JP2010141202A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板7を処理する反応炉と、該反応炉内で基板7を保持する基板保持具1と、基板保持具1内に設けられ、基板7と接触するリング状の支持板4と、支持板4と異なる材質で形成された支持板4を載置する補助支持板3とを具備し、支持板4の裏面に凹部39を形成し、補助支持板3には凹部39に嵌合する凸部38を設けた。
【選択図】図4
Description
又、本発明は以下の実施の態様を含む。
の基板処理装置。
3 補助支持板
4 支持板
7 ウェーハ
8 基板処理装置
37 貫通孔
38 環状凸部
39 環状凹部
41 支持突起
42 平面
43 内嵌凸部
44 外嵌凸部
45 位置決め凸部
46 座刳
Claims (1)
- 基板を処理する反応炉と、該反応炉内で基板を保持する基板保持具と、該基板保持具内に設けられ、前記基板と接触するリング状の支持板と、該支持板と異なる材質で形成された前記支持板を載置する補助支持板とを具備し、前記支持板の裏面に凹部を形成し、前記補助支持板には前記凹部に嵌合する凸部を設けたことを特徴とする基板処理装置。
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JP2008317228A JP2010141202A (ja) | 2008-12-12 | 2008-12-12 | 基板処理装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2008
- 2008-12-12 JP JP2008317228A patent/JP2010141202A/ja active Pending
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