JP2010253934A - シート、積層体及びタッチパネル - Google Patents

Abstract

【課題】 フィルム表面へのオリゴマーの析出を防止することができる被膜を持つシートを提供する。
【解決手段】 シート１０は、フィルム基材１１の表面に厚みが３０ｎｍ以上の被膜１２を有する。被膜１２は樹脂成分を含む樹脂組成物で構成されている。樹脂成分は１５０℃以上のガラス転移温度を持つセルロース誘導体を含む。被膜１２を特定の樹脂成分を含む樹脂組成物を用いて所定厚みで形成することにより、フィルム基材１１表面へのオリゴマーの析出を防止する。
【選択図】 図１

Description

この発明は、シート、積層体及びタッチパネルに関する。

プラスチックフィルムは、ＬＣＤ部材のプリズムシート、レンズシート、拡散板、反射板、タッチパネル等のベースフィルムとしてや、反射防止用やディスプレイ防爆用のベースフィルムなど、各種光学用途に広く使用されている。これら光学用途において明るく鮮明な画像を得るために、光学用フィルムとして用いられるベースフィルムは、その使用形態から透明性が良好で、かつ画像に影響を与える異物やキズ等の欠陥がないことが必要となる。

ところが近年、その用途が多様化するにつれて、フィルムの加工条件や使用条件が多様化し、プラスチックフィルムを加熱処理した際に、フィルム表面に、該フィルムの非架橋成分であるオリゴマーと称される重合体（環状三量体）が析出するとの問題が生じている。
フィルム表面へのオリゴマーの析出が激しい場合、フィルム加工時にオリゴマーが工程内に付着して汚染したり、高度な透明性が必要な用途に使用できなくなるなどの諸問題を生じる。

従来、フィルム表面へのオリゴマーの析出を防止する方法として種々の提案がなされている。例えば特許文献１では、抵抗膜方式の透明タッチパネルにおいて、固定電極支持体と対向して配置され、上面にハードコート層が形成された可動電極フィルムの下面に、シロキサン系樹脂、アクリルエポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、アクリル系樹脂などの硬い樹脂で構成される透明な収縮性樹脂層を介して、可動電極を形成する技術が開示されている。

特開平７−１３６９５号公報

特許文献１では、可動電極フィルムの下面に透明な収縮性樹脂層を形成することにより、可動電極フィルムの非架橋成分であるオリゴマーが可動電極側へ析出し、白化状態となって透明性が失われ、外観及び視認性が悪化することを防止するというものである。なお、可動電極フィルムの上面にはハードコート層が形成してあるので、このハードコート層によって可動電極フィルム内部からオリゴマーが可動電極フィルムの上面側に析出することが防止される。

発明が解決しようとする課題は、フィルム表面へのオリゴマーの析出を防止することができる被膜を持つシートと、このシートを含む積層体と、この積層体を含むタッチパネルとを提供することである。

この発明は、以下の解決手段によって上記課題を解決する。なお、以下の解決手段では、発明の実施形態を示す図面に対応する符号を付して説明するが、この符号は発明の理解を容易にするためだけのものであって発明を限定する趣旨ではない。

発明に係るシート（１０）は、フィルム基材（１１）の表面に厚みが３０ｎｍ以上の被膜（１２）を有し、被膜（１２）は樹脂成分を含む樹脂組成物で構成されており、樹脂成分は１５０℃以上（好ましくは１８０℃以上）のガラス転移温度を持つセルロース誘導体を含む。

上記発明において、セルロース誘導体はセルロースエステル類を含むことができる。セルロースエステル類は脂肪族有機酸エステルを含むことができる。脂肪族有機酸エステルはセルロースＣ_２−６ アルキルカルボン酸エステルを含むことができる。セルロースＣ_２−６ アルキルカルボン酸エステルはセルロースアセテートプロピオネートを含むことができる。セルロースアセテートプロピオネートは、アセチル基の置換度よりも高いプロピオニル基の置換度を持ち、前記プロピオニル基の置換度が１．８〜２．５であることができる。

上記発明において、樹脂組成物はケイ素酸化物を含むことができる。この場合、ケイ素酸化物は、１００重量部の前記樹脂成分に対して０．１重量部以上または１０重量部以上含有することができる。ケイ素酸化物はコロイダルシリカを含むことができる。

上記発明において、被膜は、厚みが１μｍ以下であることができる。

発明に係る積層体（２０）は、上記何れかのシート（１０）の表面に、各種機能が付与された機能層（２２，２４）を有する。

上記発明において、機能層（２２，２４）は、例えば、シート（１０）の被膜（１２）側に積層された粘着層や、シート（１０）の被膜（１２）とは反対側に積層されたハードコート層などを含むことができる。

発明に係るタッチパネル（５）は、第１の透明導電膜（５２４）が第１の透明基板（５２２）に形成された第１の電極基板（５２）と、第２の透明導電膜（５４４）が第１の透明導電膜（５２４）と所定の間隙を空けて対向するように第２の透明基板（５４２）に形成された第２の電極基板（５４）とを有する。そして、第１の透明基板（５２２）及び第２の透明基板（５４２）のうち何れか一方の可動側電極基板が積層体（２０）を含む。

発明に係るオリゴマーの析出防止方法は、フィルム基材表面へのオリゴマーの析出を防止する方法であって、フィルム基材（１１）の表面に、セルロース誘導体を含む樹脂成分を有する塗工液を塗布して乾燥させ、厚みが３０ｎｍ以上の被膜（１２）を形成させる。

上記発明によれば、フィルム基材の表面に形成する被膜を特定の樹脂成分を含む樹脂組成物で構成するので、フィルム表面へのオリゴマーの析出を効果的に防止することができる。また加工適正にも優れ、フィルム加熱前に例えば折り曲げ加工などのフィルム加工を行った場合でも被膜にクラックを生じ難く、その結果、そのクラック部分を通じてオリゴマーが析出してくることもない。さらにケイ素酸化物を含めることで、光学特性を低下させずにブロッキング現象を防止することもできる。

図１は本実施形態に係るシートを示す断面図である。 図２は図１のシートを有する積層体の一例を示す断面図である。 図３は図１のシートを有する積層体の他の例を示す断面図である。 図４は図２の積層体を有するタッチパネルを示す断面図である。

以下に、上記発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。

《シート》
図１に示すように、本実施形態に係るシート１０は、例えば透明ポリエステルフィルムなどのフィルム基材１１を有する。本実施形態ではフィルム基材１１の一方の面に、被膜１２が形成されている。なお、フィルム基材１１の両面に被膜１２が形成される構成であってもよい。

《被膜》
本実施形態の被膜１２は樹脂組成物で構成されており、フィルム基材１１の内部からフィルム基材１１の被膜１２形成面側へのオリゴマーの析出を防止する機能を司る。

本実施形態において「オリゴマー」とは、加熱処理後、結晶化してフィルム基材１１の表面に析出する低分子量物のうちフィルム基材１１を構成するポリマーの三量体成分を主とするものと定義する。「オリゴマーの析出を防止する」とは、フィルム基材１１を１４０〜１５０℃の温度で２〜３時間、加熱処理した後、フィルム基材１１の被膜１２形成面側を２００倍の顕微鏡で観察した際に１０視野当たり（面積０．５ｍｍ^２ ）、円相当径で１μｍφ以上の析出物が５０個未満、好ましくは２０個以下、さらに好ましくは１０個以下であることをいう。

なお、析出物の円相当径で１μｍφ未満の場合、顕微鏡レベルではその存在を確認することは困難である。しかしながら、上述した加熱処理後に耐湿試験を行うと、析出物が成長し、円相当径で１μｍφ以上となって顕微鏡で確認できるレベルになることもある。

《樹脂組成物》
本実施形態で用いる樹脂組成物は、樹脂成分（以下「Ａ成分」と略記する。）を主成分として含有する。

《Ａ成分》
本実施形態で用いられるＡ成分は、フィルム基材１１の表面へのオリゴマーの析出を防止するオリゴマー析出防止成分として機能する。

Ａ成分としては、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１５０℃以上、好ましくは１５５℃以上、より好ましくは１８０℃以上の非晶性樹脂が用いられる。本実施形態では、フィルム基材１１を１４０〜１５０℃の温度で２〜３時間加熱処理した後の、オリゴマーの析出を防止する技術であるからである。特に、より高いＴｇを持つ非晶性樹脂を用いることで、オリゴマーの析出防止効果がより一層向上することが期待される。具体的には、Ｔｇが１５０℃程度の非晶性樹脂を用いた場合、１５０℃での加熱が２時間程度までならばオリゴマーの析出防止効果を得ることができ、さらにはＴｇが１８０℃以上の高Ｔｇの非晶性樹脂を用いた場合、１５０℃での加熱が２時間を超え７時間又は１８時間程度までならば、オリゴマーの析出防止効果を得ることができることが確認されている（後出の実施例参照）。

Ｔｇが１５０℃以上の非晶性樹脂としては、例えば、ポリカーボネート（１５０℃）、セルロース誘導体（１５０〜１９０℃）、ポリスルフォン樹脂（１９０℃）、ポリアリレート樹脂（１９３〜２３８℃）、ポリエーテルイミド樹脂（２１７℃）、ポリエーテルサルフォン樹脂（２２５℃）、ポリアミドイミド樹脂（２６０〜２８０℃）などが挙げられる。括弧内の数字はその樹脂のＴｇを示している。

フィルム基材１１を１４０〜１５０℃の温度で所定時間、加熱処理した際のオリゴマーの析出を防止する技術を検討するに際し、本発明者らは当初、樹脂のＴｇの如何によりオリゴマーの析出防止に寄与したりしなかったりするのではないかと考えていた。ところが実際の実験にて、Ｔｇが１５０℃以上の例えばポリアミドイミド樹脂（２６０℃）で被膜を形成し、この被膜がフィルム基材に形成されたシートを加熱した場合、被膜形成面側へのオリゴマーの析出を防止することができないことが確認された。すなわち、オリゴマーの析出防止に樹脂のＴｇのみが関わっているのではなく、樹脂の構造面からの検討が必要であることを認識した。そこで本発明者らは、数ある熱可塑性樹脂の中からセルロース誘導体を選択し実験を進めたところ、そのセルロース誘導体を含む被膜を所定厚み以上（後述）でフィルム基材の表面に形成することにより、フィルム基材を加熱した際のオリゴマーの析出を効果的に防止することができることを見出し、こうした知見に基づいて本発明に到達したものである。

なお、セルロース誘導体がオリゴマーの析出防止にどのように作用しているのかについては必ずしも明らかではない。思うに、セルロース誘導体は１，４β−グリコシド結合を有し、鎖状構造になっており、また多くの水酸基を含有していることから、水素結合で強固な高分子を形成することができる。このため、見かけ上、架橋高分子と同じような密な構造を持ち、これがオリゴマーの析出防止に寄与しているのではないかと推測される。またＴｇがより高いセルロース誘導体（Ｔｇが例えば１８０℃以上の高Ｔｇを持つセルロース誘導体）は、上記密な構造が、より密となり、これがオリゴマーの防止効果により一層寄与するのではないかと思われる。

すなわち本実施形態のＡ成分としては、Ｔｇが１５０℃以上（より好ましくは１８０℃以上）のセルロース誘導体を含む。セルロース誘導体としては、例えば、セルロースエステル類、セルロースカーバメート類、セルロースエーテル類などが挙げられる。本実施形態では、セルロース誘導体として、少なくともセルロースエステル類を用いることが好ましい。

セルロースエステル類としては、有機酸エステル類、無機酸エステル類、有機酸と無機酸の混合酸エステルなどが挙げられる。有機酸エステル類としては、例えば、脂肪族有機酸エステル、芳香族有機酸エステルなどが挙げられる。脂肪族有機酸エステルとしては、例えば、セルロースＣ_２−６ アルキルカルボン酸エステル（例えばセルロースアセテート（以下単に「ＣＡ」とも言う。）、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（以下単に「ＣＡＰ」とも言う。）、セルロースアセテートブチレート（以下単に「ＣＡＢ」とも言う。）など）、アルキルセルロースエステル（例えばアセチルアルキルセルロースなど）、ハロアルキルセルロースエステル（例えばジクロロメチルセルロースエステル、トリクロロメチルセルロースエステル、トリフルオロメチルセルロースエステルなど）などが挙げられる。芳香族有機酸エステルとしては、例えば、Ｃ_７−１２芳香族カルボン酸エステル（例えばセルロースフタレート、セルロースベンゾエート、セルロース−４−メチルベンゾエートなど）などが挙げられる。無機酸エステル類としては、例えば、リン酸セルロース、硫酸セルロース、硝酸セルロース（ニトロセルロース）などが挙げられる。

セルロースカーバメート類としては、例えば、セルロースアリールカーバメート類（例えばセルロースフェニルカーバメートなど）、セルロースエーテルカーバメート類（例えばエチルセルロースフェニルカーバメートなど）などが挙げられる。

セルロースエーテル類としては、例えば、シアノアルキルセルロース（例えばシアノエチルセルロースなど）、Ｃ_１−１０アルキルセルロース（例えばメチルセルロース、エチルセルロースなどのＣ_１−６ アルキルセルロースなど）、アラルキルセルロース（例えばベンジルセルロースなどのＣ_６−１２アリール−Ｃ_１−４ アルキルセルロースなど）、ヒドロキシセルロースなどが挙げられる。

好ましいセルロース誘導体としては、セルロースエステル類のうち、少なくともアセチル基を有するセルロースエステルが挙げられる。少なくともアセチル基を有するセルロースエステルとしては、例えば、ＣＡ（例えばセルロースモノアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテートなど）、内部可塑化されたセルロース誘導体（例えばアセチルＣ_３−６ アシルセルロース（例えばＣＡＰ、ＣＡＢなど）など）などが挙げられる。中でも、ＣＡ、又は内部可塑化されたセルロース誘導体がより好ましく、さらに好ましくはセルロースモノアセテート又はＣＡＰを含む。

セルロースエステル類の平均置換度は、例えば１〜３、好ましくは１．３〜３、より好ましくは１．５〜３、さらに好ましくは２〜３程度である。ここでの平均置換度とは、セルロース分子中に存在する３個の水酸基が平均してどの程度エステル化されているかを表す指標であり、この値が３の時はすべての水酸基がエステル化されていることを示す。

セルロースエステルとしてＣＡＰを用いる場合、アセチル基の含有量よりもプロピオニル基の含有量の方が高いＣＡＰを用いることが好ましい。この場合のプロピオニル基の含有量は、例えば３０〜６０質量％、好ましくは４０〜５０質量％である。アセチル基の含有量は、好ましくは０．２〜５質量％、より好ましくは０．５〜３質量％である。
セルロースエステルとしてＣＡを用いる場合、アセチル基の含有量は、例えば２５〜６０質量％、好ましくは３０〜５０質量％、より好ましくは３５〜４５質量％である。

セルロース誘導体の可塑化としては、（ａ）ＣＡに軟質成分としてのＣ_３−６ アシル基（例えばプロピオネート基、ブチレート基など）を導入し、内部可塑化する方法、（ｂ）セルロース誘導体に可塑剤を添加し、外部可塑化する方法、（ｃ）これら（ａ）及び（ｂ）を組み合わせる方法などが挙げられる。

セルロース誘導体の内部可塑及び外部可塑に用いる可塑剤としては、特に限定されず、例えば、フタル酸エステル、脂肪酸エステル、リン酸エステル、エポキシ誘導体などが挙げられる。好ましい可塑剤としては、フタル酸エステル（特にジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレートなどのジＣ_１−８ アルキルフタレート）、Ｃ_６−１２アルカンジ又はトリカルボン酸Ｃ_２−１０アルキルエステル（特にジブチルセバケートなどのセバシン酸ジエステル、アセチルクエン酸トリエチルなどのクエン酸トリエステル）、多価アルコールのアセテート（例えばトリアセチンなど）、リン酸エステル（特にトリフェニルホスフェートなどのトリアリールホスフェート）などが挙げられる。

これらの可塑剤は、単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。

セルロース誘導体と可塑剤との割合は、セルロース誘導体の種類に応じて決定することができ、前者／後者（重量比）で、例えば１００／０〜５０／５０程度、好ましくは１００／０〜６０／４０程度、より好ましくは１００／０〜７０／３０程度とする。

好ましいセルロース誘導体として、市販品で一例を挙げると、ＣＡ−３２０Ｓ、ＣＡ−３９４−６０Ｓ、ＣＡ−３９８−３（ＡＣ−３５３３Ｂ）、ＣＡ−３９８−６、ＣＡ−３９８−１０、ＣＡ−３９８−３０（以上セルロースアセテート、イーストマンコダック社）；ＣＡＢ−１７１−１５、ＣＡＢ３２１−０．１（以上セルロースアセテートブチレート、イーストマンコダック社）；ＣＡＰ−５０４−０．２（以上セルロースアセテートプロピオネート、イーストマンコダック社）；などが挙げられる。

セルロース誘導体は、単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。

《Ｂ成分》
本実施形態で用いる樹脂組成物は、Ａ成分の他に、必要に応じてケイ素酸化物（以下「Ｂ成分」と略記する。）を含有することができる。

本実施形態で必要に応じて用いられるＢ成分は、基本的には被膜１２の厚みを厚くした場合に生じうるブロッキング現象を防止する成分として機能するが、これとは別に、より長時間（１５０℃で２〜３時間を超える例えば７時間程度）加熱した際の、オリゴマーの析出防止効果に寄与する成分としても機能しうる。Ｂ成分としては、コロイダルシリカなどの二酸化珪素の他、オルガノポリシロキサンなどのシロキサン類化合物、シリコーン、水ガラスなどが挙げられる。中でも、コロイダルシリカを含むことが好ましい。樹脂組成物中にＢ成分を配合することにより、耐ブロッキング性の向上が期待される。

コロイダルシリカは、コロイドシリカ、コロイド珪酸ともいう。水中では、水和によって表面にＳｉ−ＯＨ基を有する酸化ケイ素のコロイド懸濁液をいう。珪酸ナトリウムの水溶液に塩酸を加えると生成する。粒子の組成は不定で、シロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−、−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−）を形成し、高分子化しているものもある。粒子の表面は多孔性である。

水分散コロイダルシリカとしては、例えば日産化学工業社製の「スノーテックス」シリーズ（例えばＯ、ＯＳ、Ｃ、２０など）や、触媒化成工業社製の「カタロイド」シリーズ（例えばＳＮ、ＳＡ、ＳＩ−３０など）などが挙げられる。

有機溶剤に分散したコロイダルシリカの有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、エチレングリコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、キシレン／ｎ−ブタノールの混合物などが挙げられる。

有機溶剤分散コロイダルシリカとしては、例えばＰＭＡ−ＳＴ、ＭＥＫ−ＳＴ、ＭＩＢＫ−ＳＴ、ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＭＳ、ＥＧ−ＳＴ−ＺＬ、ＤＭＡＣ−ＳＴ−ＺＬ、ＸＢＡ−ＳＴ（何れも日産化学工業社）、ＯＳＣＡＬ１１３２、１３３２、１５３２、１７２２、ＥＬＣＯＭ ＳＴ−１００３ＳＩＶ（何れも触媒化成工業社）などが挙げられる。

コロイダルシリカは、単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

樹脂組成物中又は被膜１２中での分散性と透明性などを考慮すると、コロイダルシリカの一次粒子径は、被膜１２の厚みによって異なってくるが、本発明の場合、好ましくは０．５〜１００ｎｍとし、より好ましくは２〜５０ｎｍ、さらに好ましくは５〜３５ｎｍ、特に好ましくは１０〜２０ｎｍ程度とする。一次粒子径が大きすぎると、コロイダルシリカの樹脂組成物中での分散安定性が低下したり、被膜１２が形成された際の透明性が低下するおそれがある。

水又は有機溶剤に分散したコロイダルシリカ中のコロイダルシリカの割合は、特に限定されず、コロイダルシリカが５〜５０質量％、特に１０〜３０質量％となるように水又は有機溶剤に分散されたものを用いることが好ましい。

本実施形態の樹脂組成物中におけるＢ成分の使用量は、特に限定されないが、１００重量部のＡ成分に対して、好ましくは０．１重量部以上、より好ましくは０．７５重量部以上、さらに好ましくは１．０重量部以上である。Ｂ成分の配合比率が少なすぎると、Ｂ成分配合の効果（基本的にはブロッキング防止効果の付与）に乏しいからである。より長時間（１５０℃で２〜３時間を超える例えば７時間程度）加熱した際の、オリゴマーの析出防止効果を発揮させる観点からは、Ｂ成分の使用量を、１００重量部のＡ成分に対して、好ましくは１０重量部以上、より好ましくは１５重量部以上とする。Ｂ成分の使用量を１０重量部以上とすることで、より長時間加熱した際のオリゴマー析出防止効果が発揮されるメカニズムは必ずしも明らかではない。思うに、Ｂ成分の使用量が１０重量部以上と多くなると、加熱時に起こるＡ成分の分子内運動を抑える効果が発現し、これによりオリゴマーの動きを防止するものと推測される。
その一方で、Ｂ成分の配合比率が多すぎると、形成後の被膜のヘーズ値が向上し、透過率が低下するなどの不都合を生じうる。このため、本実施形態では、Ｂ成分を配合する場合の当該Ｂ成分の使用量を、１００重量部のＡ成分に対して、好ましくは１００重量部以下、より好ましくは５０重量部以下、さらに好ましくは３０重量部以下とする。Ｂ成分の使用量が多くなるほどガラス状の膜となっていく傾向にあるので、Ｂ成分の使用量が多くなりすぎると、膜がパリパリと脆い膜となってしまい、好ましくない。

《Ｃ成分》
本実施形態の樹脂組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲であれば、上述したＡ成分及びＢ成分の他に、必要に応じて添加成分（以下「Ｃ成分」と略記する。）を適宜配合することもできる。Ｃ成分としては、例えば、表面調整剤、滑剤、着色剤、顔料、染料、蛍光増白剤、難燃剤、抗菌剤、防カビ剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、酸化防止剤、可塑剤、レベリング剤、流動調整剤、消泡剤、分散剤、貯蔵安定剤、架橋剤、シランカップリング剤などが挙げられる。

本実施形態の樹脂組成物は、通常は塗工液の形態で実現される。例えば、上述したＡ成分（必要に応じてさらにＢ成分）を、有機溶剤などの希釈溶媒で溶解または分散させた後、必要に応じて添加剤を加えることで、塗工液を調製することができる。有機溶剤としては、特に限定されないが、アルコール類（例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等）、ケトン類（例えばアセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エステル類（例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等）、エーテル類（例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等）、芳香族炭化水素類（例えばベンゼン、トルエン、キシレン等）、アミド類（例えばジメチルフォルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）が挙げられる。

《被膜の製造方法》
本実施形態では、上述した樹脂組成物をフィルム基材１１の上に塗布し、乾燥させることにより被膜１２を得ることができる。

フィルム基材１１としては、例えば透明ポリエステルフィルムなどが用いられる。フィルム基材１１は、その表面に易接着処理が施されていてもよい。フィルム基材１１の厚みは特に限定されない。

樹脂組成物の塗布（コーティング）は、常法によって行えばよく、例えばバーコート、ダイコート、ブレードコート、スピンコート、ロールコート、グラビアコート、フローコート、ディップコート、スプレーコート、スクリーン印刷、刷毛塗りなどを挙げることができる。

本実施形態では、塗布乾燥後の塗膜厚みが、後述する所定厚みとなるように塗布することが好ましい。本実施形態の樹脂組成物をフィルム基材１１に塗布したら、塗布後の塗膜を５０〜１２０℃程度で乾燥させることが好ましい。熱風などを用いて積極的に乾燥させる方法の他、常温で所定時間放置することにより乾燥させることもできる。

上述した樹脂組成物の乾燥被膜で構成される被膜１２は、好ましくは３０ｎｍ以上、さらに好ましくは５０ｎｍ以上の厚み（ｔ）を有する。被膜１２の厚みが薄くても加熱後のオリゴマー析出抑制効果はあるが、厚みが薄すぎるとオリゴマーが被膜１２を通り抜けやすくなり、オリゴマーの析出防止効果を十分に発揮することができない。

その反面、加熱後のオリゴマー析出抑制効果を十分に生じさせるには、被膜１２の厚みは厚いほどよいが、被膜１２の厚みをあまりに厚く形成しすぎることは資源の無駄でもあり、また加工適正に影響を与えることもある。被膜１２の厚みを厚く形成しすぎた場合において、例えば折り曲げ加工などのフィルム加工を行った際にクラックを生じることがある。クラックを生じた状態の被膜１２を含むシートを加熱処理した場合、被膜１２のクラック部分を通じてフィルム基材１１の内部からオリゴマーが析出してくることもある。また、被膜１２の厚みを厚く形成しすぎると、ブロッキングを生じやすくなる傾向もある。

そこで本実施形態では、被膜１２の厚みｔを、例えば１μｍ以下、好ましくは５００ｎｍ以下、より好ましくは１００ｎｍ以下、さらに好ましくは９０ｎｍ以下、特に好ましくは８０ｎｍ以下とすることができる。被膜１２にクラックを生じることがないと、フィルム基材１１の内部からフィルム基材１１の被膜１２形成面側へのオリゴマーの析出が効果的に防止され、その結果、シート１０の光学特性が悪化することが防止される。

《積層体》
図２及び図３に示す積層体２０は、何れも、図１に示すシート１０を有する。以下の説明では、シート１０として、フィルム基材１１の一方の面に被膜１２を有する場合を例示する。

図２に示すように、本実施形態の第１の観点では、シート１０の被膜１２とは反対面に各種機能が付与される第１機能層２２が積層してある。第１機能層２２としては、例えばハードコート層、反射防止層などの単層膜又は多層膜が挙げられる。

図３に示すように、本実施形態の第２の観点では、シート１０の被膜１２の面に、粘着層や透明導電層などの第２機能層２４が形成してある。この場合、シート１０の被膜１２とは反対面に、さらに図２に示す第１機能層２２が積層してあってもよい。

《ハードコート層》
ハードコート層は、積層体２０の表面硬度を高くし、表面に傷が発生することを防止するために設けられる。従って、第１機能層２２としてハードコート層を用いる場合の当該ハードコート層の表面硬度は、好ましくはＨ以上、より好ましくは２Ｈ以上、さらに好ましくは３Ｈ以上である。表面硬度の値は、ＪＩＳ−Ｋ５４００（１９９０）に準拠した方法で測定した鉛筆引っかき値（鉛筆硬度）で示される。

ハードコート層は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などの樹脂で構成される。特に、電離放射線硬化性樹脂で構成した場合には、表面硬度等に代表されるハードコート性を発揮できるため好ましい。

熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂としては、例えばポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアタリレート系樹脂、ポリウレタンアタリレート系樹脂、エポキシアタリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、アセタール系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂などが挙げられる。

電離放射線硬化性樹脂としては、電離放射線（紫外線または電子線）の照射によって架橋硬化する光重合性プレポリマーを用いることができる。この実施形態では、後述の光重合性プレポリマーを単独で使用してもよく、また２種以上を組合せて使用することもできる。

光重合性プレポリマーには、カチオン重合型とラジカル重合型とがある。

カチオン重合型光重合性プレポリマーとしては、エポキシ系樹脂やビニルエーテル系樹脂などが挙げられる。エポキシ系樹脂としては、例えばビスフェノール系エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等が挙げられる。

ラジカル重合型光重合性プレポリマーとしては、１分子中に２個以上のアクリロイル基を有し、架橋硬化することにより３次元網目構造となるアクリル系プレポリマー（硬質プレポリマー）が、ハードコート性の観点から特に好ましく使用される。

アクリル系プレポリマーとしては、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、メラミンアクリレート、ポリフルオロアルキルアクリレート、シリコーンアクリレート等が挙げられる。

ウレタンアクリレート系プレポリマーは、例えばポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、（メタ）アクリル酸との反応でエステル化することにより得ることができる。ポリエステルアクリレート系プレポリマーとしては、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより、又は、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。エポキシアクリレート系プレポリマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラックエポキシ樹脂のオキシラン環と、（メタ）アクリル酸との反応でエステル化することにより得ることができる。アクリル系プレポリマーは単独でも使用可能であるが、架橋硬化性の向上や、硬化収縮の調整等、種々の性能を付与するために、光重合性モノマーを加えることが好ましい。

光重合性モノマーとしては、単官能アクリルモノマー（例えば２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート等）、２官能アクリルモノマー（例えば１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート等）、３官能以上のアクリルモノマー（例えばジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等）が挙げられる。なお、「アクリレート」には、文字通りのアクリレートの他、メタクリレートも含む。これらの光重合性モノマーは単独で使用してもよく、また２種以上を組合せて使用することもできる。

ハードコート層を形成する際に、紫外線照射によって硬化させて使用する場合には、上述した光重合性プレポリマー及び光重合性モノマーの他に、光重合開始剤、光重合促進剤、紫外線増感剤等の添加剤を配合することが好ましい。

光重合開始剤としては、ラジカル重合型光重合性プレポリマーや光重合性モノマーに対しては、例えばアセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等が挙げられる。カチオン重合型光重合性プレポリマーに対する光重合開始剤としては、例えば芳香族スルホニウムイオン、芳香族オキソスルホニウムイオン、芳香族ヨードニウムイオンなどのオニウムと、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロアルセネートなどの陰イオンとからなる化合物が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また２種以上を組合せて使用することもできる。光重合促進剤としては、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルなどが挙げられる。紫外線増感剤としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィンなどが挙げられる。

これら添加剤の配合量は、上述した光重合性プレポリマー及び光重合性モノマーの合計１００重量部に対して、通常０．２〜１０重量部の範囲で選ばれる。

この実施形態のハードコート層には、本発明の効果を阻害しない範囲であれば、必要に応じて、添加成分を適宜配合してもよい。添加成分としては、例えば、表面調整剤、滑剤、着色剤、顔料、染料、蛍光増白剤、難燃剤、抗菌剤、防カビ剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、酸化防止剤、可塑剤、レベリング剤、流動調整剤、消泡剤、分散剤、貯蔵安定剤、架橋剤、シランカップリング剤等が挙げられる。

ハードコート層は、その厚みが、０．１〜３０μｍ程度であることが好ましい。より好ましくは０．５〜１５μｍ、さらに好ましくは２〜１０μｍとする。厚みを０．１μｍ以上とすることで、ハードコート層側にも十分な表面硬度（ハードコート性）を発揮させることができる。

《反射防止層》
反射防止層は、ハードコート層の表面に設けられ、ハードコート層の表面部分での映り込みを減少させ、積層体２０全体の全光線透過率を向上させるために設けられる。表面部分での映り込みを防止するためにハードコート層の屈折率を小さく設計することも考えられる。ところが、屈折率が小さくなるようにハードコート層を設計すると、ハードコート層のハードコート性が低下することがあるので、ハードコート層の表面に、ハードコート層の屈折率より低い屈折率を持つ反射防止層を薄い厚みで形成することが好ましい。

反射防止層は、ハードコート層よりも屈折率の低い材料で構成されればよく、例えば、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｙ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄなどの酸化物；Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｃａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｐｂなどのフッ化物；Ｔｉ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｍｏなどの単体；などが挙げられる。これらの各種材料を適宜選択し、真空成膜法（例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法など）により形成することができる。また、例えばケイ素系樹脂、フッ素系樹脂、金属酸化物ゾルや、これらに金属酸化物微粒子、好ましくは多孔状または中空状の金属酸化物微粒子を加えたものが挙げられる。またハードコート層の説明欄で列挙した樹脂に前記金属酸化物微粒子を加えたものも使用可能である。

金属酸化物ゾルとしては、シリカ、アルミナゾルなどが挙げられる。これら金属酸化物ゾルの中でも、屈折率、流動性、コストの観点から、シリカゾルが好適に使用される。なお、金属酸化物ゾルとは、金属酸化物の存在によってチンダル現象を観測できない材料をいい、いわゆる均一溶液のことをいう。例えば、一般にコロイダルシリカゾルと言われる材料であっても、チンダル現象が観測されるものであれば、この実施形態では金属酸化物ゾルに含まれないものとする。

このような金属酸化物ゾルは、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジルコニアプロポキシド、アルミニウムイソプロポキシド、チタンブトキシド、チタンイソプロポキシドなどの金属アルコキシドを加水分解して調整することができる。金属酸化物ゾルの溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、アセトン、１，４一ジオキサンなどが挙げられる。

金属酸化物微粒子は、上述した金属酸化物を微粉末化したものであり、シリカ微粒子、アルミナ微粒子などが挙げられる。これらの中でも屈折率、流動性、コストの観点から、シリカ微粒子が好適に使用される。また、金属酸化物微粒子の形状は特に制限されることはないが、屈折率の低い多孔状又は中空状の金属酸化物微粒子が好適に使用される。

このような金属酸化物微粒子としては、これを分散液とした際にチンダル現象が観測されるような一定の粒子径を有するものを使用する。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、前記条件を満たす限り特に制限されることはないが、４０〜１００ｎｍの範囲であることが好ましい。平均粒子径が４０ｎｍ以上の微粒子を用いることにより、反射防止層の表面に浮上する金属酸化物粒子がなくなり、表面硬度の低下を防止することができ、１００ｎｍ以下の微粒子を用いることで、反射防止層から金属酸化物微粒子がはみ出すことがなくなり、表面硬度の低下を防止することができる。また、透明性を良好なものとするために、金属酸化物微粒子の平均粒子径は、さらに好ましくは４０〜７０ｎｍの範囲とする。

金属酸化物ゾルと金属酸化物微粒子の混合割合は、特に限定されるものではないが、金属酸化物ゾル中の金属酸化物成分１００重量部に対し、金属酸化物微粒子が、好ましくは５重量部以上、より好ましくは２０重量部以上であり、好ましくは２００重量部以下、より好ましくは１００重量部以下である。

反射防止層の厚みは、光の反射防止理論より次式を満たすことが好ましい。

［数１］ ｄ＝（ａ十１）λ／４ｎ

ここで、ｄは反射防止層の厚み（単位は「ｎｍ」）、ａは０又は正の偶数、λは反射を防止しようとする光の中心波長、ｎは反射防止層の屈折率である。具体的には、例えば２μｍ程度以下が好ましく、より好ましくは１μｍ以下、さらに好ましくは０．８μｍ以下、特に好ましくは０．５μｍ以下、最も好ましくは０．３μｍ以下である。反射防止層の厚みが厚くなると、厚みムラに起因する干渉ムラが発生し難くなる反面、下面に設けられるハードコート層のハードコート性が発揮され難くなる。

上述したハードコート層、反射防止層の形成方法としては、各々の構成成分や必要に応じて他の成分を配合して、さらに適当な溶媒に溶解又は分散させて塗布液を調製し、当該塗布液をロールコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、エアナイフコーティング法、ダイコーティング法、ブレードコーティング法、スピンコーティング法、グラビアコーティング法、フローコーティング法、スクリーン印刷法などの公知の方法によりシート１０に順次塗布して乾燥させ、必要であれば適宜必要な硬化方法で硬化させることにより形成することができる。

《粘着層》
粘着層としては、例えば、天然ゴム系、再生ゴム系、クロロプレンゴム系、ニトリルゴム系、スチレン・ブタジエン系などのエラストマー粘着剤、アクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、ウレタン系、シアノアクリレート系などの合成樹脂粘着剤のほか、エマルジョン系粘着剤などの公知の粘着剤で構成することができる。粘着層は、粘着性を発揮させるために厚み５μｍ以上にするのが一般的である。

上述した第１機能層２２には、紫外線吸収性能をもたせることも可能である。特に３５０〜３８０ｎｍの範囲の光線透過率を０．１％〜７０％程度とした場合、ハードコート性を保持しながら、耐候性を付与することができる。ハードコート層に電離放射線硬化性樹脂を用いた場合には、電離放射線硬化性樹脂が硬化する紫外線領域と吸収する紫外線領域を調整することにより、ハードコート層の硬化に影響を与えることなく、紫外線吸収性の付与できる。例えば、紫外線吸収剤の吸収波長域のピークと２０ｎｍ以上異なる位置に吸収波長域のピークを有する光重合開始剤を用いることが好ましい。このようにすることによりハードコート層を十分に硬化させることができ、優れたハードコート性を付与することができる。

《透明導電層》
透明導電層としては、例えば一般的に広く知られた透明導電性材料や有機導電性材料などで構成することができる。透明導電性材料としては、例えば、酸化インジウム、酸化錫、酸化インジウム錫、金、銀、パラジウムなどの透明導電性物質が挙げられる。有機導電性材料としては、例えばポリパラフェニレン、ポリアセチレン、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリピロール、ポリフラン、ポリセレノフェン、ポリピリジン等の導電性高分子が挙げられる。中でも、透明性と導電性に優れ、比較的低コストに得られる酸化インジウム、酸化錫又は酸化インジウム錫のいずれかを主成分とした透明導電性材料で構成されていることが好ましい。

透明導電層は、上述した導電性材料を用いて、ドライプロセス（例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法など）やウェットプロセス（例えば溶液塗布法など）により、薄膜状態で形成することができる。

透明導電層の厚みは、適用する材料によっても異なるため一概には言えないが、表面抵抗率で１０００Ω以下、好ましくは５００Ω以下になるような厚みとする。例えば、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。経済性を考慮すると、８０ｎｍ以下、好ましくは７０ｎｍ以下の範囲が好適である。このような薄膜においては透明導電層の厚みムラに起因する可視光の干渉縞は発生しにくい。また、全光線透過率は通常８０％以上であることが好ましく、８５％以上がさらに好ましく、８８％以上が特に好ましい。

本実施形態では特に、シート１０の被膜１２とは反対面側に、透明ハードコート層と反射防止層が順次積層された第１機能層２２が形成してあり、被膜１２の表面側に、透明導電層で構成される第２機能層２４が形成してある構造の積層体２０は、帯電防止フィルムや赤外線遮蔽フィルム、反射防止フィルム、電磁波シールドフィルム、タッチパネルなどの電極基板として使用することができる。

以下の説明では、シート１０の被膜１２とは反対面側に透明ハードコート層と反射防止層が順次積層された第１機能層２２が形成してあり、被膜１２の表面側に透明導電層で構成される第２機能層２４が形成してある積層体２０を、タッチパネルに使用する場合を例示する。

《タッチパネル》
図４に示すタッチパネル５は、各種電子機器（例えば携帯電話やカーナビ等）に設けられる液晶等の表示素子９の前面に装着される抵抗膜方式のタッチパネルである。このタッチパネル５を通して背面の表示素子９に表示された文字や記号、絵柄等の視認や選択を行い、指や専用ペン等で押圧操作することによって、機器の各機能の切換えを行うことができる。

この実施形態のタッチパネル５は、上電極基板（第１の電極基板）５２と、下電極基板（第２の電極基板）５４とを有する。上電極基板５２は、上透明基板（第１の透明基板）５２２を有する。上透明基板５２２の下面には、上透明導電膜（第１の透明導電膜）５２４が形成されている。下電極基板（第２の電極基板）５４は、下透明基板（第２の透明基板）５４２を有する。下透明基板５４２の上面には、下透明導電膜（第２の透明導電膜）５４４が形成されている。

タッチパネル５は、上電極基板５２側と下電極基板５４側の何れかが可動電極であってもよいが、この実施形態では、上電極基板５２を可動電極とし、下電極基板５４を固定（非可動）電極とする場合を例示する。

この実施形態では、上電極基板５２の下面と下電極基板５４の上面のそれぞれの外周部分は、略額縁状のスペーサ５６を介して貼り合わされている。また、上電極基板５２の上透明導電膜５２４と、下電極基板５４の下透明導電膜５４４とが、所定の間隙を空けて対向するように配置されている。下透明導電膜５４４の上面には、必要に応じてドット状のスペーサ５８が所定間隔で複数配置される。なお、スペーサ５８は必要に応じて配置すれば良く、スペーサ５８を配置しない構成にすることも可能である。

上下透明導電膜５２４，５４４の両端には、それぞれ一対の電極（図示省略）が形成されている。この実施形態では、上透明導電膜５２４に形成される一対の上電極（図示省略）と、下透明導電膜５４４に形成される一対の下電極（図示省略）とは、互いに交差する方向に配置されている。

なお、この実施形態では、下電極基板５４の下面には、接着層７を介してセパレータ（図示省略）が貼付してあってもよい。

この実施形態のタッチパネル５を、例えばカラー液晶等の表示素子９の前面に搭載するには、まずこの実施形態のタッチパネル５のセパレータ（図示省略）を剥がして接着層７を露出させ、表示素子９の前面に対向するように接触させる。これにより、タッチパネル付きカラー液晶表示素子を形成することができる。

このタッチパネル付き液晶表示素子では、ユーザがタッチパネル５の背面に配置される表示素子９の表示を視認しながら、指やペン等で上電極基板５２の上面を押圧操作すると、上電極基板５２が撓み、押圧された箇所の上透明導電膜５２４が下透明導電膜５４４に接触する。この接触を上述した一対の上下電極を介して電気的に検出することにより、押圧された位置が検出される。

この実施形態では、可動電極としての上電極基板５２を、上述した積層体２０（＝下から上へ向けて順次、第２機能層２４（透明導電層）、被膜１２、フィルム基材１１、第１機能層２２（透明ハードコート層及び反射防止層）が積層してある構造）で構成してある。積層体２０の第２機能層２４（透明導電層）が上透明導電膜５２４に相当する。

この実施形態では、固定電極としての下電極基板５４の下透明基板５４２は、例えばガラスなどで構成される。

なお、この実施形態では、可動電極に加えて、固定電極（下電極基板５４）にも、上述した積層体２０を用いることもできる。これにより、より軽く、より薄型で、割れにくいタッチパネルとすることができる。

以上説明した実施形態は、上記発明の理解を容易にするために記載されたものであって、上記発明を限定するために記載されたものではない。従って、上記の実施形態に開示された各要素は、上記発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。

次に、上記発明の実施形態をより具体化した実施例を挙げ、さらに詳細に説明するが、これらの実施例のみに限定されるものではない。なお、本例において「部」、「％」は、特に示さない限り重量基準である。

《実験例１》
まず、塗布液１（樹脂組成物）と塗布液２を調製した。

＜塗布液１の処方＞
・セルロースアセテートプロピオネート（固形分１００％） ０．１６部
（ＣＡＰ５０４−０．２、Ｔｇ１５９℃、アセチル基の含有量０．６％、プロピオニル基の含有量４２．５％、数平均分子量１５０００、イーストマンコダック社）
・メチルエチルケトン ９．９２部
・シクロヘキサノン ９．９２部

＜塗布液２の処方＞
・電離放射線硬化型樹脂組成物（固形分１００％） １０部
（ビームセット５７５、荒川化学工業社）
・光重合開始剤 ０．５部
（イルガキュア６５１：チバ・ジャパン社）
・プロピレングリコールモノメチルエーテル ２３部

次に、塗布液１を、フィルム基材１１としての厚み１２５μｍのＰＥＴフィルム（ＯＦＷ、帝人デュポンフィルム社製）の一方の面（第１面）にバーコーター法により塗布し、１００℃及び９０秒の条件で乾燥させて、厚み１５ｎｍの被膜１２を形成した。

次に、塗布液２を、フィルム基材１１の他方の面（第２面）にバーコーター法により塗布し、乾燥させて塗膜を形成した。形成した塗膜に対し、高圧水銀灯で紫外線を照射し（照射量４００ｍＪ／ｃｍ^２ ）、厚み６μｍのハードコート層を形成し、シート試料を得た。

《実験例２》
塗布液１を用いて、フィルム基材１１の表面に厚み３０ｎｍの被膜１２を形成した以外は、実験例１と同様の条件でシート試料を得た。

《実験例３》
塗布液１を用いて、フィルム基材１１の表面に厚み５０ｎｍの被膜１２を形成した以外は、実験例１と同様の条件でシート試料を得た。

《実験例４》
塗布液１を用いて、フィルム基材１１の表面に厚み６０ｎｍの被膜１２を形成した以外は、実験例１と同様の条件でシート試料を得た。

《実験例５》
塗布液１を用いて、フィルム基材１１の表面に厚み１０５ｎｍの被膜１２を形成した以外は、実験例１と同様の条件でシート試料を得た。

《実験例６》
ＣＡＰ５０４−０．２に代え、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ４８２−０．５、固形分１００％、Ｔｇ１４２℃、アセチル基の含有量２．５％、プロピオニル基の含有量４５．０％、数平均分子量２５０００、イーストマンコダック社）を配合した塗布液１を用いて、フィルム基材１１の表面に厚み６０ｎｍの被膜１２を形成した以外は、実験例１と同様の条件でシート試料を得た。

《実験例７》
ＣＡＰ５０４−０．２に代え、ポリアミドイミド樹脂（バイロマックスＨＲ１５ＥＴ、Ｔｇ２６０℃、東洋紡績社）を配合した塗布液１を用いて、フィルム基材１１の表面に厚み６０ｎｍの被膜１２を形成した以外は、実験例１と同様の条件でシート試料を得た。

《実験例８ａ》
ＣＡＰ５０４−０．２に代え、セルロースアセテート（ＡＣ−３５３３Ｂ、固形分１００％、Ｔｇ１８０℃、アセチル基の含有量３９．８％、数平均分子量３００００、イーストマンコダック社）を配合した塗布液１を用いて、フィルム基材１１の表面に厚み６０ｎｍの被膜１２を形成した以外は、実験例１と同様の条件でシート試料を得た。
《実験例８ｂ》
フィルム基材１１の表面に厚み１０５ｎｍの被膜１２を形成した以外は、実験例８ａと同様の条件でシート試料を得た。

《実験例９》
塗布液１の代わりに塗布液２を準備し、この塗布液２を、フィルム基材１１の第１面にバーコーター法により塗布し、乾燥させて塗膜を形成した。形成した塗膜に対し、高圧水銀灯で紫外線を照射し（照射量４００ｍＪ／ｃｍ^２ ）、厚み１μｍ（１０００ｎｍ）の樹脂からなる被膜を形成し、シート試料を得た。

《実験例１０》
フィルム基材１１の一方の面（第１面）には被膜を形成せず、塗布液２を用いて、フィルム基材１１の他方の面（第２面）にのみ厚み６μｍのハードコート層を形成した以外は、実験例１と同様の条件でシート試料を得た。

《実験例１１ａ》
ケイ素酸化物の有機溶剤分散液（固形分３０％、ＭＥＫ−ＳＴ、粒子径１０〜２０ｎｍ、日産化学工業社）を、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ５０４−０．２）１００部に対してケイ素酸化物が０．７５部となる量（０．００４部）で配合した塗布液１を用いて、フィルム基材１１の表面に被膜１２を形成した以外は、実験例５と同様の条件でシート試料を得た。

《実験例１１ｂ》
実験例１１ａのＭＥＫ−ＳＴを、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ５０４−０．２）１００部に対してケイ素酸化物が１．５部となる量（０．００８部）で配合した塗布液１を用いて、フィルム基材１１の表面に被膜１２を形成した以外は、実験例５と同様の条件でシート試料を得た。
《実験例１１ｃ》
実験例１１ａのＭＥＫ−ＳＴを、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ５０４−０．２）１００部に対してケイ素酸化物が１０部となる量（０．０５３部）で配合した塗布液１を用いて、フィルム基材１１の表面に被膜１２を形成した以外は、実験例５と同様の条件でシート試料を得た。
《実験例１２》
実験例１１ａのＭＥＫ−ＳＴを、実験例８ａのセルロースアセテート（ＡＣ−３５３３Ｂ）１００部に対してケイ素酸化物が１０部となる量（０．０５３部）で配合した塗布液１を用いて、フィルム基材１１の表面に被膜１２を形成した以外は、実験例５と同様の条件でシート試料を得た。

《特性の評価》
上記実験例１〜１２で得られたシート試料について、下記（１）〜（２）の特性を評価した。また実験例４，５，１１ａ〜１１ｃ，１２で得られたシート試料については、さらに下記（３）の特性を評価した。結果を表１に示す。

（１）耐熱性
（１−１）オリゴマー析出防止性（顕微鏡）
得られたシート試料を１５０℃のオーブンに投入し、２時間後、７時間後、１８時間後にそれぞれ取り出した（３つの試料を使用）。次に、取り出したシート試料の被膜１２側（若しくは第１面側）を顕微鏡（２００倍）で観察し、１０視野当たり（面積０．５ｍｍ^２ ）に、円相当径で１μｍφ以上の析出物が１０個以下であった（オリゴマーの析出が全く認められなかった）ものを「○」、上記析出物が２０個を超え５０個未満であった（オリゴマーの析出がやや認められたが問題なしと考えられる）ものを「△」、上記析出物が５０個を超えた（オリゴマーの析出が認められた）ものを「×」として評価した。

（１−２）オリゴマー析出防止性（ヘーズ変化率）
まず、得られたシート試料に対し、ヘーズメータＮＤＨ２０００（日本電色社）を用いてヘーズ値「％」（ＪＩＳ−Ｋ７１３６：２０００）を測定し、加熱前ヘーズ値を得た。その後、加熱前ヘーズ値測定後のシート試料を上記（１−１）と同様に１５０℃のオーブンに投入して２時間後、７時間後、１８時間後にそれぞれ取り出した（３つの試料を使用）。次に、取り出したシート試料に対して上記同様にヘーズ値を測定し、加熱後ヘーズ値を得た。そして、下記式により加熱前後のヘーズ変化率「％」を算出した。その結果、ヘーズ値の変化率が０．５％以下の場合を「○」、０．５％超の場合を「×」として評価した。
［数２］ ヘーズ値の変化率＝（加熱前ヘーズ値−加熱後ヘーズ値）

（１−３）オリゴマー析出防止性（折り曲げ試験後）
得られたシート試料を被膜１２が外側になるように２つに折り曲げた後、上記（１−１）と同様に、シート試料を１５０℃のオーブンに投入し、２時間後、７時間後、１８時間後にそれぞれ取り出した（３つの試料を使用）。次に、取り出したシート試料の被膜１２側（若しくは第１面側）を上記（１−１）と同様に観察し、同様の基準で評価した。

（２）折り曲げ試験による耐クラック性
上記（１−３）と同様に、得られたシート試料を被膜１２が外側になるように２つに折り曲げ、その折り曲げた部分の被膜１２にクラックを生じるか否かを目視で観察した。その結果、クラックが確認できなかったものを「○」、クラックを確認できたものを「×」として評価した。

（３）耐ブロッキング性
シート試料のハードコート層面に、別途用意したシート試料の被膜１２の面を重ね合わせた。次に、両シート試料をガラス板で挟み込み、約２ｋｇの重りを載せて６０℃の雰囲気下に７２時間放置した。次に、重ね合わせ面を目視により観察しニュートンリングの発生状況を確認した後、両者を剥離した。その結果、剥離前はニュートンリングが発生しておらず、剥離時には剥離音を立てずに軽く剥離されるものを「○」、剥離前は一部ニュートンリングが発生しており、剥離時には小さな剥離音を立てながら剥離されるものを「△」、剥離前は全面にニュートンリングが発生しており、剥離時には大きな剥離音を立てて剥離されるものを「×」として評価した。

表１の結果から以下の事項が理解される。まず、Ｔｇが１５０℃以上のセルロースアセテートプロピオネート（以下「特定の樹脂」と略記する。）を含む樹脂組成物で被膜１２を構成しても、被膜１２の厚みが薄すぎると（実験例１）、被膜１２を形成する効果が得られず、被膜１２の表面にオリゴマーが析出する。このオリゴマーが析出することに起因してヘーズ変化率が増大する。また、耐熱耐湿性が悪化する。

次に、Ｔｇが１５０℃未満のセルロースアセテートプロピオネートを含む樹脂組成物で被膜１２を構成した場合（実験例６）、折り曲げによって被膜１２にクラックを生じることはないが、加熱によりオリゴマーの析出防止性が低下し、被膜１２の表面にオリゴマーが析出する傾向にある。このオリゴマーが析出することに起因してヘーズ変化率が増大する。耐熱耐湿性も悪化する。

次に、Ｔｇが１５０℃以上であってもセルロース誘導体以外のポリアミドイミド樹脂を含む樹脂組成物で被膜１２を構成した場合（実験例７）、折り曲げによって被膜１２にクラックを生じることはないが、加熱によりオリゴマーの析出防止性が低下し、被膜１２の表面にオリゴマーが析出する傾向にある。このオリゴマーが析出することに起因してヘーズ変化率が増大する。耐熱耐湿性も悪化する。

次に、特定の樹脂を含む樹脂組成物で構成される被膜１２に代え、電離放射線硬化型樹脂組成物で構成される被膜を形成した場合（実験例９）、厚みが厚いことに起因して（１０００ｎｍ）、折り曲げ試験による耐クラック性が悪化する。その結果、その後に加熱処理を行った場合に、生じたクラックを通じてオリゴマーが析出することが確認できた。

次に、フィルム基材１１の第１面に被膜１２を形成しなかった場合（実験例１０）、この第１面からオリゴマーが析出する。このオリゴマーが析出することに起因してヘーズ変化率が増大する。

これに対し、特定の樹脂を含む樹脂組成物を用い、被膜１２を所定厚み以上で形成すると（実験例２〜５）、いずれの特性についても良好な結果が得られる。

次に、フィルム基材１１の第１面に形成する被膜１２の厚みが比較的厚い場合、これに起因してブロッキングを生じやすい（実験例５）。これに対し同じ厚みであっても、ケイ素酸化物を配合することで耐ブロッキング性の向上が認められる（実験例１１ａ，１１ｂ）。なお、被膜１２の厚みが適正値であれば、ケイ素酸化物を配合しなくてもブロッキングは生じない（実験例４）。

特定の樹脂として、Ｔｇが１５９℃のセルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）を用いた場合（実験例４，５）と比較して、Ｔｇがより高い、Ｔｇ１８０℃のセルロースアセテート（ＣＡ）を用いた場合（実験例８ａ，８ｂ）には、より長時間の加熱によってもオリゴマーの析出防止効果が得られることが確認できた。

また、ケイ素酸化物の配合比率を高めることで（実験例１１ｃ）、その配合比率が少量のもの（実験例１１ａ，１１ｂ）と比較して、耐ブロッキング性の向上はもとより、より長時間（７時間）の加熱によってもオリゴマーの析出防止効果が得られることが確認できた。
さらに、ケイ素酸化物の配合比率を高めるとともに、特定の樹脂として、Ｔｇ１５９℃のＣＡＰ（実験例１１ｃ）に代え、Ｔｇ１８０℃のＣＡを用いた場合（実験例１２）には、より一層長時間（１８時間）の加熱によってもオリゴマーの析出防止効果が得られることが確認できた。

なお、フィルム基材１１として、厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム（Ａ４３５０、東洋紡社製、易接着層あり）、厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム（Ｏ３００Ｅ、三菱化学ポリエステルフィルム社製、易接着層あり）についても、上述した実験例１〜１２と同様の被膜１２を形成し、同様の評価を行ったところ、同様の傾向があることが確認できた。

《実験例１３》
実験例４で得られたシート試料のハードコート層の上に、波長５５０ｎｍの付近で最小反射率となるように厚さ約０．１μｍの反射防止層（屈折率：１．３６）を形成した。次に、シート試料の被膜１２形成面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタリング法で形成した。

このようにして得られた第１積層体試料で、図４に示す上電極基板５２を構成した。

次に、図４に示す下電極基板５４としての第２積層体試料を、厚み１ｍｍ強化ガラス板の一方の面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯ膜をスパッタリング法で形成した後、これを４型の大きさ（縦８７．３ｍｍ×横６４．０ｍｍの長方形）に切り取ることにより作製した。

次に、第２積層体試料のＩＴＯ膜を有する面に、スペーサー用塗布液として電離放射線硬化性樹脂（ＤｏｔＣｕｒｅＴＲ５９０３：太陽インキ社）をスクリーン印刷法によりドット状に印刷した後、高圧水銀灯で紫外線を照射して、直径５０μｍ、高さ８μｍのスペーサ５８を１ｍｍの間隔で配列させた。

次に、両試料のＩＴＯ膜が所定のギャップを隔てて対向するように、第１積層体試料と、スペーサ５８を配列させた第２積層体試料とを配置し、厚み３０μｍ、幅３ｍｍ両面接着テープで縁を接着し、図４に示すタッチパネル５に相当するタッチパネル試料を作製した。なお、この実験例では、両試料の接着部分がタッチパネル試料の表示面の領域外となるようにした。

作製したタッチパネル試料は、良好に操作をすることができることが確認できた。

１０…シート、１１…フィルム基材、１２…被膜、２０…積層体、２２…第１機能層（機能層）、２４…第２機能層（機能層）、５…タッチパネル、５２…上電極基板（第１の電極基板）、５２２…上透明基板（第１の透明基板）、５２４…上透明導電膜（第１の透明導電膜）、５４…下電極基板（第２の電極基板）、５４２…下透明基板（第２の透明基板）、５４４…下透明導電膜（第２の透明導電膜）、５６，５８…スペーサ、７…接着層、９…表示素子。

Claims (15)

1. フィルム基材の表面に、厚みが３０ｎｍ以上の被膜を有するシートであって、
   前記被膜は、樹脂成分を含む樹脂組成物で構成されており、
   前記樹脂成分は、１５０℃以上のガラス転移温度を持つセルロース誘導体を含むことを特徴とするシート。
2. 請求項１記載のシートにおいて、
   前記セルロース誘導体は、セルロースエステル類を含むことを特徴とするシート。
3. 請求項２記載のシートにおいて、
   前記セルロースエステル類は、脂肪族有機酸エステルを含むことを特徴とするシート。
4. 請求項３記載のシートにおいて、
   前記脂肪族有機酸エステルは、セルロースＣ_２−６ アルキルカルボン酸エステルを含むことを特徴とするシート。
5. 請求項４記載のシートにおいて、
   前記セルロースＣ_２−６ アルキルカルボン酸エステルは、セルロースアセテート又はセルロースアセテートプロピオネートを含むことを特徴とするシート。
6. 請求項５記載のシートにおいて、
   前記セルロースアセテートプロピオネートは、アセチル基の置換度よりも高いプロピオニル基の置換度を持ち、前記プロピオニル基の置換度が１．８〜２．５であることを特徴とするシート。
7. 請求項１〜６の何れか一項記載のシートにおいて、
   前記樹脂組成物は、ケイ素酸化物を含み、
   前記ケイ素酸化物は、１００重量部の前記樹脂成分に対して、０．１重量部以上含有することを特徴とするシート。
8. 請求項１〜６の何れか一項記載のシートにおいて、
   前記樹脂組成物は、ケイ素酸化物を含み、
   前記ケイ素酸化物は、１００重量部の前記樹脂成分に対して、１０重量部以上含有することを特徴とするシート。
9. 請求項７又は８記載のシートにおいて、
   前記ケイ素酸化物は、コロイダルシリカを含むことを特徴とするシート。
10. 請求項１〜９の何れか一項記載のシートにおいて、
    前記被膜は、厚みが１μｍ以下であることを特徴とするシート。
11. 請求項１〜１０の何れか一項記載のシートの表面に機能層を有する積層体。
12. 請求項１１記載の積層体において、
    前記機能層は、前記シートの前記被膜側に積層された粘着層を含むことを特徴とする積層体。
13. 請求項１１記載の積層体において、
    前記機能層が、前記シートの前記被膜とは反対側に積層されたハードコート層を含むことを特徴とする積層体。
14. 第１の透明導電膜が第１の透明基板に形成された第１の電極基板と、
    第２の透明導電膜が前記第１の透明導電膜と所定の間隙を空けて対向するように第２の透明基板に形成された第２の電極基板とを、有するタッチパネルであって、
    前記第１の透明基板及び前記第２の透明基板のうち何れか一方の可動側電極基板が、請求項１２記載の積層体を含むことを特徴とするタッチパネル。
15. フィルム基材表面へのオリゴマーの析出を防止する方法であって、
    フィルム基材の表面に、１５０℃以上のガラス転移温度を持つセルロース誘導体を含む樹脂成分を有する塗工液を塗布して乾燥させ、厚みが３０ｎｍ以上の被膜を形成させることを特徴とするオリゴマーの析出防止方法。

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