JP2010136835A - 荷電粒子線照射システム及び照射ノズル装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上流ビーム位置モニタ装置6は、荷電粒子ビームが通過する中央部分の電極線の配置間隔を周辺部分よりも広くしたビーム位置モニタ17を備える。これにより荷電粒子ビームが当たるタングステンワイヤの本数が減るため、荷電粒子ビームの散乱が抑えられ、細いビームまま照射対象13に照射が可能となる。また、上流ビーム位置モニタ装置6の検出信号を用いてビーム位置を監視しながら、患者に安全で正確な荷電粒子ビーム照射が可能となる。
【選択図】図6
Description
ワイヤの設置位置:Xi(i=1〜n)
ワイヤからの検出信号:Ai(i=1〜n)
<幅:Width(片側1σ)の計算式>
1a 前段加速器
1b シンクロトロン
1c ビーム輸送系
2 加速器制御装置
3 統括制御装置
4 照射制御装置
5 照射ノズル装置
6 上流ビーム位置モニタ装置
7 走査電磁石(Y軸方向)
8 走査電磁石(X軸方向)
9 線量モニタ
10 下流ビーム位置モニタ装置
11 上流ビーム位置モニタ制御装置
12 下流ビーム位置モニタ制御装置
13 照射対象(がん患部)
14 荷電粒子ビーム
15 インターロック信号
16 ビーム位置モニタ(タイプA)(第1ビーム位置モニタ)
16a X方向電極線
16b Y方向電極線
16c 高圧電極板
17 ビーム位置モニタ(タイプB)(第2ビーム位置モニタ)
17a X方向電極線
17b Y方向電極線
17c 高圧電極板
18 荷電粒子ビーム径
19 ビーム遮断治具
21 開口
22 支持フレーム
23a,23b ガイドプレート
24 連結部材
25 電動モータ
26 ネジ軸
27 ナット
28ブラケット
29a,29b ストッパ
A アイソセンタ
B ビーム中心軸
C モニタ中心
Claims (8)
- 荷電粒子を出射する荷電粒子ビーム発生装置と、
前記荷電粒子ビームを照射対象物に出射する照射ノズル装置であって、前記荷電粒子ビーム発生装置から前記照射対象物に出射される前記荷電粒子ビームを走査する走査電磁石装置、この走査電磁石装置の上流側に配置され、前記照射ノズル装置に入射する荷電粒子ビームの通過位置を検知する上流ビーム位置検出モニタ装置、及び前記走査電磁石装置の下流側に配置され、前記走査電磁石にて走査されたビームの通過位置を検知する下流ビーム位置検知モニタ装置を有する照射ノズル装置と、
前記上流ビーム位置検出モニタ装置で検知された出力結果から前記荷電粒子の通過位置を算出する上流ビーム位置モニタ制御装置と、
前記下流ビーム位置モニタ装置で検知された出力結果から前記の走査されたビームの通過位置を算出する下流ビーム位置モニタ制御装置とを備え、
前記上流ビーム位置モニタ装置は、二方向に張り渡されかつそれぞれの方向において平行に配置された複数の電極線を有しかつ前記荷電粒子ビームが通過する中央部分の電極線の配置間隔が周辺部分よりも広いことを特徴とする荷電粒子線照射システム。 - 請求項1記載の荷電粒子線照射システムにおいて、
前記上流ビーム位置モニタ装置は、二方向に張り渡されかつそれぞれの方向において平行に配置された複数の電極線を有しかつ電極線の配置間隔が全体的に等しい第1ビーム位置モニタと、二方向に張り渡されかつそれぞれの方向において平行に配置された複数の電極線を有しかつ前記荷電粒子ビームが通過する中央部分の電極線の配置間隔が周辺部分よりも広い第2ビーム位置モニタと、前記第1ビーム位置モニタと前記第2ビーム位置モニタを選択的に前記荷電粒子ビームの通過位置にセットするモニタ駆動装置とを有することを特徴とする荷電粒子線照射システム。 - 請求項1記載の荷電粒子線照射システムにおいて、
前記上流ビーム位置モニタ装置の下流側に前記上流ビーム位置モニタ装置に近接して設置され、中央部に開口を有し、その開口以外の部分で荷電粒子ビームを遮断するビーム遮断装置をさらに備えることを特徴とする荷電粒子線照射システム。 - 荷電粒子を出射する荷電粒子ビーム発生装置と、
前記荷電粒子ビームを照射対象物に出射する照射ノズル装置であって、前記荷電粒子ビーム発生装置から前記照射対象物に出射される前記荷電粒子ビームを走査する走査電磁石装置、この走査電磁石装置の上流側に配置され、前記照射ノズル装置に入射する荷電粒子ビームの通過位置を検知する上流ビーム位置検出モニタ装置、及び前記走査電磁石装置の下流側に配置され、前記走査電磁石にて走査されたビームの通過位置を検知する下流ビーム位置検知モニタ装置を有する照射ノズル装置と、
前記上流ビーム位置検出モニタ装置で検知された出力結果から前記荷電粒子の通過位置を算出する上流ビーム位置モニタ制御装置と、
前記第下流ビーム位置モニタ装置で検知された出力結果から前記の走査されたビームの通過位置を算出する下流ビーム位置モニタ制御装置と、
前記上流ビーム位置モニタ装置の下流側に前記上流ビーム位置モニタ装置に近接して設置され、中央部に開口を有し、その開口以外の部分で荷電粒子ビームを遮断するビーム遮断装置とを備えることを特徴とする荷電粒子線照射システム。 - 照射対象物に出射される荷電粒子ビームを走査する走査電磁石装置と、
この走査電磁石装置の上流側に配置され、入射する荷電粒子ビームの通過位置を検知する上流ビーム位置検出モニタ装置と、
前記走査電磁石装置の下流側に配置され、前記走査電磁石にて走査されたビームの通過位置を検知する下流ビーム位置検知モニタ装置とを備え、
前記上流ビーム位置モニタ装置は、二方向に張り渡されかつそれぞれの方向において平行に配置された複数の電極線を有しかつ前記荷電粒子ビームが通過する中央部分の電極線の配置間隔が周辺部分よりも広いことを特徴とする照射ノズル装置。 - 請求項5記載の照射ノズル装置において、
前記上流ビーム位置モニタ装置は、二方向に張り渡されかつそれぞれの方向において平行に配置された複数の電極線を有しかつ電極線の配置間隔が全体的に等しい第1ビーム位置モニタと、二方向に張り渡されかつそれぞれの方向において平行に配置された複数の電極線を有しかつ前記荷電粒子ビームが通過する中央部分の電極線の配置間隔が周辺部分よりも広い第2ビーム位置モニタと、前記第1ビーム位置モニタと前記第2ビーム位置モニタを選択的に前記荷電粒子ビームの通過位置にセットするモニタ駆動装置とを有することを特徴とする照射ノズル装置。 - 請求項5記載の照射ノズル装置において、
前記上流ビーム位置モニタ装置の下流側に前記上流ビーム位置モニタ装置に近接して設置され、中央部に開口を有し、その開口以外の部分で荷電粒子ビームを遮断するビーム遮断装置をさらに備えることを特徴とする照射ノズル装置。 - 照射対象物に出射される荷電粒子ビームを走査する走査電磁石装置と、
この走査電磁石装置の上流側に配置され、入射する荷電粒子ビームの通過位置を検知する上流ビーム位置検出モニタ装置と、
前記走査電磁石装置の下流側に配置され、前記走査電磁石にて走査されたビームの通過位置を検知する下流ビーム位置検知モニタ装置と、
前記上流ビーム位置モニタ装置の下流側に前記上流ビーム位置モニタ装置に近接して設置され、中央部に開口を有し、その開口以外の部分で荷電粒子ビームを遮断するビーム遮断装置とを備えることを特徴とする照射ノズル装置。
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