な液晶ディスプレイの前面に配置した場合、ギラツキ現象もしくは干渉縞が生じ、視認性が劣った。 From the results shown in Table 1, the transparent conductive laminated films described in Examples 1 to 17 that satisfy the scope of the present invention do not cause glare phenomenon and interference fringes even when arranged on the front surface of a high-definition liquid crystal display, and visibility It was excellent. Moreover, when it used as an electrode film for resistive film type touch panels, it was excellent in pen sliding durability.
On the other hand, when the transparent conductive laminated films described in Comparative Examples 1 to 6 outside the scope of the present invention are arranged on the front surface of a high-definition liquid crystal display, a glare phenomenon or interference fringe occurs, resulting in poor visibility.

本発明の透明導電性積層フィルムは、液晶ディスプレイ等の表示体の前面に使用でき、前面に配置した際、視認性に優れる。また、本発明の透明導電性積層フィルムはペン摺動耐久性に優れるため、高精細な液晶ディスプレイ等とともに用いられるタッチパネル用の電極フィルムとして特に好適に使用できる。   The transparent conductive laminated film of the present invention can be used on the front surface of a display body such as a liquid crystal display, and has excellent visibility when placed on the front surface. Moreover, since the transparent conductive laminated film of this invention is excellent in pen sliding durability, it can be used especially suitably as an electrode film for touch panels used with a high-definition liquid crystal display etc.

１０：透明導電性積層フィルム
１１：透明プラスチックフィルム（基材）
１２：硬化物層
１３：透明導電性薄膜層
１４：ハードコート層
２０：ビーズ
３０：ガラス板
４０：透明導電性積層シート
４１：粘着剤
４２：透明樹脂シート 10: Transparent conductive laminated film 11: Transparent plastic film (base material)
12: Cured material layer 13: Transparent conductive thin film layer 14: Hard coat layer 20: Beads 30: Glass plate 40: Transparent conductive laminated sheet 41: Adhesive 42: Transparent resin sheet

Claims (13)

透明プラスチックフィルムからなる基材の少なくとも片面に、硬化型樹脂を主たる構成成分とする硬化物層を設け、更にその上に透明導電性薄膜層を積層した透明導電性積層フィルムであって、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９９９年版）によって規定される０．１２５ｍｍの光学くしを使った場合の透過法の像鮮明度と２．０ｍｍの光学くしを使った場合の透過法の像鮮明度の比が下記（１）式を満たすことを特徴とする透明導電性積層フィルム。
０．７０≦０．１２５ｍｍ幅くしの値／２ｍｍ幅くしの値≦０．９３ （１） A transparent conductive laminated film in which a cured product layer comprising a curable resin as a main constituent component is provided on at least one surface of a substrate made of a transparent plastic film, and a transparent conductive thin film layer is further laminated thereon, JIS K7105 The ratio of the image clarity of the transmission method when using an optical comb of 0.125 mm and the image clarity of the transmission method when using an optical comb of 2.0 mm defined by (1999) is (1) The transparent conductive laminated film characterized by satisfy | filling Formula.
0.70 ≦ 0.125 mm width comb value / 2 mm width comb value ≦ 0.93 (1) 前記硬化物層中には粒子が含有され、該粒子の平均粒子径が０．１〜１．５μｍ、硬化型樹脂に対する含有量が２〜３０質量％であることを特徴とする請求項１記載の透明導電性積層フィルム。   The particles are contained in the cured product layer, the average particle diameter of the particles is 0.1 to 1.5 µm, and the content with respect to the curable resin is 2 to 30% by mass. Transparent conductive laminated film. 前記透明導電性積層フィルムのヘイズが１．５〜１０％であることを特徴とする請求項１又は２に記載の透明導電性積層フィルム。   The haze of the said transparent conductive laminated film is 1.5 to 10%, The transparent conductive laminated film of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned. 前記透明導電性薄膜層の表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．０４〜０．１５μｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。   The transparent conductive laminated film according to claim 1, wherein a center line average roughness (Ra) of the surface of the transparent conductive thin film layer is 0.04 to 0.15 μm. 前記透明導電性薄膜層の表面の表面張力が３０〜６０ｄｙｎｅ／ｃｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。   5. The transparent conductive laminated film according to claim 1, wherein the surface tension of the surface of the transparent conductive thin film layer is 30 to 60 dyne / cm. 前記硬化物層中にＨＬＢが２以上１２以下の界面活性剤が硬化型樹脂に対して０．０１〜２．００質量％含有されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。   The surfactant having an HLB of 2 or more and 12 or less is contained in the cured product layer in an amount of 0.01 to 2.00% by mass with respect to the curable resin. The transparent conductive laminated film as described. 前記硬化物層と前記透明導電性薄膜との付着力が、１．０Ｎ／１５ｍｍ以上２．０Ｎ／１５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。   The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein an adhesive force between the cured product layer and the transparent conductive thin film is 1.0 N / 15 mm or more and 2.0 N / 15 mm or less. the film. 前記透明導電性薄膜層が酸化スズの含有率が０．５〜６０質量％であるインジウム−スズ複合酸化物であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。   The transparent conductive laminated layer according to any one of claims 1 to 7, wherein the transparent conductive thin film layer is an indium-tin composite oxide having a tin oxide content of 0.5 to 60% by mass. the film. 前記透明導電性薄膜層面の反対面に、ハードコート層が積層されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の透明導電性積層フィルム。   The transparent conductive laminated film according to claim 1, wherein a hard coat layer is laminated on a surface opposite to the transparent conductive thin film layer surface. 前記ハードコート層が防眩性を有することを特徴とする請求項９記載の透明導電性積層フィルム。   The transparent conductive laminated film according to claim 9, wherein the hard coat layer has an antiglare property. 前記ハードコート層が低反射処理を施されていることを特徴とする請求項９又は１０記載の透明導電性積層フィルム。   The transparent conductive laminated film according to claim 9 or 10, wherein the hard coat layer is subjected to a low reflection treatment. 請求項１〜１１のいずれかに記載の透明導電性積層フィルムの透明導電性薄膜層面の反対面に、粘着剤を介して透明樹脂シートが貼り合わされていることを特徴とする透明導電性積層シート。   A transparent conductive laminate sheet, wherein a transparent resin sheet is bonded to the opposite surface of the transparent conductive thin film layer surface of the transparent conductive laminate film according to any one of claims 1 to 11 via an adhesive. . 透明導電性薄膜層を有する一対のパネル板を透明導電性薄膜層が対向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネルであって、少なくとも一方のパネル板が請求項１〜１２のいずれかに記載の透明導電性積層フィルムもしくは透明導電性積層シートを含むことを特徴とするタッチパネル。   It is a touch panel which arrange | positions a pair of panel board which has a transparent conductive thin film layer through a spacer so that a transparent conductive thin film layer may oppose, Comprising: At least one panel board is in any one of Claims 1-12 A touch panel comprising the transparent conductive laminated film or the transparent conductive laminated sheet described above.
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