JP2010245575A - スピン処理装置及びスピン処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 処理槽1と、この処理槽内に設けられた上面に開口部を有するカップ体2と、このカップ体内に設けられ基板を保持して回転駆動される回転テーブル16と、上記処理槽の上部に設けられこの処理槽内に清浄空気を導入するファン・フィルタユニット32と、このファン・フィルタユニットから上記処理槽内に供給された清浄空気を上記カップ体の内部空間を通じて排出する排出管5及び排出ポンプ6と、上記カップ体の上方で少なくとも上記基板の上面よりも径方向外方に配置され上記基板に加熱用の光線を照射するランプ51とを具備する。
【選択図】 図1
Description
回転する基板に処理液を供給するノズル体と、
上記基板を保持して回転させながら上記ノズル体から処理液を供給して処理してから、上記基板を上記処理液によって処理するときよりも高速度で回転させて乾燥処理する回転テーブルと、
上記処理液による処理が終了する前に上記基板を加熱するための光線を照射する光照射手段と、
を具備したことを特徴とするスピン処理装置にある。
回転する基板に処理液を供給する処理工程と、
処理液によって処理された基板を上記処理工程時よりも高速度で回転させて乾燥処理する乾燥工程と、
上記処理工程が終了する前に上記基板を加熱するための光線を照射する光照射工程と、
を具備したことを特徴とするスピン処理方法にある。
2…カップ体
5…排出管(排出手段)
6…排気ポンプ(排出手段)
16…回転テーブル
32…ファン・フィルタユニット
51…ランプ(光照射手段)
61…レーザ装置(光照射手段)
Claims (7)
- 基板を回転させながら処理液で処理してから乾燥処理するスピン処理装置において、
回転する基板に処理液を供給するノズル体と、
上記基板を保持して回転させながら上記ノズル体から処理液を供給して処理してから、上記基板を上記処理液によって処理するときよりも高速度で回転させて乾燥処理する回転テーブルと、
上記処理液による処理が終了する前に上記基板を加熱するための光線を照射する光照射手段と、
を具備したことを特徴とするスピン処理装置。 - 上記光照射手段は、上記カップ体の上面の開口部よりも径方向外方に配置されていることを特徴とする請求項1記載のスピン処理装置。
- 上記光照射手段はランプであって、このランプは光軸中心を上記基板の回転中心からずらして配置されていることを特徴とする請求項1記載のスピン処理装置。
- 上記光照射手段はレーザ光を出力するレーザ装置であることを特徴とする請求項1記載のスピン処理装置。
- 上記レーザ光を上記基板の回転中心部と径方向外周端との間で揺動させることを特徴とする請求項4記載のスピン処理装置。
- 上記レーザ光は上記基板に吸収される波長であることを特徴とする請求項4記載のスピン処理装置。
- 基板を回転させながら処理液で処理してから乾燥処理するスピン処理方法において、
回転する基板に処理液を供給する処理工程と、
処理液によって処理された基板を上記処理工程時よりも高速度で回転させて乾燥処理する乾燥工程と、
上記処理工程が終了する前に上記基板を加熱するための光線を照射する光照射工程と、
を具備したことを特徴とするスピン処理方法。
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