JP2010190814A - パーティクル検出装置 - Google Patents
パーティクル検出装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010190814A JP2010190814A JP2009037406A JP2009037406A JP2010190814A JP 2010190814 A JP2010190814 A JP 2010190814A JP 2009037406 A JP2009037406 A JP 2009037406A JP 2009037406 A JP2009037406 A JP 2009037406A JP 2010190814 A JP2010190814 A JP 2010190814A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particles
- scattered light
- exhaust pipe
- particle
- processing chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 79
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 39
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 28
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 18
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 14
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 230000010365 information processing Effects 0.000 claims description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 4
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 4
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000004148 unit process Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明のパーティクル検出装置1は、半導体処理装置の処理室内を浮遊するパーティクルを検出するために前記処理室の排気管18に設置され、前記排気管18内の測定対象領域の全体に同時に光を照射する半導体レーザダイオード10と32チャンネルの光電子増倍管から成る散乱光検出器12と、前記散乱光検出器12の検出信号をチャンネル毎に処理することにより前記排気管18内を通過するパーティクルの分布状況に関する情報を出力する制御基板24と、前記制御基板24が出力する前記パーティクルの分布状況を表示する表示部30とを備える。
【選択図】図1
Description
前記パーティクル検出装置は、例えば処理室からの排気ダクトに配設されており、当該排気ダクト内に光源(たとえばレーザ光)からの光を照射すると、パーティクルが排気ダクト内を通過するときに散乱光を発する。この散乱光を電気信号に変換したものの中から、ある一定以上の電圧に達したものをパーティクルとして検出している。
本発明が解決しようとする課題は、半導体処理装置の処理室内を浮遊するパーティクルの分布に関する正確な情報を取得することができるパーティクル検出装置を提供することである。
a)前記排気管内の測定対象領域の全体に同時に光を照射する光照射手段と、
b)複数の検出素子から成り、前記測定対象領域に光が照射されたときに生じる散乱光を検出する散乱光検出器と、
c)前記散乱光検出器の検出信号を前記検出素子毎に処理することにより前記排気管内を通過するパーティクルの分布状況に関する情報を出力する信号処理部と、
d)前記信号処理部が出力する前記パーティクルの分布状況に関する情報を表示する表示手段と
を備えることを特徴とする。
図1はパーティクル検出装置1の全体構成を示す概略図である。パーティクル検出装置1は、半導体レーザダイオード10、散乱光検出器12、データ収録装置14等を備えて構成されている。
半導体レーザダイオード10は、半導体処理装置の処理室の排気管18に設けられた導光路20を通して前記排気管18内にレーザ光を照射する。散乱光検出器12は例えば32チャンネルの光電子倍増管(PMT)から成り、排気管18内を通過するパーティクルがレーザ光に照射されたときに生じる散乱光を検出する。
(1)散乱光検出器12が検出したパーティクル数をカウントする。
(2)パーティクルの発生状況を時間軸に沿ってモニタする。
(3)測定結果をファイルに保存することや、保存したファイルを読み出し、表示する。
(4)測定に必要なパラメータが格納されたファイル(自動測定用コマンドファイル)を取り込み、そのファイル内容に従って自動測定を行う。
(5)測定結果を編集可能なファイル形式に変換する。
つまり、本実施例では、制御基板24及び監視/制御用アプリケーション22が情報処理部として機能する
式(1)より、散乱光強度はパーティクル半径aの6乗に比例し、光の波長λの4乗に反比例することがわかる。従って、散乱光強度からパーティクルの数や半径を求めることができる。また、入射光の波長が大きくなると散乱光強度が減少することから、短波長の光を照射することが有効である。
監視/制御用アプリケーションソフトを起動すると表示部30の表示画面に初期画面(図示せず)が表示される。使用者は、まずこの初期画面で、測定に必要なパラメータ(サンプリング周波数、閾値電圧、測定時間等)を設定する。
図4は発生状況表示部100に表示されたビットパターンを拡大して示している。ビットパターンは、32チャンネルの光電子増倍管が検出したアナログ電圧を、予め設定された閾値を基準にディジタル化した32bitのディジタルI/O出力値と、その論理和(OR)を黒丸(●)及び白丸(○)で表示したものである。黒丸がパーティクルを検出した箇所(チャンネル)を示し、白丸がパーティクルを検出しなかった箇所を示している。
このビットパターン表示部100に表示されるビットパターンの表示間隔はサンプリング間隔の例えば100倍に設定されている。つまり、サンプリング間隔:100μs(サンプリング周波数:10kHz)に対して、表示間隔は10msに設定されている。表示間隔は変更可能である。このように本実施例では、収録したデータはメインメモリに格納され、測定終了後に一括してファイルに保存されるが、表示部30に表示されるビットパターン(ヒストグラム)はメインメモリのデータを測定の進度に合わせて参照したものである。
図6にパーティクルの測定ファイルの内容の表示例を示す。ここでは、測定ファイルの内容が設定値一覧として表示される。このファイル表示画面で「抽出時間」が設定され、抽出ボタンが押されると、測定ファイルの詳細情報が、マイクロソフト社のExcel(登録商標)等の汎用ソフトフォーマットのファイルとして抽出される。
レーザ光の進行方向はパーティクルの通過方向と交差していれば良い。
散乱光検出器は32チャンネルに限らない。また、散乱光検出器の光電子増倍管は光に沿わせる他、光を斜めに交差する方向に並んで配置しても良い。要は、測定対象領域の広い範囲に亘ってパーティクルが通過する様子を検出することができるように光電子増倍管が配置されていれば良い。
10…半導体レーザダイオード
12…散乱光検出器
14…データ収録装置
18…排気管
24…制御基板
28…保存部
30…表示部
Claims (2)
- 半導体処理装置の処理室内を浮遊するパーティクルを検出するために前記処理室の排気管に設置されるパーティクル検出装置において、
a)前記排気管内の測定対象領域の全体に同時に光を照射する光照射手段と、
b)複数の検出素子から成り、前記測定対象領域に光が照射されたときに生じる散乱光を検出する散乱光検出器と、
c)前記散乱光検出器の検出信号を前記検出素子毎に処理することにより前記排気管内を通過するパーティクルの分布状況に関する情報を出力する信号処理部と、
d)前記信号処理部が出力する前記パーティクルの分布状況に関する情報を表示する表示手段と
を備えることを特徴とするパーティクル検出装置。 - 前記信号処理部が出力するパーティクルの分布状況に関する情報を保存する保存部と、前記保存部に保存された前記パーティクルの分布状況に関する情報を処理する情報処理部を備えることを特徴とする請求項1記載のパーティクル検出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009037406A JP5257126B2 (ja) | 2009-02-20 | 2009-02-20 | パーティクル検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009037406A JP5257126B2 (ja) | 2009-02-20 | 2009-02-20 | パーティクル検出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010190814A true JP2010190814A (ja) | 2010-09-02 |
JP5257126B2 JP5257126B2 (ja) | 2013-08-07 |
Family
ID=42816999
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009037406A Active JP5257126B2 (ja) | 2009-02-20 | 2009-02-20 | パーティクル検出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5257126B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102323193A (zh) * | 2011-08-17 | 2012-01-18 | 佛山科学技术学院 | 一种激光散射法空气颗粒分布测量方法及装置 |
JP2013134257A (ja) * | 2011-12-23 | 2013-07-08 | Haq Company | 安全なデータロギング機能を備える粒子モニタリング機器およびその方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105486617A (zh) * | 2015-11-27 | 2016-04-13 | 易轩 | 细颗粒物快速检测仪 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07229826A (ja) * | 1994-02-16 | 1995-08-29 | Nec Corp | 浮遊塵埃測定装置および浮遊塵埃測定方法 |
JPH10232196A (ja) * | 1996-12-16 | 1998-09-02 | Nec Corp | パーティクルモニター装置 |
JP2003021597A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-24 | Hitachi Ltd | 浮遊異物検出方法およびその装置並びに半導体デバイスの製造装置 |
JP2008268012A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Canon Inc | 微粒子散乱光測定方法および測定装置 |
-
2009
- 2009-02-20 JP JP2009037406A patent/JP5257126B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07229826A (ja) * | 1994-02-16 | 1995-08-29 | Nec Corp | 浮遊塵埃測定装置および浮遊塵埃測定方法 |
JPH10232196A (ja) * | 1996-12-16 | 1998-09-02 | Nec Corp | パーティクルモニター装置 |
JP2003021597A (ja) * | 2001-07-09 | 2003-01-24 | Hitachi Ltd | 浮遊異物検出方法およびその装置並びに半導体デバイスの製造装置 |
JP2008268012A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Canon Inc | 微粒子散乱光測定方法および測定装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102323193A (zh) * | 2011-08-17 | 2012-01-18 | 佛山科学技术学院 | 一种激光散射法空气颗粒分布测量方法及装置 |
JP2013134257A (ja) * | 2011-12-23 | 2013-07-08 | Haq Company | 安全なデータロギング機能を備える粒子モニタリング機器およびその方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5257126B2 (ja) | 2013-08-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6352529B2 (ja) | 光量検出装置、それを用いた免疫分析装置および荷電粒子線装置 | |
US8675196B2 (en) | Analyzer and particle imaging method | |
JPH05346390A (ja) | 粒子分析装置 | |
US20180284007A1 (en) | Automated drop delay calculation | |
JP5257126B2 (ja) | パーティクル検出装置 | |
JP2019012019A (ja) | 電子線マイクロアナライザー及びデータ処理プログラム | |
CN104076051A (zh) | 荧光x射线分析装置 | |
JP4641143B2 (ja) | 表面検査装置 | |
JP6196502B2 (ja) | 検体分析方法および検体分析装置 | |
JP5544187B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2009198404A (ja) | X線分析装置及びx線分析方法 | |
CN104076053A (zh) | 异物检测装置 | |
JP6010547B2 (ja) | X線分析装置 | |
JP2009162660A (ja) | 検出方法及び検出装置 | |
JP4536337B2 (ja) | 表面検査方法および表面検査装置 | |
WO2018103487A1 (zh) | 非接触式安全检查***及方法 | |
JP4861864B2 (ja) | 閾値決定方法 | |
JP2010197229A (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
JP2008082767A (ja) | 粒子線分析装置 | |
JP4490061B2 (ja) | 粒子画像分析装置 | |
KR100807218B1 (ko) | 웨이퍼 검사 장치 및 방법 | |
KR101406993B1 (ko) | 레이저를 이용한 분석장치 | |
JP2009088026A (ja) | 半導体ウェハの表面検査装置、及び半導体ウェハの表面検査方法 | |
JP5572438B2 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
JP2005121468A (ja) | 蛍光x線を利用した毛髪等の食品異物検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110414 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20110414 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120612 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120710 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120910 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130326 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130408 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160502 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5257126 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |