JP2010219137A - 半導体装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置及び半導体装置の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】部品の位置精度を向上することができる半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置は、半導体素子を有する半導体モジュール10と、半導体モジュール10を挿入するための凹部22を備えた外壁部21と、冷媒流路とを有する冷却器とを備え、半導体モジュール10が、絶縁樹脂層30を介して、冷却器の凹部22に挿入されるとともに、半導体モジュール10及び冷却器を樹脂により封止されている。
【選択図】図5

Description

本発明は、半導体装置及び半導体装置の製造方法に関する。
IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)等のようなパワー半導体素子は、各
種電力デバイスに広く用いられている。近年では、動力源としてモータを備えたハイブリット自動車や電気自動車等に搭載されている。
ところで、上記パワー半導体素子は、動作時の発熱量が比較的大きく、近年の高性能化により発熱量が益々大きくなる傾向にある。このため、実装にあたって、パワー半導体素子を冷却するための冷却構造が種々検討されている。
例えば、特許文献1では、アルミニウム材等からなる冷却器を絶縁材を介して設け、パワー素子の両側から冷却する両面冷却構造が採用されている。この冷却構造体は、一般的に、1対の放熱板の間に樹脂で封止したパワー素子を配設し、放熱板及び冷却器を、絶縁材を介して一体化する。放熱板、絶縁材及び冷却器の接合部には、グリースが塗布される。
特開2007−165620号公報
ところが、上記した冷却構造体は、樹脂封止されたパワー素子、放熱板、絶縁板及び冷却器をグリースを介して接合するため、アセンブリ工程において、部品間の位置ずれが抑制し難い問題がある。また、放熱板、絶縁材及び冷却器の接合部にグリースを塗布しても、グリース自体の接着力が弱いため、耐震性の向上が難しいという問題もある。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、部品の位置精度を向上することができる半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供することにある。
また、本発明の別の目的は、耐震性を向上することができる半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供することにある。
以下、上記課題を解決するための手段及びその作用効果について記載する。
上記問題点を解決するために、請求項1に記載の発明は、半導体素子を有するモジュールと、前記モジュールを挿入するための収容部を備えた壁部と、冷媒流路とを有する冷却器とを備え、前記モジュールが、絶縁層を介して、前記冷却器の収容部に挿入されるとともに、前記モジュール及び前記冷却器が樹脂により封止されたことを要旨とする。
この構成によれば、冷却器の壁部には、モジュールを絶縁層を介して挿入するための収容部が設けられている。このため、例えばグリース等を介して、モジュールと絶縁材と冷却器とを接合する場合よりも、モジュールと冷却器との位置精度を高めることができる。さらに、モジュール及び冷却器は、樹脂により封止されているため、モジュール及び冷却器を強固に固定することができる。このため、半導体装置の耐震性を向上することができる。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の半導体装置において、前記冷却器のうち、少なくとも前記収容部の内側面が、前記絶縁層によって被覆されていることを要旨とする。
この構成によれば、収容部の内側面は、絶縁層によって被覆されているので、板状の絶縁材等を別部材として設ける必要がない。このため、絶縁材と冷却器との間に、熱抵抗を悪化させるグリースを塗布する必要が無くなる。このため、半導体装置の部品点数を低減して、アセンブリ工程を簡略化するとともに、冷却効率を向上させることができる。
請求項3に記載の発明は、請求項1に記載の半導体装置において、前記モジュールは、その両側面に放熱板を備えるとともに、前記放熱板に前記絶縁層が被覆されていることを要旨とする。
この構成によれば、モジュールの放熱板に絶縁層が被覆されているので、板状の絶縁材を別部材として設ける必要がない。このため、絶縁材と冷却器との間に、熱抵抗を悪化させるグリースを塗布する必要が無くなる。このため、半導体装置の部品点数を低減して、アセンブリ工程を簡略化するとともに、冷却効率を向上させることができる。
請求項4に記載の発明は、半導体素子を有するモジュールと冷却器とを備えた半導体装置の製造方法において、前記冷却器は、前記モジュールを挿入するための収容部を備えた壁部と、冷媒流路とを有するとともに、少なくとも前記壁部の温度を、前記モジュールの温度よりも相対的に高くして、前記収容部に前記モジュールを絶縁層を介して挿入し、前記モジュールを挿入した前記冷却器を放熱させることを要旨とする。
この製造方法によれば、少なくとも冷却器の壁部の温度を、モジュールの温度よりも相対的に高くする。このため、壁部を熱膨張させることにより、モジュール挿入時に、収容部をモジュールを挿入可能な大きさにすることができる。そして、モジュールを挿入した冷却器を放熱させて、壁部を熱収縮させることにより、壁部にモジュールを固定することができる。このため、モジュールと冷却器との位置精度を高めるとともに、接着材等を用いずに、モジュールを強固に固定することができる。
請求項5に記載の発明は、半導体素子を有するモジュールと冷却器とを備えた半導体装置の製造方法において、前記冷却器は、前記モジュールを挿入するための収容部を備えた壁部と、冷媒流路とを備え、前記壁部を、前記半導体素子の外側に配置された放熱板よりも熱膨張係数が大きい材質から構成するとともに、前記収容部の大きさが、前記放熱板の大きさ以上となる温度範囲において、前記収容部に前記モジュールを絶縁層を介して挿入し、前記モジュールを収容した冷却器を放熱することを要旨とする。
この製造方法によれば、収容部の大きさが放熱板の大きさ以上となる温度範囲において、収容部にモジュールを挿入する。そして、冷却器を放熱して、壁部を熱収縮させることにより、壁部にモジュールを固定することができる。このため、モジュールと冷却器との位置精度を高めるとともに、接着材等を用いずに、モジュールを強固に固定することができる。
請求項6に記載の発明は、請求項4又は5に記載の半導体装置の製造方法において、前記収容部の内側面に絶縁材を塗布することにより、前記収容部の内側面に前記絶縁層を形成することを要旨とする。
この製造方法によれば、収容部の内側面は、絶縁材が塗布されているので、板状の絶縁
材を別部材として設ける必要がない。このため、絶縁材と冷却器との間に、熱抵抗を悪化させるグリースを塗布する必要が無くなる。このため、半導体装置の部品点数を低減して、アセンブリ工程を簡略化するとともに、冷却効率を向上させることができる。
本実施形態の半導体装置の斜視図。 同半導体装置の平面図。 同半導体装置の要部断面図。 (a)は冷却器の側面図、(b)は冷却器の断面図。 同半導体装置の要部断面図。 別例の半導体装置の要部断面図。 別例の半導体装置の要部断面図。 別例の半導体装置の平面図。 (a)は別例の半導体装置の要部断面図、(b)は別例の半導体装置の要部断面図。
以下、本発明を具体化した一実施形態を図1〜図5に従って説明する。図1は、車両のパワーコントロールユニットに設けられる半導体装置1である。半導体装置1は、例えばパワーコントロールユニットのインバータ装置であって、少なくとも1つの3相ブリッジ回路を構成する全部品を有し、直流電源からの直流電流を3相交流電流に変換する。
半導体装置1は、半導体モジュール10及び冷却器を一体に封止した略直方体状の封止部2を備えている。封止部2は、エポキシ樹脂等の一般的なモールド樹脂からなり、その上面2Aからは、封止部内の各半導体モジュール10に接続する信号端子3が突出している。これらの各信号端子3は、半導体装置1に並設されたIPM(Intelligent Power Module)制御基板4に接続されている。また、封止部2の下面2Bからは、各半導体モジュール10の端子部5が突出しており、端子部5は外部配線と接続される。さらに、封止部2の各側面2C,2Dからは、封止部内に設けられた冷却器に冷媒を流入するための冷媒流入口6と、冷却器から冷媒を排出するための冷媒流出口7とが突出している。冷却器は、水冷式でも良いし、空冷式でもよい。
図2に示すように、本実施形態では、3対の冷却器20が封止部内に平行に設けられている。冷却器20は扁平且つ長尺状であって、その長手方向が、封止部2の長手方向(X方向)と平行になるように並列に配置されている。1対の冷却器20の間には、複数の半導体モジュール10(本実施形態では5個)が等間隔で配設されている。これにより、1対の冷却器20と、複数の半導体モジュール10からなるモジュール列Lとからなる構造体が構成され、3つの構造体が封止部2の奥行き方向(Y方向)に積層されて、冷却構造体をなしている。
冷媒流入口6から流入した冷媒は、各冷却器20に連結された上流側の共通流路28を通って、各冷却器20にそれぞれ流入する。冷却器20に備えられた各冷媒流路に流入した冷媒は、半導体モジュール10から発せられた熱エネルギーを吸収しながら冷却器内を通過し、下流側の共通流路29を通って、冷媒流出口7から排出される。
図3は、図2におけるA−A´線における要部断面図である。図3に示すように、冷却器20の間には、半導体モジュール10が配設されている。半導体モジュール10は、半導体素子11と、放熱ブロック12と、1対の放熱板15とを備えている。半導体素子11は、IGBT(絶縁ゲート型バイボーラトランジスタ)等であって、一方の第1放熱板15Aと半田等の接合材14によって接合されている。また、半導体素子11は、信号端
子3とワイヤ16を介して電気的に接続され、放熱板15の下端部15Cは、上記した端子部5を兼ねている。放熱板15は、熱伝導率の高い金属材から形成されており、例えば銅又は銅合金が用いられている。
また、放熱ブロック12は、例えば銅合金又はアルミニウム合金等の熱伝導性及び電気伝導性の良い金属で構成されている。そして、半導体素子11及び放熱ブロック12の間の接合部と、放熱ブロック12及び第2放熱板15Bの接合部とは、半田等の接合材14によって接合されている。
これらの各放熱板15、放熱ブロック12及び半導体素子11は、樹脂17によって一体化され、半導体モジュール10を構成する。放熱板15の外側面は、樹脂17により被覆されず、外部に露出した状態となっている。このとき用いられる樹脂は、エポキシ樹脂等の一般的なモールド樹脂である。
この半導体モジュール10は、冷却器20の外壁部に設けられた各凹部に圧入されている。冷却器20の外壁部21は、例えばアルミニウム材等、半導体モジュール10の放熱板15よりも熱膨張係数が大きい材質からなる。また、図4(a)及び図4(b)に示すように、半導体モジュール10と相対向する外側面21Cには、各半導体モジュール10をそれぞれ挿入するための凹部22が形成されている。凹部22は、上記モジュール列Lを構成する半導体モジュール10の数と同数(本実施形態では5個)形成されている。
凹部22は、放熱板15の形状に合わせた矩形状に形成され、その長さ及び幅は、半導体装置1の使用環境の温度範囲において、放熱板15の長さ及び幅とよりも若干小さく形成されている。これにより、凹部22と半導体モジュール10とのはめあい状態は、上記温度範囲では、しまり嵌めとなる。また、凹部22の深さは、特に限定されないが、放熱板15を安定して支持できる深さであればよい。本実施形態では、半導体モジュール10の厚みの約半分とする。また、凹部22のうち、外壁部21の上端21A側と下端21B側は開口しており、ワイヤ16及び端子部5をそれぞれ引き出し可能となっている。
各凹部22の間には、上端21Aから下端21Bに向かって延びる支持部23がそれぞれ設けられている。半導体モジュール10は、各支持部23の間に設けられ、各支持部23は、両側から半導体モジュール10を挟持する。
さらに、図4(b)に示すように、凹部22の内側面22Aには、絶縁樹脂層30が設けられている。絶縁樹脂層30は、エポキシ樹脂等の絶縁性を有する樹脂である。本実施形態では、外壁部21を、絶縁樹脂に対してディップコーティングするため、外壁部21の外側面21C全体に、絶縁樹脂層30が設けられている。
図5に示すように、各半導体モジュール10の放熱板15A,15Bは、上記した冷却器20の各凹部22に、絶縁樹脂層30を介して、それぞれ挿入される。半導体モジュール10の前面10A及び背面10Bは、絶縁樹脂層30を介して外壁部21に密着し、半導体素子11の動作時に発生する熱エネルギーは、放熱板15及び絶縁樹脂層30を介して、外壁部21に伝播し、外壁部21内の冷媒流路を通過する冷媒に吸収される。半導体素子11の各側面10C,10Dは、絶縁樹脂層30を介して、外壁部21を構成するアルミニウム材によって挟持され、強固に固定される。
また、図3に示すように、冷却器20は、外壁部21で囲まれた空間内に、冷却フィン25を備えている。冷却フィン25は、外壁部21で囲まれた空間内に設けられ、外壁部内の空間を区画することにより各冷媒流路を構成する。この冷却フィン25は、冷却器20の間の半導体モジュール10に対し付勢力を付与する弾性部材としても機能する。
次に、半導体装置1の製造方法について説明する。
まず、第1放熱板15Aに対し、半導体素子11を接合材14によって接合する。さらに、半導体素子11に、放熱ブロック12及び第2放熱板15Bを接合材14によって接合する。そして、接合材14によって連結された各放熱板15、放熱ブロック12及び半導体素子11を、半導体モジュール10を形成するための所定の成形型に入れて樹脂を流し込み、モールド成形する。そして、型内の樹脂を硬化させた後、型から半導体モジュール10を取り出す。
また、冷却器20の外壁部21の外側面21Cに、絶縁樹脂をディップコーティングする。そして、塗布された樹脂を硬化させることにより、外壁部21の外側面21Cに絶縁樹脂層30を形成する。
さらに、半導体モジュール10の放熱板15A,15Bを、冷却器20の対応する凹部22にそれぞれ係合する。上記したように、半導体装置1の使用環境の温度範囲において、凹部22は放熱板15の大きさよりも若干小さくなるように形成されている。このため、凹部22に半導体モジュール10を挿入する際は、外壁部21の放熱板15に対する相対温度を高くして、凹部22の大きさを、半導体モジュール10の大きさよりも若干大きくする。例えば、冷却器20を加熱するとともに、半導体モジュール10の温度を室温又は室温以下に調整してもよいし、冷却器20の温度を室温とし、半導体モジュール10を冷却してもよい。外壁部21は、熱膨張係数(線膨張係数)が大きいアルミニウム材からなり、半導体モジュール10の放熱板15は、アルミニウム材よりも熱膨張係数の小さい銅又は銅合金から形成されているため、放熱板15に対する凹部22の大きさを比較的容易に調整できる。
或いは、凹部22及び半導体モジュール10の両方を、使用環境における温度範囲よりも高い温度とし、外壁部21を構成する材質及び放熱板15を構成する材質の膨張係数の差を利用して、半導体モジュール10を凹部22に挿入することもできる。即ち、アルミニウムからなる外壁部21は、例えば銅又は銅合金からなる放熱板15よりも大きな膨張係数を有するため、使用環境温度よりも高い温度下では、外壁部21の膨張量が大きく、凹部22を半導体モジュール10よりも大きくすることができる。
このように、半導体モジュール10の各放熱板15を、各冷却器20の凹部22にそれぞれ挿入して両側面から挟持すると、室温まで冷却(放熱)する。これにより、外壁部21は収縮するので、半導体モジュール10を、しまり嵌めにより強固に固定することができる。
冷却器20の各凹部22に対応する各半導体モジュール10をそれぞれ挿入すると、半導体モジュール10は、冷却器20の間に等間隔で並んで配置される。そして、各半導体モジュール10及び1対の冷却器20からなる構造体を、3列組合せて共通流路28,29と連結する。そして、その構造体を、封止部2を形成するための所定の成形型に入れ、樹脂を流し込み、モールド成形する。これにより、各部材の隙間に樹脂が充填されるとともに、冷却器20の上側及び下側と型との隙間に樹脂が充填される。その結果、図1に示すような封止部2が形成され、半導体モジュール10及び冷却器20がパッケージ化される。
このように、各冷却器20の凹部22に半導体モジュール10を挿入して挟持することにより、半導体モジュール10が冷却器20に対して位置ずれせず、半導体モジュール10と冷却器20との位置精度を高い精度とすることができる。また、半導体モジュール10が冷却器20の外壁部21に圧入されることにより、冷却器20を絶縁板を介して半導
体モジュール10とグリースにより接合するよりも耐震性を高めることができる。さらに、凹部22に半導体モジュール10を挿入することで、半導体モジュール10を位置決めすることができるので、平面状の外壁部を有する冷却器20と半導体モジュール10とをグリースで接合する場合に比べ、アセンブリ工程を簡略化することができる。
さらに、凹部22の内側面に絶縁樹脂層30を直接塗布したので、板状の絶縁材等が不要となるとともに、絶縁材と冷却器20との間に、熱抵抗を悪化させるグリースを塗布する必要が無くなる。従って、半導体装置1の冷却効率を向上することができる。
また、半導体モジュール10を冷却器20に圧入した3列の構造体を、樹脂により一体に成形することにより、ネジ留め等により締結するよりも、半導体モジュール10及び冷却器20を全体的に強固に封止することができる。従って、半導体装置1の耐震性をさらに向上することができる。
上記実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
(1)上記実施形態では、半導体装置1を、半導体素子11を有する半導体モジュール10と、半導体モジュール10を挿入するための凹部22を備えた外壁部21と、冷媒流路とを有する冷却器20とを備える構成とした。また、半導体モジュール10を、絶縁樹脂層30を介して、冷却器20の凹部22に挿入した。このため、半導体モジュール10と冷却器20との位置精度を向上することができる。さらに、半導体モジュール10及び冷却器20を樹脂17により封止したため、半導体モジュール10及び冷却器20を、より強固に固定することができる。このため、半導体装置1の耐震性を向上することができる。
(2)上記実施形態では、冷却器20の凹部22の内側面を含む外側面21Cを、絶縁樹脂層30によって被覆した。従って、板状の絶縁材を別部材として設ける必要がないため、絶縁材と冷却器との間に、熱抵抗を悪化させるグリースを塗布する必要が無くなる。このため、半導体装置1の部品点数を低減して、アセンブリ工程を簡略化するとともに、冷却効率を向上させることができる。
(3)上記実施形態では、外壁部21を、放熱板15の材質よりも大きい熱膨張係数を有する材質から構成した。そして、外壁部21の温度を、半導体モジュール10の温度よりも相対的に高くした状態で、半導体モジュール10を凹部22に挿入した後、半導体モジュール10を挿入した冷却器20を放熱した。或いは、凹部22の大きさが、放熱板15の大きさ以上となる温度範囲において、半導体モジュール10を凹部22に挿入した後、冷却器20及び半導体モジュール10を放熱した。このため、外壁部21を熱膨張させることにより、モジュール挿入時には、凹部22を半導体モジュール10を挿入可能な大きさとし、冷却器20を放熱させて外壁部21を熱収縮させることにより、外壁部21に半導体モジュール10を、しまり嵌めにて固定することができる。このため、半導体モジュール10と冷却器20との位置精度を高めるとともに、接着材等を用いずに、半導体モジュール10を強固に固定することができる。
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・図6に示すように、隣り合う冷却器20の間には、互いの熱干渉を抑制する干渉防止壁40を備えるようにしてもよい。この場合、冷却器20の外壁部21のうち、干渉防止壁40を接合する外側面に、干渉防止壁40を挿入するための凹部を設けるようにしてもよい。即ち、冷却器20は、半導体モジュール10を挿入するための凹部22と、干渉防止壁40を挿入するための凹部とを両側面に備える。このようにしても、半導体モジュール10の間の熱干渉を抑制しつつ、各部材の位置精度を高めることができる。
・上記実施形態では、半導体モジュール10を支持部23で挟持するようにしたが、この支持部23内、又は隣り合う支持部の間に冷媒流路を形成してもよい。そして、各冷却器を連結した際に、冷媒流路が連通されるように構成してもよい。例えば、図7に示すように、冷却器の外壁部50に、凹部50Aを設け、各凹部50Aの間に、2つの支持部53を設ける。2つの支持部53の間には、外壁部50を貫通する冷媒流路52を設ける。これにより、図8に示すように、半導体装置1の長手方向(Y方向)に延びる冷媒流路51と、各冷媒流路51を連通し、半導体装置1の短手方向(X方向)に延びる流路52とが設けられる。このようにしても、半導体モジュール10を冷却器20によって強固に固定することができる。
・上記実施形態及び図6の冷却器20は、放熱板15に対して垂直方向に延出したフィン25を備えた構成としたが、図9(a)及び図9(b)に示すように、放熱板15に対して平行な方向に延出したフィン25を備えた構成としてもよい。図9(a)に示す冷却器20は、外壁部21の間に架け渡された板状のフィン25を備え、当該フィン25の間に流路を備えた構成である。図9(b)に示す冷却器20は、櫛状に形成されたフィン25を備えた各フィン部を組み合わせ、フィン25の間に流路を備えた構成である。
・半導体モジュール10は、上記した構成に限定されることなく、他の構成としてもよい。例えば、放熱ブロック12を省略した構成としてもよい。
・上記実施形態では、冷却器20の外壁部21に絶縁樹脂をディップコーティングするようにしたが、スプレーコーティング、スピンコーティング、ローラコーティング等の他の方法でコーティングしてもよい。
・上記実施形態では、冷却器20の凹部22の内側面に絶縁樹脂層30を設けるようにしたが、半導体モジュール10の放熱板15に絶縁樹脂層30を、ディップコーティング、スプレーコーティング、ローラコーティング等により形成してもよい。このようにしても、板状の絶縁材を別部材として設ける必要がないため、絶縁材と冷却器との間に、熱抵抗を悪化させるグリースを塗布する必要が無くなる。このため、半導体装置の部品点数を低減して、アセンブリ工程を簡略化するとともに、冷却効率を向上させることができる。
・上記実施形態では、各冷却器20を接続する上流側の共通流路28と下流側の共通流路29とを設けるようにしたが、その他の構成にしてもよい。冷却器20を連結することによって、各共通流路28,29に相当する流路が形成される場合には、共通流路28,29を省略してもよく、半導体モジュール10と相対向する側面に、半導体モジュール10を挿入するための凹部が形成されていればよい。
・上記実施形態では、半導体装置1をインバーター部として構成したが、バッテリ電源を昇圧する昇圧コンバータ部として構成してもよい。昇圧コンバータ部の場合、半導体モジュール10からなるモジュール列は、少なくとも一つのハーフブリッジ回路を構成する。
1…半導体装置、2C,2D,10C,10D…側面、10…半導体モジュール、11…半導体素子、15,15A,15B…放熱板、17…樹脂、20…冷却器、21…壁部としての外壁部、22…収容部としての凹部、22A…内側面、30…絶縁層としての絶縁樹脂層、51,52…冷媒流路。

Claims (6)

  1. 半導体素子を有するモジュールと、
    前記モジュールを挿入するための収容部を備えた壁部と、冷媒流路とを有する冷却器とを備え、
    前記モジュールが、絶縁層を介して、前記冷却器の収容部に挿入されるとともに、前記モジュール及び前記冷却器が樹脂により封止されたことを特徴とする半導体装置。
  2. 前記冷却器のうち、少なくとも前記収容部の内側面が、前記絶縁層によって被覆されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記モジュールは、その両側面に放熱板を備えるとともに、
    前記放熱板に前記絶縁層が被覆されていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  4. 半導体素子を有するモジュールと冷却器とを備えた半導体装置の製造方法において、
    前記冷却器は、前記モジュールを挿入するための収容部を備えた壁部と、冷媒流路とを有するとともに、
    少なくとも前記壁部の温度を、前記モジュールの温度よりも相対的に高くして、前記収容部に前記モジュールを絶縁層を介して挿入し、前記モジュールを挿入した前記冷却器を放熱させることを特徴とする半導体装置の製造方法。
  5. 半導体素子を有するモジュールと冷却器とを備えた半導体装置の製造方法において、
    前記冷却器は、前記モジュールを挿入するための収容部を備えた壁部と、冷媒流路とを有するとともに、
    前記壁部を、前記半導体素子の外側に配置された放熱板よりも熱膨張係数が大きい材質から構成するとともに、
    前記収容部の大きさが、前記放熱板の大きさ以上となる温度範囲において、前記収容部に前記モジュールを絶縁層を介して挿入し、前記モジュールを収容した冷却器を放熱することを特徴とする半導体装置の製造方法。
  6. 前記収容部の内側面に絶縁材を塗布することにより、前記収容部の内側面に前記絶縁層を形成することを特徴とする請求項4又は5に記載の半導体装置の製造方法。
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