JP2010222636A - 鋼材の表面処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被処理部材に対し、一次加熱温度T1で減圧しつつ浸炭性ガスを供給する真空浸炭処理を行った後に、その浸炭性ガスを浸窒性ガスに置換しつつ二次加熱温度T2に降温し、その二次加熱温度T2に保持する浸窒処理を行う。
【選択図】図1
Description
ただし、鋼材の強度が不十分であると、歯車の歯元に曲げ応力が作用した際に歯元破壊等が生じる場合がある。また、歯車の歯車表面部にすべり力が作用して歯車表面部の一部が剥がれるピッチングが生じることもある。このような歯元破壊を防止し、ピッチングを抑制するためにはしばしば歯車表面部に浸炭処理が行われる。歯車表面部に浸炭処理を行って炭化物を析出させることにより、歯車表面部の機械的特性を向上させ、歯元強度を確保して信頼性の高い歯車を得ることができる。
この後、一次加熱温度よりもやや低温の二次加熱温度まで歯車材を昇温する。これにより、炭素を過飽和に含有する歯車材の浸炭処理部分に炭化物の核が多量に生成され、さらに、当該二次加熱温度で浸炭性ガスを供給する二次浸炭処理を行うと、歯車表層に微細な炭化物が分散して析出する。
本発明ではこの点を改善すべく、減圧環境下で浸炭浸窒処理を行う。真空浸炭処理では、浸炭に寄与しない余剰の浸炭性ガスが順次排出される。このため、浸炭性ガスが熱分解してススを生じることを防止できる。よって、処理製品の品質が向上し、装置の清掃頻度が減少して処理効率を高めることができる。
さらに、本発明では、被処理部材を一回だけ加熱し、その冷却過程で浸窒処理まで行うから熱処理効率が非常に良い。また、本手段では、真空浸炭処理を行った後に、浸炭性ガスを浸窒性ガスに置換して浸窒処理を行うので、浸炭性ガスおよび浸窒性ガスの供給比率を制御したり、浸炭性ガスおよび浸窒性ガスの供給タイミングを頻繁に制御する必要がなく、処理条件の制御が容易である。このように、本手段は、浸炭浸窒処理に際して減圧環境を形成する必要はあるものの、従来の二回の加熱処理を行っていた手法に比べて処理効率を大幅に向上させることができる。
よって、本手段では、二次加熱温度に際しての降温速度を2.7℃/分以下に設定する。これにより、被処理部材の表面近傍における炭素濃度および窒素濃度を共に適正化し、微細な炭素析出物を有する被処理部材を得ることができる。
本発明は、このような部材の表面改質を効率的に行う浸炭浸窒方法に関する。以下、本発明の方法につき、図面及び表を参考にしつつ説明する。
被処理部材の機械的強度は含有される炭素濃度に影響される。被処理部材の母材の炭素濃度が0.10質量%未満であると、被処理部材の母材の強度が低下する。一方、被処理部材の母材の炭素濃度が0.40質量%を超えると、被処理部材の母材の硬さが増大して加工性が低下する。よって、本願発明の被処理部材としては、0.10質量%〜0.40質量%の範囲内の炭素を含有するのが好ましい。
ただし、被処理部材のMnが0.30質量%未満であると、被処理部材の強度が低下し、被処理部材の焼入性が低下する。一方、被処理部材のMnが1.20質量%を超えると、被処理部材の硬さが増大して被処理部材の加工性が低下する。よって、被処理部材の強度、焼入性および加工性を維持できるように、本願発明の被処理部材では、0.30質量%〜1.20質量%の範囲内のMnを含有するのが好ましい。
一方、被処理部材のCrが1.00質量%を超えると、浸窒処理中に浸窒性ガス中の窒素が被処理部材のCrと反応してCrNを作り易く、浸窒性ガス中の窒素が被処理部材に侵入し難くなる。よって、本発明では、炭化物の形成を促進し、被処理部材の軟化抵抗性を維持しつつ、浸窒性ガス中の窒素が被処理部材に侵入し易くなるように、Crを0.50質量%〜1.00質量%、より好ましくは0.50質量%〜0.90質量%、一層好ましくは0.50質量%〜0.80質量%含有するのが好ましい。
効率よく浸炭処理するためには、炭化物が析出し易くなるよう、被処理部材の表面炭素濃度を共析点(鉄-炭素系鋼材では炭素濃度0.80質量%)以上の濃度にする必要がある。そのために、被処理部材の表面炭素濃度は0.90質量%以上にする。
図1は浸炭浸窒処理の温度パターンを示したものである。図2は、炭素鋼材の相変態図である。図中の矢印付きの太線は被処理部材の表面部(浸炭層)における温度および炭素濃度の変化を示している。図1および図2の(a)〜(e)は、浸炭浸窒処理における各工程を示している。
真空浸炭炉(図示しない)を減圧し、真空浸炭炉を減圧状態で一次加熱温度T1℃まで昇温する(図1および図2の(a)の部分)。このとき、図2中のX1点はA3線より上に位置し、被処理部材はγ相(オーステナイト相)になっている。
続いて、浸炭性ガスを真空浸炭炉の内部に供給し、真空浸炭炉の内部温度を一次加熱温度T1℃で所定時間保持する(図1および図2の(b)の部分)。被処理部材の最表面の炭素濃度が所定の値になるように処理する。このように、減圧環境下で浸炭処理を行うことで、余剰の浸炭性ガスがスス化するのを抑制することができる。よって、浸炭処理装置が汚れるのを防止でき、装置の清掃等の手間が軽減される。その結果、生産効率良く被処理部材を得ることができる。浸炭性ガス中の炭素が被処理部材の表面部に侵入して、被処理部材の表面炭素濃度がC1からC2質量%に上昇する。その結果、被処理部材の表面部に炭素リッチな浸炭層を形成する。このとき、図2中のX2点はAcm線より上に位置し、被処理部材の浸炭層はγ相を維持している。
続いて、浸炭性ガスの供給を止め、浸炭性ガスの量が十分少なくなったときに、真空浸炭炉の減圧を解除しつつ浸窒性ガスを真空浸炭炉の内部に供給する。併せて、真空浸炭炉の内部温度を所定の冷却速度で二次加熱温度T2まで降温する(図1および図2の(c)の部分)。このとき、浸窒性ガス中の窒素が被処理部材の浸炭層に侵入し始め、侵入した窒素によって炭素の拡散が遅延される。
一方、真空浸炭炉の内部温度の冷却速度をあまり速くすると、窒素が被処理部材に侵入し難くなり、窒素によって炭素の拡散が遅延する効果を十分に発揮できないことがある。したがって、真空浸炭炉の内部温度の冷却速度が所定の速度以下であることが好ましい。
真空浸炭炉の内部温度を二次加熱温度T2、即ち、炭素濃度C2におけるAcm線直下の温度で所定時間保持する(図1および図2の(d)の部分)。上記したように、窒素によって炭素の拡散が遅延しているので、微細な炭化物が徐々に析出する。さらに、微細な炭化物の析出を促すため、図2中のX3点をAcm線の直下に位置させる。そうすることで、被処理部材の浸炭浸窒された領域の部位で炭化物を析出させることができる。このように、微細な炭化物を被処理部材に分散して析出させることで、被処理部材の強度の向上をはかることができる。
炭化物が所定の状態に析出したのち、被処理部材を急冷する(図1および図2の(e)の部分)。これにより、被処理部材は主としてマルテンサイト相に相変化する。微細な炭化物による分散強化に加えて準安定なマルテンサイト相への相変化により被処理部材の硬さが増大する。尚、必要に応じて焼入れ工程の後に焼き戻し工程を行っても良い。
被処理部材として以下の鋼材A〜Cを用いた。
図3に示すように、CO,CO2,N2,H2の混合ガス(浸炭性ガス)雰囲気下でガス浸炭炉の内部温度を910℃(一次加熱温度)まで昇温した。昇温後、被処理部材の最表面の炭素濃度が0.8%になるように処理し、ガス浸炭炉の内部温度を910℃で120分間保持した。ガス浸炭炉の内部温度を0.7℃/分の冷却速度で850℃(二次加熱温度)まで降温した後、ガス浸炭炉の内部温度を850℃で30分間保持した。その後、被処理部材を急冷した。CO,CO2,N2,H2の割合は、夫々、20.9%,0.38%(850℃)/0.22%(910℃),40.0%,38.0%である。尚、CO2を一定に保つため、CH4を微量添加している。
図4に示すように、真空浸炭炉を減圧し、真空浸炭炉を減圧状態で930℃(一次加熱温度)まで昇温した。真空浸炭炉を減圧しつつアセチレンガス(浸炭性ガス)を真空浸炭炉の内部に供給し、真空浸炭炉の内部温度を930℃(一次加熱温度)で40分間保持した。被処理部材の最表面の炭素濃度が0.8%になるように処理した。アセチレンガスの供給を停止し、真空浸炭炉の内部温度を930℃で40分間保持した。真空浸炭炉の内部温度を2.7℃/分の冷却速度で850℃(二次加熱温度)まで降温した後、真空浸炭炉の内部温度を850℃で30分間保持した。その後、被処理部材を急冷した。
図5に示すように、真空浸炭炉を減圧し、真空浸炭炉を減圧状態で930℃(一次加熱温度)まで昇温した。真空浸炭炉を減圧しつつアセチレンガス(浸炭性ガス)を真空浸炭炉の内部に供給し、真空浸炭炉の内部温度を930℃で80分間保持した。被処理部材の最表面の炭素濃度が1.0%になるように処理した。真空浸炭炉を減圧しつつアセチレンガスの供給を停止した。アセチレンガスの量が十分少なくなったときに、真空浸炭炉の内部温度を2.0℃/分の冷却速度で870℃(二次加熱温度)まで降温した。真空浸炭炉の減圧を解除しアンモニアガス(浸窒性ガス)を真空浸炭炉の内部に供給し、大気圧下に保持しながら、真空浸炭炉の内部温度を870℃で180分間保持した。その後、被処理部材を急冷した。
図6に示すように、真空浸炭炉を減圧し、真空浸炭炉を減圧状態で930℃(一次加熱温度)まで昇温した。真空浸炭炉を減圧しつつアセチレンガス(浸炭性ガス)を真空浸炭炉の内部に供給し、真空浸炭炉の内部温度を930℃(一次加熱温度)で80分間保持した。被処理部材の最表面の炭素濃度が1.0%になるように処理した。真空浸炭炉を減圧しつつアセチレンガスの供給を停止した。アセチレンガスの量が十分少なくなったときに、真空浸炭炉の減圧を解除しアンモニアガス(浸窒性ガス)を真空浸炭炉の内部に供給し、大気圧下に保持しながら、真空浸炭炉の内部温度を1.8℃/分で870℃(二次加熱温度)まで降温した後、真空浸炭炉の内部温度を870℃で30分間保持した。その後、被処理部材を急冷した。
図7に示すように、真空浸炭炉を減圧し、真空浸炭炉を減圧状態で930℃(一次加熱温度)まで昇温した。真空浸炭炉を減圧しつつアセチレンガス(浸炭性ガス)を真空浸炭炉の内部に供給し、真空浸炭炉の内部温度を930℃(一次加熱温度)で80分間保持した。被処理部材の最表面の炭素濃度が1.0%になるように処理した。真空浸炭炉を減圧しつつアセチレンガスの供給を停止した。アセチレンガスの量が十分少なくなったときに、真空浸炭炉の減圧を解除しアンモニアガス(浸窒性ガス)を真空浸炭炉の内部に供給し、大気圧下に保持しながら、真空浸炭炉の内部温度を2.4℃/分で850℃(二次加熱温度)まで降温した後、真空浸炭炉の内部温度を850℃で60分間保持した。その後、被処理部材を急冷した。
図8に示すように、真空浸炭炉を減圧し、真空浸炭炉を減圧状態で930℃(一次加熱温度)まで昇温した。真空浸炭炉を減圧しつつアセチレンガス(浸炭性ガス)を真空浸炭炉の内部に供給し、真空浸炭炉の内部温度を930℃(一次加熱温度)で80分間保持した。被処理部材の最表面の炭素濃度が1.0%になるように処理した。真空浸炭炉を減圧しつつアセチレンガスの供給を停止した。アセチレンガスの量が十分少なくなったときに、真空浸炭炉の減圧を解除しアンモニアガス(浸窒性ガス)を真空浸炭炉の内部に供給し、大気圧下に保持しながら、真空浸炭炉の内部温度を2.0℃/分で870℃(二次加熱温度)まで降温した後、真空浸炭炉の内部温度を870℃で30分間保持した。その後、被処理部材を急冷した。
図9に示すように、真空浸炭炉を減圧し、真空浸炭炉を減圧状態で930℃(一次加熱温度)まで昇温した。真空浸炭炉を減圧しつつアセチレンガス(浸炭性ガス)を真空浸炭炉の内部に供給し、真空浸炭炉の内部温度を930℃(一次加熱温度)で80分間保持した。被処理部材の最表面の炭素濃度が1.0%になるように処理した。真空浸炭炉を減圧しつつアセチレンガスの供給を停止した。アセチレンガスの量が十分少なくなったときに、真空浸炭炉の減圧を解除しアンモニアガス(浸窒性ガス)を真空浸炭炉の内部に供給し、大気圧下に保持しながら、真空浸炭炉の内部温度を2.7℃/分で850℃(二次加熱温度)まで降温した後、真空浸炭炉の内部温度を850℃で30分間保持した。その後、被処理部材を急冷した。
以上の結果を表2に示す。
比較例1,2の表面炭素濃度は、夫々、0.80および0.78質量%であり、炭化物は析出しなかった。一方、比較例3〜5、および、実施例1〜3の表面炭素濃度は、0.93〜1.08質量%の範囲内であり、炭化物が析出した。これにより、被処理部材の浸炭層の表面炭素濃度が、0.90質量%以上であれば、炭化物が析出することがわかる。
比較例3〜5、および、実施例1〜3の表面窒素濃度は、0.39〜1.00質量%の範囲内であり、粗大な炭化物は析出しなかった。浸炭層の表面窒素濃度が低いと、窒素が被処理部材の結晶中に存在する侵入可能なサイトを十分に占めることができない。このため、炭素がそのサイトを介して拡散して、粗大な炭化物が析出する。しかしながら、被処理部材の浸炭層の表面窒素濃度が0.39質量%以上であれば、粗大な炭化物が析出しない。
比較例3〜6および実施例1〜5のCr濃度は、0.50〜1.00質量%の範囲内であり、粗大な炭化物は析出しなかった。被処理部材のCr濃度が高いと、浸窒処理中にアンモニアガス中の窒素が被処理部材のCrと反応してCrNを作り易い。このため、アンモニアガス中の窒素が被処理部材に侵入し難くなる。このように、被処理部材のCr濃度が1.00質量%以下であれば、アンモニアガス中の窒素が被処理部材に侵入し易く、粗大な炭化物の析出を抑制することができる。
実施例2,1,4,5における、一次加熱温度T1、二次加熱温度T2、二次加熱温度T2で保持する保持時間、一次加熱温度T1から二次加熱温度T2に降温するときの降温時間および降温速度、析出物の有無、ピッチング寿命を表3に示す。
浸炭工程で被処理部材がγ相を維持できるように、一次加熱温度を900℃〜1050℃の範囲内にしている。また、浸窒工程で微細な炭化物を析出させるためには、X3点をAcm線の直下に位置させる必要がある。このため、二次加熱温度を800℃〜880℃の範囲内にしている。
実施例1の被処理部材についてSEM観察を行なった結果、(Fe,Cr)3Cを主たる成分とする0.2μm〜0.5μm程度の微細な炭化物が多数確認された。
T2 二次加熱温度
Claims (6)
- 被処理部材に対し、一次加熱温度で減圧しつつ浸炭性ガスを供給する真空浸炭処理を行った後に、その浸炭性ガスを浸窒性ガスに置換しつつ二次加熱温度に降温し、その二次加熱温度に保持する浸窒処理を行う鋼材の表面処理方法。
- 前記被処理部材が鉄を主に含む金属であり、前記真空浸炭処理および前記浸窒処理後の前記被処理部材の表面炭素濃度を0.9質量%以上に設定する請求項1に記載の鋼材の表面処理方法。
- 前記真空浸炭処理および前記浸窒処理後の前記被処理部材の表面窒素濃度を0.39質量%以上に設定する請求項1に記載の鋼材の表面処理方法。
- 前記被処理部材のCrを1.00質量%以下に設定する請求項1に記載の鋼材の表面処理方法。
- 前記一次加熱温度から前記二次加熱温度に降温する降温速度を2.7℃/分以下に設定する請求項1〜4のいずれか1項に記載の鋼材の表面処理方法。
- 前記一次加熱温度を900℃〜1050℃の範囲とし、前記二次加熱温度を800℃〜880℃の範囲とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の鋼材の表面処理方法。
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JP2004107709A (ja) | 転動部材とその製造方法 |
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