JP2010204234A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ラビング筋を減少させた信頼性のある配向膜が得られる液晶表示装置の製造方法の提供。
【解決手段】複数の柱状スペーサが形成される第２複数枚取り基板ＬＳＢ２に対向する共に、複数の矩形状のパネル基板領域ＰＳＤには第１有機絶縁膜を含む積層体と樹脂膜とが順次形成され、非パネル領域にはパターン化された複数の金属膜と前記柱状スペーサの受座となる複数の矩形状の第２有機絶縁膜とが混在されて形成された第１複数枚取り基板ＬＳＢ１に関して、前記積層体の上面に形成された前記樹脂膜に、前記パネル基板領域ＰＳＤの配列方向に対して実質的に平行あるいは垂直な方向にラビングを行うことによって配向膜を形成する液晶表示装置の製造方法であって、前記第１有機絶縁膜のラビングの開始側に位置する辺の形状が前記ラビング方向と０°および９０°以外の所定の角度を有して形成されている。
【選択図】図１

Description

本発明は液晶表示装置の製造方法に係り、特に、互いに貼り合わせた一対の複数枚取り基板を切断することによって複数の液晶セルを形成する液晶表示装置の製造方法に関する。

このような液晶表示装置の製造方法は、複数の領域（パネル基板領域）のそれぞれに画像表示部を形成した一対の複数枚取り基板を、それぞれ画像表示部が形成されている面を対向させ、前記画像表示部のそれぞれを囲んで形成されるシール材によって貼り合わせた後に、これら一対の複数枚取り基板の前記シール材に近接する箇所を切断することによって、複数の液晶セルを得るようになっている。

このような液晶表示装置の製造方法では、複数枚取り基板の各パネル基板領域の配向膜に対して、一括してラビングを行っている。

尚、本願発明に関連するものとしては下記特許文献１、２、３がある。

特許文献１には、基板のパネル基板領域の外側に、パネル基板領域の周辺に沿って突起あるいは溝を設けた記載がある。前記突起あるいは溝は、配向膜のラビング方向の入口側および出口側に設けられ、これにより、ラビング処理の際に発生する塵埃等を除去あるいは塞き止めるようにしている。

特許文献２には、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせてセルを組み立てる際に歪みが生じるのを防止するために、対向基板またはアレイ基板上のスクライブ除去される周辺領域に柱状スペーサの列を設けておくものが開示されている。

特許文献３には、基板のパネル基板領域の外側に、等間隔に配置された複数の凸段差部を設け、配向膜のラビング処理において、前記凸段差部の間にラビング布のパイルを通過させることによって、前記パイルの偏りを矯正して配向処理するものが開示されている。また、前記凸段差部は表示領域外周に配置されたスペーサであり、前記凸段差部に囲まれた領域内に柱状スペーサが設けられている記載がある。

特開２００５−８４２２４号公報 特開２０００−２９０４２号公報 特開２００２−３５０８５７号公報

液晶表示装置の製造において、一対の複数枚取り基板のうちの一方の複数枚取り基板（第１複数枚取り基板）の各パネル基板領域の周辺の領域（非パネル領域）において、パターン化された複数の金属膜を並設させて形成する場合がある。これらの金属膜は、たとえばアライメントマークなどのマーク、あるいは各パネル基板領域（あるいは液晶セル）を特定するコード等として機能させるようになっている。

また、近年の液晶表示装置の大型化にともない、一対の複数枚取り基板のうちの他方の複数枚取り基板（第２複数枚取り基板）の各パネル基板領域に柱状スペーサを形成し、この柱状スペーサは非パネル領域にも形成させる場合がある。これにより、一対の複数枚取り基板の全域にわたっていわゆるギャップ出しの信頼性を確保できるからである。

ここで、第１複数枚取り基板の各パネル基板領域に、層厚の比較的大きな有機絶縁膜からなる保護膜が形成される場合、非パネル領域の前記柱状スペーサと対向する領域にも、前記保護膜の形成の際に同時に有機絶縁膜を形成することを検討した。前記有機絶縁膜を柱状スペーサの台座とすることにより、非パネル領域とパネル基板領域とにおける基板間のギャップを均一にするためである。

図１４（ａ）は、本発明に対する比較例の前記第１複数枚取り基板（図中符号ＬＳＢ１で示す）の画像表示部が形成された側の面を示す平面図である。また、図１４（ｂ）、図１４（ｃ）は、それぞれ、図１４（ａ）のｂ−ｂ線、ｃ−ｃ線における断面図を示している。図１４（ｂ）、図１４（ｃ）では、後の工程で貼り合わせられる第２複数枚取り基板ＬＳＢ２とこの第２複数枚取り基板ＬＳＢ２に形成された柱状スペーサＰＳＰとを点線で示している。なお、図１４（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、それぞれ本発明の実施例１を説明する図１（ａ）、（ｂ）、（ｃ）と対応づけて描画している。このため、以下に説明する内容以外の詳細な説明は実施例１における説明を参照されたい。

図１４（ａ）において、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１がある。第１複数枚取り基板ＬＳＢ１には、後に切断される液晶表示パネルの領域（以下、パネル基板領域ＰＳＤと称する）を点線枠で示している。パネル基板領域ＰＳＤは矩形状からなり、たとえば、図中ｘ方向に２個、図中ｙ方向に２個互いに離間されて配列されている。

それぞれのパネル基板領域ＰＳＤの表面には、マトリックス状に多数の画素が配列された画像表示部ＡＲが形成されている。この画像表示部ＡＲは、パターン化された導電層、絶縁層、および半導体層等を所定の順序に積層させて構成されている。ここで、前記絶縁膜の一つとして、たとえば、樹脂を塗布することによって形成され比較的膜厚が大きな有機絶縁膜からなる保護膜ＰＡＳ２が形成されている。また、画像表示部ＡＲの液晶と接触する最上面には樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）が形成されている。この樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）は、後述するラビング処理によって配向膜ＯＲＩとなるもので、パネル基板領域ＰＳＤの各辺にほぼ平行に近接する辺をもつ矩形状のパターンとして形成されている。

それぞれのパネル基板領域ＰＳＤの周辺の領域となる非パネル領域ＮＰＤには、パネル基板領域ＰＳＤの辺に沿って、パターン化された金属膜ＭＴが複数個並設されて形成されている。これらの金属膜ＭＴは、たとえばアライメントマークなどのマーク、あるいは各パネル基板領域（あるいは液晶セル）を特定するためのコード等として機能するようになっている。

また、前記非パネル領域ＮＰＤには、パネル基板領域ＰＳＤの辺に沿って、前記金属膜ＭＴと混在されて有機絶縁膜ＯＰＳが形成されている。この有機絶縁膜ＯＰＳは、前記画像表示部ＡＲに前記保護膜ＰＡＳ２を形成する際に同時に形成され、その厚さは、前記保護膜ＰＡＳ２の厚さとほぼ等しくなっている。この有機絶縁膜ＯＰＳは、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１に対して対向配置される第２複数枚取り基板ＬＳＢ２に形成された柱状スペーサＰＳＰの台座として機能するようになっている。柱状スペーサＰＳＰは、図１４（ａ）に点線丸で示すように、パネル基板領域ＰＳＤ、および非パネル領域ＮＰＤに形成されている。貼り合わされた一対の複数枚取り基板ＬＳＢ１、ＬＳＢ２の全域に及んでギャップ出しの信頼性を確保せんとするためである。このことから、非パネル領域ＮＰＤに形成される有機絶縁膜ＯＰＳは柱状スペーサＰＳＰと対向する部分に形成されている（図１４（ｂ）、（ｃ）参照）。そして、この場合、有機絶縁膜ＯＰＳは、前記金属膜ＭＴの形成領域を回避するように形成され、たとえばアライメントマークとして機能する金属膜ＭＴを目視し易くなっている。

なお、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１と第２複数枚取り基板ＬＳＢ２の貼り合わせは、図１４（ｃ）に示すシール材ＳＬによってなされるようになっている。このシール材ＳＬは、各パネル基板ＰＳＤの周辺に画像表示領域ＡＲを囲んで形成されている。

ここで、上述した第１複数枚取り基板ＬＳＢ１において、パネル基板領域ＰＳＤに形成された樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）の表面にラビングを施して配向膜ＯＲＩを形成する場合、図１５（ａ）に示すように、たとえば、図中ｙ方向に回転軸を一致づけて配置されるラビングローラＲＢＬを図中ｘ方向に相対移動させることによって行う。具体的には、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１をｘ方向とは反対方向に移動させる。ここで、図１５（ａ）では、パネル基板領域ＰＳＤの領域にラビング処理後において配向膜ＯＲＩとなる樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）が形成されていることを示している。

この場合、各パネル基板領域ＰＳＤにおいて、ラビング開始側の非パネル領域ＮＰＤに形成されている有機絶縁膜ＯＰＳは、ほぼ矩形状をなし、ラビングローラＲＢＬの軸方向（図中ｙ方向）に断続的に形成されている。そして、有機絶縁膜ＯＰＳは、図１５（ａ）のｂ−ｂ線における断面図である図１５（ｂ）に示すように、膜厚が比較的大きい（例えば１μｍ以上である）ため、隣接する金属膜ＭＴの形成領域との間に比較的大きな段差部（図中ＳＤで示す）が生じた構成となっている。

このため、ラビングローラＲＢＬが有機絶縁膜ＯＰＳを乗り越えて図中ｘ方向に相対移動する際に、有機絶縁膜ＯＰＳの前記段差部ＳＤによってラビングローラＲＢＬに毛乱れが発生し、この毛乱れがパネル基板領域ＰＳＤ上の樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）に図中ｘ方向に連続するラビング筋（筋状のラビングむら）を発生させてしまうことになる。すなわち、ラビングローラＲＢＬにおいて、有機絶縁膜ＯＰＳを通過した部分と、有機絶縁膜ＯＰＳを通過しなかった部分とで、ラビングの状態が異なってしまう。

本発明の目的は、ラビング筋を減少させた信頼性のある配向膜が得られる液晶表示装置の製造方法を提供することにある。

本発明の液晶表示装置の製造方法は、前記有機絶縁膜ＯＰＳの段差部によって発生するラビングローラＲＢＬの毛乱れを、前記有機絶縁膜ＯＰＳの平面的形状の工夫によって、あるいは前記保護膜ＰＡＳ２のラビング開始側の辺の形状の工夫によって減少させるようにしたものである。

本発明の構成は、たとえば、以下のようなものとすることができる。

（１）本発明の液晶表示装置の製造方法は、第１複数枚取り基板と、この第１複数枚取り基板と対向され複数の柱状スペーサが形成された第２複数枚取り基板のうち、
前記第１複数枚取り基板には、前記第１複数枚取り基板において配列される複数の矩形状のパネル基板領域に、第１有機絶縁膜を含む積層体と、前記積層体の上面に設けられ平面的に観て前記第１有機絶縁膜の形成領域内に設けられた樹脂膜とが形成され、前記パネル基板領域のそれぞれの周辺の非パネル領域に、前記パネル基板領域の辺に沿って、パターン化された複数の金属膜と、前記金属膜の形成領域を回避して設けられ前記柱状スペーサの台座となる複数の矩形状の第２有機絶縁膜とが混在されて形成され、
前記第１複数枚取り基板の前記パネル基板領域のそれぞれにおける前記積層体の上面に形成された前記樹脂膜に、前記パネル基板領域の配列方向に対して実質的に平行な方向あるいは実質的に垂直な方向にラビングを行うことによって配向膜を形成する液晶表示装置の製造方法であって、
平面的に観て、前記第１有機絶縁膜のそれぞれにおける各辺のうち前記ラビングの開始側に位置する辺を第１の辺とし、前記第１の辺に隣接して配置される前記第２有機絶縁膜の各辺のうち前記ラビング方向に実質的に平行な辺のそれぞれを第２の辺としたとき、前記第１の辺のうち、前記第２の辺を前記ラビングの方向に仮想的に延長した場合に交差する部分が、前記ラビングの方向と直交する方向に対して０°および９０°以外の所定の角度を有して形成されていることを特徴とする。

（２）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１）において、前記第１有機絶縁膜の前記第１の辺は、平面的に観て、前記ラビング方向と交差する方向に沿って山と谷が繰り返されるジグザグ形状となっていることを特徴とする。

（３）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１）において、前記金属膜はマークとして形成されていることを特徴とする。

（４）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（３）において、前記マークはアライメントマークとして形成されていることを特徴とする。

（５）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１）において、前記金属膜はコードとして形成されていることを特徴とする。

（６）本発明の液晶表示装置の製造方法は、第１複数枚取り基板と、この第１複数枚取り基板と対向され複数の柱状スペーサが形成された第２複数枚取り基板のうち、
前記第１複数枚取り基板には、前記第１複数枚取り基板において配列される複数の矩形状のパネル基板領域に、第１有機絶縁膜を含む積層体が形成され、前記パネル基板領域のそれぞれの周辺の非パネル領域に、前記パネル基板領域の辺に沿って、パターン化された複数の金属膜と、前記金属膜の形成領域を回避して設けられ前記柱状スペーサの台座となる複数の第２有機絶縁膜とが混在されて形成され、
前記第１複数枚取り基板の前記パネル基板領域のそれぞれにおける前記積層体の上面に形成された樹脂膜に、前記パネル基板領域の配列方向に対して実質的に平行な方向あるいは実質的に垂直な方向にラビングを行うことによって配向膜を形成する液晶表示装置の製造方法であって、
平面的に観て、前記パネル基板領域のそれぞれにおける各辺のうち前記ラビングの開始側に位置する一辺側の前記非パネル領域に形成される前記第２有機絶縁膜は、前記第２有機絶縁膜の並設方向に交差する辺のそれぞれが、前記ラビングの方向に対して０°以外の所定の角度を有していることを特徴とする。

（７）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（６）において、平面的に観て、前記パネル基板領域の前記一辺側の前記非パネル領域に形成される前記第２有機絶縁膜は、前記ラビングの開始側を上辺とし、この上辺に対向する辺を底辺とする台形のパターンをなすことを特徴とする。

（８）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（６）において、前記金属膜はマークとして形成されていることを特徴とする。

（９）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（８）において、前記マークはアライメントマークとして形成されていることを特徴とする。

（１０）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（６）において、前記金属膜はコードとして形成されていることを特徴とする。

（１１）本発明の液晶表示装置の製造方法は、第１複数枚取り基板と、この第１複数枚取り基板と対向され複数の柱状スペーサが形成された第２複数枚取り基板のうち、
前記第１複数枚取り基板には、前記第１複数枚取り基板において配列される複数の矩形状のパネル基板領域に、第１有機絶縁膜を含む積層体が形成され、前記パネル基板領域のそれぞれの周辺の非パネル領域に、前記パネル基板領域の辺に沿って、パターン化された複数の金属膜と、前記金属膜の形成領域を回避して設けられ前記柱状スペーサの台座となる複数の第２有機絶縁膜とが混在されて形成され、
前記第１複数枚取り基板の前記パネル基板領域のそれぞれにおける前記積層体の上面に形成された樹脂膜に、前記パネル基板領域の配列方向に対して実質的に平行な方向あるいは実質的に垂直な方向にラビングを行うことによって配向膜を形成する液晶表示装置の製造方法であって、
平面的に観て、前記パネル基板領域のそれぞれにおける各辺のうち前記ラビングの開始側に位置する一辺側の前記非パネル領域に形成される前記第２有機絶縁膜のそれぞれに孔あるいは切り欠きが形成され、
前記孔あるいは前記切り欠きによって、前記第２有機絶縁膜は、前記ラビングの方向に沿って、有機絶縁膜が形成されている部分と有機絶縁膜が形成されていない部分とを備えることを特徴とする。

（１２）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１１）において、平面的に観て、前記パネル基板領域のそれぞれの前記一辺側の前記非パネル領域に形成される前記第２有機絶縁膜は、それぞれ、複数の前記孔および前記切り欠きを千鳥状に形成させて構成されていることを特徴とする。

（１３）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１１）において、平面的に観て、前記パネル基板領域のそれぞれの前記一辺側の前記非パネル領域に形成される前記第２有機絶縁膜は、それぞれ、複数の有機絶縁膜を千鳥状に配置させて構成されていることを特徴とする。

（１４）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１１）において、前記金属膜はマークとして形成されていることを特徴とする。

（１５）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１４）において、前記マークはアライメントマークとして形成されていることを特徴とする。

（１６）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１１）において、前記金属膜はコードとして形成されていることを特徴とする。

（１７）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１１）において、前記孔あるいは前記切り欠きによって、前記ラビングを行うためのラビングローラの毛乱れの境界を目立たなくしていることを特徴とする。

なお、上記した構成はあくまで一例であり、本発明は、技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。また、上記した構成以外の本発明の構成の例は、本願明細書全体の記載または図面から明らかにされる。

上述した液晶表示装置の製造方法によれば、ラビング筋を減少させた信頼性のある配向膜が得られるようになる。

本発明のその他の効果については、明細書全体の記載から明らかにされる。

本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例１を示す概略構成図である。 図1に示す画像表示部の一実施例を示す等価回路図である。 図１に示すパネル基板領域に形成されるシール材を示す平面図である。 本発明の液晶表示装置の製造方法においてラビングの工程を示す概略平面図である。 図１に示す保護膜の詳細な構成を示す拡大図である。 図１に示す保護膜の詳細な他の構成を示す拡大図である。 図１に示す画素の構成の一実施例を示す構成図である。 本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例２を示す概略構成図である。 本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例３を示す概略構成図である。 図９（ｂ）に示す部分の他の構成を示す概略構成図である。 図９において本発明を適用する部分の最小限の範囲を示した説明図である。 本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例４を示す概略構成図である。 図１２（ｂ）に示す部分の他の構成を示す概略構成図である。 比較例の液晶表示装置の製造方法の一例を示す概略構成図である。 比較例の液晶表示装置の製造方法の不都合を示す説明図である。

本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。なお、各図および各実施例において、同一または類似の構成要素には同じ符号を付し、説明を省略する。

（全体の構成）
図１（ａ）は、本発明による液晶表示装置の製造方法の実施例１を示した要部構成図で、液晶を挟持して対向配置される一対の複数枚取り基板のうち一方の基板である複数枚取り基板ＬＳＢ１（以下、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１と称する）を示す平面図である。また、図１（ｂ）、（ｃ）は、それぞれ、図１（ａ）のｂ−ｂ線、ｃ−ｃ線における断面図を示している。図１（ｂ）、図１（ｃ）では、後の工程で貼り合わせられる第２複数枚取り基板ＬＳＢ２とこの第２複数枚取り基板ＬＳＢ２に形成された柱状スペーサＰＳＰとを点線で示している。図１（ｂ）、（ｃ）をこのように図示したのは、柱状スペーサＰＳＰの第１複数枚取り基板ＬＳＢ１上における位置を明らかにせんとするためである。

図１（ａ）に示す第１複数枚取り基板ＬＳＢ１は、その主面の最上層に形成された樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）にラビングローラ（図４において符号ＲＢＬで示す）を用いてラビングすることにより配向膜ＯＲＩを形成する直前の状態の平面図となっている。この第１複数枚取り基板ＬＳＢ１は、ラビングが行われた後に、第２複数枚取り基板ＬＳＢ２をシール材ＳＬ（図１（ｃ）参照）によって貼り合わせ、いわゆるギャップ出しを行った後に、前記第２複数取り基板ＬＳＢ２とともに切断され、液晶表示パネル毎に分離されるようになっている。

図１（ａ）に示す第１複数枚取り基板ＬＳＢ１には、後に切断される液晶表示パネルの領域（以下、パネル基板領域ＰＳＤと称する）を点線枠で示している。図１（ａ）では、一枚の第１複数枚取り基板ＬＳＢ１においてたとえば４個の矩形状からなるパネル基板領域ＰＳＤが互いに離間されて図中ｘ方向に２個、図中ｙ方向に２個配列されている。しかし、パネル基板領域ＰＳＤの枚数、および配置は必ずしも上述したものに限定されることはない。

ここで、パネル基板領域ＰＳＤの表面には画像表示部ＡＲが形成され、この画像表示部ＡＲはマトリックス状に配置された多数の画素から構成されている。図２は、画像表示部ＡＲの等価回路を示している。図２に示すように、図中ｘ方向に伸長され図中ｙ方向に並設されるゲート信号線ＧＬと図中ｙ方向に伸長され図中ｘ方向に並設されるドレイン信号線ＤＬとで囲まれた矩形状の領域を画素領域（図中点線枠ＰＩＸで示す）とし、この画素領域内に、一方のゲート信号線ＧＬからの走査信号の供給によってオンされる薄膜トランジスタＴＦＴと、このオンされた薄膜トランジスタＴＦＴを通して一方のドレイン信号線ＤＬからの映像信号が供給される画素電極ＰＸと、この画素電極ＰＸとの間で液晶に電界を発生させる対向電極ＣＴとを備えている。この対向電極ＣＴはコモン信号線ＣＬを通して前記映像信号に対する基準信号が供給されるようになっている。このような画素は、ＩＰＳ（In Plane Switching）方式、あるいは横電界方式と称される構成となっている。しかし、本発明は、このような構成に限らず、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）方式、あるいは縦電界方式と称される構成のものであっても適用できる。

このような画素は、パネル基板領域ＰＳＤにおいて、パターン化された導電膜、絶縁膜、および半導体膜等を所定の順序に積層させた積層体によって構成されている。この場合、前記絶縁膜のうちの一つとして前記薄膜トランジスタＴＦＴを被うようにして形成される保護膜ＰＡＳ２（図１（ａ）において二点鎖線で示している）を備え、この保護膜ＰＡＳ２は膜厚の大きな（例えば１μｍ以上の）たとえば樹脂からなる有機絶縁膜（第１有機絶縁膜と称する場合がある）からなっている。また、前記積層体の上面には樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）が形成されている。この樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）は、平面的に観て前記保護膜ＰＡＳ２の形成領域内に形成されている。前記樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）は後述するラビング処理が施されることによって配向膜ＯＲＩとなるようになっている。配向膜ＯＲＩは液晶と接触する膜となるもので液晶の分子の初期配向方向を決定するようになっている。ここで、前記保護膜ＰＡＳ２は、平面的に観て、該保護膜ＰＡＳ２の各辺のうちラビング開始側に位置する辺（たとえば図中ｙ方向に延在する辺のうち図中左側の辺）が、前記ラビングの方向（図中ｘ方向）と交差する方向（図中ｙ方向）に沿って山と谷が繰り返されるジグザグ形状となっている。保護膜ＰＡＳ２をこのような形状としたのは、樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）をラビングする際に、前記樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）に発生するラビング筋を減少させるためであり、この理由については後に詳述する。なお、図１（ａ）において、保護膜ＰＡＳ２の辺に形成したジグザグのピッチは、その形状を判り易くするために大きく描いている。また、この保護膜ＰＡＳ２の上層側に形成される前記樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）は、保護膜ＰＡＳ２よりも面積が小さく、前記保護膜ＰＡＳ２とほぼ相似する形状となっている。また、前記画素の詳細な構成は図７を用いて後述する。

パネル基板領域ＰＳＤのそれぞれには、図３に示すように、その周囲において、画像表示部ＡＲを囲むようにしてシール材ＳＬが形成されるようになっている。このシール材ＳＬは、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１と第２複数枚取り基板ＬＳＢ２との貼り合わせる前（配向膜ＯＲＩの形成後）に形成されるようになっている。なお、図３に示すシール材ＳＬは、液晶封入口を有しないものであるが、該液晶封入口が備えられていてもよい。本発明は、液晶セル内に液晶を充填する方法の違いによらず適用できるからである。

図１（ａ）に戻り、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１の主面には、上述したパネル基板領域ＰＳＤ以外の領域である非パネル領域ＮＰＤを備えている。この非パネル領域ＮＰＤは、パネル基板領域ＰＳＤのそれぞれの周辺の領域に形成されている。すなわち、非パネル領域ＮＰＤは、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１の外周輪郭と各パネル基板領域ＰＳＤとの間の領域と、互いに隣接する各パネル基板領域ＰＳＤの間の領域とからなっている。

そして、この非パネル領域ＮＰＤには、パターン化された金属膜ＭＴが形成されている。この金属膜ＭＴは、それぞれのパネル基板領域ＰＳＤの辺に沿って、複数形成され、たとえばアライメントマークなどのマーク、あるいは各パネル基板領域ＰＳＤ（あるいは液晶セル）を特定するためのコード等として機能するようになっている。この金属膜ＭＴは、パネル基板領域ＰＳＤ内にたとえば前記ゲート信号線ＧＬを形成する場合において、ゲート信号線ＧＬの形成の際に同時にゲート信号線ＧＬの材料で形成するようになっている。しかし、これに限らず、金属膜ＭＴは、ドレイン信号線ＤＬの形成の際に同時にドレイン信号線ＤＬの材料で形成するようにしてもよい。また、金属膜ＭＴは、ゲート信号線ＧＬの形成の際に同時にゲート信号線ＧＬの材料で形成したものと、ドレイン信号線ＤＬの形成の際に同時にドレイン信号線ＤＬの材料で形成したものとを組み合わせたものであってもよい。

また、前記非パネル領域ＮＰＤには、有機絶縁膜ＯＰＳが形成されている。この有機絶縁膜ＯＰＳは、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１に対して第２複数枚取り基板ＬＳＢ２を貼り合わせた際に、第２複数枚取り基板ＬＳＢ２の非パネル領域ＮＰＤに対向する領域に形成された柱状スペーサＰＳＰの台座として機能するようになっている。

第２複数枚取り基板ＬＳＢ２には、対向するパネル基板領域ＰＳＤおよび非パネル領域ＮＰＤにも複数の柱状スペーサＰＳＰが散在されて形成されている（図１（ａ）にはこれら柱状スペーサＰＳＰを点線丸で示している）。このように、柱状スペーサＰＳＰを非パネル領域ＮＰＤにも形成しているのは、貼り合わせた一対の複数枚取り基板ＬＳＢ１、ＬＳＢ２の全域に及んでギャップ出しの信頼性を確保せんとするためである。

前記有機絶縁膜ＯＰＳは、前記画像表示部ＡＲにおいて前記保護膜（有機絶縁膜）ＰＡＳ２を形成する際に同時に形成され、前記保護膜ＰＡＳ２の厚さとほぼ等しい厚さを有している。この有機絶縁膜（第２有機絶縁膜と称する場合がある）ＯＰＳは、それぞれのパネル基板領域ＰＳＤの辺に沿って複数形成されている。有機絶縁膜ＯＰＳは、図中ｘ、ｙ方向にそれぞれ実質的に平行な辺をもつ矩形状をなしている。ここで、実質的に平行とは、例えば±１°以内の誤差を含む。

そして、前記有機絶縁膜ＯＰＳは、パネル基板領域ＰＳＤの辺に沿って、前記金属膜ＭＴと混在されて形成されている。前記有機絶縁膜ＯＰＳは前記金属膜ＭＴの形成領域を回避して形成されている。アライメントマークなどのマークあるいはコードとして機能する金属膜ＭＴを、有機絶縁膜ＯＰＳと重ねられることなく形成することによって、目視を容易にするためである。

なお、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１の非パネル領域ＮＰＤには、図１（ａ）、（ｂ）に示すように、前記金属膜ＭＴ、有機絶縁膜ＯＰＳの他に、たとえば絶縁膜ＧＩ、保護膜ＰＡＳ１、絶縁膜ＬＩ等も積層されて形成されている。非パネル領域ＮＰＤにおいて、柱状スペーサＰＳＰの頭部に当接する面の高さを、パネル基板領域ＰＳＤの場合とほぼ均しくせんとするためである。

このように構成された第１複数取り基板ＬＳＢ１は、図４に示すように、その面の最上層において各パネル基板領域ＰＳＤに形成された樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）にラビングローラＲＢＬを用いてラビングすることにより配向膜ＯＲＩを形成する工程を経るようになっている。なお、図４に示す第１複数枚取り基板ＬＳＢ１は図１（ａ）に示した第１複数枚取り基板ＬＳＢ１と同様の構成となっている。但し、図４に示す第１複数枚取り基板ＬＳＢ１は簡略化して描画している。第１複数枚取り基板ＬＳＢ１の非パネル領域ＮＰＤにおいて、金属膜ＭＴの描画を省略し、各パネル基板領域ＰＳＤのそれぞれの辺に沿って形成される有機絶縁膜ＯＰＳのうち、保護膜ＰＡＳ２のラビング開始側に位置する辺に隣接する有機絶縁膜ＯＰＳのみを示している。樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）をラビングする際に、図４に描画された有機絶縁膜ＯＰＳが前記樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）にラビング筋を生じさせる原因となるからである。

図４において、ラビングローラＲＢＬは、たとえば、その回転軸を図中ｙ方向に一致づけ、図中ｘ方向に相対移動するようになっている。実際には、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１がｘ方向とは逆の方向に移動する。すなわち、パネル基板領域ＰＳＤの配列方向に対して実質的に平行な方向あるいは実質的に垂直な方向にラビングを行う。ここで、実質的にとは、誤差が±１°以内のものを含む。この場合、ラビングローラＲＢＬの相対移動の際に、ラビングローラＲＢＬが乗り上げる図中の有機絶縁膜ＯＰＳは、ラビングローラＲＢＬの軸方向（図中ｙ方向）に段差部（図中ＳＤで示す）を有し、ラビングローラＲＢＬの軸方向の一部には前記段差部ＳＤによって毛乱れが発生する。しかし、この後すぐに、ラビングローラＲＢＬは、保護膜ＰＡＳ２による段差部を乗り上げることになる。この場合、図４の一点鎖線枠Ａ（図１（ａ）においても同じ箇所に一点鎖線枠Ａを示している）における拡大図である図５に示すように、ラビングローラＲＢＬの毛乱れが発生した箇所は、平面的に観た保護膜ＰＡＳ２において、ラビングの方向と直交する方向（図中ｙ方向）に対して０°および９０°以外の所定の角度（＋Θ°あるいは−Θ°）を有する辺を乗り上げることになる。この場合、ラビングローラＲＢＬが保護膜ＰＡＳ２に到達するタイミングがラビングローラＲＢＬの軸方向のそれぞれの箇所で異なるので、ラビングローラＲＢＬの毛乱れは、細分化され、境界が目立たなくなってしまうことが確認される。ちなみに、上述した角度がない比較例の場合（Θ°＝０°）、ラビングローラＲＢＬの毛乱れはそのまま持続してしまうことになる。また、Θ°＝９０°の場合は、新たな毛乱れの境界が発生してしまう。したがって、上述した構成によれば、その後において、樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）上を移動するラビングローラＲＢＬには毛乱れが減少されており、配向膜ＯＲＩにいわゆるラビング筋が発生するのを防止できるようになる。

このような理由から、平面的に観て、保護膜ＰＡＳ２のそれぞれにおける各辺のうちラビング開始側に位置する辺を第１の辺とし、前記第１の辺に隣接して配置される有機絶縁膜ＯＰＳの各辺のうち前記有機絶縁膜ＯＰＳの並設方向に交差する辺（段差部ＳＤを構成する）（ラビング方向に実質的に平行な辺）のそれぞれを第２の辺としたとき、第１の辺のうち、第２の辺をラビングの方向に仮想的に延長した場合に交差する部分が、前記ラビングの方向と直交する方向に対して０°および９０°以外の所定の角度を有しておれば樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）に信頼性のあるラビングを施すことができる。なお、ここで実質的に平行とは、例えば±１°以内の誤差を含む。尚、この所定の角度は、１０°以上８０°以下が望ましい。このため、この条件を満たせば、保護膜ＰＡＳ２のラビング開始側に位置する辺に形成するジグザグは、その山あるいは谷の位置は図５に示したものに対して逆であってもよく、また、たとえば、図５に対応させて描画した図６に示すように、山あるいは谷が繰り返されるピッチに相違があってもよい。しかし、この場合のピッチは、画像表示部ＡＲに形成される画素の大きさを基準として１〜数画素分とすることによって、ラビングローラＲＢＬの毛乱れが細分化され、むらが目視で目立たなくなることが確認されている。また、このような大きさにすることで、ジグザグを形成する領域の寸法（図のｘ方向の寸法）を狭くすることができる。

また、上述した実施例では、保護膜ＰＡＳ２の辺をたとえばジグザグ状にする場合、ラビング開始側に位置する辺のみに行ったものであるが、これに限定されることはなく、他の辺においても同様に行ってもよい。

（画素の構成）
図７（ａ）、（ｂ）は、前記第１複数枚取り基板ＬＳＢ１のパネル基板領域ＰＳＤ内に形成された画素の構成を示す図で、図２の画素領域ＰＩＸにおける構成を示している。図７（ａ）は平面図、図７（ｂ）は図７（ａ）のｂ−ｂ線における断面図である。

まず、パネル基板領域ＰＳＤの面に、図中ｘ方向に延在されｙ方向に並設されるゲート信号線ＧＬが形成されている。パネル基板領域ＰＳＤの面には、ゲート信号線ＧＬをも被って絶縁膜ＧＩが形成され、この絶縁膜ＧＩは後述の薄膜トランジスタＴＦＴの形成領域においてゲート絶縁膜として機能するようになっている。

ゲート絶縁膜ＧＩの表面であってゲート信号線ＧＬの一部に重畳する薄膜トランジスタＴＦＴの形成領域に、たとえばアモルファスＳｉからなる半導体層ＡＳが島状に形成されている。前記薄膜トランジスタＴＦＴは、前記半導体層ＡＳの表面に、互いに対向配置されたドレイン電極ＤＴ、ソース電極ＳＴが形成されることにより、ゲート信号線ＧＬの一部をゲート電極とする逆スタガ構造のＭＩＳ（Metal Insulator Semiconductor）型トランジスタが構成されるようになる。

パネル基板領域ＰＳＤの面には、図中ｙ方向に延在しｘ方向に並設されるドレイン信号線ＤＬが形成され、このドレイン信号線ＤＬの一部を前記半導体層ＡＳの表面に延在させることにより、該延在部を薄膜トランジスタＴＦＴのドレイン電極ＤＴとするようになっている。また、ドレイン信号線ＤＬの形成の際に、薄膜トランジスタＴＦＴのソース電極ＳＴが形成され、このソース電極ＳＴは半導体層ＡＳの形成領域を超えて画素領域に延在するパッド部ＰＤを具備して構成されている。このパッド部ＰＤは後述の画素電極ＰＸと電気的に接続される部分として構成される。

パネル基板領域ＰＳＤの面には、ドレイン信号線ＤＬ等をも被って保護膜ＰＡＳが形成されている。この保護膜ＰＡＳは薄膜トランジスタＴＦＴの液晶との直接の接触を回避するための絶縁膜からなり、たとえば、無機絶縁膜からなる保護膜ＰＡＳ１および有機絶縁膜からなる保護膜ＰＡＳ２の積層構造から構成される。保護膜ＰＡＳ２において有機絶縁膜を用いたのはたとえばその表面を平坦化させるためである。

保護膜ＰＡＳ２の表面であって隣接する一対のゲート信号線ＧＬの間には、該ゲート信号線ＧＬの走行方向に沿って形成されるコモン信号線ＣＬが形成されている。このコモン信号線ＣＬは図中ｘ方向に並設される各画素領域のほぼ全域を被って形成され、各画素領域における対向電極ＣＴを兼備した構成となっている。このコモン信号線ＣＬ（対向電極ＣＴ）は、たとえばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる透光性導電膜から構成されている。

パネル基板領域ＰＳＤの面には、コモン信号線ＣＬ（対向電極ＣＴ）をも被って無機絶縁膜からなる絶縁膜ＬＩが形成され、この絶縁膜ＬＩの上面には各画素領域に画素電極ＰＸが形成されている。絶縁膜ＬＩは画素電極ＰＸと後述の対向電極ＣＴとの層間絶縁を図る層間絶縁膜としての機能を有する。画素電極ＰＸは、たとえば図中ｙ方向に延在されｘ方向に並設された複数（図ではたとえば３個）の線状の電極からなり、これら各電極は、前記薄膜トランジスタＴＦＴ側の端部において互いに接続された接続部ＪＮを備えている。画素電極ＰＸは、たとえばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる透光性導電膜から構成されている。画素電極ＰＸの接続部ＪＮの一部は、層間絶縁膜ＬＩおよび保護膜ＰＡＳに形成されたスルーホールＴＨを通して前記ソース電極ＳＴのパッド部ＰＤに電気的に接続されるようになっている。また、この場合において、コモン信号線ＣＬ（対向電極ＣＴ）において、予め、前記スルーホールＴＨとほぼ同軸で該スルーホールＴＨよりも充分に径の大きな開口ＯＰが形成され、前記画素電極ＰＸが対向電極ＣＴと電気的にショートしてしまうのを回避させている。

なお、図７（ａ）、（ｂ）に示す画素は、絶縁膜ＬＩ上に画素電極ＰＸをも被って樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）が形成されている。この樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）は、図４で示したラビングローラＲＢＬによってラビングがなされることによって配向膜が形成されるようになっている。

このような構成からなる画素を形成する際、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１の非パネル領域ＮＰＤには、図１（ｂ）、（ｃ）に示したように、金属膜ＭＴ、絶縁膜ＧＩ、保護膜ＰＡＳ１、有機絶縁膜ＯＰＳ（保護膜ＰＡＳ２）、絶縁膜ＬＩの順次積層体が形成されるようになっている。但し、絶縁膜ＧＩ、保護膜ＰＡＳ１、絶縁膜ＬＩについては、基板間のギャップの均一性が問題にならない程度であれば、一部または全部を非パネル領域ＮＰＤに形成しないようにしてもよい。このように、非パネル領域ＮＰＤには、前記金属膜ＭＴによってアライメントマークなどのマーク、あるいは各パネル基板領域ＰＳＤ（あるいは液晶セル）を特定するためのコード等を構成するとともに、前記有機絶縁膜ＯＰＳによって柱状スペーサＰＳＰの台座を構成するようになっている。

図８は、本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例２を示した要部構成図で、図４に対応した図となっている。

図８において、図４の場合と比較して異なる構成は、まず、ラビングローラＲＢＬにある。ラビングローラＲＢＬは、その回転軸が図中ｘ方向に一致づけられ配置され、図中ｙ方向に相対移動することによって、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１に形成された樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）にラビングを施すようになっている。実際には、第１複数枚取り基板ＬＳＢ１がｙ方向とは逆の方向に移動する。すなわち、パネル基板領域ＰＳＤの配列方向に対して実質的に平行な方向あるいは実質的に垂直な方向にラビングを行う。ここで、実質的にとは、誤差が±１°以内のものを含む。

そして、パネル基板領域ＰＳＤ内に形成されている保護膜ＰＡＳ２は、ラビングの開始側に位置する辺においてジグザグ状に形成されるようになっている。但し、図８では、ラビングの開始側が下側なので、下側の辺に設けられている点が実施例１とは異なる。それ以外の点は、基本的に実施例１と同じである。

図９（ａ）は、本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例３を示した要部構成図で、図１（ａ）に対応した図となっている。

図９（ａ）の場合、ラビングローラＲＢＬは、図示のように、その回転軸を図中ｙ方向に一致づけ、図中ｘ方向に相対移動させることを想定している。

そして、図１（ａ）と比較して異なる構成は、パネル基板領域ＰＳＤのそれぞれにおける各辺のうちラビングの開始側に位置する一辺側の非パネル領域ＮＰＤに形成される有機絶縁膜ＯＰＳにあり、平面的に観て、この有機絶縁膜ＯＰＳを特別な形状とすることによって、樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）のラビングの際に発生するラビング筋を減少させるようにしている。

このため、平面的に観た保護膜ＰＡＳ２は、実施例１とは異なり、その辺において特別な工夫がなされておらず、通常の矩形状となっており、また、保護膜ＰＡＳ２の形成領域内に形成される樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）も保護膜ＰＡＳ２と相似をなす矩形状となっている。

図９（ｂ）は、図９（ａ）の一点鎖線枠Ａ内の拡大図であり、パネル基板領域ＰＳＤのそれぞれにおける各辺のうちラビングの開始側に位置する一辺側の非パネル領域ＮＰＤに形成される有機絶縁膜ＯＰＳの平面的形状を示している。図９（ｂ）に示す有機絶縁膜ＯＰＳは、パネル基板領域ＰＳＤの辺に沿ってたとえば２個並設されており、いずれの有機絶縁膜ＯＰＳもラビングの開始側を上辺とし、この上辺に対向する辺を底辺とする台形のパターンで構成されている。有機絶縁膜ＯＰＳのこのようなパターンは、有機絶縁膜ＯＰＳにおいて、有機絶縁膜ＯＰＳの並設方向に交差する辺のそれぞれが、前記ラビングの方向に対して０°以外の所定の角度（図中、＋Θ°、−Θ°で示す）を有するようにしていることに基づいている。尚、Θは１０°以上８０°以下であることが好ましく、１０°以上６０°以下であることがより好ましい。

このようにした場合、ラビングローラＲＢＬを相対移動させ、前記ラビングローラＲＢＬが有機絶縁膜ＯＰＳを乗り上げる際に、有機絶縁膜ＯＰＳにおいて、前記有機絶縁膜ＯＰＳの並設方向に交差する辺の箇所で生じるラビングローラＲＢＬの毛乱れを、ラビングローラＲＢＬの軸方向に分散させることができるので、毛乱れが生じていない部分との境界を不明瞭にするようにできる。したがって、上述した構成によれば、その後において、樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）上を移動するラビングローラＲＢＬには比較例に比べて毛乱れが減少されており、配向膜ＯＲＩにいわゆるラビング筋が発生するのを減少できるようになる。

図９（ａ）、（ｂ）の場合、有機絶縁膜ＯＰＳは、台形状としたものである。しかし、台形に限定されることはなく、たとえば、図９（ｂ）に対応させて描画した図１０に示すように、菱形状とするようにしても同様の効果が得られる。この場合においても、有機絶縁膜ＯＰＳは、有機絶縁膜ＯＰＳの並設方向と交差する辺のそれぞれにおいて、前記ラビングの方向に対して０°以外の所定の角度（図中、＋Θ°で示す）を有し、このように構成した辺も、ラビングローラＲＢＬの毛乱れを減少させることができる。

また、パネル基板領域ＰＳＤの周辺に形成される有機絶縁膜ＯＰＳのうち、上述のようなパターンとした有機絶縁膜ＯＰＳは、図１１に示すように、パネル基板領域ＰＳＤのそれぞれにおける各辺のうちラビングの開始側に位置する一辺側の非パネル領域、すなわち、図中ＤＭで示される範囲内の有機絶縁膜ＯＰＳとしている。この理由は、ラビングローラＲＢＬのうち樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）にラビングを施す部分は、図１１のＤＭで示される範囲に相当する部分であり、この部分に形成される有機絶縁膜ＯＰＳにおいて、上述した構成とすることで充分であるからである。しかし、これに限定されることはなく、パネル基板領域ＰＳＤの周辺に形成される他の有機絶縁膜ＯＰＳにも上述したパターンとしてもよい。

実施例３は、ラビングローラＲＢＬを、その回転軸が図中ｙ方向に一致づけられ、図中ｘ方向に相対移動させる場合を示したものである。しかし、これに限らず、ラビングローラＲＢＬを、その回転軸が図中ｘ方向に一致づけられ、図中ｙ方向に相対移動させる場合であってもよい。この場合において、ラビングの開始側（この場合は下側）に位置する一辺側の前記非パネル領域に形成される有機絶縁膜ＯＰＳにおいて、前記有機絶縁膜ＯＰＳの並設方向と交差する辺のそれぞれを、前記ラビングの方向に対して０°以外の所定の角度を有するように構成すればよい。

図１２(a)は、本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例４を示した要部構成図で、図９（ａ）に対応した図となっている。

図１２（ａ）の場合においても、図９（ａ）と同様に、パネル基板領域ＰＳＤのそれぞれにおける各辺のうちラビングの開始側に位置する一辺側の非パネル領域ＮＰＤに形成される有機絶縁膜ＯＰＳの形状に工夫があり、平面的に観て、この有機絶縁膜ＯＰＳを特別な形状とすることによって、樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）のラビングの際に発生するラビング筋を減少させるようにしたものである。

このため、平面的に観た保護膜ＰＡＳ２は、実施例１とは異なり、その辺において特別な工夫がなされておらず、通常の矩形状となっており、また、保護膜ＰＡＳ２の形成領域内に形成される樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）も保護膜ＰＡＳ２と相似をなす矩形状となっている。

図１２（ｂ）は、図１２（ａ）の一点鎖線枠Ａ内の拡大図であり、パネル基板領域ＰＳＤのそれぞれにおける各辺のうちラビングの開始側に位置する一辺側の非パネル領域ＮＰＤに形成される有機絶縁膜ＯＰＳの平面的形状を示している。図１２（ｂ）に示す有機絶縁膜ＯＰＳは、パネル基板領域ＰＳＤの辺に沿ってたとえば２個並設されており、いずれの有機絶縁膜ＯＰＳも、複数の孔ＨＬおよび切り欠きＣＬが千鳥状に形成されたパターンで構成されている。有機絶縁膜ＯＰＳのこのようなパターンは、有機絶縁膜ＯＰＳにおいて、ラビングの方向に沿って、有機絶縁膜が形成されている部分と有機絶縁膜が形成されていない部分とを備えさせることに基づいている。

このようにした場合、ラビングローラＲＢＬを相対移動させ、前記ラビングローラＲＢＬが有機絶縁膜ＯＰＳを乗り上げる際に、有機絶縁膜ＯＰＳのラビングローラＲＢＬ側の端辺において、ラビングローラＲＢＬに毛乱れが生じる。しかし、有機絶縁膜ＯＰＳを通過する間に、短い間隔で配置される有機絶縁膜が形成されている部分と有機絶縁膜が形成されていない部分とによって、ラビングローラＲＢＬの毛乱れは毛乱れが生じていない部分との境界を不明瞭にするようにできる。したがって、上述した構成によれば、その後において、樹脂膜ＲＳＭ（ＯＲＩ）上を相対移動するラビングローラＲＢＬには比較例に比べて毛乱れが減少されており、配向膜ＯＲＩにいわゆるラビング筋が発生するのを減少できるようになる。

図１２（ａ）、（ｂ）の場合、有機絶縁膜ＯＰＳは、複数の孔ＨＬおよび切り欠きＣＬが千鳥状に形成されたパターンで構成されたものである。しかし、これに限定されることはなく、たとえば、図１２（ｂ）に対応づけて描画した図１３に示すように、それぞれの有機絶縁膜ＯＰＳにおいて、比較的複雑なパターンからなる切り欠きＣＬを形成し、結果として、複数の小面積からなる有機絶縁膜ＯＰＳ（Ｓ）が千鳥状に配置された構成とするようにしてもよい。この場合においても、有機絶縁膜ＯＰＳは、ラビングの方向に沿って、短い間隔で、有機絶縁膜が形成されている部分と有機絶縁膜が形成されていない部分とを備え、このように有機絶縁膜の配置がラビングローラＲＢＬの毛乱れを減少させることができるからである。

また、図示しないが、切り欠きＣＬの代わりに、孔ＨＬのみで同様の効果を奏するように構成してもよい。

この実施例４の場合も、パネル基板領域ＰＳＤの周辺に形成される有機絶縁膜ＯＰＳのうち、上述のようなパターンとした有機絶縁膜ＯＰＳは、図１１で示したように、パネル基板領域ＰＳＤのそれぞれにおける各辺のうちラビングの開始側に位置する一辺側の非パネル領域に形成される有機絶縁膜ＯＰＳで充分である。しかし、これに限定されることはなく、パネル基板領域ＰＳＤの周辺に形成される他の有機絶縁膜ＯＰＳにも上述したパターンとしてもよい。

また、実施例４は、ラビングローラＲＢＬを、その回転軸が図中ｙ方向に一致づけられ、図中ｘ方向に相対移動させる場合を示したものである。しかし、これに限らず、ラビングローラＲＢＬを、その回転軸が図中ｘ方向に一致づけられ、図中ｙ方向に相対移動させる場合であってもよい。この場合において、ラビングの開始側に位置する一辺側（この場合は下側）の前記非パネル領域に形成される有機絶縁膜ＯＰＳのそれぞれに孔あるいは切り欠きを形成し、これら孔あるいは切り欠きによって、前記機絶縁膜ＯＰＳは、前記ラビングの方向に沿って、有機絶縁膜が形成されている部分と有機絶縁膜が形成されていない部分とを備えるようになっておればよい。

以上、本発明を実施例を用いて説明してきたが、これまでの各実施例で説明した構成はあくまで一例であり、本発明は、技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。また、それぞれの実施例で説明した構成は、互いに矛盾しない限り、組み合わせて用いてもよい。

ＬＳＢ１……第１複数枚取り基板、ＬＳＢ２……第２複数枚取り基板ＬＳＢ２、ＰＳＤ……パネル基板領域、ＮＰＤ……非パネル領域、ＡＲ……画像表示部、ＰＡＳ２……保護膜（有機絶縁膜）、ＲＳＭ（ＯＲＩ）……樹脂膜、ＯＲＩ……配向膜、ＭＴ……金属膜、ＯＰＳ……有機絶縁膜、ＧＬ……ゲート信号線、ＤＬ……ドレイン信号線、ＰＩＸ……画素領域、ＴＦＴ……薄膜トランジスタ、ＣＬ……コモン信号線、ＰＸ……画素電極、ＣＴ……対向電極、ＳＬ……シール材、ＲＢＬ……ラビングローラ、ＧＩ……絶縁膜、ＰＡＳ１……保護膜（無機絶縁膜）、ＬＩ……絶縁膜、ＣＬ……切り欠き、ＨＬ……孔。

Claims (17)

1. 第１複数枚取り基板と、この第１複数枚取り基板と対向され複数の柱状スペーサが形成された第２複数枚取り基板のうち、
   前記第１複数枚取り基板には、前記第１複数枚取り基板において配列される複数の矩形状のパネル基板領域に、第１有機絶縁膜を含む積層体と、前記積層体の上面に設けられ平面的に観て前記第１有機絶縁膜の形成領域内に設けられた樹脂膜とが形成され、前記パネル基板領域のそれぞれの周辺の非パネル領域に、前記パネル基板領域の辺に沿って、パターン化された複数の金属膜と、前記金属膜の形成領域を回避して設けられ前記柱状スペーサの台座となる複数の矩形状の第２有機絶縁膜とが混在されて形成され、
   前記第１複数枚取り基板の前記パネル基板領域のそれぞれにおける前記積層体の上面に形成された前記樹脂膜に、前記パネル基板領域の配列方向に対して実質的に平行な方向あるいは実質的に垂直な方向にラビングを行うことによって配向膜を形成する液晶表示装置の製造方法であって、
   平面的に観て、前記第１有機絶縁膜のそれぞれにおける各辺のうち前記ラビングの開始側に位置する辺を第１の辺とし、前記第１の辺に隣接して配置される前記第２有機絶縁膜の各辺のうち前記ラビング方向に実質的に平行な辺のそれぞれを第２の辺としたとき、前記第１の辺のうち、前記第２の辺を前記ラビングの方向に仮想的に延長した場合に交差する部分が、前記ラビングの方向と直交する方向に対して０°および９０°以外の所定の角度を有して形成されていることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
2. 前記第１有機絶縁膜の前記第１の辺は、平面的に観て、前記ラビング方向と交差する方向に沿って山と谷が繰り返されるジグザグ形状となっていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
3. 前記金属膜はマークとして形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
4. 前記マークはアライメントマークとして形成されていることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置の製造方法。
5. 前記金属膜はコードとして形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
6. 第１複数枚取り基板と、この第１複数枚取り基板と対向され複数の柱状スペーサが形成された第２複数枚取り基板のうち、
   前記第１複数枚取り基板には、前記第１複数枚取り基板において配列される複数の矩形状のパネル基板領域に、第１有機絶縁膜を含む積層体が形成され、前記パネル基板領域のそれぞれの周辺の非パネル領域に、前記パネル基板領域の辺に沿って、パターン化された複数の金属膜と、前記金属膜の形成領域を回避して設けられ前記柱状スペーサの台座となる複数の第２有機絶縁膜とが混在されて形成され、
   前記第１複数枚取り基板の前記パネル基板領域のそれぞれにおける前記積層体の上面に形成された樹脂膜に、前記パネル基板領域の配列方向に対して実質的に平行な方向あるいは実質的に垂直な方向にラビングを行うことによって配向膜を形成する液晶表示装置の製造方法であって、
   平面的に観て、前記パネル基板領域のそれぞれにおける各辺のうち前記ラビングの開始側に位置する一辺側の前記非パネル領域に形成される前記第２有機絶縁膜は、前記第２有機絶縁膜の並設方向に交差する辺のそれぞれが、前記ラビングの方向に対して０°以外の所定の角度を有していることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
7. 平面的に観て、前記パネル基板領域の前記一辺側の前記非パネル領域に形成される前記第２有機絶縁膜は、前記ラビングの開始側を上辺とし、この上辺に対向する辺を底辺とする台形のパターンをなすことを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法。
8. 前記金属膜はマークとして形成されていることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法。
9. 前記マークはアライメントマークとして形成されていることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法。
10. 前記金属膜はコードとして形成されていることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法。
11. 第１複数枚取り基板と、この第１複数枚取り基板と対向され複数の柱状スペーサが形成された第２複数枚取り基板のうち、
    前記第１複数枚取り基板には、前記第１複数枚取り基板において配列される複数の矩形状のパネル基板領域に、第１有機絶縁膜を含む積層体が形成され、前記パネル基板領域のそれぞれの周辺の非パネル領域に、前記パネル基板領域の辺に沿って、パターン化された複数の金属膜と、前記金属膜の形成領域を回避して設けられ前記柱状スペーサの台座となる複数の第２有機絶縁膜とが混在されて形成され、
    前記第１複数枚取り基板の前記パネル基板領域のそれぞれにおける前記積層体の上面に形成された樹脂膜に、前記パネル基板領域の配列方向に対して実質的に平行な方向あるいは実質的に垂直な方向にラビングを行うことによって配向膜を形成する液晶表示装置の製造方法であって、
    平面的に観て、前記パネル基板領域のそれぞれにおける各辺のうち前記ラビングの開始側に位置する一辺側の前記非パネル領域に形成される前記第２有機絶縁膜のそれぞれに孔あるいは切り欠きが形成され、
    前記孔あるいは前記切り欠きによって、前記第２有機絶縁膜は、前記ラビングの方向に沿って、有機絶縁膜が形成されている部分と有機絶縁膜が形成されていない部分とを備えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
12. 平面的に観て、前記パネル基板領域のそれぞれの前記一辺側の前記非パネル領域に形成される前記第２有機絶縁膜は、それぞれ、複数の前記孔および前記切り欠きを千鳥状に形成させて構成されていることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置の製造方法。
13. 平面的に観て、前記パネル基板領域のそれぞれの前記一辺側の前記非パネル領域に形成される前記第２有機絶縁膜は、それぞれ、複数の有機絶縁膜を千鳥状に配置させて構成されていることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置の製造方法。
14. 前記金属膜はマークとして形成されていることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置の製造方法。
15. 前記マークはアライメントマークとして形成されていることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置の製造方法。
16. 前記金属膜はコードとして形成されていることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置の製造方法。
17. 前記孔あるいは前記切り欠きによって、前記ラビングを行うためのラビングローラの毛乱れの境界を目立たなくしていることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置の製造方法。

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