JP2010203736A - Exhaust system - Google Patents

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Mizuo Sato
水男 佐藤
Naoto Kubota
直人 窪田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To properly control an exhaust air volume when exhaust ventilation of equipment is performed. <P>SOLUTION: A processor 15 acquires information on a suction amount of a gas sucked by a fan 13 by a wind velocity measuring device 10 on each of device bodies 7. The processor 15 controls the fan 13 on the basis of the information on the suction amount. Thus the fan 13 can be controlled on the basis of the detailed information of manufacturing equipment 1. Thus the exhaust air volume can be more properly controlled when the exhaust ventilation of the equipment is performed. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明のいくつかの態様は、設備の排気を行う排気装置等に関する。   Some embodiments of the present invention relate to an exhaust device or the like that exhausts equipment.

従来、この種の排気装置としては、例えば、排気対象とする複数の空間（以下、「排気対象室」とも呼ぶ）に排気ダクトを連通し、その排気ダクトの端部に排気ファンを接続したものがある。この排気装置では、排気ファンにより、排気ダクト内の気体を吸引することで、各排気対象室から気体を排出するようになっている（例えば、特許文献１参照）。   Conventionally, as this type of exhaust device, for example, an exhaust duct is connected to a plurality of spaces to be exhausted (hereinafter also referred to as “exhaust target chambers”), and an exhaust fan is connected to an end of the exhaust duct. There is. In this exhaust apparatus, gas is exhausted from each exhaust target chamber by sucking the gas in the exhaust duct with an exhaust fan (see, for example, Patent Document 1).

特開２００１−１９０９４５号公報JP 2001-190945 A

ところで、このような排気装置では、一般に、排気ファンの直前に風速測定器を配し、その風速測定器の測定結果に基づいて排気ファンを制御している。
しかしながら、例えば、排気対象室において、排気ダクトに連通する流路を狭めるなどし、排気対象室から排出される気体の排出量が低減された場合、他の排気対象室から排出される気体の排出量が増大する。この場合、他の排気対象室においては、必要以上の気体が排出され、また、排気ファンにおいても無用な電力を消費することとなる。
このように、従来の技術においては、半導体製造装置やクリーンルーム等、設備の排気を行う場合に、排気風量を適切に制御することが困難であった。
本発明のいくつかの態様の課題は、設備の排気を行う場合に排気風量をより適切に制御することである。 By the way, in such an exhaust device, generally, a wind speed measuring device is arranged immediately before the exhaust fan, and the exhaust fan is controlled based on the measurement result of the wind speed measuring device.
However, for example, in the exhaust target chamber, when the amount of gas exhausted from the exhaust target chamber is reduced by narrowing the flow path communicating with the exhaust duct, the exhaust of the gas exhausted from other exhaust target chambers The amount increases. In this case, in the other exhaust target chambers, more gas than necessary is discharged, and unnecessary power is consumed also in the exhaust fan.
As described above, in the conventional technique, it is difficult to appropriately control the exhaust air volume when exhausting equipment such as a semiconductor manufacturing apparatus or a clean room.
An object of some aspects of the present invention is to control the amount of exhaust air more appropriately when exhausting equipment.

上記技術的課題を解決するために、本発明の各態様は、以下のような構成からなる。
本発明の第１の態様は、
複数の排気対象室と、前記複数の排気対象室のそれぞれに接続する複数の第１の取得手段と、前記複数の排気対象室のそれぞれと接続する排気ダクトと、前記排気ダクトに接続された吸引手段と、前記複数の第１の取得手段の情報に基づいて前記吸引手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする。
このような構成によれば、複数の排気対象室のそれぞれについて、排気対象室から排出される気体の排出量の情報が取得され、その情報に基づいて吸引手段が制御される。
そのため、設備の詳しい情報に基づいて吸引手段による気体の吸引量を制御できる。それゆえ、設備の排気を行う場合に排気風量をより適切に制御することが可能となる。 In order to solve the above technical problem, each aspect of the present invention has the following configuration.
The first aspect of the present invention is:
A plurality of exhaust target chambers, a plurality of first acquisition means connected to each of the plurality of exhaust target chambers, an exhaust duct connected to each of the plurality of exhaust target chambers, and a suction connected to the exhaust duct Means and control means for controlling the suction means based on information of the plurality of first acquisition means.
According to such a configuration, information on the amount of gas discharged from the exhaust target chamber is acquired for each of the plurality of exhaust target chambers, and the suction unit is controlled based on the information.
Therefore, the amount of gas sucked by the suction means can be controlled based on detailed information on the equipment. Therefore, it is possible to more appropriately control the exhaust air volume when exhausting the facility.

また、第２の態様は、
前記制御手段は、分類手段と、制御実行手段と、を含み、前記分類手段は、前記複数の排気対象室のそれぞれを第１の排気対象室または第２の排気対象室のいずれかに分類する手段であって、前記制御実行手段は、前記複数の排気対象室が、前記第１の排気対象室を含む場合に、前記複数の排気対象室の全てが前記第２の排気対象室である場合に比べ、前記吸引手段が前記排気ダクトから吸引する気体量を低減させることを特徴とする。
さらに、第３の態様は、
前記第１の排気対象室は、前記第２の排気対象室よりも、排出される有害物質雰囲気の気体が少ないことを特徴とする。
このような構成によれば、例えば、各排気対象室の内部に一定温度・湿度に調整された気体が供給されている場合に、一定温度・湿度に調整された気体が必要以上に外部へ排出されることを防止できる。その結果、空調設備の運転費用を削減できる。 In addition, the second aspect is
The control means includes classification means and control execution means, and the classification means classifies each of the plurality of exhaust target chambers as either a first exhaust target chamber or a second exhaust target chamber. The control execution means is configured such that when the plurality of exhaust target chambers includes the first exhaust target chamber, all of the plurality of exhaust target chambers are the second exhaust target chamber. Compared to the above, the suction means reduces the amount of gas sucked from the exhaust duct.
Furthermore, the third aspect is
The first exhaust target chamber is characterized in that less harmful gas atmosphere is discharged than the second exhaust target chamber.
According to such a configuration, for example, when a gas adjusted to a constant temperature / humidity is supplied to each exhaust target chamber, the gas adjusted to the constant temperature / humidity is discharged to the outside more than necessary. Can be prevented. As a result, the operating cost of the air conditioning equipment can be reduced.

さらに、第４の態様は、
排気ダクトと、前記排気ダクトに接続する吸引手段と、前記排気ダクトに接続する複数の分岐ダクトと、前記複数の分岐ダクトのそれぞれに接続する第２の取得手段と、前記第２の取得手段のそれぞれの情報に基づいて、前記吸引手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする。
このような構成によれば、複数の分岐ダクトのそれぞれについて、分岐ダクトから排出される気体の排出量の情報が取得され、その情報に基づいて吸引手段が制御される。
そのため、設備の詳しい情報に基づいて吸引手段による気体の吸引量を制御できる。それゆえ、設備の排気を行う場合に排気風量をより適切に制御することが可能となる。 Furthermore, the fourth aspect is
An exhaust duct, suction means connected to the exhaust duct, a plurality of branch ducts connected to the exhaust duct, a second acquisition means connected to each of the plurality of branch ducts, and the second acquisition means Control means for controlling the suction means based on the respective information.
According to such a configuration, information on the amount of gas discharged from the branch duct is acquired for each of the plurality of branch ducts, and the suction unit is controlled based on the information.
Therefore, the amount of gas sucked by the suction means can be controlled based on detailed information on the equipment. Therefore, it is possible to more appropriately control the exhaust air volume when exhausting equipment.

また、第５の態様は、
前記制御手段は、分類手段と、制御実行手段と、を含み、前記分類手段は、前記複数の分岐ダクトのそれぞれを第１の分岐ダクトまたは第２の分岐ダクトのいずれかに分類する手段であって、前記制御実行手段は、前記複数の分岐ダクトが、前記第１の分岐ダクトを含む場合に、前記複数の分岐ダクトが全て前記第２の分岐ダクトである場合に比べ、前記吸引手段から排出される気体量を低減させるように制御することを特徴とする。
このような構成によれば、例えば、各排気対象室の内部に一定温度・湿度に調整された気体が供給されている場合に、一定温度・湿度に調整された気体が必要以上に外部へ排出されることを防止できる。その結果、空調設備の運転費用を削減できる。 The fifth aspect is
The control means includes classification means and control execution means, and the classification means is means for classifying each of the plurality of branch ducts as either a first branch duct or a second branch duct. Then, the control execution means discharges from the suction means when the plurality of branch ducts include the first branch duct, compared to when the plurality of branch ducts are all the second branch ducts. Control is performed to reduce the amount of gas produced.
According to such a configuration, for example, when a gas adjusted to a constant temperature / humidity is supplied to each exhaust target chamber, the gas adjusted to the constant temperature / humidity is discharged to the outside more than necessary. Can be prevented. As a result, the operating cost of the air conditioning equipment can be reduced.

さらに、第６の態様は、
前記複数の分岐ダクトは、それぞれ排気対象室に接続され、前記排気対象室は、第１の取得手段を含み、前記制御手段は、前記第１の取得手段及び前記第２の取得手段の情報に基づいて、前記吸引手段を制御することを特徴とする。
このような構成によれば、設備のより詳しい情報に基づいて吸引手段を制御できる。それゆえ、設備の排気を行う場合に排気風量をより適切に制御することが可能となる。
さらに、第７の態様は、
前記排気対象室は、調整手段を含み、前記調整手段は、前記排気対象室から排出する気体量を調整することを特徴とする。
このような構成によれば、排気対象室内の気体が必要以上に外部へ排出されることを防止できる。 Furthermore, the sixth aspect is
Each of the plurality of branch ducts is connected to an exhaust target chamber, the exhaust target chamber includes a first acquisition unit, and the control unit includes information on the first acquisition unit and the second acquisition unit. Based on this, the suction means is controlled.
According to such a configuration, the suction means can be controlled based on more detailed information on the equipment. Therefore, it is possible to more appropriately control the exhaust air volume when exhausting equipment.
Furthermore, the seventh aspect is
The exhaust target chamber includes an adjusting unit, and the adjusting unit adjusts an amount of gas discharged from the exhaust target chamber.
According to such a configuration, it is possible to prevent the gas in the exhaust target chamber from being discharged to the outside more than necessary.

また、第８の態様は、
排気ダクトと、前記排気ダクトに接続された吸引手段と、前記排気ダクトに接続された複数の分岐ダクトと、前記複数の分岐ダクトのそれぞれに接続された調整手段と、前記調整手段に接続された第３の取得手段と、前記第３の取得手段の情報に基づいて前記吸引手段を制御する制御手段と、を備え、前記調整手段は、前記調整手段の開放断面積を調整する手段であって、前記第３の取得手段は、前記開放断面積の情報を取得することを特徴とする。
このような構成によれば、複数の分岐ダクトのそれぞれについて、調整手段の開放断面積の情報が取得され、その情報に基づいて吸引手段が制御される。
そのため、設備の詳しい情報に基づいて吸引手段による気体の吸引量を制御できる。それゆえ、設備の排気を行う場合に排気風量をより適切に制御することが可能となる。 The eighth aspect is
An exhaust duct, suction means connected to the exhaust duct, a plurality of branch ducts connected to the exhaust duct, an adjustment means connected to each of the plurality of branch ducts, and connected to the adjustment means A third acquisition unit; and a control unit that controls the suction unit based on information of the third acquisition unit, wherein the adjustment unit is a unit that adjusts an open sectional area of the adjustment unit. The third acquisition unit acquires the information of the open sectional area.
According to such a configuration, information on the open sectional area of the adjusting means is acquired for each of the plurality of branch ducts, and the suction means is controlled based on the information.
Therefore, the amount of gas sucked by the suction means can be controlled based on detailed information on the equipment. Therefore, it is possible to more appropriately control the exhaust air volume when exhausting equipment.

第１実施形態の製造設備１の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the manufacturing equipment 1 of 1st Embodiment. 製造装置４ａ〜４ｊの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the manufacturing apparatuses 4a-4j. 風速設定処理のフローを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of a wind speed setting process. 製造設備１の動作を示すフローチャートである。3 is a flowchart showing the operation of the manufacturing facility 1. 第１実施形態の製造設備の応用例の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the application example of the manufacturing equipment of 1st Embodiment. 第２実施形態の製造設備１の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the manufacturing equipment 1 of 2nd Embodiment. 製造装置４ａ〜４ｊの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the manufacturing apparatuses 4a-4j. 風速設定処理のフローを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of a wind speed setting process. 第３実施形態の半導体製造設備の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the semiconductor manufacturing equipment of 3rd Embodiment. 風速設定処理のフローを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of a wind speed setting process. 第３実施形態の製造設備の応用例の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the application example of the manufacturing equipment of 3rd Embodiment.

以下、本発明を図面に基づいて説明する。
（第１実施形態）
まず、本発明の第１実施形態を説明する。
本実施形態は、本発明を、半導体製造設備の排気装置に適用したものである。
（構成）
まず、半導体製造設備の構成について説明する。
図１は、第１実施形態の製造設備１の構成を示す図である。
図１に示すように、製造設備１は、排気ダクト２、分岐ダクト３ａ〜３ｄ、製造装置４ａ〜４ｊ及び排気処理設備５を備える。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings.
(First embodiment)
First, a first embodiment of the present invention will be described.
In the present embodiment, the present invention is applied to an exhaust device of a semiconductor manufacturing facility.
(Constitution)
First, the configuration of the semiconductor manufacturing facility will be described.
FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration of a manufacturing facility 1 according to the first embodiment.
As shown in FIG. 1, the manufacturing facility 1 includes an exhaust duct 2, branch ducts 3 a to 3 d, manufacturing apparatuses 4 a to 4 j, and an exhaust treatment facility 5.

排気ダクト２は、一方の端部が排気処理設備５の吸気口と連通し、他方の端部が塞がれる。また、排気ダクト２は、分岐ダクト３ａ〜３ｄと連通する。排気ダクト２としては、例えば、内部に気体を流通可能な管状部材を利用可能である。
また、排気ダクト２内の排気処理設備５側端部の近傍には、風速測定器６が配される。風速測定器６は、排気ダクト２の内部から排気処理設備５に吸引される気体の風速を測定する。そして、風速測定器６は、その測定結果を排気処理設備５に出力する。風速測定器６としては、例えば、マノメータを利用できる。
分岐ダクト３ａ〜３ｄは、一方の端部が排気ダクト２と連通する。また、分岐ダクト３ａ〜３ｄのそれぞれは、製造装置４ａ〜４ｊのいずれかと連通する。分岐ダクト３ａ〜３ｄに連通する製造装置４ａ〜４ｊは、単数であっても複数であってもよい。 One end of the exhaust duct 2 communicates with the intake port of the exhaust treatment facility 5 and the other end is closed. Further, the exhaust duct 2 communicates with the branch ducts 3a to 3d. As the exhaust duct 2, for example, a tubular member capable of circulating gas inside can be used.
Further, a wind speed measuring device 6 is arranged in the vicinity of the end of the exhaust treatment facility 5 in the exhaust duct 2. The wind speed measuring device 6 measures the wind speed of the gas sucked into the exhaust treatment facility 5 from the inside of the exhaust duct 2. Then, the wind speed measuring device 6 outputs the measurement result to the exhaust treatment facility 5. For example, a manometer can be used as the wind speed measuring device 6.
One end of each of the branch ducts 3 a to 3 d communicates with the exhaust duct 2. Each of the branch ducts 3a to 3d communicates with any of the manufacturing apparatuses 4a to 4j. The manufacturing apparatuses 4a to 4j communicating with the branch ducts 3a to 3d may be singular or plural.

本実施形態では、分岐ダクト３ａが製造装置４ａ、４ｂと連通し、分岐ダクト３ｂが製造装置４ｃ、４ｄと連通し、分岐ダクト３ｃが製造装置４ｅ〜４ｇと連通し、分岐ダクト３ｄが製造装置４ｈ〜４ｊと連通する構成について説明する。
図２は、製造装置４ａ〜４ｊの構成を示す図である。
図２に示すように、製造装置４ａ〜４ｊのそれぞれは、装置本体（広義には「排気対象室」）７及び連結管８を備える。
装置本体７は、筐体内で、洗浄工程、エッチング工程等の処理を行う装置であり、そこで使用した有害物質を装置外に排出する。装置本体７としては、例えば、洗浄装置、エッチング装置、ＣＶＤ(Chemical Vapor Deposition)装置、イオン注入装置、熱処理炉等がある。 In this embodiment, the branch duct 3a communicates with the manufacturing apparatuses 4a and 4b, the branch duct 3b communicates with the manufacturing apparatuses 4c and 4d, the branch duct 3c communicates with the manufacturing apparatuses 4e to 4g, and the branch duct 3d is the manufacturing apparatus. A configuration communicating with 4h to 4j will be described.
FIG. 2 is a diagram illustrating the configuration of the manufacturing apparatuses 4a to 4j.
As shown in FIG. 2, each of the manufacturing apparatuses 4 a to 4 j includes an apparatus main body (“exhaust target chamber” in a broad sense) 7 and a connecting pipe 8.
The apparatus main body 7 is an apparatus that performs a cleaning process, an etching process, and the like in the casing, and discharges harmful substances used there from the apparatus. Examples of the apparatus body 7 include a cleaning apparatus, an etching apparatus, a CVD (Chemical Vapor Deposition) apparatus, an ion implantation apparatus, and a heat treatment furnace.

連結管８は、一方の端部が、当該連結管８を備える製造装置４ａ〜４ｊに対応する分岐ダクト３ａ〜３ｄと連通し、他方の端部が装置本体７の筐体に連通する。連結管８としては、例えば、内部に気体を流通可能な管状部材を利用可能である。
また、装置本体７は、プロセッサ９を備える。プロセッサ９は、風速測定器１０（後述）による風速の測定結果に基づき、目標風速に当該測定結果を一致させる開度調整指令を風量調整ダンパ１１（後述）に出力する。目標風速とは、装置本体７で行われる作業に応じて設定される目標値である。具体的には、装置本体７の筐体内で、シリコンウェハの搬入等、有害物質の雰囲気の多い作業が行なわれる場合には比較的大きな値（以下「第１の目標値（大目標値）」と呼ぶ）に設定する。また、シリコンウェハの洗浄作業等、有害物質の雰囲気の少ない作業が行われる場合には第１の目標値より小さな値（以下「第２の目標値（小目標値）」と呼ぶ）に設定する。プロセッサ９としては、例えば、Ａ／Ｄ変換回路、Ｄ／Ａ変換回路、中央処理装置及びメモリ等で構成した集積回路を利用できる。 One end of the connecting pipe 8 communicates with the branch ducts 3 a to 3 d corresponding to the manufacturing apparatuses 4 a to 4 j including the connecting pipe 8, and the other end communicates with the housing of the apparatus main body 7. As the connecting pipe 8, for example, a tubular member that can circulate gas can be used.
The apparatus main body 7 includes a processor 9. Based on the measurement result of the wind speed by the wind speed measuring device 10 (described later), the processor 9 outputs an opening degree adjustment command for matching the measurement result to the target wind speed to the air volume adjustment damper 11 (described later). The target wind speed is a target value set according to the work performed in the apparatus main body 7. Specifically, a relatively large value (hereinafter referred to as “first target value (large target value)”) when an operation with a large atmosphere of harmful substances such as carrying in a silicon wafer is performed in the housing of the apparatus body 7. Called). In addition, when an operation with less harmful substance atmosphere such as a silicon wafer cleaning operation is performed, a value smaller than the first target value (hereinafter referred to as “second target value (small target value)”) is set. . As the processor 9, for example, an integrated circuit composed of an A / D conversion circuit, a D / A conversion circuit, a central processing unit, a memory, and the like can be used.

また、連結管８内の装置本体７側端部の近傍には、風速測定器１０が配される。風速測定器１０は、連結管８の内部を流通する気体の風速を測定する。これにより、装置本体７から分岐ダクト３ａ〜３ｄに流れる気体の風速を測定する。そして、風速測定器１０は、その測定結果を排気処理設備５及び装置本体７に出力する。
さらに、連結管８内には、風量調整ダンパ１１（広義には「調整手段」）が配される。風量調整ダンパ１１は、遮蔽板１２を備える。遮蔽板１２は、連結管８内の気体の流通方向に対する設置角度を傾動可能な板状に形成される。そして、風量調整ダンパ１１は、装置本体７が出力する開度調整指令に応じて、遮蔽板１２の設置角度を制御する。これにより、連結管８の内部の流路の開放断面積を調整する。
図１に戻り、排気処理設備５は、ファン１３（広義には「吸引手段」）、フィルタ１４、及びプロセッサ１５（広義には「制御手段」「分類手段」「制御実行手段」）を備える。 Further, a wind speed measuring device 10 is disposed in the vicinity of the end portion on the apparatus main body 7 side in the connecting pipe 8. The wind speed measuring device 10 measures the wind speed of the gas flowing through the inside of the connecting pipe 8. Thereby, the wind speed of the gas which flows into the branch ducts 3a-3d from the apparatus main body 7 is measured. Then, the wind speed measuring device 10 outputs the measurement result to the exhaust treatment facility 5 and the apparatus main body 7.
Further, an air volume adjusting damper 11 (“adjusting means” in a broad sense) is disposed in the connecting pipe 8. The air volume adjustment damper 11 includes a shielding plate 12. The shielding plate 12 is formed in a plate shape that can tilt the installation angle with respect to the flow direction of the gas in the connecting pipe 8. The air volume adjustment damper 11 controls the installation angle of the shielding plate 12 in accordance with the opening adjustment command output from the apparatus body 7. Thereby, the open cross-sectional area of the flow path inside the connecting pipe 8 is adjusted.
Returning to FIG. 1, the exhaust treatment facility 5 includes a fan 13 (“suction means” in a broad sense), a filter 14, and a processor 15 (“control means”, “classification means”, and “control execution means” in a broad sense).

ファン１３は、排気ダクト２の内部の気体を吸引し、大気中に放出する装置である。
具体的には、ファン１３は、プロペラ（不図示）を備える。プロペラは、回転駆動することで、排気ダクト２の内部の気体を吸引する形状とする。そして、ファン１３は、プロセッサ１５が出力するファン制御指令（後述）に応じてプロペラを回転駆動する。ここで、前述したように、排気ダクト２は分岐ダクト３ａ〜３ｄと連通している。また、分岐ダクト３ａ〜３ｄは、製造装置４ａ〜４ｊが備える装置本体７と連通している。そのため、ファン１３によって排気ダクト２の内部の気体が吸引されると、排気ダクト２を介して、分岐ダクト３ａ〜３ｄの内部の気体が吸引される。また、分岐ダクト３ａ〜３ｄを介して、装置本体７の内部の気体が吸引される。ファン１３によって吸引された気体は、フィルタ１４で有害物質を除去された後、大気中に放出される。 The fan 13 is a device that sucks the gas inside the exhaust duct 2 and discharges it into the atmosphere.
Specifically, the fan 13 includes a propeller (not shown). The propeller is configured to suck the gas inside the exhaust duct 2 by being driven to rotate. The fan 13 rotates the propeller in response to a fan control command (described later) output from the processor 15. Here, as described above, the exhaust duct 2 communicates with the branch ducts 3a to 3d. Further, the branch ducts 3a to 3d communicate with the apparatus main body 7 included in the manufacturing apparatuses 4a to 4j. Therefore, when the gas inside the exhaust duct 2 is sucked by the fan 13, the gas inside the branch ducts 3 a to 3 d is sucked through the exhaust duct 2. Moreover, the gas inside the apparatus main body 7 is sucked through the branch ducts 3a to 3d. The gas sucked by the fan 13 is released into the atmosphere after removing harmful substances by the filter 14.

プロセッサ１５は、製造装置４ａ〜４ｊが備える風速測定器１０による風速の測定結果に基づき、ファン用目標風速に当該測定結果が一致するようにプロペラを制御するファン制御指令をファン１３に出力する。プロセッサ１５としては、例えば、Ａ／Ｄ変換回路、Ｄ／Ａ変換回路、中央処理装置、及びメモリ等で構成した集積回路を利用できる。
また、プロセッサ１５は、製造装置４ａ〜４ｊが備える風速測定器１０による風速の測定結果に基づいて、ファン用目標風速を設定する風速設定処理を実行する。 The processor 15 outputs a fan control command for controlling the propeller to the fan 13 so that the measurement result matches the target wind speed for the fan based on the measurement result of the wind speed measured by the wind speed measuring device 10 included in the manufacturing apparatuses 4a to 4j. As the processor 15, for example, an integrated circuit composed of an A / D conversion circuit, a D / A conversion circuit, a central processing unit, a memory, and the like can be used.
Moreover, the processor 15 performs the wind speed setting process which sets the fan target wind speed based on the measurement result of the wind speed by the wind speed measuring device 10 with which the manufacturing apparatuses 4a-4j are provided.

（風速設定処理）
次に、風速設定処理について、図１〜図３を参照して説明する。
図３は、風速設定処理のフローを示すフローチャートである。
なお、図３の処理は、所定のサンプリング周期で繰り返し実行する。
まず、ステップＳ１０１（広義には「第１の取得手段」）では、製造装置４ａ〜４ｊが備える装置本体７それぞれから排出される気体の排出量を算出する。
具体的には、製造装置４ａが備える風速測定器１０による測定結果をもって、製造装置４ａが備える装置本体７から排出される気体の排出量とする。同様に、製造装置４ｂ〜４ｊが備える装置本体７それぞれの測定結果をもって、製造装置４ｂ〜４ｊが備える装置本体７それぞれから排出される気体の排出量とする。 (Wind speed setting process)
Next, the wind speed setting process will be described with reference to FIGS.
FIG. 3 is a flowchart showing the flow of the wind speed setting process.
Note that the process of FIG. 3 is repeatedly executed at a predetermined sampling period.
First, in step S101 ("first acquisition means" in a broad sense), the amount of gas discharged from each of the apparatus main bodies 7 included in the manufacturing apparatuses 4a to 4j is calculated.
Specifically, the measurement result by the wind speed measuring device 10 provided in the manufacturing apparatus 4a is used as the amount of gas discharged from the apparatus main body 7 provided in the manufacturing apparatus 4a. Similarly, the measurement result of each of the apparatus main bodies 7 included in the manufacturing apparatuses 4b to 4j is used as the amount of gas discharged from each of the apparatus main bodies 7 included in the manufacturing apparatuses 4b to 4j.

次に、ステップＳ１０２（広義には「分類手段」）では、製造装置４ａ〜４ｊが備える装置本体７それぞれから排出される気体の排出量の目標値を推定する。
具体的には、ステップＳ１０１で得られた装置本体７それぞれからの気体の排出量が、第１の目標値または第２の目標値のいずれに該当するか判別する。
ここでいう第１の目標値とは、製造装置４ａ〜４ｊそれぞれの装置本体７の筐体内で、シリコンウェハの搬出・搬入等、有害物質の雰囲気の多い作業が行なわれる場合に想定される所定の大目標値である。 Next, in step S102 ("classification means" in a broad sense), a target value of the amount of gas discharged from each of the apparatus main bodies 7 included in the manufacturing apparatuses 4a to 4j is estimated.
Specifically, it is determined whether the gas discharge amount from each apparatus main body 7 obtained in step S101 corresponds to the first target value or the second target value.
The first target value here is a predetermined value assumed when an operation with a large atmosphere of harmful substances such as unloading and loading of a silicon wafer is performed in the housing of the apparatus main body 7 of each of the manufacturing apparatuses 4a to 4j. It is a large target value.

また、第２の目標値とは、シリコンウェハの洗浄作業等、有害物質の雰囲気が少ない作業が行われる場合に想定される所定の小目標値である。
そして、ステップＳ１０１で得られた製造装置４ａ〜４ｊが備える装置本体７それぞれが排出する気体の排出量の値が、第２の目標値より大きい場合には、それぞれの排出量の設定値が第１の目標値に設定されているものと判断する。
また、第２の目標値以下の場合には、第２の目標値に設定されているものと判断する。 The second target value is a predetermined small target value that is assumed when an operation in which the atmosphere of harmful substances is low, such as a silicon wafer cleaning operation.
And when the value of the amount of gas discharged from each of the apparatus main bodies 7 included in the manufacturing apparatuses 4a to 4j obtained in step S101 is larger than the second target value, the set value of each discharge amount is the first value. It is determined that the target value is set to 1.
If it is equal to or smaller than the second target value, it is determined that the second target value is set.

次に、ステップＳ１０３では、ファン用目標風速を設定する。
具体的には、前記ステップＳ１０２で判断された製造装置４ａ〜４ｊそれぞれの目標値を合算する。そして、その合算結果をもって、ファン用目標風速とする。
このステップＳ１０３により、製造装置４ａ〜４ｊが備える装置本体７のうちに、排出量の目標値が小目標値の装置本体７を含む場合に、製造装置４ａ〜４ｊが備える装置本体７の全てが、排出量の目標値が大目標値の装置本体７である場合に比べ、ファン１３が排気ダクトから吸引する気体の吸引量が低減するように、ファン用目標風速が更新される。 Next, in step S103, a fan target wind speed is set.
Specifically, the target values of the manufacturing apparatuses 4a to 4j determined in step S102 are added together. And it is set as the target wind speed for fans with the total result.
By this step S103, when the target value of the discharge amount includes the device main body 7 with the small target value among the device main bodies 7 included in the manufacturing apparatuses 4a to 4j, all of the apparatus main bodies 7 included in the manufacturing apparatuses 4a to 4j are included. The fan target wind speed is updated so that the amount of gas sucked by the fan 13 from the exhaust duct is reduced as compared with the case of the apparatus main body 7 having a large target value for the discharge amount.

（動作）
次に、製造設備１の動作について説明する。
図４は、製造設備１の動作を示すフローチャートである。
まず、プロセッサ１５が、ファン用目標風速を初期化する（ステップＳ２０１）。ファン用目標風速の初期化方法としては、例えば、ファン用目標風速を、排気ダクト３ａ〜３ｄに連通している製造装置４ａ〜４ｊそれぞれの第１の目標値の合計値とする方法や、設備全体のロスなどを考慮して適宜設定される値とする方法等がある。 (Operation)
Next, the operation of the manufacturing facility 1 will be described.
FIG. 4 is a flowchart showing the operation of the manufacturing facility 1.
First, the processor 15 initializes the fan target wind speed (step S201). Examples of the method for initializing the fan target wind speed include, for example, a method in which the fan target wind speed is set to the sum of the first target values of the manufacturing apparatuses 4a to 4j communicating with the exhaust ducts 3a to 3d. There is a method of setting a value that is appropriately set in consideration of the overall loss and the like.

ファン用目標風速が初期化されると、プロセッサ１５の制御に基づき、ファン１３が、初期化されたファン用目標風速に風速測定器６で測定される風速が一致するようにプロペラを駆動（ステップＳ２０２）し、吸引する。或いは既にファン１３が回転中の場合には、プロセッサ１５の制御に基づき、プロペラの回転速度が変化する。そして、有害物質を含んだ気体がファン１３から吸引されると、フィルタ１４が、吸引した気体から有害物質を除去する。その一方で、プロセッサ９は、製造装置４ａ〜４ｊそれぞれに設けられた風量調整ダンパ１１を調整し、装置本体７から排出される気体の量を調整する。   When the fan target wind speed is initialized, based on the control of the processor 15, the fan 13 drives the propeller so that the wind speed measured by the wind speed measuring device 6 matches the initialized fan target wind speed (step S202) and suck. Alternatively, when the fan 13 is already rotating, the rotation speed of the propeller changes based on the control of the processor 15. When the gas containing the toxic substance is sucked from the fan 13, the filter 14 removes the toxic substance from the sucked gas. On the other hand, the processor 9 adjusts the air volume adjusting damper 11 provided in each of the manufacturing apparatuses 4 a to 4 j to adjust the amount of gas discharged from the apparatus body 7.

例えば、製造装置４ａが備える装置本体７で有害物質の雰囲気が少ない作業が開始されたとする。すると、製造装置４ａのプロセッサ９が、製造装置４ａの目標風速を第２の目標値（小目標値）に設定する（ステップＳ２０３）。目標風速が設定されると、プロセッサ９が、設定された目標風速と製造装置４ａの風速測定器１０で測定される風速とに基づいて開度調整指令を生成する。そして、生成した開度調整指令を製造装置４ａの風量調整ダンパ１１に出力する（ステップＳ２０４）。また、開度調整指令が出力されると、風量調整ダンパ１１が、開度調整指令に従って、設定された目標風速と製造装置４ａの風速測定器１０で測定される風速が一致するように、連結管８の内部の流路の開放断面積を調整する（ステップＳ２０５）。これにより、製造装置４ａが備える装置本体７の内部から排出される気体の排出量が比較的小さな値となる。   For example, it is assumed that an operation with less atmosphere of harmful substances is started in the apparatus main body 7 included in the manufacturing apparatus 4a. Then, the processor 9 of the manufacturing apparatus 4a sets the target wind speed of the manufacturing apparatus 4a to the second target value (small target value) (step S203). When the target wind speed is set, the processor 9 generates an opening adjustment command based on the set target wind speed and the wind speed measured by the wind speed measuring device 10 of the manufacturing apparatus 4a. Then, the generated opening degree adjustment command is output to the air volume adjustment damper 11 of the manufacturing apparatus 4a (step S204). When the opening adjustment command is output, the air volume adjustment damper 11 is connected so that the set target wind speed and the wind speed measured by the wind speed measuring device 10 of the manufacturing apparatus 4a coincide with each other according to the opening adjustment command. The open sectional area of the flow path inside the pipe 8 is adjusted (step S205). Thereby, the discharge | emission amount of the gas discharged | emitted from the inside of the apparatus main body 7 with which the manufacturing apparatus 4a is provided becomes a comparatively small value.

次に、排気処理設備５のプロセッサ１５が、先述したステップＳ１０１ないしステップＳ１０３を実行することで、ファン用目標風速を更新し、プロセッサ１５が、ファン用目標風速に風速測定器６の測定結果が一致するようにファン１３を制御する（ステップＳ２０６）。
これにより、製造装置４ａから排出される気体の排出量が低減する。そして、製造装置４ａ〜４ｊが備える装置本体７それぞれから排出される気体の排出量が適切な値となる。
その後、上記ステップＳ２０１〜ステップＳ２０６を適宜繰り返して実行することで、製造設備１からの気体の排出量の適正化を図る。 Next, the processor 15 of the exhaust treatment facility 5 executes the above-described steps S101 to S103 to update the fan target wind speed, and the processor 15 sets the measurement result of the wind speed measuring device 6 to the fan target wind speed. The fan 13 is controlled so as to match (step S206).
Thereby, the discharge | emission amount of the gas discharged | emitted from the manufacturing apparatus 4a reduces. And the discharge | emission amount of the gas discharged | emitted from each apparatus main body 7 with which the manufacturing apparatuses 4a-4j are provided becomes an appropriate value.
Thereafter, by appropriately repeating step S201 to step S206, the amount of gas discharged from the manufacturing facility 1 is optimized.

また、上記ステップＳ２０１〜ステップＳ２０６は製造設備１から排出される有害物質の排出量に限られない。例えば、製造設備１に接続された製造装置４ａ〜４ｊそれぞれの作業工程に応じて適宜実行したり、作業者が適宜インターバルを設定し、一定の時間間隔で実行することも可能である。
このように、本実施形態では、プロセッサ１５が、製造装置４ａ〜４ｊが備える装置本体７それぞれについて、装置本体７から排出される気体の排出量の情報を取得するようにした。そして、プロセッサ１５が、その情報に基づきファン１３を制御するようにした。 Further, steps S201 to S206 are not limited to the discharge amount of harmful substances discharged from the manufacturing facility 1. For example, it is possible to execute appropriately according to each work process of the manufacturing apparatuses 4a to 4j connected to the manufacturing facility 1, or to set the interval appropriately by the worker and execute it at a constant time interval.
As described above, in the present embodiment, the processor 15 acquires information on the amount of gas discharged from the apparatus main body 7 for each of the apparatus main bodies 7 included in the manufacturing apparatuses 4a to 4j. Then, the processor 15 controls the fan 13 based on the information.

そのため、製造設備１の詳しい情報に基づいてファン１３を制御できる。それゆえ、設備の排気を行う場合に排気風量をより適切に制御することが可能となる。
さらに、本実施形態では、製造装置４ａ〜４ｊから排出される気体の排出量が目標風速と一致するように風量調整ダンパ１１で流路の開放断面積を調整するようにした。
そのため、装置本体７の内部の気体が必要以上に外部へ排出されることを防止できる。 Therefore, the fan 13 can be controlled based on detailed information of the manufacturing facility 1. Therefore, it is possible to more appropriately control the exhaust air volume when exhausting equipment.
Furthermore, in the present embodiment, the open cross-sectional area of the flow path is adjusted by the air volume adjusting damper 11 so that the amount of gas discharged from the manufacturing apparatuses 4a to 4j matches the target wind speed.
Therefore, it is possible to prevent the gas inside the apparatus main body 7 from being discharged to the outside more than necessary.

（応用例）
図５は、第１実施形態の製造設備の応用例の構成を示す図である。
なお、本実施形態では、連結管８の内部を流通する気体の風速を風速測定器１０で測定する例を示したが、他の構成も採用できる。例えば、その風速を風量調整ダンパ１１の遮蔽板１２の設置角度をもとに算出する構成としてもよい。
具体的には、風量調整ダンパ１１は、角度測定器１６（広義には「第３の取得手段」）を備える。角度測定器１６は、遮蔽板１２の設置角度を測定する。そして、角度測定器１６は、その測定結果をプロセッサ１５に出力する。角度測定器１６としては、例えば、回転角度を検出するロータリーエンコーダを利用できる。 (Application examples)
FIG. 5 is a diagram illustrating a configuration of an application example of the manufacturing facility according to the first embodiment.
In the present embodiment, the example in which the wind speed of the gas flowing through the inside of the connecting pipe 8 is measured by the wind speed measuring device 10 is shown, but other configurations can also be adopted. For example, it is good also as a structure which calculates the wind speed based on the installation angle of the shielding board 12 of the air volume adjustment damper 11. FIG.
Specifically, the air volume adjustment damper 11 includes an angle measuring device 16 (“third acquisition unit” in a broad sense). The angle measuring device 16 measures the installation angle of the shielding plate 12. Then, the angle measuring device 16 outputs the measurement result to the processor 15. As the angle measuring device 16, for example, a rotary encoder that detects a rotation angle can be used.

また、プロセッサ１５は、角度測定器１６による測定結果に基づいて連結管８の内部の流路の開放断面積を算出する。そして、その算出結果に基づいて、製造装置４ａ〜４ｊそれぞれに接続する装置本体７から排出される気体の排出量を推定する。
このように、本応用例では、プロセッサ１５が、製造装置４ａ〜４ｊそれぞれについて、流路の開放断面積の情報を取得するようにした。そして、プロセッサ１５が、その情報に基づいてファン１３を制御するようにした。
そのため、製造設備１の詳しい情報に基づいてファン１３を制御できる。それゆえ、設備の排気を行う場合に排気風量をより適切に制御することが可能となる。 Further, the processor 15 calculates the open cross-sectional area of the flow path inside the connecting pipe 8 based on the measurement result by the angle measuring device 16. And based on the calculation result, the amount of gas discharged from the apparatus body 7 connected to each of the manufacturing apparatuses 4a to 4j is estimated.
As described above, in this application example, the processor 15 acquires the information of the open sectional area of the flow path for each of the manufacturing apparatuses 4a to 4j. The processor 15 controls the fan 13 based on the information.
Therefore, the fan 13 can be controlled based on detailed information of the manufacturing facility 1. Therefore, it is possible to more appropriately control the exhaust air volume when exhausting equipment.

（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態を説明する。
なお、第１実施形態と同様な構成等については同一の符号を付して説明する。
この第２実施形態は、製造装置４ａ〜４ｊと排気ダクト２とを接続する分岐ダクト３ａ〜３ｄのそれぞれから排出される気体の排出量に基づいてファン用目標風速を更新する点が、前記第１実施形態と異なる。
図６は、第２実施形態の製造設備１の構成を示す図である。
図７は、製造装置４ａ〜４ｊの構成を示す図である。 (Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
In addition, the same code | symbol is attached | subjected and demonstrated about the structure similar to 1st Embodiment.
In the second embodiment, the target wind speed for the fan is updated based on the discharge amount of the gas discharged from each of the branch ducts 3a to 3d connecting the manufacturing apparatuses 4a to 4j and the exhaust duct 2. Different from one embodiment.
FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of the manufacturing facility 1 according to the second embodiment.
FIG. 7 is a diagram illustrating a configuration of the manufacturing apparatuses 4a to 4j.

図７に示すように、第２実施形態では、風速測定器１０が省略されている。
図６に示すように、分岐ダクト３ａの排気ダクト２側端部の近傍には、風速測定器１７ａが配される。風速測定器１７ａは、分岐ダクト３ａの内部から排気ダクト２に流れる気体の風速を測定する。そして、その測定結果を排気処理設備５に出力する。同様に、分岐ダクト３ｂ〜３ｄについても、風速測定器１７ｂ〜１７ｄがそれぞれ配され、分岐ダクト３ｂ〜３ｄから排気ダクト２に流れる気体の風速を測定している。
そして、プロセッサ１５が、風速設定処理において、分岐ダクト３ａ〜３ｄの風速測定器１７ａ〜１７ｄによる風速の測定結果に基づいてファン用目標風速を更新する。 As shown in FIG. 7, the wind speed measuring device 10 is omitted in the second embodiment.
As shown in FIG. 6, the wind speed measuring device 17a is arranged in the vicinity of the end of the branch duct 3a on the exhaust duct 2 side. The wind speed measuring device 17a measures the wind speed of the gas flowing from the inside of the branch duct 3a to the exhaust duct 2. Then, the measurement result is output to the exhaust treatment facility 5. Similarly, wind speed measuring devices 17b to 17d are also provided for the branch ducts 3b to 3d, and the wind speed of the gas flowing from the branch ducts 3b to 3d to the exhaust duct 2 is measured.
Then, in the wind speed setting process, the processor 15 updates the target fan wind speed based on the wind speed measurement results by the wind speed measuring devices 17a to 17d of the branch ducts 3a to 3d.

図８は、風速設定処理のフローを示すフローチャートである。
具体的には、図８の風速設定処理では、以下の処理を行う。
まず、ステップＳ３０１（広義には「第２の取得手段」）では、分岐ダクト３ａ〜３ｄそれぞれから排気ダクト２に排出される気体の排出量を算出する。
具体的には、風速測定器１７ａ〜１７ｄそれぞれの測定結果をもって、分岐ダクト３ａ〜３ｄから排出される気体の排出量とする。 FIG. 8 is a flowchart showing the flow of the wind speed setting process.
Specifically, the following processing is performed in the wind speed setting processing of FIG.
First, in step S301 ("second acquisition means" in a broad sense), the amount of gas discharged from the branch ducts 3a to 3d to the exhaust duct 2 is calculated.
Specifically, the measurement result of each of the wind speed measuring devices 17a to 17d is used as the amount of gas discharged from the branch ducts 3a to 3d.

次に、ステップＳ３０２では、分岐ダクト３ａ〜３ｄそれぞれから排出される気体の排出量の目標値を推定する。
具体的には、ステップＳ３０１で取得した分岐ダクト３ａ〜３ｄそれぞれからの気体の排出量が、第３の目標値または第４の目標値のいずれに該当するかを判別する。
ここでいう第３の目標値とは、分岐ダクト３ａ〜３ｄのいずれかに連通する製造装置４ａ〜４ｊの装置本体７それぞれの筐体内で、シリコンウェハの搬出・搬入作業等、有害物質の雰囲気の多い作業が行なわれる場合に想定される第１の目標値（大目標値）を、分岐ダクト３ａ〜３ｄのそれぞれにつき合計した値のことである。
また、第４の目標値とは、シリコンウェハの洗浄作業等、有害物質の雰囲気の少ない作業が行われる場合に想定される第２の目標値（小目標値）を、分岐ダクト３ａ〜３ｄそれぞれにつき合計した値のことである。 Next, in step S302, the target value of the amount of gas discharged from each of the branch ducts 3a to 3d is estimated.
Specifically, it is determined whether the amount of gas discharged from each of the branch ducts 3a to 3d acquired in step S301 corresponds to the third target value or the fourth target value.
Here, the third target value is an atmosphere of harmful substances such as silicon wafer unloading / loading work in the housings of the apparatus main bodies 7 of the manufacturing apparatuses 4a-4j communicating with any of the branch ducts 3a-3d. This is a total value of the first target value (large target value) assumed when a large amount of work is performed for each of the branch ducts 3a to 3d.
Further, the fourth target value is a second target value (small target value) that is assumed when an operation with little atmosphere of harmful substances such as a cleaning operation of a silicon wafer is performed, and each of the branch ducts 3a to 3d. It is the total value for each.

そして、ステップＳ３０１で得られた分岐ダクト３ａ〜３ｄそれぞれが排出する気体の排出量の値が、第４の目標値より大きい場合には、それぞれの排出量の設定値が第３の目標値に設定されているものと判断する。
また、第４の目標値以下の場合には、第４の目標値に設定されているものと判断する。
これらステップＳ３０１、ステップＳ３０２により、分岐ダクト３ａ〜３ｄから排出される気体の排出量が第３の目標値以下のものと、気体の排出量が第４の目標値のものとのいずれかに分類される。 Then, when the value of the amount of gas discharged from each of the branch ducts 3a to 3d obtained in step S301 is larger than the fourth target value, the set value of each discharge amount becomes the third target value. Judge that it is set.
If it is equal to or smaller than the fourth target value, it is determined that the fourth target value is set.
By these step S301 and step S302, the gas discharged from the branch ducts 3a to 3d is classified into one having a discharge amount equal to or lower than the third target value and that having a gas discharge amount of the fourth target value. Is done.

次に、ステップＳ３０３では、ファン用目標風速を設定する。
具体的には、前記ステップＳ３０２で判断された分岐ダクト３ａ〜３ｄそれぞれの目標値を合算する。そして、その合算結果をもって、ファン用目標風速とする。
このステップＳ３０３により、分岐ダクト３ａ〜３ｄのいずれかに第３の目標値に設定されたことにより、新しいファン用目標風速が、従前のファン用目標風速よりも小さい値となった場合、ファン１３による排出量もそれに伴い小さい値に更新される。
このように、本実施形態では、プロセッサ１５が、分岐ダクト３ａ〜３ｄそれぞれについて、分岐ダクト３ａ〜３ｄから排出される気体の排出量の情報を取得するようにした。そして、プロセッサ１５が、それら情報に基づいてファン１３を制御するようにした。 Next, in step S303, a fan target wind speed is set.
Specifically, the target values of the branch ducts 3a to 3d determined in step S302 are added together. And it is set as the target wind speed for fans with the total result.
When the third target value is set in any of the branch ducts 3a to 3d by this step S303, and the new fan target wind speed becomes smaller than the previous fan target wind speed, the fan 13 Emissions due to are also updated to smaller values accordingly.
As described above, in the present embodiment, the processor 15 acquires information on the amount of gas discharged from the branch ducts 3a to 3d for each of the branch ducts 3a to 3d. The processor 15 controls the fan 13 based on the information.

そのため、製造設備１の詳しい情報に基づいてファン１３を制御できる。それゆえ、設備の排気を行う場合に排気風量をより適切に制御することが可能となる。
特に、特定の製造ラインの停止など、特定の分岐ダクト３ａ〜３ｄに接続された製造装置４ａ〜４ｊの全てが稼動を停止した場合等にファン１３が吸引する排気量の適切な制御と、作業の効率性を高めることができる。
また、風速測定器１０を省略できる。その結果、製造設備１の製造コストを低減できる。 Therefore, the fan 13 can be controlled based on detailed information of the manufacturing facility 1. Therefore, it is possible to more appropriately control the exhaust air volume when exhausting equipment.
In particular, when all the manufacturing apparatuses 4a to 4j connected to the specific branch ducts 3a to 3d stop operating, such as when a specific manufacturing line is stopped, proper control of the exhaust amount sucked by the fan 13 and work Can improve the efficiency.
Further, the wind speed measuring device 10 can be omitted. As a result, the manufacturing cost of the manufacturing facility 1 can be reduced.

（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態を説明する。
なお、第１及び第２実施形態と同様な構成等については同一の符号を付して説明する。
この第３実施形態は、装置本体７から排出される気体の排出量と、分岐ダクト３ａ〜３ｄから排出される気体の排出量とを用いてファン用目標風速を更新する点が、前記第１及び第２実施形態と異なる。
図９は、第３実施形態の半導体製造設備の構成を示す図である。
図２および図９に示すように、第３実施形態では、製造装置４ａ〜４ｊのそれぞれに配されている風速測定器１０と、分岐ダクト３ａ〜３ｄの風速測定器１７ａ〜１７ｄとを備える。そして、プロセッサ１５が、風速設定処理において、製造装置４ａ〜４ｊが備える風速測定器１０による風速の測定結果と風速測定器１７ａ〜１７ｄによる風速の測定結果とに基づき、ファン用目標風速を更新する。 (Third embodiment)
Next, a third embodiment of the present invention will be described.
In addition, the same code | symbol is attached | subjected and demonstrated about the structure similar to 1st and 2nd embodiment.
In the third embodiment, the fan target wind speed is updated using the amount of gas discharged from the apparatus body 7 and the amount of gas discharged from the branch ducts 3a to 3d. And different from the second embodiment.
FIG. 9 is a diagram illustrating a configuration of a semiconductor manufacturing facility according to the third embodiment.
As shown in FIG. 2 and FIG. 9, in 3rd Embodiment, the wind speed measuring device 10 distribute | arranged to each of the manufacturing apparatuses 4a-4j and the wind speed measuring devices 17a-17d of the branch ducts 3a-3d are provided. Then, in the wind speed setting process, the processor 15 updates the fan target wind speed based on the measurement result of the wind speed by the wind speed measuring device 10 included in the manufacturing apparatuses 4a to 4j and the measurement result of the wind speed by the wind speed measuring devices 17a to 17d. .

図１０は、風速設定処理のフローを示すフローチャートである。
具体的には、図１０の風速設定処理では、以下の処理を行う。
まず、ステップＳ４０１広義には「第１の取得手段」）では、製造装置４ａ〜４ｊが備える風速測定器１０の測定結果に基づいて、製造装置４ａ〜４ｊが備える装置本体７それぞれから排出される気体の排出量を算出する。
具体的には、製造装置４ａ〜４ｊが備える風速測定器１０それぞれの測定結果をもって、製造装置４ａ〜４ｊが備える装置本体７から排出される気体の排出量とする。
次に、ステップＳ４０２（広義には「第２の取得手段」）では、分岐ダクト３ａ〜３ｄそれぞれから排気ダクト２に排出される気体の排出量を設定する。
具体的には、風速測定器１７ａ〜１７ｄそれぞれの測定結果をもって、分岐ダクト３ａ〜３ｄから排出される気体の排出量とする。 FIG. 10 is a flowchart showing the flow of the wind speed setting process.
Specifically, the following processing is performed in the wind speed setting processing of FIG.
First, in step S401 in a broad sense, “first acquisition means”) is discharged from each of the apparatus main bodies 7 included in the manufacturing apparatuses 4a to 4j based on the measurement results of the wind speed measuring device 10 included in the manufacturing apparatuses 4a to 4j. Calculate the amount of gas discharged.
Specifically, the measurement result of each of the wind speed measuring devices 10 included in the manufacturing apparatuses 4a to 4j is used as the amount of gas discharged from the apparatus main body 7 included in the manufacturing apparatuses 4a to 4j.
Next, in step S402 (“second acquisition means” in a broad sense), the amount of gas discharged from each of the branch ducts 3a to 3d to the exhaust duct 2 is set.
Specifically, the measurement result of each of the wind speed measuring devices 17a to 17d is used as the amount of gas discharged from the branch ducts 3a to 3d.

次に、ステップＳ４０３では、製造装置４ａが備える装置本体７から分岐ダクト３ａに排出される気体の目標値を推定する。
具体的には、ステップＳ４０１が取得した製造装置４ａが排出する気体の排出量が、第２の目標値以下かどうかを判断する。
もし、第２の目標値以下である場合には、次に、製造装置４ａが接続されている分岐ダクト３ａが排出する気体の排出量が、第４の目標値以下かどうかも判断する。
そして、分岐ダクト３ａが排出する気体の排出量が、第４の目標値以下の場合には、製造装置４ａの目標風速が、第２の目標値に設定されているものと判断し、それ以外の場合には、第１の目標値に設定されているものと判断する。同様に、ステップＳ４０４〜ステップＳ４１２において、製造装置４ｂ〜４ｊそれぞれについて、上記ステップＳ４０３と同様の処理を行う。 Next, in step S403, a target value of gas discharged from the apparatus main body 7 included in the manufacturing apparatus 4a to the branch duct 3a is estimated.
Specifically, it is determined whether or not the amount of gas discharged by the manufacturing apparatus 4a acquired in step S401 is equal to or less than the second target value.
If it is equal to or less than the second target value, it is next determined whether or not the amount of gas discharged from the branch duct 3a connected to the manufacturing apparatus 4a is equal to or less than the fourth target value.
And when the discharge | emission amount of the gas which the branch duct 3a discharge | releases is below a 4th target value, it judges that the target wind speed of the manufacturing apparatus 4a is set to the 2nd target value, and others In this case, it is determined that the first target value is set. Similarly, in steps S404 to S412, the same processing as in step S403 is performed for each of the manufacturing apparatuses 4b to 4j.

次にステップＳ４１３では、ファン用目標風速を設定する。
具体的には、前記ステップＳ４０３〜Ｓ４１２で判断された製造装置４ａ〜４ｊの目標風速を合算する。そして、その合算結果をもって、ファン用目標風速とする。
このように、本実施形態では、プロセッサ１５が、製造装置４ａ〜４ｊが備える装置本体７それぞれについて、装置本体７から排出される気体の排出量の情報を取得するようにした。また、プロセッサ１５が、分岐ダクト３ａ〜３ｄそれぞれについて、分岐ダクト３ａ〜３ｄから排出される気体の排出量の情報を取得するようにした。そして、プロセッサ１５が、それら情報に基づいてファン１３を制御するようにした。
そのため、製造設備１のより詳しい情報に基づいてファン１３を制御できる。それゆえ、設備の排気を行う場合に排気風量をより適切に制御することが可能となる。 In step S413, the fan target wind speed is set.
Specifically, the target wind speeds of the manufacturing apparatuses 4a to 4j determined in steps S403 to S412 are added up. And it is set as the target wind speed for fans with the total result.
As described above, in the present embodiment, the processor 15 acquires information on the amount of gas discharged from the apparatus main body 7 for each of the apparatus main bodies 7 included in the manufacturing apparatuses 4a to 4j. Further, the processor 15 acquires information on the amount of gas discharged from the branch ducts 3a to 3d for each of the branch ducts 3a to 3d. The processor 15 controls the fan 13 based on the information.
Therefore, the fan 13 can be controlled based on more detailed information of the manufacturing facility 1. Therefore, it is possible to more appropriately control the exhaust air volume when exhausting equipment.

（応用例）
なお、第３実施形態では、分岐ダクト３ａ〜３ｄの風速測定器１７ａ〜１７ｄの検出結果をプロセッサ１５に出力する例を示したが、他の構成も採用できる。例えば、プロセッサ１５から風速測定器１７ａ〜１７ｄに各種情報を出力する構成としてもよい。
図１１は、第３実施形態の製造設備の応用例の構成を示す図である。
具体的には、風速測定器１７ａ〜１７ｄそれぞれはプロセッサ１８及びブザー１９を備える。そして、排気処理設備５のプロセッサ１５は、風速測定器１７ａのプロセッサ１８に製造装置４ａ、４ｂが備える風速測定器１０の検出結果を出力する。風速測定器１７ａのプロセッサ１８は、それら測定結果の合算値が風速測定器１７ａによる測定結果と一致するか否かを判定する。そして、それらが一致する場合には当該判定を再度実行し、一致しない場合にはブザー１９にブザー音を発生させる。これにより、製造装置４ａ、４ｂや分岐ダクト３ａに異常があることを報知する。
同様に、プロセッサ１５は、風速測定器１７ｂ〜１７ｄについても、それぞれの風速測定器１７ａ〜１７ｄが備えるプロセッサ１８に、風速測定器１０の検出結果を出力し、判定を行う。 (Application examples)
In addition, although the example which outputs the detection result of the wind speed measuring devices 17a-17d of branch duct 3a-3d to the processor 15 was shown in 3rd Embodiment, another structure is employable. For example, various types of information may be output from the processor 15 to the wind speed measuring devices 17a to 17d.
FIG. 11 is a diagram illustrating a configuration of an application example of the manufacturing facility according to the third embodiment.
Specifically, each of the wind speed measuring devices 17 a to 17 d includes a processor 18 and a buzzer 19. Then, the processor 15 of the exhaust treatment facility 5 outputs the detection result of the wind speed measuring device 10 included in the manufacturing apparatuses 4a and 4b to the processor 18 of the wind speed measuring device 17a. The processor 18 of the wind speed measuring device 17a determines whether or not the sum of these measurement results matches the measurement result obtained by the wind speed measuring device 17a. If they match, the determination is executed again. If they do not match, the buzzer 19 generates a buzzer sound. Thereby, it is notified that there is an abnormality in the manufacturing apparatuses 4a and 4b and the branch duct 3a.
Similarly, the processor 15 outputs the detection result of the wind speed measuring device 10 to the processor 18 included in each of the wind speed measuring devices 17a to 17d and makes a determination.

１は製造設備、２は排気ダクト、３ａ〜３ｄは分岐ダクト、４ａ〜４ｊは製造装置、５は排気処理設備、６は風速測定器、７は装置本体、８は連結管、９はプロセッサ、１０は風速測定器、１１は風量調整ダンパ、１２は遮蔽板、１３はファン、１４はフィルタ、１５はプロセッサ、１６は角度測定器、１７ａ〜１７ｄは風速測定器、１８はプロセッサ、１９はブザー DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 is manufacturing equipment, 2 is exhaust duct, 3a-3d is branch duct, 4a-4j is manufacturing apparatus, 5 is exhaust processing equipment, 6 is a wind speed measuring device, 7 is an apparatus main body, 8 is a connecting pipe, 9 is a processor, 10 is an air velocity measuring device, 11 is an air volume adjusting damper, 12 is a shielding plate, 13 is a fan, 14 is a filter, 15 is a processor, 16 is an angle measuring device, 17a to 17d are air velocity measuring devices, 18 is a processor, and 19 is a buzzer.

Claims (8)

複数の排気対象室と、
前記複数の排気対象室のそれぞれに接続する複数の第１の取得手段と、
前記複数の排気対象室のそれぞれと接続する排気ダクトと、
前記排気ダクトに接続された吸引手段と、
前記複数の第１の取得手段の情報に基づいて前記吸引手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする排気装置。 A plurality of exhaust target chambers;
A plurality of first acquisition means connected to each of the plurality of exhaust target chambers;
An exhaust duct connected to each of the plurality of exhaust target chambers;
Suction means connected to the exhaust duct;
An exhaust system comprising: a control unit that controls the suction unit based on information of the plurality of first acquisition units. 前記制御手段は、
分類手段と、
制御実行手段と、を含み、
前記分類手段は、前記複数の排気対象室のそれぞれを第１の排気対象室または第２の排気対象室のいずれかに分類する手段であって、
前記制御実行手段は、前記複数の排気対象室が、前記第１の排気対象室を含む場合に、前記複数の排気対象室の全てが前記第２の排気対象室である場合に比べ、前記吸引手段が前記排気ダクトから吸引する気体量を低減させることを特徴とする請求項１に記載の排気装置。 The control means includes
Classification means;
Control execution means,
The classifying means classifies each of the plurality of exhaust target chambers as either a first exhaust target chamber or a second exhaust target chamber,
When the plurality of exhaust target chambers include the first exhaust target chamber, the control execution unit is configured to reduce the suction compared to the case where all of the plurality of exhaust target chambers are the second exhaust target chamber. 2. An exhaust system according to claim 1, wherein the means reduces the amount of gas sucked from the exhaust duct. 前記第１の排気対象室は、前記第２の排気対象室よりも、排出される有害物質雰囲気の気体が少ないことを特徴とする請求項２に記載の排気装置。 The exhaust apparatus according to claim 2, wherein the first exhaust target chamber discharges less harmful substance atmosphere gas than the second exhaust target chamber. 排気ダクトと、
前記排気ダクトに接続する吸引手段と、
前記排気ダクトに接続する複数の分岐ダクトと、
前記複数の分岐ダクトのそれぞれに接続する第２の取得手段と、
前記第２の取得手段のそれぞれの情報に基づいて、前記吸引手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする排気装置。 An exhaust duct,
Suction means connected to the exhaust duct;
A plurality of branch ducts connected to the exhaust duct;
Second acquisition means connected to each of the plurality of branch ducts;
An exhaust system comprising: a control unit that controls the suction unit based on information of the second acquisition unit. 前記制御手段は、
分類手段と、
制御実行手段と、を含み、
前記分類手段は、前記複数の分岐ダクトのそれぞれを第１の分岐ダクトまたは第２の分岐ダクトのいずれかに分類する手段であって、
前記制御実行手段は、前記複数の分岐ダクトが、前記第１の分岐ダクトを含む場合に、前記複数の分岐ダクトが全て前記第２の分岐ダクトである場合に比べ、前記吸引手段から排出される気体量を低減させることを特徴とする請求項４に記載の排気装置。 The control means includes
Classification means;
Control execution means,
The classification means is means for classifying each of the plurality of branch ducts as either a first branch duct or a second branch duct,
The control execution means is discharged from the suction means when the plurality of branch ducts include the first branch duct, as compared with the case where the plurality of branch ducts are all the second branch ducts. The exhaust device according to claim 4, wherein the amount of gas is reduced. 前記複数の分岐ダクトは、それぞれ排気対象室に接続され、
前記排気対象室は、第１の取得手段を含み、
前記制御手段は、前記第１の取得手段及び前記第２の取得手段の情報に基づいて、前記吸引手段を制御することを特徴とする請求項５に記載の排気装置。 The plurality of branch ducts are each connected to an exhaust target chamber,
The exhaust target chamber includes first acquisition means,
6. The exhaust apparatus according to claim 5, wherein the control unit controls the suction unit based on information of the first acquisition unit and the second acquisition unit. 前記排気対象室は、調整手段を含み、
前記調整手段は、前記排気対象室から排出する気体量を調整することを特徴とする請求項６に記載の排気装置。 The exhaust target chamber includes adjusting means,
The exhaust device according to claim 6, wherein the adjusting unit adjusts an amount of gas discharged from the exhaust target chamber. 排気ダクトと、
前記排気ダクトに接続された吸引手段と、
前記排気ダクトに接続された複数の分岐ダクトと、
前記複数の分岐ダクトのそれぞれに接続された調整手段と、
前記調整手段に接続された第３の取得手段と、
前記第３の取得手段の情報に基づいて前記吸引手段を制御する制御手段と、を備え、
前記調整手段は、前記調整手段の開放断面積を調整する手段であって、
前記第３の取得手段は、前記開放断面積の情報を取得することを特徴とする排気装置。 An exhaust duct,
Suction means connected to the exhaust duct;
A plurality of branch ducts connected to the exhaust duct;
Adjusting means connected to each of the plurality of branch ducts;
Third acquisition means connected to the adjustment means;
Control means for controlling the suction means based on the information of the third acquisition means,
The adjusting means is means for adjusting an open sectional area of the adjusting means,
The exhaust apparatus according to claim 3, wherein the third acquisition unit acquires information on the open sectional area.
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